JPH0676279A - 磁気記録ディスク及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録ディスク及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 接触記録式ディスク・ファイルで使用され
る、非常に平滑な上面と高い飽和保磁力を有し、極めて
平滑なヘッド・ディスク界面と飽和保磁力の高い、磁気
記録ディスク及びその製造方法を提供すること。 【構成】 ディスク基板上の超仕上げしたきめのないＮ
ｉＰ被覆を酸化して、ＮｉＯ被膜を形成する。このＮｉ
Ｏ被膜によって、後でスパッタ付着される磁気層が非常
に高い飽和保磁力を有することができ、そのためディス
クを接触記録の応用例で使用することができるようにな
る。ＮｉＯ被膜と、ディスクを構成する、上部保護層を
含めて後で付着される層は、研磨されたＮｉＰの平滑な
表面と共形になり、したがって接触記録式ディスク・フ
ァイルにおけるヘッド・ディスク界面に必要なディスク
上層の非常に平滑な表面を保存する。基板上にＮｉＯ被
膜を形成するための好ましい工程では、基板を空気中で
ＮｉＰ被膜を結晶化させる温度より低い温度でアニール
する。
る、非常に平滑な上面と高い飽和保磁力を有し、極めて
平滑なヘッド・ディスク界面と飽和保磁力の高い、磁気
記録ディスク及びその製造方法を提供すること。 【構成】 ディスク基板上の超仕上げしたきめのないＮ
ｉＰ被覆を酸化して、ＮｉＯ被膜を形成する。このＮｉ
Ｏ被膜によって、後でスパッタ付着される磁気層が非常
に高い飽和保磁力を有することができ、そのためディス
クを接触記録の応用例で使用することができるようにな
る。ＮｉＯ被膜と、ディスクを構成する、上部保護層を
含めて後で付着される層は、研磨されたＮｉＰの平滑な
表面と共形になり、したがって接触記録式ディスク・フ
ァイルにおけるヘッド・ディスク界面に必要なディスク
上層の非常に平滑な表面を保存する。基板上にＮｉＯ被
膜を形成するための好ましい工程では、基板を空気中で
ＮｉＰ被膜を結晶化させる温度より低い温度でアニール
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜金属合金磁気記録
ディスク、このディスクを製造する方法、及びこのディ
スクを使用して接触記録用の改良されたヘッド・ディス
ク界面を提供するディスク・ファイルに関する。
ディスク、このディスクを製造する方法、及びこのディ
スクを使用して接触記録用の改良されたヘッド・ディス
ク界面を提供するディスク・ファイルに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来型の回転する剛性ディスク・ファイ
ルでは、各読取り／書込み変換器（またはヘッド）が、
キャリア（またはスライダ）上に支持されており、この
キャリアは、ディスクがその動作速度で回転していると
き、その関連するディスクの表面の上方のクッションま
たは空気軸受上に載っている。スライダは、比較的もろ
いサスペンションによって線形または回転式のアクチュ
エータに連結されている。ディスク・ファイル内に複数
のディスクのスタックがあり、アクチュエータが複数の
スライダを支持することもある。アクチュエータは、各
ヘッドがその関連するディスク表面の記録領域にアクセ
スできるように、スライダを半径方向に移動させる。こ
うした従来型のディスク・ファイルでは、スライダは、
サスペンションからの小さな力によってディスク表面に
向かってバイアスされている。スライダはディスク・フ
ァイルがオンにされた時からディスク表面と接触してお
り、ディスクが十分な速度に達してスライダを空気軸受
上に載せるまでそれが続き、ディスク・ファイルがオフ
にされてディスクの回転速度が空気軸受を生成するのに
必要な速度以下に落ちたとき、再びディスク表面に接触
するので、このようなディスク・ファイルは、接触調歩
式（ＣＳＳ：コンタクト スタート ストップ式）ディ
スク・ファイルと呼ばれる。ＣＳＳディスク・ファイル
では、スライダが接触するのは始動動作と停止動作の時
だけなので、ディスク表面が非常に平滑である必要はな
い。その代わりに、ディスク表面にきめ（テクスチュ
ア）をつけて、スライダがディスク表面上で静止してい
る時にスライダとディスクの間の静止摩擦を減らすこと
が望ましい。
ルでは、各読取り／書込み変換器（またはヘッド）が、
キャリア（またはスライダ）上に支持されており、この
キャリアは、ディスクがその動作速度で回転していると
き、その関連するディスクの表面の上方のクッションま
たは空気軸受上に載っている。スライダは、比較的もろ
いサスペンションによって線形または回転式のアクチュ
エータに連結されている。ディスク・ファイル内に複数
のディスクのスタックがあり、アクチュエータが複数の
スライダを支持することもある。アクチュエータは、各
ヘッドがその関連するディスク表面の記録領域にアクセ
スできるように、スライダを半径方向に移動させる。こ
うした従来型のディスク・ファイルでは、スライダは、
サスペンションからの小さな力によってディスク表面に
向かってバイアスされている。スライダはディスク・フ
ァイルがオンにされた時からディスク表面と接触してお
り、ディスクが十分な速度に達してスライダを空気軸受
上に載せるまでそれが続き、ディスク・ファイルがオフ
にされてディスクの回転速度が空気軸受を生成するのに
必要な速度以下に落ちたとき、再びディスク表面に接触
するので、このようなディスク・ファイルは、接触調歩
式（ＣＳＳ：コンタクト スタート ストップ式）ディ
スク・ファイルと呼ばれる。ＣＳＳディスク・ファイル
では、スライダが接触するのは始動動作と停止動作の時
だけなので、ディスク表面が非常に平滑である必要はな
い。その代わりに、ディスク表面にきめ（テクスチュ
ア）をつけて、スライダがディスク表面上で静止してい
る時にスライダとディスクの間の静止摩擦を減らすこと
が望ましい。
【０００３】上記の従来型のＣＳＳ磁気記録ディスク・
ファイルの他に、「接触」記録式剛性ディスク・ファイ
ルが提唱されている。「液体軸受」接触記録と呼ばれる
形式の接触記録では、ヘッド・ディスク界面は、変換器
キャリアとディスクの間の液体軸受として、液体薄膜を
含む。この形式の接触記録式ディスク・ファイルの例
は、１９８８年１０月３１日出願の本出願人の係属中の
米国特許出願第２６４６０４号に記載されており、また
欧州特許出願公告第３６７５１０号として１９９０年５
月９日に公告されている。「乾式」接触記録と呼ばれる
もう１つの形式の接触記録では、ディスク・ファイル
は、統合ヘッド・サスペンションを使用し、読取り動作
中及び書込み動作中にそれがディスク表面と物理的に接
触する。たとえば米国特許第５０４１９３２号に記載さ
れているこの形式のヘッド・サスペンションでは、ヘッ
ドの一部分が、ディスク・ファイルの耐用期間中ずっと
ディスクと摩擦接触するために、実際に摩耗してしま
う。上記の両形式の接触記録式ディスク・ファイルで
は、ヘッドとディスクの間隔が狭いため、ディスク表面
を極めて平滑にすることが必要である。
ファイルの他に、「接触」記録式剛性ディスク・ファイ
ルが提唱されている。「液体軸受」接触記録と呼ばれる
形式の接触記録では、ヘッド・ディスク界面は、変換器
キャリアとディスクの間の液体軸受として、液体薄膜を
含む。この形式の接触記録式ディスク・ファイルの例
は、１９８８年１０月３１日出願の本出願人の係属中の
米国特許出願第２６４６０４号に記載されており、また
欧州特許出願公告第３６７５１０号として１９９０年５
月９日に公告されている。「乾式」接触記録と呼ばれる
もう１つの形式の接触記録では、ディスク・ファイル
は、統合ヘッド・サスペンションを使用し、読取り動作
中及び書込み動作中にそれがディスク表面と物理的に接
触する。たとえば米国特許第５０４１９３２号に記載さ
れているこの形式のヘッド・サスペンションでは、ヘッ
ドの一部分が、ディスク・ファイルの耐用期間中ずっと
ディスクと摩擦接触するために、実際に摩耗してしま
う。上記の両形式の接触記録式ディスク・ファイルで
は、ヘッドとディスクの間隔が狭いため、ディスク表面
を極めて平滑にすることが必要である。
【０００４】剛性ディスク・ファイルで使用されてきた
１つの形式のディスクは、一般に、ニッケル・リン（Ｎ
ｉＰ）の表面被覆を有するアルミニウム・マグネシウム
（ＡｌＭｇ）合金などの基板と、基板上に磁気層として
スパッタ付着されたＣｏＰｔやＣｏＮｉ合金などコバル
トを主体とする合金と、磁気層の上に形成されたスパッ
タ付着非晶質（アモルファス）水素化炭素被膜などの保
護膜とを含む、薄膜金属合金ディスクである。この薄膜
ディスクは、磁気層及び保護膜に加えて、基板と磁気層
の間にクロム（Ｃｒ）、クロム−バナジウム（Ｃｒ
Ｖ）、タングステン（Ｗ）の層などのスパッタ付着され
た下層、及び磁気層と保護層の間にＣｒ、Ｗ、チタン
（Ｔｉ）などのスパッタ付着された接着層をも含むこと
ができる。この従来型のディスクはＣＳＳディスク・フ
ァイル用には適切であるが、接触記録ディスク・ファイ
ル中でディスクを使用する場合に必要なようにＡｌＭｇ
−ＮｉＰ基板が非常に平滑に作られているときは、従来
の方法でディスクを製造しながら必要なディスク飽和保
磁力を達成することは不可能である。
１つの形式のディスクは、一般に、ニッケル・リン（Ｎ
ｉＰ）の表面被覆を有するアルミニウム・マグネシウム
（ＡｌＭｇ）合金などの基板と、基板上に磁気層として
スパッタ付着されたＣｏＰｔやＣｏＮｉ合金などコバル
トを主体とする合金と、磁気層の上に形成されたスパッ
タ付着非晶質（アモルファス）水素化炭素被膜などの保
護膜とを含む、薄膜金属合金ディスクである。この薄膜
ディスクは、磁気層及び保護膜に加えて、基板と磁気層
の間にクロム（Ｃｒ）、クロム−バナジウム（Ｃｒ
Ｖ）、タングステン（Ｗ）の層などのスパッタ付着され
た下層、及び磁気層と保護層の間にＣｒ、Ｗ、チタン
（Ｔｉ）などのスパッタ付着された接着層をも含むこと
ができる。この従来型のディスクはＣＳＳディスク・フ
ァイル用には適切であるが、接触記録ディスク・ファイ
ル中でディスクを使用する場合に必要なようにＡｌＭｇ
−ＮｉＰ基板が非常に平滑に作られているときは、従来
の方法でディスクを製造しながら必要なディスク飽和保
磁力を達成することは不可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、接触
記録ディスク・ファイル中で使用でき、ファイルが、必
要とされる平滑なヘッド・ディスク界面もディスク飽和
保磁力も有することができる、従来のディスク技術に基
づく改良された薄膜金属合金磁気記録ディスクを提供す
ることにある。
記録ディスク・ファイル中で使用でき、ファイルが、必
要とされる平滑なヘッド・ディスク界面もディスク飽和
保磁力も有することができる、従来のディスク技術に基
づく改良された薄膜金属合金磁気記録ディスクを提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録ディ
スク、このディスクを製作する方法、及び改良されたヘ
ッド・ディスク界面と磁気記録特性を有する接触記録式
ディスク・ファイルに関するものである。ディスク基板
上の超仕上げしたきめのないＮｉＰ被覆を酸化して、Ｎ
ｉＯ被膜を形成する。このＮｉＯ被膜により、後でスパ
ッタ付着される磁気層は非常に高い飽和保磁力を有する
ことができ、そのためにこのディスクが接触記録の応用
例で使用できるようになる。このＮｉＯ被膜と、後で付
着される、ディスクを構成する層は、研磨されたＮｉＰ
の平滑な表面と共形（コンフォーム）であり、したがっ
て、接触記録式ディスク・ファイルに必要なディスクの
上層の非常に平滑な表面を保存する。
スク、このディスクを製作する方法、及び改良されたヘ
ッド・ディスク界面と磁気記録特性を有する接触記録式
ディスク・ファイルに関するものである。ディスク基板
上の超仕上げしたきめのないＮｉＰ被覆を酸化して、Ｎ
ｉＯ被膜を形成する。このＮｉＯ被膜により、後でスパ
ッタ付着される磁気層は非常に高い飽和保磁力を有する
ことができ、そのためにこのディスクが接触記録の応用
例で使用できるようになる。このＮｉＯ被膜と、後で付
着される、ディスクを構成する層は、研磨されたＮｉＰ
の平滑な表面と共形（コンフォーム）であり、したがっ
て、接触記録式ディスク・ファイルに必要なディスクの
上層の非常に平滑な表面を保存する。
【０００７】基板上にＮｉＯ被膜を形成するための好ま
しい方法では、基板を空気中でＮｉＰ被膜を結晶化させ
る温度より低い温度でアニールする。
しい方法では、基板を空気中でＮｉＰ被膜を結晶化させ
る温度より低い温度でアニールする。
【０００８】
【実施例】まず図１には、本発明のディスク・ファイル
の液体軸受接触記録実施例が概略断面図で示されてい
る。ディスク・ファイルは、ベース１０、これに取り付
けたディスク駆動モータ１２とアクチュエータ１４、及
びカバー１１を有する。ベース１０とカバー１１は、デ
ィスク駆動機構の実質的に密閉されたケーシングとな
る。一般に、ベース１０とカバー１１の間にガスケット
１３があり、またディスク・ファイルの内部と外部環境
の間の圧力を等しくするための小さな通気口（図示せ
ず）がある。この形式のディスク・ファイルは、駆動モ
ータ１２が完全にケーシング内にあり、内部の構成要素
を冷却するための外部強制空気供給もないので、実質的
に密封されていると記述される。磁気記録ディスク１６
が、駆動モータ１２によって回転するように取り付けた
ハブ１８上に載っている。読取り／書込みヘッドすなわ
ち変換器（図示せず）が、変換器キャリア２０上に形成
されている。キャリア２０は、剛性アーム２２とサスペ
ンション２４によってアクチュエータ１４に連結され、
サスペンション２４は変換器キャリア２０にバイアス力
を与えて、これを記録ディスク１６の表面に押し付け
る。ディスク・ファイルの動作中、駆動モータ１２がデ
ィスク１６を一定速度で回転させ、また一般に線形また
は回転式のボイス・コイル・モータ（ＶＣＭ）であるア
クチュエータ１４が、変換器キャリア２０を通常はディ
スク１６の表面を横切って半径方向に移動させ、これに
よって読取り／書込みヘッドがディスク１６上の様々な
データ・トラックにアクセスできるようになる。
の液体軸受接触記録実施例が概略断面図で示されてい
る。ディスク・ファイルは、ベース１０、これに取り付
けたディスク駆動モータ１２とアクチュエータ１４、及
びカバー１１を有する。ベース１０とカバー１１は、デ
ィスク駆動機構の実質的に密閉されたケーシングとな
る。一般に、ベース１０とカバー１１の間にガスケット
１３があり、またディスク・ファイルの内部と外部環境
の間の圧力を等しくするための小さな通気口（図示せ
ず）がある。この形式のディスク・ファイルは、駆動モ
ータ１２が完全にケーシング内にあり、内部の構成要素
を冷却するための外部強制空気供給もないので、実質的
に密封されていると記述される。磁気記録ディスク１６
が、駆動モータ１２によって回転するように取り付けた
ハブ１８上に載っている。読取り／書込みヘッドすなわ
ち変換器（図示せず）が、変換器キャリア２０上に形成
されている。キャリア２０は、剛性アーム２２とサスペ
ンション２４によってアクチュエータ１４に連結され、
サスペンション２４は変換器キャリア２０にバイアス力
を与えて、これを記録ディスク１６の表面に押し付け
る。ディスク・ファイルの動作中、駆動モータ１２がデ
ィスク１６を一定速度で回転させ、また一般に線形また
は回転式のボイス・コイル・モータ（ＶＣＭ）であるア
クチュエータ１４が、変換器キャリア２０を通常はディ
スク１６の表面を横切って半径方向に移動させ、これに
よって読取り／書込みヘッドがディスク１６上の様々な
データ・トラックにアクセスできるようになる。
【０００９】図２は、カバー１１を外したディスク・フ
ァイル内部の上面図であり、潤滑液をデイスク１６の表
面に補給する潤滑液供給手段として働く、環状の潤滑液
だめ３０が示されている。潤滑液の連続した薄膜がデイ
スク１６表面上に維持され、動作中に環状潤滑液だめ３
０から潤滑液が補給される。図２には、サスペンション
２４もより詳しく示してあり、これはキャリア２０に力
をかけて、これをディスク１６上の潤滑液薄膜と接触し
た状態に維持する。サスペンションは、空気軸受スライ
ダを有する磁気ディスク・ファイルで使用されるよう
な、従来型のサスペンションでよい。その１例は、本出
願人の米国特許第４１６７７６５号に記載されているよ
うな、周知のワトラス・サスペンションである。この形
式のサスペンションはまた、変換器キャリアをジンバル
で取り付け、潤滑液上に載ったキャリアの横揺れ縦揺れ
を可能にする。
ァイル内部の上面図であり、潤滑液をデイスク１６の表
面に補給する潤滑液供給手段として働く、環状の潤滑液
だめ３０が示されている。潤滑液の連続した薄膜がデイ
スク１６表面上に維持され、動作中に環状潤滑液だめ３
０から潤滑液が補給される。図２には、サスペンション
２４もより詳しく示してあり、これはキャリア２０に力
をかけて、これをディスク１６上の潤滑液薄膜と接触し
た状態に維持する。サスペンションは、空気軸受スライ
ダを有する磁気ディスク・ファイルで使用されるよう
な、従来型のサスペンションでよい。その１例は、本出
願人の米国特許第４１６７７６５号に記載されているよ
うな、周知のワトラス・サスペンションである。この形
式のサスペンションはまた、変換器キャリアをジンバル
で取り付け、潤滑液上に載ったキャリアの横揺れ縦揺れ
を可能にする。
【００１０】図３は、本発明の液体軸受接触記録実施例
における変換器キャリア２０の側面図及びディスク１６
の断面図である。キャリア２０の後端近くにスキー脚４
０があり、その後縁４４にヘッド４２がある。スキー脚
４０はディスク１６上の液体被膜５０と接触しており、
読取り動作中または書込み動作中、取り付けられたサス
ペンション２４によって与えられるバイアス力によって
接触状態に維持される。
における変換器キャリア２０の側面図及びディスク１６
の断面図である。キャリア２０の後端近くにスキー脚４
０があり、その後縁４４にヘッド４２がある。スキー脚
４０はディスク１６上の液体被膜５０と接触しており、
読取り動作中または書込み動作中、取り付けられたサス
ペンション２４によって与えられるバイアス力によって
接触状態に維持される。
【００１１】図４は、本発明の乾式接触記録実施例にお
ける統合ヘッド・サスペンション２３の側面図及びディ
スク１６の断面図である。統合ヘッド・サスペンション
２３は、図３の液体軸受実施例におけるサスペンション
２４とキャリア２０の両方の機能を果す。ただしそれと
は対照的に、磁極端２７およびコイル２９として示され
ている変換器が、統合ヘッド・サスペンション２３内に
埋め込まれている。ディスク１６表面には液体被膜はな
いので潤滑液だめは必要でなく、ヘッド・サスペンショ
ン２３は、読取り動作中及び書込み動作中にディスク１
６の表面と直接接触する。
ける統合ヘッド・サスペンション２３の側面図及びディ
スク１６の断面図である。統合ヘッド・サスペンション
２３は、図３の液体軸受実施例におけるサスペンション
２４とキャリア２０の両方の機能を果す。ただしそれと
は対照的に、磁極端２７およびコイル２９として示され
ている変換器が、統合ヘッド・サスペンション２３内に
埋め込まれている。ディスク１６表面には液体被膜はな
いので潤滑液だめは必要でなく、ヘッド・サスペンショ
ン２３は、読取り動作中及び書込み動作中にディスク１
６の表面と直接接触する。
【００１２】図５は、本発明のディスク１６の断面図で
ある。ディスク基板６０は、ＮｉＰ表面被覆６２を有す
るＡｌＭｇベース６１を備える。基板は市販のディスク
基板であり、東洋鋼板や日本軽金属などいくつかのベン
ダーから入手できる。ＡｌＭｇは一般に５５８６アルミ
ニウム合金であり、ＮｉＰを厚さ約１０〜１５ミクロン
に無電解めっきする。接触記録の応用分野では、ＮｉＰ
被覆６２の表面が非常に平滑であることが必要である。
したがって、Ａｌ2Ｏ3研磨材による機械的研磨など様々
な既知の技術によって、ＮｉＰ被覆６２を算術平均表面
粗度（Ｒa）が約１０オングストローム未満になるよう
に研磨する。次に基本的にＮｉＯから成る酸化ニッケル
被膜６４を、下記のいずれかの技術によってＮｉＰ被覆
６２上に形成する。ＮｉＯ被膜６４の厚さは、下層の核
形成を制御するのに十分な厚さである限り、重要ではな
い。核制御を制御するのに十分な厚さは、約１０〜３０
オングストロームの範囲にあることがわかっている。Ｎ
ｉＯ被膜６４の形成後に、ディスク１６の残りの周知の
層を、通常の方式でスパッタ付着によって形成する。こ
れには、厚さ約２００〜１２００オングストロームのＣ
ｒまたはＣｒＶ下層６６、厚さ約１００〜５００オング
ストロームのＣｏＰｔＣｒやＣｏＮｉの合金などのＣｏ
合金磁気層、及び水素の存在下で炭素ターゲットからス
パッタ付着された、厚さ約２５０オングストロームの水
素化炭素保護層６８が含まれる。後で付着される層は基
板の表面と共形になるので、接触記録式ディスク・ファ
イルで必要とされるとおり保護層６８の表面がヘッドに
対して極めて平滑な界面を示すように、基板表面（すな
わちＮｉＰ表面被覆６２の表面）は非常に平滑である必
要がある。
ある。ディスク基板６０は、ＮｉＰ表面被覆６２を有す
るＡｌＭｇベース６１を備える。基板は市販のディスク
基板であり、東洋鋼板や日本軽金属などいくつかのベン
ダーから入手できる。ＡｌＭｇは一般に５５８６アルミ
ニウム合金であり、ＮｉＰを厚さ約１０〜１５ミクロン
に無電解めっきする。接触記録の応用分野では、ＮｉＰ
被覆６２の表面が非常に平滑であることが必要である。
したがって、Ａｌ2Ｏ3研磨材による機械的研磨など様々
な既知の技術によって、ＮｉＰ被覆６２を算術平均表面
粗度（Ｒa）が約１０オングストローム未満になるよう
に研磨する。次に基本的にＮｉＯから成る酸化ニッケル
被膜６４を、下記のいずれかの技術によってＮｉＰ被覆
６２上に形成する。ＮｉＯ被膜６４の厚さは、下層の核
形成を制御するのに十分な厚さである限り、重要ではな
い。核制御を制御するのに十分な厚さは、約１０〜３０
オングストロームの範囲にあることがわかっている。Ｎ
ｉＯ被膜６４の形成後に、ディスク１６の残りの周知の
層を、通常の方式でスパッタ付着によって形成する。こ
れには、厚さ約２００〜１２００オングストロームのＣ
ｒまたはＣｒＶ下層６６、厚さ約１００〜５００オング
ストロームのＣｏＰｔＣｒやＣｏＮｉの合金などのＣｏ
合金磁気層、及び水素の存在下で炭素ターゲットからス
パッタ付着された、厚さ約２５０オングストロームの水
素化炭素保護層６８が含まれる。後で付着される層は基
板の表面と共形になるので、接触記録式ディスク・ファ
イルで必要とされるとおり保護層６８の表面がヘッドに
対して極めて平滑な界面を示すように、基板表面（すな
わちＮｉＰ表面被覆６２の表面）は非常に平滑である必
要がある。
【００１３】ＮｉＯ被膜６４を形成するための好ましい
工程では、基板６０を洗浄し、チャンバ内に入れて、空
気中で１００〜２００℃の範囲の温度で約２０〜６０分
間加熱する。温度は、非晶質ＮｉＰが結晶化する温度で
ある約２５０℃より低く維持しなければならない。この
酸化工程の結果、ＮｉＰ被覆６２上に基本的にＮｉＯか
ら成る被膜が約１０〜３０オングストロームの厚さに形
成されることがわかった。酸化物被膜のテストによっ
て、明らかに優勢な成分はＮｉＯであることが確認され
たが、ＮｉＯ2やＮｉ2Ｏ3など他の酸化物も存在する可
能性があった。比較のため、洗浄後のＮｉＰ被覆６２の
表面をテストしたところ、厚さ約１５オングストローム
の自然酸化物層があることがわかったが、有意なＮｉＯ
はなかった。
工程では、基板６０を洗浄し、チャンバ内に入れて、空
気中で１００〜２００℃の範囲の温度で約２０〜６０分
間加熱する。温度は、非晶質ＮｉＰが結晶化する温度で
ある約２５０℃より低く維持しなければならない。この
酸化工程の結果、ＮｉＰ被覆６２上に基本的にＮｉＯか
ら成る被膜が約１０〜３０オングストロームの厚さに形
成されることがわかった。酸化物被膜のテストによっ
て、明らかに優勢な成分はＮｉＯであることが確認され
たが、ＮｉＯ2やＮｉ2Ｏ3など他の酸化物も存在する可
能性があった。比較のため、洗浄後のＮｉＰ被覆６２の
表面をテストしたところ、厚さ約１５オングストローム
の自然酸化物層があることがわかったが、有意なＮｉＯ
はなかった。
【００１４】ＮｉＯ被膜６４を形成するための代替工程
では、酸素の存在下でのスパッタ・エッチングによって
酸化を実施する。基板６０を真空チャンバに入れ、Ｏ2
を約１０％含有するアルゴン（Ａｒ）雰囲気中でＮｉＰ
表面被覆６２をスパッタ・エッチングする。その後直ち
に、真空を切らずに、後続のディスク層６６、６７、６
８をスパッタ付着する。
では、酸素の存在下でのスパッタ・エッチングによって
酸化を実施する。基板６０を真空チャンバに入れ、Ｏ2
を約１０％含有するアルゴン（Ａｒ）雰囲気中でＮｉＰ
表面被覆６２をスパッタ・エッチングする。その後直ち
に、真空を切らずに、後続のディスク層６６、６７、６
８をスパッタ付着する。
【００１５】ＮｉＰ表面被覆の酸化によるディスク飽和
保磁力の改善を図６と図７に示す。図６では、空気中で
のアニールによって形成されたＮｉＯ被膜を有する超仕
上げした（Ｒa＝７オングストローム）基板及び前記の
ＮｉＯ被膜を有しない同基板上に、Ｃｏ78Ｐｔ8Ｃｒ20
磁気層を有し、残留磁気と厚さの積（Ｍr×ｔ）の値が
様々な値をとるディスクを製造した。図に示すように、
１００〜２００℃の範囲で６０分間のアニールによって
形成されたＮｉＯ被膜を有するディスクでは、飽和保磁
力の顕著な増大が見られる。たとえば、Ｍr×ｔ＝０．
７５ｍｅｍｕ／ｃｍ2のディスクの飽和保磁力は、１５
０℃での６０分間の空気アニールによってＮｉＯ被膜を
形成すると、９００ Ｏｅ（ＮｉＯ被膜なし）から１８
５０ Ｏｅに増加する。図７では、７５０ボルト及び１
２５０ボルトのスパッタ・エッチング電圧で、Ｏ2を１
０％含むＡｒ雰囲気中で１０秒間及び２０秒間スパッタ
・エッチングした超仕上げ基板上に、同様なディスクを
製造した。図に示すように、スパッタ・エッチングした
基板を有するディスクでは、飽和保磁力の顕著な増大が
見られる。たとえば、７５０ボルトで１０秒間スパッタ
・エッチングを行ったとき、飽和保磁力は１０００ Ｏ
ｅから１３００ Ｏｅに増大し、１２５０ボルトで行っ
たときは１０００ Ｏｅから１８５０ Ｏｅに増大す
る。
保磁力の改善を図６と図７に示す。図６では、空気中で
のアニールによって形成されたＮｉＯ被膜を有する超仕
上げした（Ｒa＝７オングストローム）基板及び前記の
ＮｉＯ被膜を有しない同基板上に、Ｃｏ78Ｐｔ8Ｃｒ20
磁気層を有し、残留磁気と厚さの積（Ｍr×ｔ）の値が
様々な値をとるディスクを製造した。図に示すように、
１００〜２００℃の範囲で６０分間のアニールによって
形成されたＮｉＯ被膜を有するディスクでは、飽和保磁
力の顕著な増大が見られる。たとえば、Ｍr×ｔ＝０．
７５ｍｅｍｕ／ｃｍ2のディスクの飽和保磁力は、１５
０℃での６０分間の空気アニールによってＮｉＯ被膜を
形成すると、９００ Ｏｅ（ＮｉＯ被膜なし）から１８
５０ Ｏｅに増加する。図７では、７５０ボルト及び１
２５０ボルトのスパッタ・エッチング電圧で、Ｏ2を１
０％含むＡｒ雰囲気中で１０秒間及び２０秒間スパッタ
・エッチングした超仕上げ基板上に、同様なディスクを
製造した。図に示すように、スパッタ・エッチングした
基板を有するディスクでは、飽和保磁力の顕著な増大が
見られる。たとえば、７５０ボルトで１０秒間スパッタ
・エッチングを行ったとき、飽和保磁力は１０００ Ｏ
ｅから１３００ Ｏｅに増大し、１２５０ボルトで行っ
たときは１０００ Ｏｅから１８５０ Ｏｅに増大す
る。
【００１６】超仕上げしたＮｉＰ被覆の酸化はディスク
において他の改善をもたらすこともわかった。ＮｉＰを
研磨すると、その表面にいくつかの残留かき傷が残る。
これらのかき傷は磁気異方性をもたらし、かき傷の方向
に沿って飽和保磁力と矩形比が増大する。残留かき傷は
記録トラックの方向と平行に並んでいないので、この異
方性によって望ましくない信号振幅変調が発生する。Ｎ
ｉＰ被覆上にＮｉＯ被膜を形成すると、下層及び磁気層
の結晶配向が変化して、この変調が大幅に減少する。
において他の改善をもたらすこともわかった。ＮｉＰを
研磨すると、その表面にいくつかの残留かき傷が残る。
これらのかき傷は磁気異方性をもたらし、かき傷の方向
に沿って飽和保磁力と矩形比が増大する。残留かき傷は
記録トラックの方向と平行に並んでいないので、この異
方性によって望ましくない信号振幅変調が発生する。Ｎ
ｉＰ被覆上にＮｉＯ被膜を形成すると、下層及び磁気層
の結晶配向が変化して、この変調が大幅に減少する。
【００１７】
【発明の効果】本発明によって、薄膜金属合金磁気記録
ディスクを使用して接触記録用の改良されたヘッド・デ
ィスク界面を提供する、ディスク・ファイルが提供され
る。
ディスクを使用して接触記録用の改良されたヘッド・デ
ィスク界面を提供する、ディスク・ファイルが提供され
る。
【図１】液体軸受接触記録式ディスク・ファイルの主要
構成要素を概略的に示す、部分断面側面図である。
構成要素を概略的に示す、部分断面側面図である。
【図２】カバーを外した図１のディスク・ファイルの上
面図である。
面図である。
【図３】液体軸受接触記録式ディスク・ファイルのヘッ
ド・ディスク界面を示す図である。
ド・ディスク界面を示す図である。
【図４】乾式液体軸受接触記録式ディスク・ファイルの
ヘッド・ディスク界面を示す図である。
ヘッド・ディスク界面を示す図である。
【図５】種々のディスク層を示す、本発明によるディス
クの断面図である。
クの断面図である。
【図６】空気アニールによって形成された酸化物被膜を
有するディスクと、それを有しないディスクの、飽和保
磁力とアニール温度の関係を示す図である。
有するディスクと、それを有しないディスクの、飽和保
磁力とアニール温度の関係を示す図である。
【図７】Ｏ2−アルゴン雰囲気中でのスパッタ・エッチ
ングによって形成された酸化物被膜を有するディスク
と、それを有しないディスクの、飽和保磁力とエッチン
グ電圧の関係を示す図である。
ングによって形成された酸化物被膜を有するディスク
と、それを有しないディスクの、飽和保磁力とエッチン
グ電圧の関係を示す図である。
１０ ベース １１ カバー １２ ディスク駆動モータ １３ ガスケット １４ アクチュエータ １６ 磁気記録ディスク １８ ハブ ２０ 変換器キャリア ２２ 剛性アーム ２３ 統合ヘッド・サスペンション ２４ サスペンション ２７ 磁極端 ２９ コイル ３０ 環状潤滑液だめ ４０ スキー脚 ４２ ヘッド ６０ ディスク基板 ６１ ＡｌＭｇベース ６２ ＮｉＰ表面被覆 ６４ ＮｉＯ被膜 ６６ ＣｒＶ下層 ６８ 水素化炭素保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 タダシ・ヨギ アメリカ合衆国95120 カリフォルニア州 サノゼ アンジュー・クリーク・サーク ル 7100 (72)発明者 アンソニー・ウー アメリカ合衆国95120 カリフォルニア州 サノゼ ブライアー・ランチ・レーン 663 (72)発明者 ダン・エス・パーカー アメリカ合衆国95129 カリフォルニア州 サノゼ レイントリー・ドライブ 847
Claims (11)
- 【請求項１】ニッケル・リン表面被覆を有するアルミニ
ウム合金を含む基板と、 ニッケル・リン被覆上に形成された酸化ニッケルの被膜
と、 酸化ニッケル被膜上に形成された下層と、 下層を覆って形成されたコバルトを主体とする合金を含
む磁気層とを備える、薄膜金属合金磁気記録ディスク。 - 【請求項２】下層がクロムまたはクロムとバナジウムの
合金を含むことを特徴とする、請求項１に記載のディス
ク。 - 【請求項３】磁気層を覆って形成された保護層を含む、
請求項１に記載のディスク。 - 【請求項４】ニッケル・リン被覆が約１０オングストロ
ーム未満の算術平均表面粗度を有することを特徴とす
る、請求項１に記載のディスク。 - 【請求項５】ディスクが約１８００エルステッドより高
い飽和保磁力を有することを特徴とする、請求項１に記
載のディスク。 - 【請求項６】算術平均表面粗度が約１０オングストロー
ム未満のニッケル・リン表面被覆を有するアルミニウム
合金を含む基板と、 ニッケル・リン被覆上に形成された酸化ニッケルの被膜
と、 酸化ニッケル被膜上にスパッタ付着された下層と、 下層上にスパッタ付着されたコバルトと白金を含む磁気
層と、 磁気層を覆って形成された保護層とを含む、薄膜コバル
ト合金磁気記録ディスク。 - 【請求項７】基板表面の算術平均表面粗度（Ｒa）が約
１０オングストローム未満であるニッケル・リン表面被
覆を有する、アルミニウム合金のディスク基板を用意す
るステップと、 ニッケル・リン被覆上に酸化ニッケルの被膜を直接形成
するステップと、 酸化ニッケル被膜上に下層をスパッタ付着するステップ
と、 下層上にコバルト合金磁気層をスパッタ付着するステッ
プと、 磁気層を覆って保護層を形成するステップとを含む、磁
気記録ディスクを製造する方法。 - 【請求項８】酸化ニッケル被膜形成ステップがさらに、
酸素の存在下でニッケル・リン被覆をスパッタ・エッチ
ングするステップを含むことを特徴とする、請求項７に
記載の方法。 - 【請求項９】酸化ニッケル被膜形成ステップがさらに、
酸素の存在下で基板を加熱するステップを含むことを特
徴とする、請求項７に記載の方法。 - 【請求項１０】酸化ニッケル被膜形成ステップがさら
に、酸化ニッケル被膜を約２０オングストローム以上の
厚さに形成するステップを含むことを特徴とする、請求
項７に記載の方法。 - 【請求項１１】下層スパッタ付着ステップが、クロムま
たはクロムとバナジウムの合金の下層をスパッタ付着す
るステップを含むことを特徴とする、請求項７に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/926,986 US5302434A (en) | 1992-08-07 | 1992-08-07 | Magnetic recording disk for contact recording |
| US926986 | 1992-08-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676279A true JPH0676279A (ja) | 1994-03-18 |
| JPH07122933B2 JPH07122933B2 (ja) | 1995-12-25 |
Family
ID=25453990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5150247A Expired - Lifetime JPH07122933B2 (ja) | 1992-08-07 | 1993-06-22 | 磁気記録ディスク及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5302434A (ja) |
| JP (1) | JPH07122933B2 (ja) |
| KR (1) | KR970005351B1 (ja) |
| CN (1) | CN1062673C (ja) |
| MY (1) | MY107917A (ja) |
| TW (1) | TW234760B (ja) |
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