JPH07104204A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH07104204A JPH07104204A JP5251899A JP25189993A JPH07104204A JP H07104204 A JPH07104204 A JP H07104204A JP 5251899 A JP5251899 A JP 5251899A JP 25189993 A JP25189993 A JP 25189993A JP H07104204 A JPH07104204 A JP H07104204A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】感光体上に形成する光スポット径及び光量を同
時に制御することにより個々の光スポット径及び光量の
ばらつきを抑えることができ、画像の基となる１つ１つ
の画素のばらつきを抑えることができ、好ましい画像を
得ることができる光走査装置を提供する。 【構成】本発明は、発光出力可変な光源１、主走査・副
走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り２、ビーム整
形光学素子３、偏向器４、ｆθ光学素子５が順に配置さ
れた書込光学系を備え、該書込光学系で感光体等の像面
６に光スポットを形成する光走査装置において、前記書
込光学系で形成される光スポット径及び光量と、記録素
子８に記録されている像面の基準光スポット径及び基準
光量を参照して、前記書込光学系で形成される光スポッ
ト径及び光量が基準光スポット径及び基準光量となるよ
うに、開口絞り２と光源１を制御することを特徴とす
る。
時に制御することにより個々の光スポット径及び光量の
ばらつきを抑えることができ、画像の基となる１つ１つ
の画素のばらつきを抑えることができ、好ましい画像を
得ることができる光走査装置を提供する。 【構成】本発明は、発光出力可変な光源１、主走査・副
走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り２、ビーム整
形光学素子３、偏向器４、ｆθ光学素子５が順に配置さ
れた書込光学系を備え、該書込光学系で感光体等の像面
６に光スポットを形成する光走査装置において、前記書
込光学系で形成される光スポット径及び光量と、記録素
子８に記録されている像面の基準光スポット径及び基準
光量を参照して、前記書込光学系で形成される光スポッ
ト径及び光量が基準光スポット径及び基準光量となるよ
うに、開口絞り２と光源１を制御することを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタ、デジ
タル複写機、ファクシミリ等のデジタル画像形成装置に
用いられる光走査装置に関する。
タル複写機、ファクシミリ等のデジタル画像形成装置に
用いられる光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザプリンタ、デジタル複写機、ファ
クシミリ等のデジタル画像形成装置においては、画像の
書き込み部に光走査装置を装備し、該光走査装置とし
て、レーザ光束の走査により情報の書き込みを行なうレ
ーザ走査光学系を用いた方式が主流である。これらのデ
ジタル画像形成装置においては、レーザ走査光学系によ
り感光体上に微小な光スポットを形成し、この光スポッ
トを走査して感光体上に静電潜像を形成し、該静電潜像
を現像した後、転写、定着の各プロセスを経て転写部材
上に可視画像を形成している。したがって、画像品質
は、レーザ走査光学系の性能に負うところが大きい。
クシミリ等のデジタル画像形成装置においては、画像の
書き込み部に光走査装置を装備し、該光走査装置とし
て、レーザ光束の走査により情報の書き込みを行なうレ
ーザ走査光学系を用いた方式が主流である。これらのデ
ジタル画像形成装置においては、レーザ走査光学系によ
り感光体上に微小な光スポットを形成し、この光スポッ
トを走査して感光体上に静電潜像を形成し、該静電潜像
を現像した後、転写、定着の各プロセスを経て転写部材
上に可視画像を形成している。したがって、画像品質
は、レーザ走査光学系の性能に負うところが大きい。
【０００３】一般的に、レーザ走査光学系で形成される
光スポット径は、主走査方向（像高方向）に対してばら
ついている。これは、レーザ走査光学系の収差補正状態
に左右されるもので、収差を無くすこと（無収差レン
ズ）は不可能である。したがって、一般のレーザ走査光
学系にはレベルの大小はあるが、光スポット径にばらつ
きを生じており、その程度は使用画角が大きいほど収差
量が大きくなり、光スポット径のばらつきは大きくな
る。一方、デジタル画像は、光スポットにより形成され
た静電潜像に、微細なトナーが吸着し、紙等の転写部材
に転写・定着されて得られる。したがって、画像を細か
く見ると黒い点（画素）の集合体である。この画素１つ
１つが光スポット径に応じて形成される。すなわち、こ
の画素の１つ１つのばらつきが大きいと、その集合体で
ある画像は歪み等のあるみにくい画像となる。好ましい
画像の基本は、これらの画素１つ１つを整然と形成する
必要がある。言い換えると、画素１つ１つを整然と形成
するには、その基である光スポットを整然とばらつきな
く感光体上に形成する必要がある。
光スポット径は、主走査方向（像高方向）に対してばら
ついている。これは、レーザ走査光学系の収差補正状態
に左右されるもので、収差を無くすこと（無収差レン
ズ）は不可能である。したがって、一般のレーザ走査光
学系にはレベルの大小はあるが、光スポット径にばらつ
きを生じており、その程度は使用画角が大きいほど収差
量が大きくなり、光スポット径のばらつきは大きくな
る。一方、デジタル画像は、光スポットにより形成され
た静電潜像に、微細なトナーが吸着し、紙等の転写部材
に転写・定着されて得られる。したがって、画像を細か
く見ると黒い点（画素）の集合体である。この画素１つ
１つが光スポット径に応じて形成される。すなわち、こ
の画素の１つ１つのばらつきが大きいと、その集合体で
ある画像は歪み等のあるみにくい画像となる。好ましい
画像の基本は、これらの画素１つ１つを整然と形成する
必要がある。言い換えると、画素１つ１つを整然と形成
するには、その基である光スポットを整然とばらつきな
く感光体上に形成する必要がある。
【０００４】そこで、光スポットのスポット径の変動を
除去する手段を備えた光走査装置として、例えば、開口
絞りの径を可変することによりビームスポット径を可変
する方式の光走査装置が提案されている（特開平２−１
９６２０９号）。しかし、この技術は光スポット径を単
独に補正するものであり、光スポット径変化に伴う光量
変化を補正する技術については述べらていない。すなわ
ち、単に開口絞りを可変して光スポット径を制御する場
合、制御した光スポット径の光量がその開口寸法により
変動してしまうというという問題が生じる。
除去する手段を備えた光走査装置として、例えば、開口
絞りの径を可変することによりビームスポット径を可変
する方式の光走査装置が提案されている（特開平２−１
９６２０９号）。しかし、この技術は光スポット径を単
独に補正するものであり、光スポット径変化に伴う光量
変化を補正する技術については述べらていない。すなわ
ち、単に開口絞りを可変して光スポット径を制御する場
合、制御した光スポット径の光量がその開口寸法により
変動してしまうというという問題が生じる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の点に鑑
み創案されたものであって、感光体上に形成する光スポ
ット径及び光量を同時に制御することにより個々の光ス
ポット径及び光量のばらつきを抑えることのできる光走
査装置を提供することを目的とする。すなわち、画像の
基となる１つ１つの画素のばらつきを抑えることがで
き、好ましい画像を得ることができる光走査装置を提供
することを目的とする。
み創案されたものであって、感光体上に形成する光スポ
ット径及び光量を同時に制御することにより個々の光ス
ポット径及び光量のばらつきを抑えることのできる光走
査装置を提供することを目的とする。すなわち、画像の
基となる１つ１つの画素のばらつきを抑えることがで
き、好ましい画像を得ることができる光走査装置を提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、発光出力可変な光源、主走査・
副走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り、ビーム整
形光学素子、偏向器、ｆθ光学素子が順に配置された書
込光学系を備え、該書込光学系で像面に光スポットを形
成する光走査装置において、前記書込光学系で形成され
る光スポット径及び光量と、記録素子に記録されている
像面の基準光スポット径及び基準光量を参照して、前記
書込光学系で形成される光スポット径及び光量が基準光
スポット径及び基準光量となるように、前記開口絞りと
光源を制御することを特徴としている。
め、請求項１の発明は、発光出力可変な光源、主走査・
副走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り、ビーム整
形光学素子、偏向器、ｆθ光学素子が順に配置された書
込光学系を備え、該書込光学系で像面に光スポットを形
成する光走査装置において、前記書込光学系で形成され
る光スポット径及び光量と、記録素子に記録されている
像面の基準光スポット径及び基準光量を参照して、前記
書込光学系で形成される光スポット径及び光量が基準光
スポット径及び基準光量となるように、前記開口絞りと
光源を制御することを特徴としている。
【０００７】また、請求項２の発明は、発光出力可変な
光源、主走査・副走査方向それぞれに独立に可変な開口
絞り、ビーム整形光学素子、偏向器、ｆθ光学素子が順
に配置された書込光学系を備え、該書込光学系で像面に
光スポットを形成する光走査装置において、前記書込光
学系の結像光路中の任意の場所で光束を取り出し、像面
と共役の位置に光スポット径及び光量の測定手段を設け
ると共に、前記開口絞りと光源を制御する手段を設け、
１ライン毎に各像高の光スポット径及び光量を測定、制
御することを特徴としている。
光源、主走査・副走査方向それぞれに独立に可変な開口
絞り、ビーム整形光学素子、偏向器、ｆθ光学素子が順
に配置された書込光学系を備え、該書込光学系で像面に
光スポットを形成する光走査装置において、前記書込光
学系の結像光路中の任意の場所で光束を取り出し、像面
と共役の位置に光スポット径及び光量の測定手段を設け
ると共に、前記開口絞りと光源を制御する手段を設け、
１ライン毎に各像高の光スポット径及び光量を測定、制
御することを特徴としている。
【０００８】
【作用】請求項１の光走査装置においては、書込光学系
で形成される光スポット径及び光量と、記録素子に記録
されている像面の基準光スポット径及び基準光量を参照
して、前記書込光学系で形成される光スポット径及び光
量が基準光スポット径及び基準光量となるように、前記
開口絞りと光源を制御することにより、各光スポット径
に対して均一の光量を得ることができる。また、請求項
２の光走査装置においては、書込光学系の結像光路中の
任意の場所で光束を取り出し、像面と共役の位置に光ス
ポット径及び光量の測定手段を設けると共に、前記開口
絞りと光源を制御する手段を設け、１ライン毎に各像高
の光スポット径及び光量を測定、制御することにより、
各像高毎に均一な光スポット径及び光量を得ることがで
きる。
で形成される光スポット径及び光量と、記録素子に記録
されている像面の基準光スポット径及び基準光量を参照
して、前記書込光学系で形成される光スポット径及び光
量が基準光スポット径及び基準光量となるように、前記
開口絞りと光源を制御することにより、各光スポット径
に対して均一の光量を得ることができる。また、請求項
２の光走査装置においては、書込光学系の結像光路中の
任意の場所で光束を取り出し、像面と共役の位置に光ス
ポット径及び光量の測定手段を設けると共に、前記開口
絞りと光源を制御する手段を設け、１ライン毎に各像高
の光スポット径及び光量を測定、制御することにより、
各像高毎に均一な光スポット径及び光量を得ることがで
きる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。 ［実施例１］図１は請求項１の一実施例を示す光走査装
置の概略構成図である。図１に示すように、この光走査
装置においては、発光出力を制御する制御手段を有する
光源１と、主走査・副走査方向それぞれに独立に制御す
る制御手段を有する開口絞り２と、ビーム整形光学素子
３と、回転多面鏡等の偏向器４と、ｆθ光学素子５とが
順に配置された書込光学系を備え、該書込光学系で感光
体等の像面６に光スポットを形成し、該光スポットを偏
向器４で偏向走査することにより画像を書き込むように
なっている。また、光源１と開口絞り２は、演算処理部
７を介して記録素子８と電気的に結ばれている。
に説明する。 ［実施例１］図１は請求項１の一実施例を示す光走査装
置の概略構成図である。図１に示すように、この光走査
装置においては、発光出力を制御する制御手段を有する
光源１と、主走査・副走査方向それぞれに独立に制御す
る制御手段を有する開口絞り２と、ビーム整形光学素子
３と、回転多面鏡等の偏向器４と、ｆθ光学素子５とが
順に配置された書込光学系を備え、該書込光学系で感光
体等の像面６に光スポットを形成し、該光スポットを偏
向器４で偏向走査することにより画像を書き込むように
なっている。また、光源１と開口絞り２は、演算処理部
７を介して記録素子８と電気的に結ばれている。
【００１０】ここで、図２は、光源１として用いられる
半導体レーザの一般的な光出力・電流特性を示す図で、
閾値電流以上の電流で光出力は直線的に増加する。尚、
図中のＴｃはケース温度を示す。また、図３は、主走査
・副走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り２の構成
の一実施例を示す図である。この開口絞り２では、光軸
中心１１に対して主走査方向の開口寸法は部材９のペア
で作られ、副走査方向の開口寸法は部材１０のペアで作
られる。これらの部材のペアは、図示しない駆動手段に
より可動され、部材９のペアは図に対し左右方向に、部
材１０のペアは図に対し上下方向にそれぞれ独立に可動
する。尚、この構成は一例であり、主走査・副走査方向
の開口寸法をそれぞれ独立に可動できる手段であればよ
い。
半導体レーザの一般的な光出力・電流特性を示す図で、
閾値電流以上の電流で光出力は直線的に増加する。尚、
図中のＴｃはケース温度を示す。また、図３は、主走査
・副走査方向それぞれに独立に可変な開口絞り２の構成
の一実施例を示す図である。この開口絞り２では、光軸
中心１１に対して主走査方向の開口寸法は部材９のペア
で作られ、副走査方向の開口寸法は部材１０のペアで作
られる。これらの部材のペアは、図示しない駆動手段に
より可動され、部材９のペアは図に対し左右方向に、部
材１０のペアは図に対し上下方向にそれぞれ独立に可動
する。尚、この構成は一例であり、主走査・副走査方向
の開口寸法をそれぞれ独立に可動できる手段であればよ
い。
【００１１】次に、図１に示す構成の光走査装置の動作
及び作用について述べる。図１において、感光体等の像
面６において均一の光スポット径及び光量となるために
必要な光源１の発光出力及び開口絞り２の主走査・副走
査方向それぞれの開口寸法が予め記録素子８に記録され
ている。また、図１に示す書込光学系固有の主走査・副
走査方向の光スポット径及び光量が記録素子８に記録さ
れている。演算処理部７は、記録素子８に記録されてい
る前述の２つのデータを用いて光スポット径及び光量に
対する差を演算し、像面６での基準光スポット径及び基
準光量（前述の均一の光スポット径及び光量）となるよ
うに光源１及び開口絞り２に対して、光源出力及び開口
寸法の可変量に相当する信号を出力する。そして、演算
処理部７の信号に従って、光源１は発光出力を、開口絞
り２は開口寸法を、それぞれ図示しない制御手段により
可変する。
及び作用について述べる。図１において、感光体等の像
面６において均一の光スポット径及び光量となるために
必要な光源１の発光出力及び開口絞り２の主走査・副走
査方向それぞれの開口寸法が予め記録素子８に記録され
ている。また、図１に示す書込光学系固有の主走査・副
走査方向の光スポット径及び光量が記録素子８に記録さ
れている。演算処理部７は、記録素子８に記録されてい
る前述の２つのデータを用いて光スポット径及び光量に
対する差を演算し、像面６での基準光スポット径及び基
準光量（前述の均一の光スポット径及び光量）となるよ
うに光源１及び開口絞り２に対して、光源出力及び開口
寸法の可変量に相当する信号を出力する。そして、演算
処理部７の信号に従って、光源１は発光出力を、開口絞
り２は開口寸法を、それぞれ図示しない制御手段により
可変する。
【００１２】さて、図１に示す光走査装置においては、
記録素子８に記録されている像面においての基準光スポ
ット径と前述の書込光学系固有の光スポット径のデータ
を用いて演算処理部７がその差を求め、基準光スポット
径になるために必要な開口絞り２の開口寸法を計算す
る。この計算値を電気信号として図示しない開口絞りの
制御手段に送信し、制御手段は、この信号に従って開口
絞り寸法を所望の寸法に可変する。従って、光スポット
径は、像面６において均一になる。しかるに、単に開口
絞り２を可変して制御した光スポット径の光量は、その
開口寸法により変動する。例えば、開口絞り２を大きく
して光スポット径を小さくすると像面６での光量は増加
し、開口絞り２を小さくして光スポット径を大きくする
と像面６での光量は減少する。従って、開口絞り２を可
変すると同時に光量を一定（均一）にするために光源出
力を可変調整する必要がある。本発明では、演算処理部
７で基準光量と前述の書込光学系固有の光量データを用
いて、その差を求め、基準光量となるように図２の特性
に従い電流値を計算し、この計算値を電気信号として図
示しない光源の制御手段に送信する。制御手段は、この
信号に従って電流を変化させ、光源１の発光出力を可変
調整する。これにより、各光スポット径に対して均一の
光量を得ることができる。
記録素子８に記録されている像面においての基準光スポ
ット径と前述の書込光学系固有の光スポット径のデータ
を用いて演算処理部７がその差を求め、基準光スポット
径になるために必要な開口絞り２の開口寸法を計算す
る。この計算値を電気信号として図示しない開口絞りの
制御手段に送信し、制御手段は、この信号に従って開口
絞り寸法を所望の寸法に可変する。従って、光スポット
径は、像面６において均一になる。しかるに、単に開口
絞り２を可変して制御した光スポット径の光量は、その
開口寸法により変動する。例えば、開口絞り２を大きく
して光スポット径を小さくすると像面６での光量は増加
し、開口絞り２を小さくして光スポット径を大きくする
と像面６での光量は減少する。従って、開口絞り２を可
変すると同時に光量を一定（均一）にするために光源出
力を可変調整する必要がある。本発明では、演算処理部
７で基準光量と前述の書込光学系固有の光量データを用
いて、その差を求め、基準光量となるように図２の特性
に従い電流値を計算し、この計算値を電気信号として図
示しない光源の制御手段に送信する。制御手段は、この
信号に従って電流を変化させ、光源１の発光出力を可変
調整する。これにより、各光スポット径に対して均一の
光量を得ることができる。
【００１３】［実施例２］図４は請求項１の一実施例を
示す光走査装置の概略構成図である。図４に示すよう
に、この光走査装置においては、発光出力を制御する制
御手段を有する光源１１と、主走査・副走査方向それぞ
れに独立に制御する制御手段を有する開口絞り１２と、
ビーム整形光学素子１３と、回転多面鏡等の偏向器１４
と、ｆθ光学素子１５とが順に配置された書込光学系を
備え、該書込光学系で感光体等の像面１６に光スポット
を形成し、該光スポットを偏向器１４で偏向走査するこ
とにより画像を書き込むようになっている。また、この
光走査装置では、ｆθ光学素子１５と像面１６との間の
光路中に光束を取り出すハーフミラー１７が配置され、
像面１６と共役の反射位置に受光素子１８が複数個配置
されている。また、受光素子１８と光源１１及び開口絞
り１２との間は、演算処理部１９を介して電気的に結ば
れている。尚、光源部の発光出力・電流特性は図２と同
様であり、開口絞りの構成は図３と同様である。
示す光走査装置の概略構成図である。図４に示すよう
に、この光走査装置においては、発光出力を制御する制
御手段を有する光源１１と、主走査・副走査方向それぞ
れに独立に制御する制御手段を有する開口絞り１２と、
ビーム整形光学素子１３と、回転多面鏡等の偏向器１４
と、ｆθ光学素子１５とが順に配置された書込光学系を
備え、該書込光学系で感光体等の像面１６に光スポット
を形成し、該光スポットを偏向器１４で偏向走査するこ
とにより画像を書き込むようになっている。また、この
光走査装置では、ｆθ光学素子１５と像面１６との間の
光路中に光束を取り出すハーフミラー１７が配置され、
像面１６と共役の反射位置に受光素子１８が複数個配置
されている。また、受光素子１８と光源１１及び開口絞
り１２との間は、演算処理部１９を介して電気的に結ば
れている。尚、光源部の発光出力・電流特性は図２と同
様であり、開口絞りの構成は図３と同様である。
【００１４】次に、図４に示す構成の光走査装置の動作
及び作用について述べる。図４において、前記書込光学
系により１ライン走査すると、ｆθ光学素子１５と像面
１６との光路中に配置されたハーフミラー１７により光
スポットは受光素子１８に形成される。受光素子１８は
光スポット径と光量を測定し、そのデータは演算処理部
１９に送信される。演算処理部１９では、複数の受光素
子１８から送信された光スポット径と光量のデータを比
較し、像高毎の光スポット径と光量のばらつき量から各
像高毎の光スポット径が均一になる各像高毎の開口寸法
を算出し、また、各像高毎の光量が均一になる各像高毎
の電流値を算出し、これらのデータを電気信号として光
源１１の制御手段、開口絞り１２の制御手段に送信す
る。そして、光源部の制御手段と開口絞りの制御手段
は、この信号により光源出力及び開口寸法を可変調整す
る。
及び作用について述べる。図４において、前記書込光学
系により１ライン走査すると、ｆθ光学素子１５と像面
１６との光路中に配置されたハーフミラー１７により光
スポットは受光素子１８に形成される。受光素子１８は
光スポット径と光量を測定し、そのデータは演算処理部
１９に送信される。演算処理部１９では、複数の受光素
子１８から送信された光スポット径と光量のデータを比
較し、像高毎の光スポット径と光量のばらつき量から各
像高毎の光スポット径が均一になる各像高毎の開口寸法
を算出し、また、各像高毎の光量が均一になる各像高毎
の電流値を算出し、これらのデータを電気信号として光
源１１の制御手段、開口絞り１２の制御手段に送信す
る。そして、光源部の制御手段と開口絞りの制御手段
は、この信号により光源出力及び開口寸法を可変調整す
る。
【００１５】さて、図１に示す光走査装置においては、
ｆθ光学素子１５と像面１６との光路中に設けられた受
光素子１８及び演算処理部１９と制御手段（図示せず）
により、前述の書込光学系により形成される光スポット
径及び光量の像高毎のばらつきを検知・制御することに
より、各像高毎で均一な光スポット径及び光量を得るこ
とができる。本発明では、１ライン空走査し、書込光学
系固有のばらつきの補正値を演算処理部１９にメモリー
することにより、それ以降はこの補正値を用いて通常の
光走査を行なう。また、より正確に光スポット径及び光
量を均一にするには、前述の補正（制御）をライン毎に
行なうことで達成できる。このように、本発明では、演
算処理部内の処理方法を変えることにより、ページ毎、
ライン毎のどちらの制御も可能である。
ｆθ光学素子１５と像面１６との光路中に設けられた受
光素子１８及び演算処理部１９と制御手段（図示せず）
により、前述の書込光学系により形成される光スポット
径及び光量の像高毎のばらつきを検知・制御することに
より、各像高毎で均一な光スポット径及び光量を得るこ
とができる。本発明では、１ライン空走査し、書込光学
系固有のばらつきの補正値を演算処理部１９にメモリー
することにより、それ以降はこの補正値を用いて通常の
光走査を行なう。また、より正確に光スポット径及び光
量を均一にするには、前述の補正（制御）をライン毎に
行なうことで達成できる。このように、本発明では、演
算処理部内の処理方法を変えることにより、ページ毎、
ライン毎のどちらの制御も可能である。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の光走査
装置においては、書込光学系で形成される光スポット径
及び光量と、記録素子に記録されている像面の基準光ス
ポット径及び基準光量を参照して、前記書込光学系で形
成される光スポット径及び光量が基準光スポット径及び
基準光量となるように、前記開口絞りと光源を制御する
ことにより、各光スポット径に対して均一の光量を得る
ことができる。また、請求項２の光走査装置において
は、書込光学系の結像光路中の任意の場所で光束を取り
出し、像面と共役の位置に光スポット径及び光量の測定
手段を設けると共に、前記開口絞りと光源を制御する手
段を設け、１ライン毎に各像高の光スポット径及び光量
を測定、制御することにより、各像高毎に均一な光スポ
ット径及び光量を得ることができる。従って、請求項
１，２の光走査装置においては、像面上の光スポット径
と光量とを同時に制御でき、高画質対応のばらつきの小
さい均一な光スポット径及び光量を得ることができるた
め、画像の基となる１つ１つの画素のばらつきを抑える
ことができ、好ましい画像を得ることができる。
装置においては、書込光学系で形成される光スポット径
及び光量と、記録素子に記録されている像面の基準光ス
ポット径及び基準光量を参照して、前記書込光学系で形
成される光スポット径及び光量が基準光スポット径及び
基準光量となるように、前記開口絞りと光源を制御する
ことにより、各光スポット径に対して均一の光量を得る
ことができる。また、請求項２の光走査装置において
は、書込光学系の結像光路中の任意の場所で光束を取り
出し、像面と共役の位置に光スポット径及び光量の測定
手段を設けると共に、前記開口絞りと光源を制御する手
段を設け、１ライン毎に各像高の光スポット径及び光量
を測定、制御することにより、各像高毎に均一な光スポ
ット径及び光量を得ることができる。従って、請求項
１，２の光走査装置においては、像面上の光スポット径
と光量とを同時に制御でき、高画質対応のばらつきの小
さい均一な光スポット径及び光量を得ることができるた
め、画像の基となる１つ１つの画素のばらつきを抑える
ことができ、好ましい画像を得ることができる。
【図１】請求項１の一実施例を示す光走査装置の概略構
成図である。
成図である。
【図２】光源として用いられる半導体レーザの一般的な
光出力・電流特性を示す図である。
光出力・電流特性を示す図である。
【図３】主走査・副走査方向それぞれに独立に可変な開
口絞りの構成の一実施例を示す図である。
口絞りの構成の一実施例を示す図である。
【図４】請求項２の一実施例を示す光走査装置の概略構
成図である。
成図である。
１，１１：光源 ２，１２：開口絞り ３，１３：ビーム整形光学素子 ４，１４：偏向器 ５，１５：ｆθ光学素子 ６，１６：感光体等の像面 ７：演算処理部 ８：記録素子 ９，１０：開口絞りの構成部材 １７：ハーフミラー １８：受光素子 １９：演算処理部
Claims (2)
- 【請求項１】発光出力可変な光源、主走査・副走査方向
それぞれに独立に可変な開口絞り、ビーム整形光学素
子、偏向器、ｆθ光学素子が順に配置された書込光学系
を備え、該書込光学系で像面に光スポットを形成する光
走査装置において、 前記書込光学系で形成される光スポット径及び光量と、
記録素子に記録されている像面の基準光スポット径及び
基準光量を参照して、前記書込光学系で形成される光ス
ポット径及び光量が基準光スポット径及び基準光量とな
るように、前記開口絞りと光源を制御することを特徴と
する光走査装置。 - 【請求項２】発光出力可変な光源、主走査・副走査方向
それぞれに独立に可変な開口絞り、ビーム整形光学素
子、偏向器、ｆθ光学素子が順に配置された書込光学系
を備え、該書込光学系で像面に光スポットを形成する光
走査装置において、 前記書込光学系の結像光路中の任意の場所で光束を取り
出し、像面と共役の位置に光スポット径及び光量の測定
手段を設けると共に、前記開口絞りと光源を制御する手
段を設け、１ライン毎に各像高の光スポット径及び光量
を測定、制御することを特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5251899A JPH07104204A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5251899A JPH07104204A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104204A true JPH07104204A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17229616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5251899A Pending JPH07104204A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104204A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007108298A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| CN113534448A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-22 | 苏州溢博伦光电仪器有限公司 | 用于多个感兴趣区域高速成像的复合扫描器 |
| CN113534450A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-22 | 苏州溢博伦光电仪器有限公司 | 一种机械式共振扫描边缘消隐器 |
-
1993
- 1993-10-07 JP JP5251899A patent/JPH07104204A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007108298A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP4642627B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| CN113534448A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-22 | 苏州溢博伦光电仪器有限公司 | 用于多个感兴趣区域高速成像的复合扫描器 |
| CN113534450A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-10-22 | 苏州溢博伦光电仪器有限公司 | 一种机械式共振扫描边缘消隐器 |
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