JPH069505A - 芳香族炭酸エステルの製造方法 - Google Patents
芳香族炭酸エステルの製造方法Info
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- JPH069505A JPH069505A JP4161180A JP16118092A JPH069505A JP H069505 A JPH069505 A JP H069505A JP 4161180 A JP4161180 A JP 4161180A JP 16118092 A JP16118092 A JP 16118092A JP H069505 A JPH069505 A JP H069505A
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 芳香族ヒドロキシ化合物と一酸化炭素及び酸
素を反応させて、芳香族炭酸エステルを製造する際、ｐ
−フェノキシフェノールなどの副生成物の生成を抑制
し、目的物を高選択率で製造する方法の提供。 【構成】 （Ａ）パラジウム及びパラジウム化合物から
選ばれた一種以上、（Ｂ）三価または四価セリウム化合
物の一種以上、（Ｃ）４級アンモニウム塩または４級ホ
スホニウム塩から選ばれた一種以上、および（Ｄ）キノ
ン類及びその還元生成物である芳香族ジオール類から選
ばれた一種以上の存在下に、反応を行う。
素を反応させて、芳香族炭酸エステルを製造する際、ｐ
−フェノキシフェノールなどの副生成物の生成を抑制
し、目的物を高選択率で製造する方法の提供。 【構成】 （Ａ）パラジウム及びパラジウム化合物から
選ばれた一種以上、（Ｂ）三価または四価セリウム化合
物の一種以上、（Ｃ）４級アンモニウム塩または４級ホ
スホニウム塩から選ばれた一種以上、および（Ｄ）キノ
ン類及びその還元生成物である芳香族ジオール類から選
ばれた一種以上の存在下に、反応を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特定の触媒を用いた芳
香族炭酸エステルの製造方法に関するものである。芳香
族炭酸エステル、特に炭酸ジフェニルは、ポリカーボネ
ート等の原料として有用なものである。
香族炭酸エステルの製造方法に関するものである。芳香
族炭酸エステル、特に炭酸ジフェニルは、ポリカーボネ
ート等の原料として有用なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、芳香族炭酸エステルの製造法とし
ては、芳香族ヒドロキシ化合物とホスゲンを反応させる
方法が用いられてきた。しかし、ホスゲンは毒性が強い
ため、この方法は好ましくない。そこで、ホスゲンを用
いない方法として、芳香族ヒドロキシ化合物と一酸化炭
素及び酸素とから芳香族炭酸エステルを製造する方法が
提案されている。この方法における触媒として、特公昭
５６ー３８１４４号公報には、パラジウム化合物と周期
率表のIIIＡ、IVＡ、VＡ、VIＡ、IＢ、IIＢ、VIＢまた
はVIIＢ族の金属を含む化合物及び塩基を用いる方法が
記載されている。また、特公昭５６−３８１４５号公報
には、パラジウム化合物、マンガン錯体またはコバルト
錯体、塩基及び乾燥剤を用いる方法、特開平１−１６５
５５１号公報には、パラジウム化合物、ヨウ素及びゼオ
ライト類を用いる方法、特開平２−１０４５６４号公報
には、パラジウム化合物、二価または三価のマンガン化
合物、テトラアルキルアンモニウムハライド及びキノン
類を用いる方法、特開平２−１４２７５４号公報には、
パラジウム化合物、二価または三価のコバルト化合物、
テトラアルキルアンモニウムハライド及びキノン類を用
いる方法が記載されている。しかしながら、これらの方
法では、パラジウムの触媒活性が低いこと、生成物の収
率が低い等の問題点がある。また、特開平２−１０４５
６４号公報記載の方法は、触媒活性は比較的高いもの
の、副反応として芳香族ヒドロキシ化合物の酸化が避け
られず、目的物との分離が困難なフェノキシフェノール
等の選択率が高いという問題点があった（比較例１参
照）。
ては、芳香族ヒドロキシ化合物とホスゲンを反応させる
方法が用いられてきた。しかし、ホスゲンは毒性が強い
ため、この方法は好ましくない。そこで、ホスゲンを用
いない方法として、芳香族ヒドロキシ化合物と一酸化炭
素及び酸素とから芳香族炭酸エステルを製造する方法が
提案されている。この方法における触媒として、特公昭
５６ー３８１４４号公報には、パラジウム化合物と周期
率表のIIIＡ、IVＡ、VＡ、VIＡ、IＢ、IIＢ、VIＢまた
はVIIＢ族の金属を含む化合物及び塩基を用いる方法が
記載されている。また、特公昭５６−３８１４５号公報
には、パラジウム化合物、マンガン錯体またはコバルト
錯体、塩基及び乾燥剤を用いる方法、特開平１−１６５
５５１号公報には、パラジウム化合物、ヨウ素及びゼオ
ライト類を用いる方法、特開平２−１０４５６４号公報
には、パラジウム化合物、二価または三価のマンガン化
合物、テトラアルキルアンモニウムハライド及びキノン
類を用いる方法、特開平２−１４２７５４号公報には、
パラジウム化合物、二価または三価のコバルト化合物、
テトラアルキルアンモニウムハライド及びキノン類を用
いる方法が記載されている。しかしながら、これらの方
法では、パラジウムの触媒活性が低いこと、生成物の収
率が低い等の問題点がある。また、特開平２−１０４５
６４号公報記載の方法は、触媒活性は比較的高いもの
の、副反応として芳香族ヒドロキシ化合物の酸化が避け
られず、目的物との分離が困難なフェノキシフェノール
等の選択率が高いという問題点があった（比較例１参
照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らの検討によ
れば、従来法により、フェノールと一酸化炭素及び酸素
との反応により炭酸ジフェニルを製造する場合、フェノ
ールが酸化的二量化したフェノキシフェノール類、ビフ
ェノール類、あるいは酸化的三量化した副生成物などが
種々生成することが判明した。これらの中でも、特にｐ
−フェノキシフェノールは、沸点が炭酸ジフェニルに近
いため分離精製に際して好ましくない副生成物である。
本発明の目的は、このような副生成物の生成を抑制し、
目的とする芳香族炭酸エステルを高選択率で製造する方
法を提供することにある。
れば、従来法により、フェノールと一酸化炭素及び酸素
との反応により炭酸ジフェニルを製造する場合、フェノ
ールが酸化的二量化したフェノキシフェノール類、ビフ
ェノール類、あるいは酸化的三量化した副生成物などが
種々生成することが判明した。これらの中でも、特にｐ
−フェノキシフェノールは、沸点が炭酸ジフェニルに近
いため分離精製に際して好ましくない副生成物である。
本発明の目的は、このような副生成物の生成を抑制し、
目的とする芳香族炭酸エステルを高選択率で製造する方
法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは触媒とし
て、下記の特定の触媒を用いることにより芳香族ヒドロ
キシ化合物の酸化反応が抑制されることを見いだし本発
明を完成した。本発明は、芳香族ヒドロキシ化合物と一
酸化炭素及び酸素を反応させて、芳香族炭酸エステルを
製造する方法において、（Ａ）パラジウム及びパラジウ
ム化合物から選ばれた一種以上、（Ｂ）三価または四価
セリウム化合物の一種以上、（Ｃ）４級アンモニウム塩
または４級ホスホニウム塩から選ばれた一種以上、およ
び（Ｄ）キノン類及びその還元生成物である芳香族ジオ
ール類から選ばれた一種以上の存在下に、該反応を行う
ことを特徴とする芳香族炭酸エステルの製造方法であ
る。
て、下記の特定の触媒を用いることにより芳香族ヒドロ
キシ化合物の酸化反応が抑制されることを見いだし本発
明を完成した。本発明は、芳香族ヒドロキシ化合物と一
酸化炭素及び酸素を反応させて、芳香族炭酸エステルを
製造する方法において、（Ａ）パラジウム及びパラジウ
ム化合物から選ばれた一種以上、（Ｂ）三価または四価
セリウム化合物の一種以上、（Ｃ）４級アンモニウム塩
または４級ホスホニウム塩から選ばれた一種以上、およ
び（Ｄ）キノン類及びその還元生成物である芳香族ジオ
ール類から選ばれた一種以上の存在下に、該反応を行う
ことを特徴とする芳香族炭酸エステルの製造方法であ
る。
【０００５】［発明の具体的説明］ １．反応原料 （１）芳香族ヒドロキシ化合物 本発明に用いられる芳香族ヒドロキシ化合物は、芳香族
モノまたはポリヒドロキシ化合物であり、例えばフェノ
ール；クレゾール、キシレノール、トリメチルフェノー
ル、テトラメチルフェノール、エチルフェノール、プロ
ピルフェノール、メトキシフェノール、エトキシフェノ
ール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、ブロモ
フェノール、ジブロモフェノールなどの置換フェノール
類及びそれらの異性体；ナフトール、メチルナフトー
ル、エチルナフトール、クロロナフトール、ブロモナフ
トールなどの置換ナフトール類及びそれらの異性体；
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなど
の各種ビスフェノール類；各種ビフェノール類；各種ヘ
テロ芳香族ヒドロキシ化合物及びそれらの異性体、さら
にそれらのアルキル、ハロゲンなどによる置換体などで
ある。これらの中でフェノールが特に好ましい。
モノまたはポリヒドロキシ化合物であり、例えばフェノ
ール；クレゾール、キシレノール、トリメチルフェノー
ル、テトラメチルフェノール、エチルフェノール、プロ
ピルフェノール、メトキシフェノール、エトキシフェノ
ール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、ブロモ
フェノール、ジブロモフェノールなどの置換フェノール
類及びそれらの異性体；ナフトール、メチルナフトー
ル、エチルナフトール、クロロナフトール、ブロモナフ
トールなどの置換ナフトール類及びそれらの異性体；
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなど
の各種ビスフェノール類；各種ビフェノール類；各種ヘ
テロ芳香族ヒドロキシ化合物及びそれらの異性体、さら
にそれらのアルキル、ハロゲンなどによる置換体などで
ある。これらの中でフェノールが特に好ましい。
【０００６】（２）一酸化炭素 本発明に用いられる一酸化炭素は、高純度のものはもと
より、窒素、アルゴン、二酸化炭素、水素など反応に悪
影響をおよぼさない他のガスで希釈されているものでも
使用することができる。
より、窒素、アルゴン、二酸化炭素、水素など反応に悪
影響をおよぼさない他のガスで希釈されているものでも
使用することができる。
【０００７】（３）酸素 本発明に用いられる酸素は、高純度のものはもとより、
空気、または窒素、アルゴン、二酸化炭素、水素など反
応に悪影響をおよぼさない他のガスで希釈されているも
のでも使用することができる。
空気、または窒素、アルゴン、二酸化炭素、水素など反
応に悪影響をおよぼさない他のガスで希釈されているも
のでも使用することができる。
【０００８】２．触媒 本発明の反応に使用される触媒は、下記の（Ａ）〜
（Ｄ）の４成分を含有するものである。 （Ａ）パラジウムまたはパラジウム化合物 本発明に用いられるパラジウムまたはパラジウム化合物
は、パラジウム黒、パラジウムカーボン、パラジウム／
アルミナ、パラジウム／シリカなどの担持パラジウム；
塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、
硫酸パラジウム、硝酸パラジウムなどのパラジウムの無
機塩類；酢酸パラジウム、シュウ酸パラジウムなどのパ
ラジウムの有機酸塩類等である。またパラジウム（II）
アセチルアセトナートや、パラジウムに一酸化炭素、ニ
トリル類、アミン類、ホスフィン類、オレフィン類など
が配位したパラジウムの錯化合物、例えばＰｄＣｌ
2（ＰｈＣＮ）2、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2、Ｐｄ（Ｃ
Ｏ）（ＰＰｈ3）3、［Ｐｄ（ＮＨ3）4］Ｃｌ2、Ｐｄ
（Ｃ2Ｈ4）（ＰＰｈ3）2など、あるいはそれら錯化合物
が反応系中で生成されるような化合物類とパラジウムと
の混合物を使用することもできる。反応に用いられるパ
ラジウム成分の量は、芳香族ヒドロキシ化合物に対して
モル比で１〜１０-5の範囲であることが好ましく、特に
１０-1〜１０-4の範囲であることが好ましい。
（Ｄ）の４成分を含有するものである。 （Ａ）パラジウムまたはパラジウム化合物 本発明に用いられるパラジウムまたはパラジウム化合物
は、パラジウム黒、パラジウムカーボン、パラジウム／
アルミナ、パラジウム／シリカなどの担持パラジウム；
塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、
硫酸パラジウム、硝酸パラジウムなどのパラジウムの無
機塩類；酢酸パラジウム、シュウ酸パラジウムなどのパ
ラジウムの有機酸塩類等である。またパラジウム（II）
アセチルアセトナートや、パラジウムに一酸化炭素、ニ
トリル類、アミン類、ホスフィン類、オレフィン類など
が配位したパラジウムの錯化合物、例えばＰｄＣｌ
2（ＰｈＣＮ）2、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3）2、Ｐｄ（Ｃ
Ｏ）（ＰＰｈ3）3、［Ｐｄ（ＮＨ3）4］Ｃｌ2、Ｐｄ
（Ｃ2Ｈ4）（ＰＰｈ3）2など、あるいはそれら錯化合物
が反応系中で生成されるような化合物類とパラジウムと
の混合物を使用することもできる。反応に用いられるパ
ラジウム成分の量は、芳香族ヒドロキシ化合物に対して
モル比で１〜１０-5の範囲であることが好ましく、特に
１０-1〜１０-4の範囲であることが好ましい。
【０００９】（Ｂ）三価または四価のセリウム化合物 本発明に用いられる三価または四価のセリウム化合物
は、塩化セリウム、臭化セリウム、硫酸セリウム、硝酸
セリウムなどの無機塩類；酢酸セリウム、シュウ酸セリ
ウムなどの有機酸塩類である。また、セリウムアセチル
アセトナートや、セリウムに一酸化炭素、ニトリル類、
アミン類、ホスフィン類、オレフィン類などが配位した
セリウムの錯化合物、あるいはそれら錯化合物が反応系
中で生成されるような化合物類とセリウムとの混合物で
もよい。反応に用いられるセリウム成分の量は、パラジ
ウム成分に対してモル比で１０-2〜１０2の範囲である
ことが好ましく、特に１０-1〜１０の範囲であることが
好ましい。
は、塩化セリウム、臭化セリウム、硫酸セリウム、硝酸
セリウムなどの無機塩類；酢酸セリウム、シュウ酸セリ
ウムなどの有機酸塩類である。また、セリウムアセチル
アセトナートや、セリウムに一酸化炭素、ニトリル類、
アミン類、ホスフィン類、オレフィン類などが配位した
セリウムの錯化合物、あるいはそれら錯化合物が反応系
中で生成されるような化合物類とセリウムとの混合物で
もよい。反応に用いられるセリウム成分の量は、パラジ
ウム成分に対してモル比で１０-2〜１０2の範囲である
ことが好ましく、特に１０-1〜１０の範囲であることが
好ましい。
【００１０】（Ｃ）４級アンモニウム塩または４級ホス
ホニウム塩 本発明に用いられる４級アンモニウム塩は、式： Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＮＸ、 または Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＰＸ で表
される化合物である。式中、Ｒ1〜Ｒ4は炭素数１〜８の
アルキル基または炭素数６〜１２のアリール基であっ
て、全てが同じでも、異なっていてもよい。Ｘはアニオ
ンであって、水酸基、クロライド、ブロマイド、アイオ
ダイドなどのハロゲンアニオン、フェノキサイドアニオ
ン、アセテートアニオンなどの有機アニオン等である。
これらの中でテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム塩、およ
びテトラフェニルホスホニウム塩が好ましい。反応に用
いられる４級アンモニウム塩の量は、パラジウムまたは
パラジウム化合物に対してモル比で１０-1〜１０3の範
囲であることが好ましく、１〜１０2の範囲であること
が特に好ましい。
ホニウム塩 本発明に用いられる４級アンモニウム塩は、式： Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＮＸ、 または Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4ＰＸ で表
される化合物である。式中、Ｒ1〜Ｒ4は炭素数１〜８の
アルキル基または炭素数６〜１２のアリール基であっ
て、全てが同じでも、異なっていてもよい。Ｘはアニオ
ンであって、水酸基、クロライド、ブロマイド、アイオ
ダイドなどのハロゲンアニオン、フェノキサイドアニオ
ン、アセテートアニオンなどの有機アニオン等である。
これらの中でテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム塩、およ
びテトラフェニルホスホニウム塩が好ましい。反応に用
いられる４級アンモニウム塩の量は、パラジウムまたは
パラジウム化合物に対してモル比で１０-1〜１０3の範
囲であることが好ましく、１〜１０2の範囲であること
が特に好ましい。
【００１１】（Ｄ）キノン類及びその還元生成物である
芳香族ジオール類 本発明に用いられるキノン類またはその還元生成物であ
る芳香族ジオール類としては、例えば１，４−キノン、
１，２−キノン、カテコール、ナフトキノン、アントラ
キノン、ヒドロキノンなどを挙げることができる。これ
らの中では、１，４−キノンまたはヒドロキノンが特に
好ましい。これら化合物の使用量は、パラジウムまたは
パラジウム化合物に対してモル比で１０-1〜１０3の範
囲であることが好ましく、１〜１０2の範囲であること
が特に好ましい。
芳香族ジオール類 本発明に用いられるキノン類またはその還元生成物であ
る芳香族ジオール類としては、例えば１，４−キノン、
１，２−キノン、カテコール、ナフトキノン、アントラ
キノン、ヒドロキノンなどを挙げることができる。これ
らの中では、１，４−キノンまたはヒドロキノンが特に
好ましい。これら化合物の使用量は、パラジウムまたは
パラジウム化合物に対してモル比で１０-1〜１０3の範
囲であることが好ましく、１〜１０2の範囲であること
が特に好ましい。
【００１２】３．反応条件 反応は上記芳香族ヒドロキシ化合物と、上記成分
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）からなる触媒とを
反応装置に仕込み、一酸化炭素および酸素により加圧
し、加温下に行われる。反応圧力は０．１〜５００気
圧、好ましくは１〜２５０気圧の範囲である。一酸化炭
素と酸素の組成比は、その燃焼範囲からはずれた組成比
であることが好ましい。反応温度は２０〜３００℃、好
ましくは８０〜２５０℃の範囲である。反応時間は数分
から数時間である。反応に際しては、溶媒として、例え
ばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、クロ
ロベンゼン、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ギ酸メ
チル、アセトニトリルなどの不活性な溶媒を用いること
ができる。なお、原料の芳香族ヒドロキシ化合物が反応
溶媒となる場合もあるので、このときは特に他の溶媒は
用いる必要はない。
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）からなる触媒とを
反応装置に仕込み、一酸化炭素および酸素により加圧
し、加温下に行われる。反応圧力は０．１〜５００気
圧、好ましくは１〜２５０気圧の範囲である。一酸化炭
素と酸素の組成比は、その燃焼範囲からはずれた組成比
であることが好ましい。反応温度は２０〜３００℃、好
ましくは８０〜２５０℃の範囲である。反応時間は数分
から数時間である。反応に際しては、溶媒として、例え
ばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、クロ
ロベンゼン、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ギ酸メ
チル、アセトニトリルなどの不活性な溶媒を用いること
ができる。なお、原料の芳香族ヒドロキシ化合物が反応
溶媒となる場合もあるので、このときは特に他の溶媒は
用いる必要はない。
【００１３】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
詳細に説明する。 実施例１ 容量３０mlのハステロイ製オートクレーブにフェノール
７．８ｇ（８３mmol）、酢酸パラジウム（II）２．４mg
(０.０１mmol)、酢酸セリウム（III）・１水和物３．５
mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロ
マイド２０２mg（０．６mmol）、ヒドロキノン３４mg
（０．３mmol）を入れ、系内を一酸化炭素で置換した
後、一酸化炭素６０気圧、乾燥空気３０気圧を導入し、
１２０℃で１時間反応させ、ついで冷却、圧抜きし、反
応液をガスクロマトグラフィーにより分析した。その結
果、炭酸ジフェニルが収率３．７％（１．５mmol）で得
られた。また、副生成物としてサリチル酸フェニルは
０．１２％（０．０４９mmol）、ｐ−フェノキシフェノ
ールは０．０３９％（０．０１６mmol）生成した。ｐ−
フェノキシフェノールの選択率は１．０％であった。
詳細に説明する。 実施例１ 容量３０mlのハステロイ製オートクレーブにフェノール
７．８ｇ（８３mmol）、酢酸パラジウム（II）２．４mg
(０.０１mmol)、酢酸セリウム（III）・１水和物３．５
mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロ
マイド２０２mg（０．６mmol）、ヒドロキノン３４mg
（０．３mmol）を入れ、系内を一酸化炭素で置換した
後、一酸化炭素６０気圧、乾燥空気３０気圧を導入し、
１２０℃で１時間反応させ、ついで冷却、圧抜きし、反
応液をガスクロマトグラフィーにより分析した。その結
果、炭酸ジフェニルが収率３．７％（１．５mmol）で得
られた。また、副生成物としてサリチル酸フェニルは
０．１２％（０．０４９mmol）、ｐ−フェノキシフェノ
ールは０．０３９％（０．０１６mmol）生成した。ｐ−
フェノキシフェノールの選択率は１．０％であった。
【００１４】実施例２ フェノール８.４ｇ（８９mmol）、酢酸パラジウム（I
I）２.４mg(０.０１mmol)、酢酸セリウム（III）・１水
和物３．４mg（０．０１mmol）、テトラフェニルホスホ
ニウムブロマイド２５０mg（０．６mmol）、ヒドロキノ
ン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様の操作
を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率３．３％（１．
５mmol）で得られた。また、副生成物としてサリチル酸
フェニルは０．１１％（０．０４８mmol）、ｐ−フェノ
キシフェノールは０．０３３％（０．０１５mmol）生成
した。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は１．０％で
あった。
I）２.４mg(０.０１mmol)、酢酸セリウム（III）・１水
和物３．４mg（０．０１mmol）、テトラフェニルホスホ
ニウムブロマイド２５０mg（０．６mmol）、ヒドロキノ
ン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様の操作
を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率３．３％（１．
５mmol）で得られた。また、副生成物としてサリチル酸
フェニルは０．１１％（０．０４８mmol）、ｐ−フェノ
キシフェノールは０．０３３％（０．０１５mmol）生成
した。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は１．０％で
あった。
【００１５】比較例１ フェノール８.０ｇ（８５mmol）、酢酸パラジウム（I
I）２.４mg(０.０１mmol)、マンガン（III）アセチルア
セトナート３．５mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチル
アンモニウムブロマイド２００mg（０．６mmol）、ヒド
ロキノン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様
の操作を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率６．９％
（２．９mmol）で得られた。また、副生成物としてサリ
チル酸フェニルは０．２２％（０．０９mmol）、ｐ−フ
ェノキシフェノールは０．２０％（０．０８６mmol）生
成した。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は２．８％
であった。
I）２.４mg(０.０１mmol)、マンガン（III）アセチルア
セトナート３．５mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチル
アンモニウムブロマイド２００mg（０．６mmol）、ヒド
ロキノン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様
の操作を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率６．９％
（２．９mmol）で得られた。また、副生成物としてサリ
チル酸フェニルは０．２２％（０．０９mmol）、ｐ−フ
ェノキシフェノールは０．２０％（０．０８６mmol）生
成した。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は２．８％
であった。
【００１６】比較例２ フェノール８.２ｇ（８７mmol）、酢酸パラジウム（I
I）２.４mg(０.０１mmol)、酢酸コバルト（II）・４水
和物２．７mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチルアンモ
ニウムブロマイド２００mg（０．６mmol）、ヒドロキノ
ン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様の操作
を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率３．７％（１．
６mmol）で得られた。また、副生成物としてサリチル酸
フェニルは０．１４％（０．０６mmol）、ｐ−フェノキ
シフェノールは０．０７％（０．０２９mmol）生成し
た。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は１．７％であ
った。
I）２.４mg(０.０１mmol)、酢酸コバルト（II）・４水
和物２．７mg（０．０１mmol）、テトラ-n-ブチルアンモ
ニウムブロマイド２００mg（０．６mmol）、ヒドロキノ
ン３３mg（０．３mmol）を用い、実施例１と同様の操作
を行ったところ、炭酸ジフェニルが収率３．７％（１．
６mmol）で得られた。また、副生成物としてサリチル酸
フェニルは０．１４％（０．０６mmol）、ｐ−フェノキ
シフェノールは０．０７％（０．０２９mmol）生成し
た。ｐ−フェノキシフェノールの選択率は１．７％であ
った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 瀬尾 正一 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者 米山 孝裕 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 芳香族ヒドロキシ化合物と一酸化炭素及
び酸素を反応させて、芳香族炭酸エステルを製造する方
法において、（Ａ）パラジウム及びパラジウム化合物か
ら選ばれた一種以上、（Ｂ）三価または四価セリウム化
合物の一種以上、（Ｃ）４級アンモニウム塩または４級
ホスホニウム塩から選ばれた一種以上、および（Ｄ）キ
ノン類及びその還元生成物である芳香族ジオール類から
選ばれた一種以上の存在下に、該反応を行うことを特徴
とする芳香族炭酸エステルの製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP04161180A JP3128329B2 (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 芳香族炭酸エステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04161180A JP3128329B2 (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 芳香族炭酸エステルの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH069505A true JPH069505A (ja) | 1994-01-18 |
| JP3128329B2 JP3128329B2 (ja) | 2001-01-29 |
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ID=15730110
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP04161180A Expired - Fee Related JP3128329B2 (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 芳香族炭酸エステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3128329B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06293662A (ja) * | 1985-05-10 | 1994-10-21 | Mobay Corp | トレポネマ・ハイオジセンテリアエのバクテリン |
| US6534670B2 (en) | 1997-08-04 | 2003-03-18 | Teijin Limited | Catalyst and process for the preparation of aromatic carbonates |
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-
1992
- 1992-06-19 JP JP04161180A patent/JP3128329B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JPH06293662A (ja) * | 1985-05-10 | 1994-10-21 | Mobay Corp | トレポネマ・ハイオジセンテリアエのバクテリン |
| JPH08785B2 (ja) * | 1985-05-10 | 1996-01-10 | モーベイ・コーポレーシヨン | トレポネマ・ハイオジセンテリアエのバクテリン |
| US6534670B2 (en) | 1997-08-04 | 2003-03-18 | Teijin Limited | Catalyst and process for the preparation of aromatic carbonates |
| US6720443B2 (en) | 1997-08-04 | 2004-04-13 | Teijin Limited | Catalyst and process for the preparation of aromatic carbonates |
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| Publication number | Publication date |
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| JP3128329B2 (ja) | 2001-01-29 |
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