JPH0673353B2 - 物品乾燥の方法と装置 - Google Patents
物品乾燥の方法と装置Info
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- JPH0673353B2 JPH0673353B2 JP2232303A JP23230390A JPH0673353B2 JP H0673353 B2 JPH0673353 B2 JP H0673353B2 JP 2232303 A JP2232303 A JP 2232303A JP 23230390 A JP23230390 A JP 23230390A JP H0673353 B2 JPH0673353 B2 JP H0673353B2
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- drying
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/06—Controlling, e.g. regulating, parameters of gas supply
- F26B21/12—Velocity of flow; Quantity of flow, e.g. by varying fan speed, by modifying cross flow area
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、物品、詳しくは、エレクトロニクスに使用さ
れ、その製造にクリーン・ルームを必要とする物品を乾
燥するための方法と装置に関する。
れ、その製造にクリーン・ルームを必要とする物品を乾
燥するための方法と装置に関する。
［従来の技術］ 遠心分離機あるいは熱風で物品を乾燥することは、本技
術分野では周知である。遠心分離機を使用すると、搬出
媒体として窒素などの補助材料が必要であり、このため
遠心分離機の内部を清掃することが必要となり、乾燥を
自動化することが困難である。さらに、平らな面を有す
る物品だけに乾燥が限られる。熱風乾燥は、圧縮空気が
必要であり、これは、電子部品に不可欠の純度と、また
は乾燥が空気の循環により行われる閉鎖システムとの点
において得ることが難しい。後者の方法は、非常に遅
く、また多くのエネルギーを要し、乾燥した物品に不純
物を残留せしめ、これは、電子部品の製造にとって不利
である。その他の問題は、静電気の電荷である。
術分野では周知である。遠心分離機を使用すると、搬出
媒体として窒素などの補助材料が必要であり、このため
遠心分離機の内部を清掃することが必要となり、乾燥を
自動化することが困難である。さらに、平らな面を有す
る物品だけに乾燥が限られる。熱風乾燥は、圧縮空気が
必要であり、これは、電子部品に不可欠の純度と、また
は乾燥が空気の循環により行われる閉鎖システムとの点
において得ることが難しい。後者の方法は、非常に遅
く、また多くのエネルギーを要し、乾燥した物品に不純
物を残留せしめ、これは、電子部品の製造にとって不利
である。その他の問題は、静電気の電荷である。
もう１つの周知の方法は、ジクロロジフルオロメタン
（フレオン）を使用しており、これは蒸発法である。こ
の方法は、物品がジクロロジフルオロメタンの蒸気のゾ
ーンに達する前に、浸漬される槽が容易に対象の微粒子
によって汚染されるので、非常に高価である。この方法
のそのほかの重要な欠点は、環境に対し非常に有害なジ
クロロジフルオロメタンを使用していることである。
（フレオン）を使用しており、これは蒸発法である。こ
の方法は、物品がジクロロジフルオロメタンの蒸気のゾ
ーンに達する前に、浸漬される槽が容易に対象の微粒子
によって汚染されるので、非常に高価である。この方法
のそのほかの重要な欠点は、環境に対し非常に有害なジ
クロロジフルオロメタンを使用していることである。
その他の周知の方法では、部分真空により排気された環
境へ、加熱された物品が露出される真空乾燥工程が必要
である。この方法は余り速くなく、電子部品製造の自動
化が複雑になる。
境へ、加熱された物品が露出される真空乾燥工程が必要
である。この方法は余り速くなく、電子部品製造の自動
化が複雑になる。
英国特許明細書第1530642号は、板材の表面に液体を塗
布することに関する改良を開示している。液体の塗布を
制御するために、真空によって、素材と容器の壁との間
の空間を、空気が板材のそばを通って流れる。空気の流
れは、液体を容器の空間に限定し、過剰な液体は素材か
ら引き離され、空間から容器へ真空により除去される。
真空度と液体の粘度は所望されるように選択されて、そ
のため素材は、表面が実質的に乾燥するか、あるいは、
所望の厚さに液体が塗布されて容器の付近を離れうる。
この開示は、板材の処理だけを可能とするもので、液体
を塗布することを意図している。
布することに関する改良を開示している。液体の塗布を
制御するために、真空によって、素材と容器の壁との間
の空間を、空気が板材のそばを通って流れる。空気の流
れは、液体を容器の空間に限定し、過剰な液体は素材か
ら引き離され、空間から容器へ真空により除去される。
真空度と液体の粘度は所望されるように選択されて、そ
のため素材は、表面が実質的に乾燥するか、あるいは、
所望の厚さに液体が塗布されて容器の付近を離れうる。
この開示は、板材の処理だけを可能とするもので、液体
を塗布することを意図している。
また、数件の乾燥法についての考察が、セミコンダクタ
ー・インターナショナル(Semiconductor Internationa
l)誌,1989年７月,80〜89頁，“ウェハーの清浄な乾燥−
回転せずに”(Dry Wafers Clearly:Without Spinning)
に公開されている。
ー・インターナショナル(Semiconductor Internationa
l)誌,1989年７月,80〜89頁，“ウェハーの清浄な乾燥−
回転せずに”(Dry Wafers Clearly:Without Spinning)
に公開されている。
［発明が解決しようとする課題］ このような点から、請求の本発明は、これらの欠点を改
良することを目的としている。このため、本発明は、容
易に自動化され、残留物がなく乾燥できる急速乾燥法を
提供する。本発明は、好適に、クリーンルームの状態を
必要としている物品に使用できる。
良することを目的としている。このため、本発明は、容
易に自動化され、残留物がなく乾燥できる急速乾燥法を
提供する。本発明は、好適に、クリーンルームの状態を
必要としている物品に使用できる。
［課題を解決するための手段及び作用］ 本発明の構成は次の通りである。
1.一方の内壁が複数の小径の空気入れ開孔を介して大気
雰囲気に接続され、他方の内壁が開閉調節弁作用を有す
る大径の空気吐出し開孔を介して真空源に接続されてい
る乾燥処理室を準備する工程、 大気圧状態の上記乾燥処理室内に乾燥すべき物品を整置
する工程、 上記空気吐出し開孔を瞬時に開くことにより、 上記物品を横切って少なくとも１回の空気噴射を発生す
る工程、 残留水分を部分真空中で蒸発させる工程、 とより成る物品の乾燥方法。
雰囲気に接続され、他方の内壁が開閉調節弁作用を有す
る大径の空気吐出し開孔を介して真空源に接続されてい
る乾燥処理室を準備する工程、 大気圧状態の上記乾燥処理室内に乾燥すべき物品を整置
する工程、 上記空気吐出し開孔を瞬時に開くことにより、 上記物品を横切って少なくとも１回の空気噴射を発生す
る工程、 残留水分を部分真空中で蒸発させる工程、 とより成る物品の乾燥方法。
2.一方の内壁に沿つて配列された複数の小径の空気取入
れ開孔及び他方の内壁に設けられた少なくとも１つの大
径の空気吐出し開孔を有する処理室、 上記吐出し開孔を介して上記処理室の内部へ接続され、
真空圧を供給するための真空源、 上記吐出し開孔の全面積を閉鎖するように配置され、開
放時に、空気噴射を処理室中に通過させるように動作す
る弁機構、 とを具備し、 上記空気取入れ開孔は、処理室内へ物品を出し入れする
ための装入開孔を開らく装入ポジシヨンＩ及び装入開孔
を閉じる処理ポジシヨンIIを有する覆いプレート内に配
列されている事を特徴とする物品の乾燥装置。
れ開孔及び他方の内壁に設けられた少なくとも１つの大
径の空気吐出し開孔を有する処理室、 上記吐出し開孔を介して上記処理室の内部へ接続され、
真空圧を供給するための真空源、 上記吐出し開孔の全面積を閉鎖するように配置され、開
放時に、空気噴射を処理室中に通過させるように動作す
る弁機構、 とを具備し、 上記空気取入れ開孔は、処理室内へ物品を出し入れする
ための装入開孔を開らく装入ポジシヨンＩ及び装入開孔
を閉じる処理ポジシヨンIIを有する覆いプレート内に配
列されている事を特徴とする物品の乾燥装置。
3.上記真空源は、主真空源に接続された上記弁機構を含
む中間真空タンクから成ることを特徴とする上記請求項
２に記載した装置。
む中間真空タンクから成ることを特徴とする上記請求項
２に記載した装置。
4.上記弁機構が空気圧で作動する上記請求項２または請
求項３に記載した装置。
求項３に記載した装置。
従って、物品の乾燥法は、真空貯蔵器内の部分真空を使
用し、真空貯蔵器を瞬間的に開いて少なくとも１回の空
気噴射を物品を横切って行う。物品が穴とアンダーカッ
トのある平坦かあるいは粗い表面を有する電子部品であ
る場合は、好適である。真空貯蔵器内には、周囲の大気
に対して部分真空が形成されている。
用し、真空貯蔵器を瞬間的に開いて少なくとも１回の空
気噴射を物品を横切って行う。物品が穴とアンダーカッ
トのある平坦かあるいは粗い表面を有する電子部品であ
る場合は、好適である。真空貯蔵器内には、周囲の大気
に対して部分真空が形成されている。
部分真空度は、物品を十分に乾燥するに必要な速度によ
り決まる。乾燥は、物品から水分を高速で吹き飛ばして
行う。物品の形状によって、物品が乾燥するか、あるい
は、通常の乾燥段階を追加して除去できる程度の残留水
分だけが残るまで、空気噴射が繰り返えされる。各空気
噴射の持続時間は真空貯留器の開け速度及びその真空貯
留器の能力により決まる。
り決まる。乾燥は、物品から水分を高速で吹き飛ばして
行う。物品の形状によって、物品が乾燥するか、あるい
は、通常の乾燥段階を追加して除去できる程度の残留水
分だけが残るまで、空気噴射が繰り返えされる。各空気
噴射の持続時間は真空貯留器の開け速度及びその真空貯
留器の能力により決まる。
水分を物品から有効に吹き飛ばすために、噴射空気の速
度は少なくとも30m/秒である。
度は少なくとも30m/秒である。
この速度は、いくつかの要因、例えば、真空貯蔵器内の
部分真空、ポペット弁の開き時間（約0.1秒が好適）、
及び物品の環境などにより得られまた影響を受ける。
部分真空、ポペット弁の開き時間（約0.1秒が好適）、
及び物品の環境などにより得られまた影響を受ける。
本発明により、乾燥工程では、物品は空気取入れ開孔と
空気吐出し開孔とを有する処理室内に配置される。噴射
中の空気の速度は、空気取入れ開孔の面積の空気吐出し
開孔の面積に対する比により影響される。物品の配列に
より、空気取入れ開孔の面積は、約1:3の好適な比で、
空気吐出し開孔の面積より小さい。物品が、水分を完全
に除去できない形状を有する場合は、残留水分は部分真
空で蒸発する。この段階は、既知の手法であり、物品に
残った液体の水滴が余り大きくない場合にだけに使用さ
れる。
空気吐出し開孔とを有する処理室内に配置される。噴射
中の空気の速度は、空気取入れ開孔の面積の空気吐出し
開孔の面積に対する比により影響される。物品の配列に
より、空気取入れ開孔の面積は、約1:3の好適な比で、
空気吐出し開孔の面積より小さい。物品が、水分を完全
に除去できない形状を有する場合は、残留水分は部分真
空で蒸発する。この段階は、既知の手法であり、物品に
残った液体の水滴が余り大きくない場合にだけに使用さ
れる。
本発明による物品の乾燥装置は、物品を収容する処理室
を備えている。この処理室には、その横断面上にわたっ
て分布配置された空気取入れ開孔と、この取入れ開孔と
反対側に位置している少なくとも１つの空気吐出し開孔
とがある。さらに、装置は、吐出し開孔を介して処理室
の内部に接続した部分真空貯蔵タンクと、吐出し開孔の
全体を閉じ、瞬間的に駆動して吐出し開孔の全体を開け
るポペット弁とを備えている。
を備えている。この処理室には、その横断面上にわたっ
て分布配置された空気取入れ開孔と、この取入れ開孔と
反対側に位置している少なくとも１つの空気吐出し開孔
とがある。さらに、装置は、吐出し開孔を介して処理室
の内部に接続した部分真空貯蔵タンクと、吐出し開孔の
全体を閉じ、瞬間的に駆動して吐出し開孔の全体を開け
るポペット弁とを備えている。
１個以上の物品が、処理室内に噴射中に空気の十分な速
度を得るように配置される。このために、処理室は、少
なくとも物品の領域において空気の流れを処理室の横断
面全体にわたって形成している数個の空気取入れ開孔を
有している。この空気取入れ開孔は、物品に空気の流れ
を保持するための吐出し開孔と反対側に配置されてい
る。
度を得るように配置される。このために、処理室は、少
なくとも物品の領域において空気の流れを処理室の横断
面全体にわたって形成している数個の空気取入れ開孔を
有している。この空気取入れ開孔は、物品に空気の流れ
を保持するための吐出し開孔と反対側に配置されてい
る。
部分真空貯蔵タンクは、処理室の内部とパイプを介して
間接的に接続するか、あるいは、直接的に連結してい
る。貯蔵タンクの内部は、ポペット弁により処理室の内
部と分離されている部分真空となっている。この弁によ
り、タンク内の部分真空が空気を処理室の内部からタン
クへ高速で吸引するように、貯蔵タンクが急速に開く。
タンクの容積は処理室の容積より十分に大きいので、処
理室外の空気は、タンクが周囲と同じ圧力の空気で充満
されるまで、取入れ開孔を通って処理室とタンクへ吸引
される。このように空気が移動する結果、物品は、機械
的に乾燥され、その上、物品に残留しているすべての粒
子は、この空気噴射によって吹き飛ばされる。
間接的に接続するか、あるいは、直接的に連結してい
る。貯蔵タンクの内部は、ポペット弁により処理室の内
部と分離されている部分真空となっている。この弁によ
り、タンク内の部分真空が空気を処理室の内部からタン
クへ高速で吸引するように、貯蔵タンクが急速に開く。
タンクの容積は処理室の容積より十分に大きいので、処
理室外の空気は、タンクが周囲と同じ圧力の空気で充満
されるまで、取入れ開孔を通って処理室とタンクへ吸引
される。このように空気が移動する結果、物品は、機械
的に乾燥され、その上、物品に残留しているすべての粒
子は、この空気噴射によって吹き飛ばされる。
本発明の好適な実施例において、取入れ開孔は、処理室
の装入開孔を覆っているプレートに配設されている。装
入開孔より、物品は処理室の内部に挿入される。次に、
開孔は、前記プレートか、あるいは、取入れ開孔が配置
されている他の適切な手段により閉じられる。この位置
即ちポジションは処理ポジションと呼ばれる。乾燥段階
がさらに必要の場合は、取入れ開孔は乾燥ポジションで
閉じられる。このポジションでは、残留水分は部分真空
により除去される。乾燥ポジションにある乾燥工程を加
速するために、小さい取入れ開孔面をプレートに設ける
ことができる。乾燥ポジションの空気取入れ開孔は、プ
レートをもう１つのポジションに動かすことにより閉じ
られるか、適切な手段によってすべてか、またはいくつ
かの取入れ開孔を閉じることにより閉じられる。
の装入開孔を覆っているプレートに配設されている。装
入開孔より、物品は処理室の内部に挿入される。次に、
開孔は、前記プレートか、あるいは、取入れ開孔が配置
されている他の適切な手段により閉じられる。この位置
即ちポジションは処理ポジションと呼ばれる。乾燥段階
がさらに必要の場合は、取入れ開孔は乾燥ポジションで
閉じられる。このポジションでは、残留水分は部分真空
により除去される。乾燥ポジションにある乾燥工程を加
速するために、小さい取入れ開孔面をプレートに設ける
ことができる。乾燥ポジションの空気取入れ開孔は、プ
レートをもう１つのポジションに動かすことにより閉じ
られるか、適切な手段によってすべてか、またはいくつ
かの取入れ開孔を閉じることにより閉じられる。
高速度を得るために（少なくとも30m/秒）、処理室内を
自由に流れる空気の面積が、取入れ開孔の全面積とポペ
ット弁の開孔の面積とより常に大きくなければならな
い。ポペット弁は、空気圧で駆動される。弁の空気圧駆
動は、開き速度の無段変速と約0.1秒の急速で信頼性の
ある操作を可能としている。
自由に流れる空気の面積が、取入れ開孔の全面積とポペ
ット弁の開孔の面積とより常に大きくなければならな
い。ポペット弁は、空気圧で駆動される。弁の空気圧駆
動は、開き速度の無段変速と約0.1秒の急速で信頼性の
ある操作を可能としている。
本発明による装置を、例えば、電子部品の製造に使用さ
れているようなクリーン・ベンチへ使用するために、本
発明の１つの実施例は中間タンクを有する部分真空貯蔵
タンクを提供している。このタンクはポペット弁を有
し、処理室に直接に接続している。後者の場合、中間タ
ンクより大きい容積を有する主タンクが、中間タンクか
ら離れて、パイプにより中間タンクに接続している。
れているようなクリーン・ベンチへ使用するために、本
発明の１つの実施例は中間タンクを有する部分真空貯蔵
タンクを提供している。このタンクはポペット弁を有
し、処理室に直接に接続している。後者の場合、中間タ
ンクより大きい容積を有する主タンクが、中間タンクか
ら離れて、パイプにより中間タンクに接続している。
また、本装置は、本発明により、装置の構成部品の運動
の自動化と全乾燥工程の制御を可能にする制御ユニット
を具備しうる。
の自動化と全乾燥工程の制御を可能にする制御ユニット
を具備しうる。
クリーン・ルームからの周囲の空気が使用されて、空気
噴射が行われるので、本方法と装置によりクリーン・ル
ームの状態の下で物品の急速な乾燥が可能になる。これ
は、本技術分野で周知の方法と装置によっては、妥当な
費用で行うことはできない。
噴射が行われるので、本方法と装置によりクリーン・ル
ームの状態の下で物品の急速な乾燥が可能になる。これ
は、本技術分野で周知の方法と装置によっては、妥当な
費用で行うことはできない。
ほかの利点は、低エネルギー消費と環境に有害な材料の
廃止である。
廃止である。
本発明のもう１つの利点は、乾燥時間が低減され、異な
る大きさと表面とを有する物品が同じ装置で乾燥できる
ことである。静電気の電荷は防止される。例えば、電子
部品のウェハに関しては、遠心分離機または圧縮熱風に
よる乾燥時間は、それぞれ本発明のそれより２倍から３
倍である。このように、遠心分離機または圧縮熱風によ
る乾燥のコスト係数は本発明の方法より100以上大き
い。
る大きさと表面とを有する物品が同じ装置で乾燥できる
ことである。静電気の電荷は防止される。例えば、電子
部品のウェハに関しては、遠心分離機または圧縮熱風に
よる乾燥時間は、それぞれ本発明のそれより２倍から３
倍である。このように、遠心分離機または圧縮熱風によ
る乾燥のコスト係数は本発明の方法より100以上大き
い。
さらに、本発明のもう１つの利点は、本装置が簡単でク
リーン・ベンチへ組み込まれ、また、本方法により乾燥
工程が容易に自動化されることである。
リーン・ベンチへ組み込まれ、また、本方法により乾燥
工程が容易に自動化されることである。
部分真空を使用すると、通常ではかなりの高圧を必要と
する速度が得られるという利点がある。クリーン・ルー
ムの条件を満足するこのような高圧は、通常の努力で得
ることは困難である。
する速度が得られるという利点がある。クリーン・ルー
ムの条件を満足するこのような高圧は、通常の努力で得
ることは困難である。
本発明とその他の目的及び利点とをよく理解するため
に、本発明の好適な実施例が添付図面を参考にして以降
に説明される。
に、本発明の好適な実施例が添付図面を参考にして以降
に説明される。
［実施例］ 第１図において、粒子(particle)乾燥用の装置10は、処
理室14と中間部分真空貯蔵タンク16とを含むハウジング
12を備えている。処理室14は、貯蔵タンク16の上方に配
置されており、処理室の内部20へ装入開孔22を介して挿
入された乾燥される物品を収容している。装入開孔22
は、第２図に示され、また以降に説明するような３つの
作動ポジションを有する滑動可能なプレート24により閉
じられる。プレート24の滑動と閉鎖とを行う手段は、工
業界では広く知られている。処理室の底部には、空気吐
出し開孔26があり、この開孔26は、中間タンク16に配置
され空気圧で作動するポケツト弁によつて閉鎖される。
中間タンク16は、パイプ32により主部分真空貯蔵タンク
30へ接続されている。好適な実施例による構成では、処
理室14と中間タンク16とがクリーン・ベンチ内に組み込
れて、処理室14内の湿気のある物品18をクリーン・ルー
ムの状態に置くことが可能である。次に、主タンクは、
クリーン・ベンチから離れて、供給室に置かれている。
理室14と中間部分真空貯蔵タンク16とを含むハウジング
12を備えている。処理室14は、貯蔵タンク16の上方に配
置されており、処理室の内部20へ装入開孔22を介して挿
入された乾燥される物品を収容している。装入開孔22
は、第２図に示され、また以降に説明するような３つの
作動ポジションを有する滑動可能なプレート24により閉
じられる。プレート24の滑動と閉鎖とを行う手段は、工
業界では広く知られている。処理室の底部には、空気吐
出し開孔26があり、この開孔26は、中間タンク16に配置
され空気圧で作動するポケツト弁によつて閉鎖される。
中間タンク16は、パイプ32により主部分真空貯蔵タンク
30へ接続されている。好適な実施例による構成では、処
理室14と中間タンク16とがクリーン・ベンチ内に組み込
れて、処理室14内の湿気のある物品18をクリーン・ルー
ムの状態に置くことが可能である。次に、主タンクは、
クリーン・ベンチから離れて、供給室に置かれている。
プレート24の３つの作動ポジションは、第２図に示され
ている。プレート24は、乾燥工程の簡単な自動化を可能
にしている。上述のように、プレート24は、３つの作動
ポジションI,II,及びIIIを有する。ポジションＩにおい
ては、装入開孔22は物品18の挿入、あるいは取出しのた
めにプレート24によって閉じられていない。ポジション
IIにおいて、プレート24は処理室14を覆う。装入開孔22
の上方のプレート24の一部には、処理室14の全横断面と
装入開孔22とに拡がって分布している多くの取入れ孔34
がある。これは、処理室へ吸引された空気が、処理室14
内の物品18に空気噴射として吹きつけられるという効果
をもたらす。プレート24の開き面は、均一な空気の流れ
が処理室内の物品に送られるように配置されなければな
らない。ポジションIIIにおいて、プレート24は、１つ
の孔36だけがある状態で処理室14を覆う。このポジショ
ンで、物品18からの残留水分は、真空により除去され
る。所定量の周囲の空気が物品の回りから吸引されるの
で、孔36は絶対的には必要ではないが、乾燥工程を加速
する。装置のなかには、３つのポジション（Ｉ〜III）
で個別にいくつかのプレートを設けることが必要である
場合がある。物品は、吊り下げたかご38で所定の位置に
保持されている。
ている。プレート24は、乾燥工程の簡単な自動化を可能
にしている。上述のように、プレート24は、３つの作動
ポジションI,II,及びIIIを有する。ポジションＩにおい
ては、装入開孔22は物品18の挿入、あるいは取出しのた
めにプレート24によって閉じられていない。ポジション
IIにおいて、プレート24は処理室14を覆う。装入開孔22
の上方のプレート24の一部には、処理室14の全横断面と
装入開孔22とに拡がって分布している多くの取入れ孔34
がある。これは、処理室へ吸引された空気が、処理室14
内の物品18に空気噴射として吹きつけられるという効果
をもたらす。プレート24の開き面は、均一な空気の流れ
が処理室内の物品に送られるように配置されなければな
らない。ポジションIIIにおいて、プレート24は、１つ
の孔36だけがある状態で処理室14を覆う。このポジショ
ンで、物品18からの残留水分は、真空により除去され
る。所定量の周囲の空気が物品の回りから吸引されるの
で、孔36は絶対的には必要ではないが、乾燥工程を加速
する。装置のなかには、３つのポジション（Ｉ〜III）
で個別にいくつかのプレートを設けることが必要である
場合がある。物品は、吊り下げたかご38で所定の位置に
保持されている。
本発明による装入と乾燥の全工程は自動化することがで
きる。このように自動化すると、動作中では、最初にプ
レート24はポジションＩにあって、ポペット弁28は空気
吐出し開孔26を閉じる。湿気のある物品は、適切な周知
の手段により処理室14へ挿入される。引続いて、プレー
ト24はポジションＩからポジションIIへ動き、一般的な
真空ポンプ（図示せず）は、２個の部分真空貯蔵タンク
16と30を、例えば、0.3バール、あるいは周囲圧力に対
して0.7バールの圧力差で排気する。次に、ポペット弁2
8は、約0.1秒以内で空気圧により開き、空気の速度が、
最小30m/秒に達する空気噴射を処理室内の物品に当て
る。速度は、プレート24の孔34の全面積、開孔面積22、
及び空気吐出し開孔26の開き面積とにより影響を受け
る。タンク容量500リットルの場合、空気噴射の持続時
間は約１秒である。次にポケツト弁は、空気圧差が無く
なつたために、吐出し開孔26を閉じる。物品の表面が穴
などで粗い場合、タンクの排気工程及び続いての弁の開
きが、必要により繰り返えされる。物品の上の水分は空
気噴射により除去される。物品の表面状態による残留水
分があるならば、空気噴射の後にポペット弁28を開きの
位置に保持し、かつプレート24をポジションIIIへ移動
することにより、残留水分を除去できる。その後の工程
では、真空ポンプがタンクと処理室との全容積を排気
し、残留水分が約20〜50ミリバールの部分真空で蒸発す
る。
きる。このように自動化すると、動作中では、最初にプ
レート24はポジションＩにあって、ポペット弁28は空気
吐出し開孔26を閉じる。湿気のある物品は、適切な周知
の手段により処理室14へ挿入される。引続いて、プレー
ト24はポジションＩからポジションIIへ動き、一般的な
真空ポンプ（図示せず）は、２個の部分真空貯蔵タンク
16と30を、例えば、0.3バール、あるいは周囲圧力に対
して0.7バールの圧力差で排気する。次に、ポペット弁2
8は、約0.1秒以内で空気圧により開き、空気の速度が、
最小30m/秒に達する空気噴射を処理室内の物品に当て
る。速度は、プレート24の孔34の全面積、開孔面積22、
及び空気吐出し開孔26の開き面積とにより影響を受け
る。タンク容量500リットルの場合、空気噴射の持続時
間は約１秒である。次にポケツト弁は、空気圧差が無く
なつたために、吐出し開孔26を閉じる。物品の表面が穴
などで粗い場合、タンクの排気工程及び続いての弁の開
きが、必要により繰り返えされる。物品の上の水分は空
気噴射により除去される。物品の表面状態による残留水
分があるならば、空気噴射の後にポペット弁28を開きの
位置に保持し、かつプレート24をポジションIIIへ移動
することにより、残留水分を除去できる。その後の工程
では、真空ポンプがタンクと処理室との全容積を排気
し、残留水分が約20〜50ミリバールの部分真空で蒸発す
る。
本発明による方法と装置によって、多くの穴とアンダー
カットのある面を有する物品を乾燥するための処理時間
は著しく低減され、かつ現在知られている技術よりも少
ないエネルギーを必要とするだけである。部分真空は、
他の方法ではかなりの高圧を必要とする空気の速度を保
証する。この目的に必要な圧縮空気はクリーン・ルーム
の条件を満足しない。
カットのある面を有する物品を乾燥するための処理時間
は著しく低減され、かつ現在知られている技術よりも少
ないエネルギーを必要とするだけである。部分真空は、
他の方法ではかなりの高圧を必要とする空気の速度を保
証する。この目的に必要な圧縮空気はクリーン・ルーム
の条件を満足しない。
第１図は、処理室と主部分真空貯蔵タンクとの間に置か
れた中間部分真空貯蔵タンクを有する本発明による装置
の横断面図であり、 第２図は、第１図のＡ矢視の方向から見た装置の拡大断
面図である。 14:処理室 16:中間部分真空貯蔵タンク 18:物品、22:装入開孔 24:プレート、26:空気吐出し開孔 28:ポペット弁 30:主部分真空貯蔵タンク 34:空気取入れ孔
れた中間部分真空貯蔵タンクを有する本発明による装置
の横断面図であり、 第２図は、第１図のＡ矢視の方向から見た装置の拡大断
面図である。 14:処理室 16:中間部分真空貯蔵タンク 18:物品、22:装入開孔 24:プレート、26:空気吐出し開孔 28:ポペット弁 30:主部分真空貯蔵タンク 34:空気取入れ孔
Claims (4)
- 【請求項１】一方の内壁が複数の小径の空気取入れ開孔
を介して大気雰囲気に接続され、他方の内壁が開閉調節
弁作用を有する大径の空気吐出し開孔を介して真空源に
接続されている乾燥処理室を準備する工程、 大気圧状態の上記乾燥処理室内に乾燥すべき物品を整置
する工程、 上記空気吐出し開孔を瞬時に開くことにより、上記物品
を横切って少なくとも１回の空気噴射を発生する工程、 残留水分を部分真空中で蒸発させる工程、 とより成る物品の乾燥方法。 - 【請求項２】一方の内壁に沿つて配列された複数の小径
の空気取入れ開孔及び他方の内壁に設けられた少なくと
も１つの大径の空気吐出し開孔を有する処理室、 上記吐出し開孔を介して上記処理室の内部へ接続され、
真空圧を供給するための真空源、 上記吐出し開孔の全面積を閉鎖するように配置され、開
放時に、空気噴射を処理室中に通過させるように動作す
る弁機構、 とを具備し、 上記空気取入れ開孔は、処理室内へ物品を出し入れする
ための装入開孔を開らく装入ポジシヨンＩ及び装入開孔
を閉じる処理ポジシヨンIIを有する覆いプレート内に配
列されている事を特徴とする物品の乾燥装置。 - 【請求項３】上記真空源は、主真空源に接続された上記
弁機構を含む中間真空タンクから成ることを特徴とする
上記請求項２に記載した装置。 - 【請求項４】上記弁機構が空気圧で作動する上記請求項
２または請求項３に記載した装置。
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|---|---|---|---|
| EP89117081A EP0423377B1 (en) | 1989-09-15 | 1989-09-15 | Method of and apparatus for drying articles |
| EP89117081.3 | 1989-09-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JPH0673353B2 true JPH0673353B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2232303A Expired - Fee Related JPH0673353B2 (ja) | 1989-09-15 | 1990-08-31 | 物品乾燥の方法と装置 |
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| Country | Link |
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| EP (1) | EP0423377B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0673353B2 (ja) |
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| DE (1) | DE68910825T2 (ja) |
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| US5551671A (en) * | 1994-07-27 | 1996-09-03 | General Electric Company | Hot argon cleaning and protective coating of components made of metal or alloy |
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| DE19701154B4 (de) * | 1997-01-15 | 2006-02-16 | Harald Wittler | Verfahren zum Trocknen von in einem Prozeßbehälter befindlichen kleinen Gegenständen sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| DE19756830A1 (de) | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Wacker Chemie Gmbh | Vakuumtechnisches Trocknen von Halbleiterbruch |
| US6151796A (en) * | 1998-06-04 | 2000-11-28 | Kem-Tec Japan Co., Ltd. | Substrate drying device, drying method and substrate dried by the same |
| US6457259B1 (en) * | 2001-10-22 | 2002-10-01 | General Electric Company | Portable apparatus for drying stator windings and related process |
| DE102011004916B4 (de) * | 2011-03-01 | 2013-11-28 | Wacker Chemie Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Trocknen von Polysilicium |
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| FR2247388B1 (ja) * | 1973-10-12 | 1977-08-05 | Anrep Rene | |
| DE3111223A1 (de) * | 1981-03-21 | 1982-10-07 | Arthur Pfeiffer Vakuumtechnik Wetzlar Gmbh, 6334 Asslar | Vakuum-trockenverfahren |
| JPS60165727A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-28 | Toshiba Corp | 半導体ウエ−ハの乾燥方法 |
| ATE27407T1 (de) * | 1984-03-08 | 1987-06-15 | Heinz Schumacher | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von filterelementen, insbesondere filterkerzen. |
| IT1185911B (it) * | 1985-09-13 | 1987-11-18 | Art Ceramiche Srl | Procedimento per l'essiccazione rapida di ceramica e impianto per realizzarlo |
| JPS6314434A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板表面処理方法および装置 |
| JPS63222433A (ja) * | 1987-03-11 | 1988-09-16 | Mitsubishi Electric Corp | 凍結真空乾燥法 |
| US4911754A (en) * | 1987-07-16 | 1990-03-27 | American Cyanamid Company | Herbicidally active aryloxy saturated 5-membered benzo fused hetero-cyclic compounds |
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1989
- 1989-09-15 DE DE68910825T patent/DE68910825T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-15 EP EP89117081A patent/EP0423377B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-17 US US07/569,042 patent/US5133136A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-31 JP JP2232303A patent/JPH0673353B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-14 BR BR909004604A patent/BR9004604A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03106025A (ja) | 1991-05-02 |
| BR9004604A (pt) | 1991-09-10 |
| US5133136A (en) | 1992-07-28 |
| EP0423377B1 (en) | 1993-11-18 |
| DE68910825D1 (de) | 1993-12-23 |
| EP0423377A1 (en) | 1991-04-24 |
| DE68910825T2 (de) | 1994-05-19 |
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|---|---|---|---|
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