JPH069264B2 - １次制御ガスレ−ザ−用直流高電圧パルス発生回路 - Google Patents
１次制御ガスレ−ザ−用直流高電圧パルス発生回路Info
- Publication number
- JPH069264B2 JPH069264B2 JP61174540A JP17454086A JPH069264B2 JP H069264 B2 JPH069264 B2 JP H069264B2 JP 61174540 A JP61174540 A JP 61174540A JP 17454086 A JP17454086 A JP 17454086A JP H069264 B2 JPH069264 B2 JP H069264B2
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- JP
- Japan
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- gas laser
- circuit
- voltage pulse
- voltage
- high voltage
- Prior art date
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/09705—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser with particular means for stabilising the discharge
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はガスレーザー装置の直流高電圧パルスを発生さ
せる回路に関するものである。従来直流高電圧を必要と
するガスレーザー装置においては第１図に示すように出
力電流のコントロールは可飽和リアクトルＳＲで行い、
可飽和リアクトルＳＲによる制御交流を昇圧トランスＴ
で電圧を上昇させ、整流平滑した出力をフロートした真
空管ＶＴを開閉することにより直流高電圧パルスを得て
いた。従来方式では動作周波数が商用電源周波ＡＣのた
め制御回路の応答が遅くなり、トランスＴの大型化が避
けられず、またスイッチとして真空管ＶＴを使用してい
ることから運転寿命が短く不経済であった。これらを解
決しようとするのが本発明の目的である。第２図、第５
図は本発明の一実施例回路図及びその各部動作波形図で
図中１は整流回路、２はＤＣ−ＤＣコンバータ、３はイ
ンバータスイッチ回路、４は昇圧トランス、５は高圧整
流回路、６はバラスト抵抗、７はコンデンサ、８はガス
レルーザ管である。又、第３図及び第４図は夫々本発明
の実施例に適用されるコンバータ（降圧型）の基本回路
例及びインバータスイッチの回路例を示し、図中Ｓ
Ｗ０、ＳＷ１〜ＳＷ３はバイポーラトランジスタ、ＭＯ
ＳＦＥＴ、サイリスタ等のスイッチ素子である。以下動
作について第５図を参照して説明する。先ず、第２図に
おいて整流回路１により商用交流入力ＡＣを直流に整流
し（第５図(イ)の電圧波形参照）、その整流出力をコン
バータ２（第３図に示す降圧形コンバータ）により所望
する出力電流に対応する直流電圧に制御変換される（第
５図(ロ)の電圧波形参照）。コンバータ２の直流出力は
インバータスイッチ回路３（第４図ａ、ｂ、ｃ）により高
周波の交流に変換される。このインバータスイッチ回路
３を昇圧トランス４の１次側ｎ１にてキャリアー周波数
以上の所望のデューティーで運転と停止を繰返してやれ
ば（第５図(ハ)の電圧波形参照）、高電圧整流回路５の
出力電圧波形は方形波パルス状となり（第５図(ニ)の電
圧波形参照）、バラスト抵抗６及びリップル低減用コン
デンサ７を介してガスレーザー管８に印加される負荷電
流波形は第５図（ホ）に示すようにリップルの少ない良
質な電流パルスとなる。本発明によりガスレーザー用直
流高電圧パルス発生回路の変換周波数をあげることがで
きることから、応答スピードがあがり、又小型化がはか
れる。さらに半導体スイッチの採用により寿命も長くな
る。パルサーモード運転用直流高電圧パルサを昇圧トラ
ンスの１次側つまり低圧側で制御していることから、比
較的容易に低廉な部品でガスレーザー用直流高電圧パル
ス発生回路を実現でき、しかもパルサーモードからＣＷ
モードまで連続的に出力できる。
せる回路に関するものである。従来直流高電圧を必要と
するガスレーザー装置においては第１図に示すように出
力電流のコントロールは可飽和リアクトルＳＲで行い、
可飽和リアクトルＳＲによる制御交流を昇圧トランスＴ
で電圧を上昇させ、整流平滑した出力をフロートした真
空管ＶＴを開閉することにより直流高電圧パルスを得て
いた。従来方式では動作周波数が商用電源周波ＡＣのた
め制御回路の応答が遅くなり、トランスＴの大型化が避
けられず、またスイッチとして真空管ＶＴを使用してい
ることから運転寿命が短く不経済であった。これらを解
決しようとするのが本発明の目的である。第２図、第５
図は本発明の一実施例回路図及びその各部動作波形図で
図中１は整流回路、２はＤＣ−ＤＣコンバータ、３はイ
ンバータスイッチ回路、４は昇圧トランス、５は高圧整
流回路、６はバラスト抵抗、７はコンデンサ、８はガス
レルーザ管である。又、第３図及び第４図は夫々本発明
の実施例に適用されるコンバータ（降圧型）の基本回路
例及びインバータスイッチの回路例を示し、図中Ｓ
Ｗ０、ＳＷ１〜ＳＷ３はバイポーラトランジスタ、ＭＯ
ＳＦＥＴ、サイリスタ等のスイッチ素子である。以下動
作について第５図を参照して説明する。先ず、第２図に
おいて整流回路１により商用交流入力ＡＣを直流に整流
し（第５図(イ)の電圧波形参照）、その整流出力をコン
バータ２（第３図に示す降圧形コンバータ）により所望
する出力電流に対応する直流電圧に制御変換される（第
５図(ロ)の電圧波形参照）。コンバータ２の直流出力は
インバータスイッチ回路３（第４図ａ、ｂ、ｃ）により高
周波の交流に変換される。このインバータスイッチ回路
３を昇圧トランス４の１次側ｎ１にてキャリアー周波数
以上の所望のデューティーで運転と停止を繰返してやれ
ば（第５図(ハ)の電圧波形参照）、高電圧整流回路５の
出力電圧波形は方形波パルス状となり（第５図(ニ)の電
圧波形参照）、バラスト抵抗６及びリップル低減用コン
デンサ７を介してガスレーザー管８に印加される負荷電
流波形は第５図（ホ）に示すようにリップルの少ない良
質な電流パルスとなる。本発明によりガスレーザー用直
流高電圧パルス発生回路の変換周波数をあげることがで
きることから、応答スピードがあがり、又小型化がはか
れる。さらに半導体スイッチの採用により寿命も長くな
る。パルサーモード運転用直流高電圧パルサを昇圧トラ
ンスの１次側つまり低圧側で制御していることから、比
較的容易に低廉な部品でガスレーザー用直流高電圧パル
ス発生回路を実現でき、しかもパルサーモードからＣＷ
モードまで連続的に出力できる。
第１図は従来のガスレーザー用直流高電圧パルス発生回
路例。第２図は本発明のガスレーザー用直流高電圧パル
ス発生回路例。第３図はＤＣ−ＤＣコンバータの降圧形
コンバータによる基本回路例。第４図はインバータスイ
ッチ回路例。第５図は本発明回路の動作波形である。 １…整流回路、２…ＤＣ−ＤＣコンバータ、３…インバ
ータスイッチ回路、４…昇圧トランス５…高電圧整流回
路、６…バラスト抵抗、７…コンデンサー、８…ガスレ
ーザー管である。
路例。第２図は本発明のガスレーザー用直流高電圧パル
ス発生回路例。第３図はＤＣ−ＤＣコンバータの降圧形
コンバータによる基本回路例。第４図はインバータスイ
ッチ回路例。第５図は本発明回路の動作波形である。 １…整流回路、２…ＤＣ−ＤＣコンバータ、３…インバ
ータスイッチ回路、４…昇圧トランス５…高電圧整流回
路、６…バラスト抵抗、７…コンデンサー、８…ガスレ
ーザー管である。
Claims (1)
- 【請求項１】交流入力ＡＣを直流に整流する整流回路１
と、その整流出力を所望の直流電圧に変換するＤＣ−Ｄ
Ｃコンバータ２と、前記ＤＣ−ＤＣコンバータ２の直流
出力を高周波の交流に変換するインバータスイッチ回路
３と、昇圧トランス４と、高電圧整流回路５を備えガス
レーザー負荷８に直流高電圧パルスを印加するようにし
た直流高電圧パルス発生回路において前記高電圧整流回
路５の出力端と前記ガスレーザー負荷８との間に、前記
ガスレーザー負荷８の負性抵抗特性領域の制御を安定化
するバラスト抵抗６と、リップル低減用のコンデンサを
設けると共に前記ＤＣ−ＤＣコンバータ２の直流電圧を
制御することにより負荷電流を制御し、且つ昇圧トラン
ス４の１次側でインバータスイッチ回路３を所望の時間
間隔で運転と停止を繰返すことによりリップル低減を図
った直流高電圧パルスを発生させることを特徴とする１
次制御ガスレーザー用直流高電圧パルス発生回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61174540A JPH069264B2 (ja) | 1986-07-24 | 1986-07-24 | １次制御ガスレ−ザ−用直流高電圧パルス発生回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61174540A JPH069264B2 (ja) | 1986-07-24 | 1986-07-24 | １次制御ガスレ−ザ−用直流高電圧パルス発生回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6331183A JPS6331183A (ja) | 1988-02-09 |
| JPH069264B2 true JPH069264B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=15980325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61174540A Expired - Lifetime JPH069264B2 (ja) | 1986-07-24 | 1986-07-24 | １次制御ガスレ−ザ−用直流高電圧パルス発生回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069264B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5048033A (en) * | 1990-09-04 | 1991-09-10 | Coherent, Inc. | Method and apparatus for controlling the power supply of a laser operating in a pulse mode |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6043077A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-07 | Stanley Electric Co Ltd | 高周波負荷用電源装置 |
| JPS60117788A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-25 | Toshiba Corp | 横流形炭酸ガスレ−ザ装置 |
-
1986
- 1986-07-24 JP JP61174540A patent/JPH069264B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6043077A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-07 | Stanley Electric Co Ltd | 高周波負荷用電源装置 |
| JPS60117788A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-25 | Toshiba Corp | 横流形炭酸ガスレ−ザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6331183A (ja) | 1988-02-09 |
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