JPH0680437A - 光導波路ファイバ線引き装置および方法 - Google Patents

光導波路ファイバ線引き装置および方法

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JPH0680437A
JPH0680437A JP5120447A JP12044793A JPH0680437A JP H0680437 A JPH0680437 A JP H0680437A JP 5120447 A JP5120447 A JP 5120447A JP 12044793 A JP12044793 A JP 12044793A JP H0680437 A JPH0680437 A JP H0680437A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ファイバのクラッド層における差応力によっ
て生ずるファイバ・バウを最小限に抑える光導波路ファ
イバの線引き方法および装置を提供すること。 【構成】 ファイバが線引き用炉内で加熱されたプリフ
ォ−ムかれ線引きされる。炉の頂部に導入されたガスが
ファイバと一緒に炉中を通ってチュ−ブ内に入るそのフ
ァイバに隣接した境界層を形成する。このチュ−ブはフ
ァイバを周囲の大気から隔離して、ファイバのクラッド
層の粘度がファイバの周面のまわりの差応力を最小限に
抑えるのに十分なだけ高くなるまで、炉内に形成された
ガスの境界層が実質的に均一な状態のままであるように
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は直径変化を軽減しかつフ
ァイバ・バウ(fiber bow)を軽減した光導波路プリフォ
−ムから光導波路ファイバを線引きするための方法およ
び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光導波路プリフォ−ムから光導波路ファ
イバを線引きするための方法および装置は公知である。
その装置は通常、プリフォ−ムを軟化させるための熱源
と、ファイバ直径測定装置と、ファイバに保護コ−ティ
ングを施すためのユニットと、ファイバ巻取りユニット
よりなるものである。
【０００３】光導波路ファイバの寸法変化が光学的特性
に大きな影響を及ぼすことが以前から知られている。例
えば、ファイバ直径に3％の相対変化があるとそのファ
イバの最初の１キロメ−トル長に0.8dBまでの減衰を与
えることになることが示されている。Montierth, "Opti
cal Fiber Drawing Techniques", Optical Spectra,第4
2-48頁,1978年,10月を参照されたい。電気通信関係のマ
−ケットで従来の銅線のツイストペアに対抗しうるファ
イバを作成するためには、± 1％またはそれより良好な
３σ範囲までファイバ直径の変化を減少させる必要があ
るとすでに1978ころに言われていた。４３におけるId。
【０００４】ファイバ線引き技術における他の問題点は
ファイバ強度の改善であった。例えば、熱源または炉に
ガス流を導入することによって線引き装置の清潔度が改
善された。このガス流は周囲の空気の上昇気流が、ファ
イバが炉から外に出る炉の底から炉に入るのを阻止す
る。このような上昇気流はプリフォ−ムの軟化された部
分の近傍に粒子を運び込みうる。その粒子が軟化したプ
リフォ−ムまたはファイバに付着し、ファイバに脆弱な
部分を生じ、その部分が所要の限界以下で破断してしま
うおそれがある。上記ガス流は炉または加熱されたプリ
フォ−ムから放出される材料を流し去る作用もする。例
えば、米国特許第４１２６４３６号を参照されたい。
【０００５】しかし、このようにガスを導入すると、フ
ァイバが線引きされるプリフォ−ムの先端部にガスが到
達したときに均一に加熱されていなければ、そのプリフ
ォ−ムの先端部の近傍においてガスが迅速に不均一な加
熱をうけることによって乱流が生じ、ファイバに直径の
変化を生じさせることになる。この不均一加熱の問題に
対する１つの解決策として、ガスがプリフォ−ムの先端
部に到達したときにガスを均一に加熱させる細い円筒状
のチャンネルをプリフォ−ムに隣接して設けるすること
が行なわれている。例えば、上記米国特許第４１２６４
３６号を参照されたい。また、炉内にヘリウムのような
ガスが存在すれば、ファイバが線引きされるプリフォ−
ムの先端部における温度を安定させうることが示されて
いる。このようにプリフォ−ムの先端部における温度が
安定化されることによって、ファイバの直径変化を軽減
されることが示されている。例えば、米国特許第４１５
４５９２号を参照されたい。
【０００６】ファイバのクラッド層の粘度が線引きされ
たファイバにおける差応力を実質的に防止するのに十分
なだけ高くなる前に線引きされたファイバが差冷却され
ると、ファイバに曲げを生じさせることになりうる。こ
の曲げ、またはファイバ「バウ」(fiber "bow")はファ
イバが他のファイバにスプライス(sprice)されるときに
困難を生じ、高損失のスプライスとなり、これが光ファ
イバをベ−スとした通信システムの全体としての性能に
悪影響を及ぼすことになる。このバウの効果は、ファイ
バの１つのリボン・アレイが対向したアレイにスプライ
スされなければならないリボン・ファイバの用途では複
合化する。
【０００７】本発明者はファイバが線引き用炉から外に
でるときにそのファイバのまわりを循環する室内空気が
ファイバを差冷却ことも認めた。これが高い周波数でか
つランダムな直径振動を生ずる。典型的には、この変化
はファイバ直径に対する仕様で許容されるものより小さ
い。しかし、これらの直径振動は「エアライン」(airli
ne)として知られたファイバの欠陥を隠蔽するのに十分
な大きさである。エアラインはファイバ中の穴であり、
ファイバ直径の小さな値の急激な変化によって識別され
る。
【０００８】ファイバのクラッド層の粘度が線引きされ
たファイバにおける差応力を実質的に防止するのに十分
なだけ高くなる前におけるファイバの差冷却によってバ
ウが生ずるものと本発明者は考える。ファイバの冷却に
ともなって、クラッド層がコア領域に対して急速に冷却
する。このクラッド層の急速冷却がファイバのクラッド
層内に大きい引張り応力を誘起する。粘度がクラッド層
における差応力を最小限に抑えるのに十分なだけ高くな
る前にクラッド層が差冷却を受けると、ファイバの周囲
に均一に分布されない引張り応力を生じ、これによって
バウが誘起されることになる。
【０００９】線引き処理時に、ヘリウム（または炉内で
用いられる他のガス）の境界層がファイバ表面に隣接し
て生ずる。この境界層は、それが意図的にまたは誤って
炉雰囲気内に導入される付加的なガスのような他の力に
よって破壊されないかぎり、ファイバと一緒に炉の出口
を通って進行するであろう。ヘリウムは非常に効率的な
熱伝達媒体であるから、この境界層はそれが完全なまま
であり限りファイバの周囲に実質的に対称的な温度を与
えることができる。周囲の雰囲気における流れによる境
界層の破壊が、ファイバ・バウまたは直径振動を生ずる
ことになりうる差冷却に寄与するものと本発明者は考え
ている。
【００１０】米国特許第４７６３４２７号はファイバ内
に熱的に誘起される応力を防止するために窒素、アルゴ
ンまたは酸素を用いることを開示している。これらの応
力はファイバの減衰を増大させるものであって、ファイ
バが約1800℃から約1200℃まで冷却された場合に大きな
温度勾配によって生ずる。そのガスは炉内に導入され、
そしてほぼプリフォ−ムの温度まで加熱される。ファイ
バが加熱されたプリフォ−ムから線引きされて付設チュ
−ブ内に入れ込まれるにつれて、そのガスが炉からその
チュ−ブ内に流入する。そのチュ−ブの内側に積層流分
布を生じさせるための流量でそのチュ−ブ内に付加的な
ガスが導入される。ファイバは所望の影響を得るために
は少なくとも0.1秒のあいだチュ−ブ内に留っていなけ
ればならないから、チュ−ブの長さは線引き速度に依存
する。上記米国特許の第１欄第５４−６５行目を参照さ
れたい。
【００１１】特願昭６２−２４６８３７はファイバの直
径変化を軽減するために線引き用炉のファイバ取り出し
端部にチュ−ブを使用することを開示している。線引き
用炉内に不活性ガスが導入される。ファイバが線引きさ
れて炉からそのチュ−ブ内に入れ込まれるときに、この
不活性ガスはプリフォ−ムの温度に近い温度に加熱さ
れ、そして炉からチュ−ブ内に流入する。また炉からの
輻射熱によってチュ−ブが加熱されるのを防止するため
に炉とチュ−ブとの間にシャッタ−が設けられている。
【００１２】上記特願昭６２−２４６８３におけるチュ
−ブには炉からこのチュ−ブ内に流入する不活性ガスを
冷却するための媒体が設けられている。またこの特願昭
６２−２４６８３はチュ−ブ内に付加的な不活性ガスを
導入するための手段をも開示している。チュ−ブ内の不
活性ガスは、チュ−ブの底部から外に出る不活性ガスと
周囲の雰囲気との間の温度差が無視できるように冷却さ
れる。これは周囲の空気が冷却チュ−ブに、従って炉に
入るのを防止するように設計されている。炉内に周囲空
気を導入するとファイバげ線引きされているプリフォ−
ムの先端部の近傍に乱流が生じ、その乱流内の不均一な
温度分布によるファイバの直径変化を生ずることになる
であろうと記載されている。
【００１３】１９８９年６月２１日に公告されたヨ−ロ
ッパ特許出願第０３２１１８２号は線引きされたファイ
バに比較的小さい吸収損失を生ずるために制御された態
様でそのファイバの温度を低下させるための方法を開示
している。そのヨ−ロッパ特許出願では、この制御され
た温度低下を達成するために管状の回収チャンバが用い
られている。
【００１４】その管状回収チャンバは加熱されてもよ
く、あるいは高温のガスがそのチャンバ内に導入されて
もよい。第６欄第５０−５３行目を参照されたい。この
チャンバの出口における温度は約200℃である。第７欄
第８−１１行目を参照されたい。上記ヨ−ロッパ特許出
願は炉に隣接した上記チャンバ内に制御されない周囲空
気が入り込むのを防止するための線引き用炉と回収チャ
ンバとの間におけるシ−ルを開示している。第６欄第１
８−２１行目を参照されたい。上記ヨ−ロッパ特許出願
は炉と回収チャンバとの間のシ−ルの近傍において炉内
付加的なガスを加えることを開示している。このガス流
はファイバに隣接して形成されているかもしれない境界
層を破壊する傾向があり、この破壊がファイバの差冷却
を生じさせ、これにより直径変化またはファイバ・バウ
を生ずることになりうる。また、上記ヨ−ロッパ特許出
願は回収チャンバの出口端部に周囲空気が入り込むのを
防止するための装置を用いることについては開示してい
ないし暗示もしていない。
【００１５】上記ヨ−ロッパ特許出願は、ガラス構造に
おける破断された結合によって生ずる線引きにより誘起
された吸収損失を軽減することに関している。上記ヨ−
ロッパ特許出願の回収チャンバは、ファイバが周囲の空
気に触れるまえに上記破断された結合を再生させ得る温
度分布にそのファイバを露呈させる。これがファイバの
ガラス構造内に上記破断された結合を「凍結」(freezin
g)させるのを防止する。
【００１６】他にも種々のファイバ冷却装置が開示され
ている。これらの装置は保護コ−ティングを施す目的で
ファイバを冷却するために用いられる。米国特許第４２
０８２００号はファイバが通る細長いチャンバを具備し
た液体ファイバ冷却器を開示している。その細長いチャ
ンバは容器内の冷却液体の温度を下げるク−ラント・ジ
ャケットによって包囲されている。
【００１７】米国特許第４４３７８７０号はファイバが
通りかつ冷たい乾燥したヘリウムが導入される細長いチ
ュ−ブを具備したファイバ・ク−ラを開示している。
【００１８】米国特許第４５１４２０５号はファイバが
通る細長いチュ−ブを具備したファイバ・ク−ラを開示
している。上記米国特許第４４３７８７０号と同様に、
この米国特許第４５１４２０５号はその細長いチュ−ブ
内に冷たい乾燥したヘリウムを導入することを開示して
いる。しかし、米国特許第４５１４２０５号はさらに液
化ガスの入ったチャンバを使用し、その液化ガス中にコ
イルを沈ませ、上記冷たい乾燥したヘリウムを上記細長
いチュ−ブに流入させる前にそのコイル中を通すことを
開示している。
【００１９】上記米国特許第４２０８２００号、同第４
４３７８７０号、および同第４５１４２０５号はすべて
直径測定装置の後に配置されるファイバ冷却装置を開示
している。従って、これらの冷却装置はファイバの直径
変化を軽減するのには不適当である。
【００２０】米国特許第４５９４０８８号は線引き用炉
と線引きされたファイバをコ−ティングするための装置
との間に配置された液体ファイバ・ク−ラを開示してい
る。この米国特許第４５９４０８８号の液体ファイバ・
ク−ラはファイバがファイバ直径測定装置を通過した後
の位置に配置されるものであるが、この米国特許第４５
９４０８８号は明示的に液体ファイバ・ク−ラを炉とコ
−ティング装置との間に配置しているにすぎないことが
明らかである。この米国特許第４５９４０８８号はファ
イバを冷却するための炉ガスを使用することについては
開示していなし暗示もしていない。また、この米国特許
第４５９４０８８号は保護用コ−ティング材料を適用す
る前に80℃以下の温度にファイバを冷却することに関す
るものである。
【００２１】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、光導波路ファイバを線引き温度からこのファイバの
クラッド層の粘度がこのクラッド層における差応力を実
質的に防止するのに十分なだけ高い温度まで実質的に対
称的な態様で冷却するためにそのファイバに隣接して炉
ガスの本質的に均一な境界層を維持するための方法およ
び装置を提供することである。
【００２２】本発明の他の目的は、光導波路ファイバの
クラッド層の粘度がこのクラッド層における差応力を実
質的に防止するのに十分に高くなるまで、このファイバ
を制御されない周囲雰囲気に露呈されないように隔離す
ることによってこのファイバの実質的に対称的な冷却を
行うための方法および装置を提供することである。
【００２２】本発明の他の目的は、線引きされた光導波
路ファイバみおける冷却によって誘起されるバウ(bow)
を軽減することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、線引き
用炉内で加熱されたプリフォ−ムから光導波路ファイバ
を線引きし、この場合、その炉の頂部にガスを導入し
て、ファイバに隣接して境界層を形成し、この境界層が
ファイバと一緒に炉中を通ってチュ−ブに入る。このチ
ュ−ブはファイバを周囲の雰囲気から隔離し、ファイバ
のクラッド層の粘度がファイバの周囲における差応力を
最小限に抑えるのに十分なだけ高くなるまで、炉内で形
成された境界層が実質的に均一な状態にとどまるように
する。
【００２４】
【実施例】図１は典型的なファイバ線引き装置を示して
いる。光導波路プリフォ−ム１がそれの一端部を光導波
路ファイバ２がトラクタ７によってプリフォ−ム１から
線引きされる温度に加熱手段３によって加熱される。プ
リフォ−ム１は線引き工程時にプリフォ−ム１を加熱手
段３内に進入させる作用もする支持手段（図示せず）に
よって支持されている。
【００２５】ファイバ２は直径測定装置４を通過する。
この直径測定装置４からのフィ−ドバックが、プリフォ
−ム１からファイバ２をトラクタ７が線引きする速度を
制御する制御システム（図示せず）によって用いられ
る。コ−ティング装置５はファイバ２に保護コ−ティン
グを施す。硬化装置６はコ−ティング装置５によって施
されたコ−ティングを硬化する。直径測定装置４とトラ
クタ７との間に一連の対のコ−ティング装置５および硬
化装置６を直列に用いることによって多数のコ−ティン
グ層が適用されうる。例えば、米国特許第４５３１９５
９号を参照されたい。
【００２６】図２は本発明の断面図である。プリフォ−
ム１０は可動支持体（図示せず）のための公知の手段に
固着されている。プリフォ−ム１０は炉１２内で加熱さ
れる。炉１２は公知の線引き用誘導加熱炉を表わしてい
る。例えば、Montierth, "Optical Fiber Drawing Tech
niques", Optical Spectra, pages 42-48, 47, Octobe
r, 1978を参照されたい。ジルコニアのようなサセプタ
材料で作成されたマッフル２０が高周波コイル（図示せ
ず）によって加熱されかつ絶縁物（図示せず）によって
包囲されている。破線２２はマッフル２０に発生される
最高温度のゾ−ンの概略位置を表わしている。
【００２７】上方マッフル延長部２１は気密シ−ルを形
成するためにマッフル２０に連結されている。上方マッ
フル延長部２１は図示されていない構体によって周囲の
大気に対してシ−ルされている。この構体はガスがそれ
を通じて上方マッフル延長部２１の頂部に供給されうる
ガス取入れ口（図示せず）を具備している。
【００２８】延長された下方マッフル延長部３０はチュ
−ブ３１と流れアイソレ−タ３２を具備している。延長
部３０はさらに好ましくはシリカで作成された高温内側
ライニング（図示せず）を具備している。延長部３０は
気密シ−ルを形成するために石英リング３３を用いてマ
ッフル２０に装着されている。マッフル２０と延長部３
０の間には実質的に妨害されない流れが存在する。この
実質的に妨害されない流れは、ファイバとそれに隣接し
たガスがマッフル２０から延長部３０に入るときに、マ
ッフル２０の内側に形成された流れパタ−ンを妨害され
ない状態に維持できるようにする。
【００２９】通常用いられる公知のコ−ティング装置、
硬化装置、およびトラクタは図２に示されていない。
【００３０】線引き工程時に、プリフォ−ム１０の先端
部が破線２１の近傍において線引き温度まで加熱され
る。ファイバ１１がプリフォ−ム１０の加熱された先端
部から線引きされる。
【００３１】上方マッフル延長部２１の頂部に導入され
たガスはヘリウムまたはアルゴンのような不活性ガスよ
りなるのが通常である。上方マッフル延長部２１の頂部
は上述のようにシ−ルされているので、ガスはマッフル
２０中を下方に流れてプリフォ−ム１０と通過しそして
破線２１で示された最高温度の点を通る。ガスはマッフ
ル２０中を通るときに線引き温度またはそれに近い温度
に加熱される。
【００３２】加熱されたガスはマッフル２０中を下方に
かつファイバ１１と一緒に流れる。ガスの境界層がファ
イバの表面近傍に形成され、そして炉内をファイバ１１
と一緒に移行する。延長部３０はマッフル２０とその延
長部３０との間に実質的に妨害されない流れを生ずるよ
うにマッフル２０に連結されているので、ファイバ１１
がマッフル２０から延長部３０に移動するにつれて、境
界層がマッフル２０から延長部３０に流入する。境界層
は延長部３０中をながれるにつれて実質的に対称的な態
様で徐々に冷却し、それによって実質的に対称的な態様
でファイバを冷却する。ファイバ１１は、このファイバ
のクラッド層の粘度がファイバのクラッド層における差
応力を実質的に防止するのに十分なだけ高くなるように
するために、1000-1300℃の範囲内の温度に加熱されさ
えすればよいと考える。
【００３３】実質的に対称的な態様での冷却は、ファイ
バの粘度が実質的に同じ割合で変化するようにファイバ
の周面のまわりで等しい割合でファイバを冷却すること
を必要とする。ファイバの周面上の１つの点における粘
度がファイバの周面上の他の１つの点における粘度の変
化率とは異なる割合で変化すると、ファイバ・バウを生
ずる差応力が誘起されるであろうと考える。ファイバの
実質的に対称的な冷却はファイバに誘起される差応力を
最小限の抑え、これによって差応力に基因するバウを最
小限に抑える。
【００３４】流れアイソレ−タ３２は例えばシャッタま
たは調節可能な絞りを具備しうる。ファイバ１１に近接
するまで流れアイソレ−タ３２を閉じることによって、
周囲の大気が延長部３０の底部に入るのを実質的に防止
することができる。これは、ファイバのクラッド層の粘
度がファイバのクラッド層における差応力を実質的に防
止するのに十分なだけ高くなる前に周囲の大気によるフ
ァイバ１１の差冷却を防止するのを助ける。ファイバが
流れアイソレ−タ３２を通って周囲の大気に出ると、フ
ァイバに隣接したガスの境界層がファイバと一緒に流れ
アイソレ−タを通って外に出る。周囲の大気中の流れが
ファイバの表面に隣接したガスの境界層を破壊するであ
ろう。
【００３５】１つの実施例では、線引き速度は毎秒約９
メ−トルである。ファイバ中のテンションは図面には示
されていないテンション制御装置によって約９０グラム
の一定値に制御される。これにより約2,100-2,300℃の
範囲内線引き温度を生ずる。炉内に導入されるガスは約
3.1 slpm の流量のヘリウムよりなる。
【００３６】延長部は長さ約20インチ（50.8 cm)、内径
約2.75インチ(7.0 cm)のアルミチュ−ブである。このチ
ュ−ブはそれにスロットをカットされており、線引き工
程時に線引き作業員がファイバを見ることができるよう
にするために、そのスロットにはガラスの片がシ−ルさ
れていた。チュ−ブの出口における絞りを通じてファイ
バが最初に引張れた後で、この絞りは直径約0.5インチ
(1.25 cm)の開口を形成するように閉じられる。
【００３７】このようにして得られたファイバは125μm
の公称直径を有し、標準偏差は1 μmである。本発明を
使用すれば、ファイバ・バウの測定値は公称的に10,000
mmの曲率半径である。延長部３０を用いない場合に
は、上述した好ましい実施例と同様の条件のもとで走行
されるファイバは約3,00 mmの曲率半径そして測定され
たバウを呈示する。規準化されたバウ測定値はない。上
述の値はファイバの10 mmオ−バ−ハング長のオフセッ
トを測定することによって得られる。
【００３８】ファイバのクラッド層の粘度がファイバの
クラッド層における差応力を実質的に防止するのに十分
なだけ高くなるようにするための1,000-1,300℃の範囲
内の温度へのファイバの実質的に対称的な冷却を生じさ
せるために、延長部３０の長さは、線引き速度の上昇に
ともなって増大する。延長部３０の直径は炉１２の幾何
学的値（直径、長さあるいは容積）の変化に適応するよ
うにあるいはプリフォ−ム１０の幾何学的値の変化に適
応するように修正され得る。
【００３９】本発明の初期の形態が図３に示されてい
る。延長部４０は長さが26インチ(66.0 cm)で内径が0.8
75インチ(2.2 cm)のガラスチュ−ブであり、下方マッフ
ル延長部４３内に挿入される。下方マッフル延長部４３
はマッフル４４に装着されている。マッフル４４と下方
マッフル延長部４３が線引き用炉４５を形成している。
プリフォ−ム（図示せず）が炉４５内で加熱され、そし
てファイバ（図示せず）がそれから線引きされる。
【００４０】ノズル・アセンブリ４１はガス取入れ管４
２を具備しており、これが延長部４０の出口端部内への
付加的なガスの導入を許容する。ノズル・アセンブリ４
１が図４にさらに詳細に示されている。上方ノズル５０
は下方マッフル延長部（図示せず）に挿入される。取入
れ口５１はガス取入れ管（図示せず）からノズル領域内
へのガスの導入を許容する。この実施例は延長部を設け
ないで作成されたファイバと比較してファイバ・バウの
点である程度の改良を見たが、延長部４０の出口端部に
付加的なガスを導入することが、その延長部４０の直径
が小さいことと相俟って、ファイバの近傍におけるガス
の境界層の崩壊を生ずる。この崩壊はより大きいバウを
生ずることになるファイバの差冷却を生じさせる。
【図面の簡単な説明】
【図１】典型的なファイバ線引き装置の概略図である。
【図２】本発明によるファイバ線引き装置の断面図であ
る。
【図３】本発明の他の実施例による線引き装置の断面図
である。
【図４】ノズル・アセンブリの詳細図である。
【符号の説明】
１０ リフォ−ム １１ ファイバ １２ 炉 ２０ マッフル ２１ 上方マッフル延長部分 ３０ 下方マッフル延長部 ３１ チュ−ブ ３２ 流れアイソレ−タ ３３ 石英リング ４０ 延長部 ４１ ノズル・アセンブリ ４２ ガス取入れ管 ４３ 下方マッフル延長部 ４４ マッフル ４５ 線引き用炉 ５０ 上方ノズル ５１ 取入れ口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル ワレン ホートフ アメリカ合衆国ノースカロライナ州28405、 ウィルミントン、ポーツマス プレイス 1504 (72)発明者 ヘンリ アンソニ スパイサ アメリカ合衆国ノースカロライナ州28480、 ライツヴィル、リーズ カット 211

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光導波路プリフォ−ムから光導波路ファ
    イバを線引きするための装置において、 ａ．前記プリフォ−ムの一端部をそれの軟化温度に加熱
    するための手段と、 ｂ．前記プリフォ−ムと前記加熱手段との間に相対移動
    を許容する、前記プリフォ−ムを支持するための手段
    と、 ｃ．前記プリフォ−ムの加熱された端部の上方において
    前記加熱手段内にガスを導入するための手段と、 ｄ．前記ファイバを冷却するための手段であって、前記
    加熱手段内に導入されるガスに対して前記加熱手段およ
    び前記冷却手段間に実質的に妨害されない流体連通を与
    えるように前記加熱手段に装着された冷却手段を具備し
    ており、前記ファイバに隣接して形成された前記ガスの
    境界層が、ファイバのクラッド層の粘度がファイバのク
    ラッド層における差応力を実質的に防止するのに十分な
    だけ高くなる温度にファイバが実質的に対称的に冷却さ
    れる領域内で実質的に均一である光導波路ファイバ線引
    き装置。
  2. 【請求項２】 前記冷却手段はさらに、前記ファイバが
    線引きされて前記加熱手段を通って前記チュ−ブ内に入
    りそして前記チュ−ブのファイバ取り出し口から外に出
    るようにして前記加熱手段に装着されたチュ−ブを具備
    しており、前記チュ−ブはその中のファイバが周囲の大
    気流に露呈されるのを実質的に防止するための隔離手段
    を具備している請求項１の装置。
  3. 【請求項３】 前記隔離手段が前記チュ−ブのファイバ
    取り出し口におけるノズルよりなる請求項２の装置。
  4. 【請求項４】 前記隔離手段が前記チュ−ブのファイバ
    取り出し口における絞りよりなる請求項２の装置。
  5. 【請求項５】 前記チュ−ブの内径が前記加熱手段の内
    径と実質的に同じである請求項２の装置。
  6. 【請求項６】 前記チュ−ブの内径が前記加熱手段の内
    径より実質的に小さい請求項２の装置。
  7. 【請求項７】 前記ファイバが周囲の大気に露呈される
    ファイバの温度が約1,000℃から約1,300℃までの範囲で
    ある請求項２の装置。
  8. 【請求項８】 光導波路プリフォ−ムから光導波路ファ
    イバを線引きするための装置であって、 ａ．前記プリフォ−ムの一端部をそれの軟化温度に加熱
    するための手段と、 ｂ．前記プリフォ−ムと前記加熱手段との間に相対移動
    を許容する、前記プリフォ−ムを支持するための手段
    と、 ｃ．前記プリフォ−ムの加熱された端部の上方において
    前記加熱手段内にガスを導入するための手段と、 ｄ．前記ファイバを冷却するための手段であって、前記
    加熱手段および前記冷却手段間に実質的に妨害されない
    流体連通を与えるように前記加熱手段に装着された冷却
    手段を具備しており、前記冷却手段が前記ファイバの差
    冷却を実質的に防止する光導波路ファイバ線引き装置。
  9. 【請求項９】 前記冷却手段はさらに、前記ファイバが
    線引きされて前記加熱手段を通って前記チュ−ブ内に入
    りそして前記チュ−ブのファイバ取り出し口から外に出
    るようにして前記加熱手段に装着されたチュ−ブを具備
    しており、前記チュ−ブはその中のファイバが周囲の大
    気流に露呈されるのを実質的に防止するための隔離手段
    を具備している請求項８の装置。
  10. 【請求項１０】 前記隔離手段が前記チュ−ブのファイ
    バ取り出し口におけるノズルよりなる請求項９の装置。
  11. 【請求項１１】 前記隔離手段が前記チュ−ブのファイ
    バ取り出し口における絞りよりなる請求項９の装置。
  12. 【請求項１２】 前記チュ−ブの内径が前記加熱手段の
    内径と実質的に同じである請求項９の装置。
  13. 【請求項１３】 前記チュ−ブの内径が前記加熱手段の
    内径より実質的に小さい請求項９の装置。
  14. 【請求項１４】 前記ファイバが周囲の大気に露呈され
    るファイバの温度が約1,000℃から約1,300℃までの範囲
    である請求項９の装置。
  15. 【請求項１５】 光導波路プリフォ−ムから光導波路フ
    ァイバを線引きする方法において、 ａ．前記プリフォ−ムの一端部を炉内でそれの軟化温度
    に加熱し、 ｂ．前記加熱されたプリフォ−ムを前記炉内でガスに露
    呈させ、 ｃ．前記プリフォ−ムの軟化された一端部からファイバ
    を線引きして前記炉に装着されていてこの炉と流体的に
    連通した冷却用チャンバ内に入れそしてこの冷却用チャ
    ンバのファイバ取り出し口から外に出し、 ｄ．前記ファイバのクラッド層の粘度がこのファイバの
    クラッド層における差応力を実質的に防止するのに十分
    なだけ高くなる温度に前記ファイバを対称的に冷却する
    ために前記炉と前記冷却用チャンバとの間でガス流を利
    用し、そして ｅ．前記冷却用チャンバのファイバ取り出し口における
    開口を絞りかつ前記炉と前記冷却用チャンバの間のガス
    流を利用することによって周囲の大気から前記冷却用チ
    ャンバの雰囲気を隔離することよりなる光導波路ファイ
    バ線引き方法。
  16. 【請求項１６】 前記隔離する工程は前記冷却用チャン
    バのファイバ取り出し口に装着された調節可能な絞りを
    調節して、前記冷却用チャンバのファイバ取り出し口に
    おける開口を絞ることよりなる請求項１５の方法。
  17. 【請求項１７】 前記プリフォ−ムが露呈されるガスが
    ヘリウムひょりなる請求項１５の方法。
  18. 【請求項１８】 前記ガスが前記炉の頂部に導入されか
    つ前記ファイバと一緒に前記炉中を通過する時に加熱さ
    れる請求項１５の方法。
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