JPH0689461A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JPH0689461A JPH0689461A JP4240901A JP24090192A JPH0689461A JP H0689461 A JPH0689461 A JP H0689461A JP 4240901 A JP4240901 A JP 4240901A JP 24090192 A JP24090192 A JP 24090192A JP H0689461 A JPH0689461 A JP H0689461A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- layer
- organic protective
- resin
- glass transition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、使用環境条件が大きく変化
しても光ディスクのＴＩＬＴ角の変化が小さくかつ長期
保存性能の優れた光ディスクを提供することにある。 【構成】 透明プラスチック基板上に、情報記録層およ
び／または反射層と有機保護層と防湿層とが形成された
光ディスクにおいて、前記有機保護層は第１の有機保護
層と第２の有機保護層とからなり、第１の有機保護層は
第２の有機保護層より情報記録層あるいは反射層に近接
して設けられ、第１の有機保護層を構成する樹脂のガラ
ス転移温度Ｔｇ１と第２の有機保護層を構成する樹脂の
ガラス転移温度Ｔｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ であることを特徴とする光ディスク。 【効果】 本発明の光ディスクは使用環境条件が大きく
変化しても、安定した読取り性能を有する。
しても光ディスクのＴＩＬＴ角の変化が小さくかつ長期
保存性能の優れた光ディスクを提供することにある。 【構成】 透明プラスチック基板上に、情報記録層およ
び／または反射層と有機保護層と防湿層とが形成された
光ディスクにおいて、前記有機保護層は第１の有機保護
層と第２の有機保護層とからなり、第１の有機保護層は
第２の有機保護層より情報記録層あるいは反射層に近接
して設けられ、第１の有機保護層を構成する樹脂のガラ
ス転移温度Ｔｇ１と第２の有機保護層を構成する樹脂の
ガラス転移温度Ｔｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ であることを特徴とする光ディスク。 【効果】 本発明の光ディスクは使用環境条件が大きく
変化しても、安定した読取り性能を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学的に情報の記録、再
生あるいは消去を行うのに好適な光ディスクに関する。
生あるいは消去を行うのに好適な光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは情報記録層に入射された光
の反射強度の変化を情報として読み取る。このために、
光ディスクの歪み、すなわち、ＴＩＬＴ角の値が大きく
なると、読取り時にフォーカスエラーおよびトラッキン
グエラーを生じてしまう。
の反射強度の変化を情報として読み取る。このために、
光ディスクの歪み、すなわち、ＴＩＬＴ角の値が大きく
なると、読取り時にフォーカスエラーおよびトラッキン
グエラーを生じてしまう。
【０００３】ＴＩＬＴ角は、基板が吸湿、または脱湿す
るために生じる歪み、基板上にスパッタ法等により情報
記録層などを形成するときに生じる歪み等の和である。
るために生じる歪み、基板上にスパッタ法等により情報
記録層などを形成するときに生じる歪み等の和である。
【０００４】ＴＩＬＴ角を小さくする方法としては、例
えば、基板を構成する材質の含水率を下げる、スパッタ
リングの条件をマイルドにする、貼り合わせ構造にする
等が挙げられる。
えば、基板を構成する材質の含水率を下げる、スパッタ
リングの条件をマイルドにする、貼り合わせ構造にする
等が挙げられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
は必ずしも満足いくものではなく、これら技術を組み合
わせても、読取り時にフォーカスエラーおよびトラッキ
ングエラーが発生してしまうことがあった。また長期保
存性能を調べるために、高温高湿下で強制劣化を行う
と、ＴＩＬＴ角が大きくなってしまう。
は必ずしも満足いくものではなく、これら技術を組み合
わせても、読取り時にフォーカスエラーおよびトラッキ
ングエラーが発生してしまうことがあった。また長期保
存性能を調べるために、高温高湿下で強制劣化を行う
と、ＴＩＬＴ角が大きくなってしまう。
【０００６】本発明の目的は、使用環境条件が大きく変
化しても光ディスクのＴＩＬＴ角の変化が小さくかつ長
期保存性能の優れた、安定した読取り性能を有する光デ
ィスクを提供することにある。
化しても光ディスクのＴＩＬＴ角の変化が小さくかつ長
期保存性能の優れた、安定した読取り性能を有する光デ
ィスクを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、透明プ
ラスチック基板上に、情報記録層および／または反射層
と有機保護層と防湿層とが形成された光ディスクにおい
て、前記有機保護層は第１の有機保護層と第２の有機保
護層とからなり、第１の有機保護層は第２の有機保護層
より情報記録層あるいは反射層に近接して設けられ、第
１の有機保護層を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１
と第２の有機保護層を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔ
ｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ であることを特徴とする光ディスク。
ラスチック基板上に、情報記録層および／または反射層
と有機保護層と防湿層とが形成された光ディスクにおい
て、前記有機保護層は第１の有機保護層と第２の有機保
護層とからなり、第１の有機保護層は第２の有機保護層
より情報記録層あるいは反射層に近接して設けられ、第
１の有機保護層を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１
と第２の有機保護層を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔ
ｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ であることを特徴とする光ディスク。
【０００８】本発明の光ディスクは、情報記録層が設け
られた基板面と反対面に防湿層を設けている。さらに、
防湿層は、基板上の情報記録層側に設けられた各層の端
部にも設けるとよい。防湿層としては、透明な無機物の
酸化物、窒化物、酸窒化物、弗化物、弗素樹脂等を使用
することができる。防湿層は、スパッタ法や真空蒸着法
等の真空成膜法、スピンコート法、スプレーコート法、
浸漬法等で形成することができる。
られた基板面と反対面に防湿層を設けている。さらに、
防湿層は、基板上の情報記録層側に設けられた各層の端
部にも設けるとよい。防湿層としては、透明な無機物の
酸化物、窒化物、酸窒化物、弗化物、弗素樹脂等を使用
することができる。防湿層は、スパッタ法や真空蒸着法
等の真空成膜法、スピンコート法、スプレーコート法、
浸漬法等で形成することができる。
【０００９】
【作用】本発明の作用については明らかではないが、以
下のように推測される。
下のように推測される。
【００１０】第２の有機保護層は環境の変化から光ディ
スクに生じる歪みを防止する。
スクに生じる歪みを防止する。
【００１１】さらに、第１の有機保護層を構成する樹脂
のガラス転移温度Ｔｇ１は第２の有機保護層を構成する
樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２よりも低いため、緩衝層と
して働き、第２の有機保護層にかかる歪みを第１の有機
保護層が分散し、情報記録層を保護する。
のガラス転移温度Ｔｇ１は第２の有機保護層を構成する
樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２よりも低いため、緩衝層と
して働き、第２の有機保護層にかかる歪みを第１の有機
保護層が分散し、情報記録層を保護する。
【００１２】
【実施例】以下実施例について説明するが、本発明はこ
れに限定されることはない。
れに限定されることはない。
【００１３】図１は本発明により製造される光ディスク
の一実施例を示す断面図である。
の一実施例を示す断面図である。
【００１４】ポリカーボネートからなる基板１上に、Ｓ
ｉＯＷ、ＳｉＮＸなどからなる膜厚０．０７μｍの誘電
体層２、ＴｂＦｅＣｏからなる膜厚０．０８μｍの情報
記録層３、ＳｉＯＹ、ＳｉＮＺなどからなる無機保護層
４が順次積層されている。なお、基板１には図示してい
ないが、スパイラル溝が形成されている。
ｉＯＷ、ＳｉＮＸなどからなる膜厚０．０７μｍの誘電
体層２、ＴｂＦｅＣｏからなる膜厚０．０８μｍの情報
記録層３、ＳｉＯＹ、ＳｉＮＺなどからなる無機保護層
４が順次積層されている。なお、基板１には図示してい
ないが、スパイラル溝が形成されている。
【００１５】無機保護膜４上には、第１の有機保護層５
と第２の有機保護層６とが積層されている。第１の有機
保護層５は構成する樹脂として、ガラス転移温度が３０
℃の値を有するＸＮＲ−５４６１（長瀬チバ（株）製）
を使用し、膜厚は１８μｍとした。第２の有機保護層６
は構成する樹脂として、エポキシアクリレートを主成分
とするガラス転移温度６５℃の樹脂（以下この樹脂をＲ
Ａ−１と略称する。）を使用し、膜厚は１５μｍとし
た。
と第２の有機保護層６とが積層されている。第１の有機
保護層５は構成する樹脂として、ガラス転移温度が３０
℃の値を有するＸＮＲ−５４６１（長瀬チバ（株）製）
を使用し、膜厚は１８μｍとした。第２の有機保護層６
は構成する樹脂として、エポキシアクリレートを主成分
とするガラス転移温度６５℃の樹脂（以下この樹脂をＲ
Ａ−１と略称する。）を使用し、膜厚は１５μｍとし
た。
【００１６】さらに、上記各層が設けられた面と異なる
基板１の面および上記各層の端部は、ＳｉＯ１．８から
なる膜厚７００オングストロームの防湿層７が設けられ
ている。
基板１の面および上記各層の端部は、ＳｉＯ１．８から
なる膜厚７００オングストロームの防湿層７が設けられ
ている。
【００１７】上記各層の製造方法について説明する。
【００１８】誘電体層２と情報記録層３と無機保護層４
とは基板１上に、順次、スパッタ法により積層した。
とは基板１上に、順次、スパッタ法により積層した。
【００１９】第１の有機保護層５および第２の有機保護
層６はスピンコート法により積層した。第１の有機保護
層５の塗布条件は３５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃであり、
第２の有機保護層６の塗布条件は３０００ｒｐｍ，２０
ｓｅｃとした。
層６はスピンコート法により積層した。第１の有機保護
層５の塗布条件は３５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃであり、
第２の有機保護層６の塗布条件は３０００ｒｐｍ，２０
ｓｅｃとした。
【００２０】防湿層７は真空蒸着法より積層した、蒸着
源として純度９９．９９９％以上のＳｉＯを用い、蒸着
装置の動作圧を約１×１０−５Ｔｏｒｒとした。膜厚は
蒸着時間を制御することにより設定した。
源として純度９９．９９９％以上のＳｉＯを用い、蒸着
装置の動作圧を約１×１０−５Ｔｏｒｒとした。膜厚は
蒸着時間を制御することにより設定した。
【００２１】また、防湿層７をスパッタ法により積層し
てもよい。ターゲットとして純度９９．９９９％以上の
単結晶シリコンを用い、導入ガスとして純度９９．９９
９％以上のアルゴンガスおよび酸素ガスを用い、スパッ
タ室内の動作圧を５ｍＴｏｒｒとする。ＳｉＯのＳｉ対
Ｏの含有比は、アルゴンガスおよび酸素ガスの分圧を制
御することによって設定できる。
てもよい。ターゲットとして純度９９．９９９％以上の
単結晶シリコンを用い、導入ガスとして純度９９．９９
９％以上のアルゴンガスおよび酸素ガスを用い、スパッ
タ室内の動作圧を５ｍＴｏｒｒとする。ＳｉＯのＳｉ対
Ｏの含有比は、アルゴンガスおよび酸素ガスの分圧を制
御することによって設定できる。
【００２２】上述の製造方法により得れた試料を実施例
−１とする。さらに、有機保護層の構成を変えて、実施
例−２，３，４，５および比較例−１，２，３，４，５
を作成した。製造方法は上述した方法に従った。作成し
た試料をまとめて第１表に示す。
−１とする。さらに、有機保護層の構成を変えて、実施
例−２，３，４，５および比較例−１，２，３，４，５
を作成した。製造方法は上述した方法に従った。作成し
た試料をまとめて第１表に示す。
【００２３】第１表には、第１の有機保護層および第２
の有機保護層に使用した樹脂の名称、ガラス転移温度が
記載されているが、第１表中、ＳＤ−３０１（大日本イ
ンク化学工業（株）製）はガラス転移温度が１２０℃の
樹脂である。また、比較例−４および比較例−５は一層
の有機保護層からなり、膜厚は３３μｍである。
の有機保護層に使用した樹脂の名称、ガラス転移温度が
記載されているが、第１表中、ＳＤ−３０１（大日本イ
ンク化学工業（株）製）はガラス転移温度が１２０℃の
樹脂である。また、比較例−４および比較例−５は一層
の有機保護層からなり、膜厚は３３μｍである。
【００２４】第１表に示した試料を用いて光ディスクの
ＴＩＬＴ角をＩＳＯ規格ＤＩＳ−１００９０準拠した評
価装置を用いて測定した。
ＴＩＬＴ角をＩＳＯ規格ＤＩＳ−１００９０準拠した評
価装置を用いて測定した。
【００２５】第１表には得られた試料のＴＩＬＴ角の値
と、前記試料を温度８０℃、湿度８５％ＲＨの環境下に
２０００時間放置して強制劣化した後の試料のＴＩＬＴ
角の値とを示した。
と、前記試料を温度８０℃、湿度８５％ＲＨの環境下に
２０００時間放置して強制劣化した後の試料のＴＩＬＴ
角の値とを示した。
【００２６】結果を第１表に示す。
【００２７】
【表１】 第１表より明らかなように、第１の有機保護層を構成す
る樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１と第２の有機保護層を構
成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ の関係にある本発明の光ディスクは、比較例の光ディス
クに対して、強制劣化によるＴＩＬＴ角の変動幅が小さ
い。
る樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１と第２の有機保護層を構
成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ の関係にある本発明の光ディスクは、比較例の光ディス
クに対して、強制劣化によるＴＩＬＴ角の変動幅が小さ
い。
【００２８】尚、第１図に示した実施例は、情報記録層
が金属合金からなるため反射層を兼ねる。基板にピット
が形成されている光ディスクの場合には、基板上に設け
られた反射層上に第１の有機保護層と第２の有機保護層
が形成されれば良い。
が金属合金からなるため反射層を兼ねる。基板にピット
が形成されている光ディスクの場合には、基板上に設け
られた反射層上に第１の有機保護層と第２の有機保護層
が形成されれば良い。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ディス
クは使用環境条件が大きく変化しても、安定した読取り
性能を有する。
クは使用環境条件が大きく変化しても、安定した読取り
性能を有する。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図。
１ 基板 ２ 誘電体層 ３ 情報記録層 ４ 無機保護層 ５ 第１の有機保護層 ６ 第２の有機保護層 ７ 防湿層
Claims (1)
- 【請求項１】 透明プラスチック基板上に、情報記録層
および／または反射層と有機保護層と防湿層とが形成さ
れた光ディスクにおいて、前記有機保護層は第１の有機
保護層と第２の有機保護層とからなり、第１の有機保護
層は第２の有機保護層より情報記録層あるいは反射層に
近接して設けられ、第１の有機保護層を構成する樹脂の
ガラス転移温度Ｔｇ１と第２の有機保護層を構成する樹
脂のガラス転移温度Ｔｇ２とが Ｔｇ１≦Ｔｇ２ であることを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240901A JPH0689461A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4240901A JPH0689461A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0689461A true JPH0689461A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17066368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4240901A Pending JPH0689461A (ja) | 1992-09-09 | 1992-09-09 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0689461A (ja) |
-
1992
- 1992-09-09 JP JP4240901A patent/JPH0689461A/ja active Pending
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