JPH0669415A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH0669415A
JPH0669415A JP4220106A JP22010692A JPH0669415A JP H0669415 A JPH0669415 A JP H0669415A JP 4220106 A JP4220106 A JP 4220106A JP 22010692 A JP22010692 A JP 22010692A JP H0669415 A JPH0669415 A JP H0669415A
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正 松田
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哲次郎 角田
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 大電流を高速スイッチングさせて使用する大
電力用半導体装置の内部インダクタンスを極めて小さく
する。 【構成】 放熱板9上に固着された第1の導体11と、
この導体上に固着された第1の絶縁層13と、この上に
固着された第2の導体15と、この上に固着された半導
体素子および第2の絶縁層23と、この上に固着された
第3の導体15と、前記半導体素子の表面電極と導体1
5を電気的に接続する第4の導体17と、導体15上に
固着された第1の電力端子3と導体15上に固着された
第2の電力端子5とを具備し、その内部インダクタンス
を小さくするために、これらの電力端子が、高さより幅
の方が長い平板部を持って、平行且つ近接する様に構成
され、これら電力端子内を流れる主電流の向きが、互い
に逆になる様に構成され、導体15内を流れる主電流と
導体17を流れる主電流の向きが互いに逆になる様に構
成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、大電流を高速スイッチ
ングさせて使用する大電力用半導体装置に関し、特に、
その内部インダクタンスを極めて小さくすることができ
る大電力用半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、電力変換、制御等のパワーエレ
クトロニスク分野に使用される大電力用半導体装置は、
図10に示す様な2個のトランジスタと2個のダイオー
ドからなる等価回路を基本構成としていた。
【0003】そして、これらの大電力用半導体装置の主
な用途は、3相モータ駆動回路で、参考のためその結線
の様子を図11に示す。図11に示す様に、3相モータ
駆動のためには、制御トランジスタが6回路必要であ
り、図10に示される2回路の大電力用半導体装置を使
用する場合、半導体装置が3個必要となる。
【0004】この様な用途に使用される大電力用半導体
装置の回路構成としては、図10の様な回路の他に、図
12(a),(b)に示す様な1回路持つものや6回路
持つものなどがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】さて、上述の如き大電
力用半導体装置を用いて構成されるモータ制御回路は、
一般的にPWM制御方式であり、そのキャリア周波数は
近年半導体装置の進歩もあり、10kHz以上になってき
ており、キャリア周波数を高く出来れば、モータの騒音
を小さく出来るという利点がある。しかしながら、キャ
リア周波数を上げて使用する、すなわち、半導体装置を
高速スイッチング動作させて使用すると、スイッチング
ターンオン時およびスイッチングターンオフ時における
主回路電流の急激な変化によって、主回路インダクタン
スLに電圧が誘起され、−L(di/dt)なるサージ
電圧が発生する。このサージ電圧が過度に大きい場合、
半導体装置内の半導体素子を破壊に至らしめたり、半導
体装置外部の制御回路や保護回路の誤動作、破壊等を引
き起こしたりするものであった。従って、極力サージ電
圧を小さくする必要があった。
【0006】一般的にサージ電圧を大きく左右するもの
はインダクタンスLであるので、サージ電圧を小さくす
るための対策として、従来の大電力用半導体装置の外部
の配線に対して、インダクタンスLが極小となる様な最
適配線がなされたり、抵抗、コンデンサ、ダイオード等
で構成された図13(a),(b)に代表される様なス
ナバ回路が設けられたりしているものであった。
【0007】しかしながら、上記従来技術における対策
は、大電力用半導体装置の外部のインダクタンスLにつ
いてのみの対策であり、大電力用半導体装置の内部の回
路構成における内部インダクタンスLに対しては何の対
策も施されていないものであった。
【0008】そこで、サージ電圧を極めて小さくするた
めには、大電力用半導体装置の内部のインダクタンスL
を極力小さくすることが望まれているものであった。
【0009】ここで、大電力用半導体装置の内部インダ
クタンスLは、図10中に示す如く、電力端子部のイン
ダクタンスLC1、電力端子部のインダクタンスLC2E1
電力端子部のインダクタンスLE2、およびボンディング
ワイヤ部のインダクタンスLB'g から構成されている。
【0010】ところで、一般的に導体のイダクタンス
は、電流が導体の断面内を一様な密度で流れている時、
図14(a)に示す様な長さl、半径a、透磁率μの円
筒状導線の自己インダクタンスLS は、
【数1】 で表わされる。
【0011】また、図14(b)に示す様な間隔dで平
行する長さl、半径aおよびbの2つの円筒状導線間に
は、上記自己インダクタンスLS の他に、
【数2】 なる相互インダクタンスMが働く。ここで、相互インダ
クタンスMの値は、各々の導体を同じ方向に電流が流れ
る場合正の値を取り、逆向きに流れる場合負の値を取
る。
【0012】従って、図14(b)に示す如き導体のイ
ンダクタンスLは、最終的に、 L=Ls +M …(3) で表され、導体の長さl、断面積、導体間距離d、電流
の方向に大きく左右されている。
【0013】そして、従来の大電力用半導体装置では、
その内部の各電力端子部の配線が長く、断面積が小さく
なっていたため、その各電力端子部の自己インダクタン
スLS が大きいものであった。
【0014】また、従来の大電力用半導体装置では、上
記各電力端子間の距離や電流方向が、その相互インダク
タンスMを低減させる様に設定出来なかったため、上記
各電力端子部の相互インダクタンスMが大きな値となっ
ているものであった。従って、結果として、図10に示
す上記各電力端子部のインダクタンスLC1,LC2E1,L
E2が大きな値となってしまっているものであった。
【0015】また、従来の大電力用半導体装置では、そ
の内部のボンディングワイヤ部におけるワイヤと基板上
の導体間の電流方向も、その相互インダクタンスMを低
減させる様に設定出来なかったため、上記ボンディング
ワイヤ部の相互インダクタンスMが大きな値となってい
るものであった。
【0016】すなわち、上述の如き理由により、従来の
大電力用半導体装置においては、その内部インダクタン
スが、その外部回線の外部インダクタンスに対してかな
り大きな値となっており、前述したサージ電圧低減化の
大きな妨げとなっているものであった。
【0017】本発明は、上述した如き従来の問題点を解
決するためになされたもので、その目的は、その内部イ
ンダクタンスを極めて小さくすることができる大電力用
半導体装置を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の特徴は、大電流を高速スイッチングさせて
使用する大電力用半導体装置において、放熱板と、前記
放熱板上に固着された第1の導体と、前記第1の導体上
に固着された第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層上に固
着された第2の導体と、前記第2の導体上に固着された
半導体素子および第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層上
に固着された第3の導体と、前記半導体素子の表面電極
と前記第3の導体を電気的に接続する第4の導体と、前
記第2の導体上に固着された第1の電力端子と、前記第
3の導体上に固着された第2の電力端子とを具備し、そ
の内部インダクタンスを小さくするために、前記第1お
よび第2の電力端子が、高さより幅の方が長い平板部を
持つと共に、前記第1および第2の電力端子が実質的に
平行且つ近接する様に構成され、且つ前記第1および第
2の電力端子内を流れる主電流の向きが、互いに逆にな
る様に構成され、前記第2の導体内を流れる主電流と前
記第4の導体を流れる主電流の向きが互いに逆になる様
に構成されていることである。
【0019】
【作用】上述の如き構成によれば、各部における自己イ
ンダクタンスおよび相互インダクタンスが大きく減少
し、それにより、サージ電圧が低減されるものである。
【0020】従って、大電流を高速スイッチングする使
用(di/dtの大きな使用)に対して、破壊せず、外
部回路の誤動作、破壊も防止できる半導体装置を提供出
来るものである。
【0021】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
【0022】図1,図2は、本発明を実施した大電力用
半導体装置の内部構成を示すもので、図1は、その各電
力端子を基板部の所定位置に接続する前の状態を示し、
図2は、上記各電力端子を基板部の所定位置に接続した
状態を示すものである。また、図3は、図2に示す内部
構成を有する大電力用半導体装置の樹脂成形完成後の外
観斜視図である。
【0023】図1および図2において、この大電力用半
導体装置は、ダイオードやトランジスタの取り付けられ
た基板部1と、その基板部1の所定位置に接続される各
電力端子3,5,7とを有しており、上記基板部1は、
Cu等からなる厚さ3.5mm程の放熱板9を有してい
る。そして、上記放熱板9上の右側には、DBC法(Di
rect Bonding Copper 法)により積層して形成された第
1のCu層11、Al23 やAlN等の第1の絶縁セ
ラミック板13および、上記第1の絶縁セラミック板1
3上に隔てて形成された第3および第4のCu層15,
17からなる実装基板19(以下第1のDBC基板19
と称す)が半田により接続され、上記第3のCu層15
上には、Al2 3 やAlN等の第2の絶縁セラミック
板23、および第6のCu層25からなり、幅が狭い部
分と広い部分が規則的に同数箇所(本実施例では3箇
所)形成された実装基板27(以下第2のDBC基板2
7と称す)がDBC法により積層形成されている。そし
て、上記第3のCu層15上には、トランジスタ29の
コレクタまたはドレイン領域(チップ裏面電極)および
ダイオード31のカソード領域(チップ裏面電極)が半
田により接続されている。また、トランジスタ29のエ
ミッタまたはソース領域(チップ表面電極)およびダイ
オード31のアノード領域(チップ表面電極)は、Al
ボンディングワイヤ33によって、第2のDBC基板2
7上の第6のCu層25へ接続されている。
【0024】ここで、上記トランジスタ29およびダイ
オード31の裏面電極と接続されている上記第3のCu
層15と、上記トランジスタ29およびダイオード31
の表面電極と接続されている上記第6のCu層25は、
幅の広い一様な平板であるため、上記第3のCu層15
および上記第6のCu層25中を主電流が流れる際に、
主電流がその中を均一に分散し、電流集中を抑えること
が出来る。従って、上記構成によれば、上記第3のCu
層15および第6のCu層25内に存在する自己インダ
クタンス成分LS が低減されるものである。
【0025】さらに、図4に示す如く、上記第3のCu
層15と上記Alボンディングワイヤ33とは実質的に
平行で近接しており、かつ、第3のCu層15とAlボ
ンディングワイヤ33にはそれぞれ逆の電流が流れるこ
とになるので、この領域における相互インダクタンスM
は負となり、この領域のインダンタンス成分がさらに低
減されるものである。
【0026】また、上記トランジスタ29のベースまた
はゲート領域は、Alボンディングワイヤ35によって
上記第1のDBC基板19上の第4のCu層17へ接続
されている。以上の如き構成によって、右側1回路、す
なわち、C1 回路37が構成されている。
【0027】そして、上記放熱板9上には、上記右側の
1 回路37と、前記放熱板9の中心点39に対して、
点対称な構成を有するもう一方の回路である左側のC2
回路41が形成されている。ここで、上記左側のC2
路41は、右側のC1 回路と同様の構成を有しているの
で、詳細な説明は省略する。
【0028】次に、上記C2 回路41内の第2のDBC
基板27の幅が部分的に狭くなっており、上記第1のD
BC基板19上の第3のCu層15が露出されている第
1の領域45と、この第1の領域45に向い合う上記C
1 回路37内の第2のDBC基板27の幅が広くなって
いる第2の領域47上の第6のCu層25とが、ジャン
パープレート49により互いに複数箇所(本実施例の場
合3箇所)接続されており、それによって上記C1 回路
37とC2 回路41とが接続されているものである。
【0029】ここで、上記ジャンパープレート49の一
拡大図を図5に示す。このジャンパープレート49は、
Cu等からなる導体で、その厚みは例えば0.5mm程度
である。形状は単に平板でも良いが、成形のための樹脂
封止の際に樹脂がジャンパープレート49直下に上手く
まわり込めず、気泡の発生を招き、絶縁性や耐水性の信
頼性を劣化させる一原因となるので、図5に示す如き形
状にすることが望ましい。
【0030】また、長さlおよび高さhは、ジャンパー
プレート49のインダンタンスを低減させるため、極力
短いことが望ましい。また、幅wは極力広いことが望ま
しい。何故なら、上記C1 回路37からC2 回路41へ
流れる(またはその逆)主電流を均等に分散し、電流集
中を抑え、インダンタンスを低減出来るからである。
【0031】しかし、上記ジャンパープレートの長さ
l、高さhが極端に短く、幅wが極端に広すぎると、成
形時に樹脂がまわり込めなくなるので、長さl、高さ
h、幅wの値は最適化する必要がある。例えば、この場
合、長さlが6mm、高さhが3mm幅wが5mmとなってい
る。
【0032】次に、上記C2 1 電力端子3、E2 電力
端子5およびC1 電力端子7は、図6(a)および
(b)に示す端子形状をしている。ここで、図6(a)
は、構造の同じなC2 1 電力端子3およびE2 電力端
子5の一方(この場合端子5)を示しており、図6
(b)は、C1 電力端子7を示している。
【0033】上記各電力端子5,7は、それぞれ平板部
51,53と、複数箇所(本実施例は3箇所)のクッシ
ョン部55,57と、複数箇所(本実施例は2箇所)の
スクリュー穴59,61とを有している。
【0034】上記クッション部55,57は、樹脂成形
時に上記電力端子3,5,7にかかる上下方向の応力を
吸収する目的、および半導体装置使用時の熱変化にて生
ずる応力を緩和する目的で設けられたものである。
【0035】ここで、図6(a),(b)に示した様な
端子形状とすれば、以下の如くの理由から、各々の電力
端子3,5,7の自己インダクタンスLC1S ,LE2S
C2 E1S を小さくすることができる。
【0036】すなわち、第1の理由としては、各々の電
力端子3,5,7は、前記C1 回路37またはC2 回路
41から垂直に導出される様な最短の配線長になってい
ることであり、第2の理由としては、各々の電力端子
3,5,7が、高さlより幅wの方が長い平板部51,
51,53と、複数のクッション部55,55,57
と、複数のスクリュー穴59,59,61とから構成さ
れることにより、前記C1回路37ないしC2 回路41
から上記複数のクッション部55,55,57と平板部
51,51,53を介し、複数のスクリュー部59,5
9,61に取り付けられた外部回路の主電力配線へ流れ
る(またはその逆に流れる)主電流が、上記端子内を均
一に分散し、電流集中が抑えられ自己インダクタンスが
低減されるものである。
【0037】なお、上記複数のクッション部55,5
5,57の内の両脇側のものは、本実施例の如くに、上
記平板部51,51,53の実質的な、両端部にあるこ
とが望ましく、上記平板部51,51,53の幅wは、
上記C1 回路37ないしC2 回路41上の第3のCu層
15の幅と実質的に同等の幅とすることが望ましい。ま
た、上記クッション部55,55,57およびスクリュ
ー穴59,59,61は出来るかぎり数多いことが望ま
しい。
【0038】もし、上記クッション部55,55,57
およびスクリュー穴59,59,61が1箇所の極僅か
な領域にしか設けられていない場合や、上記平板部5
1,51,53の幅wが短い場合には、主電流が電流集
中し、電力端子の自己インダクタンスが減ぜられないも
のである。
【0039】そして、上記C2 1 電力端子3のクッシ
ョン部55は、上記C2 回路41内の第1のDBC基板
19中の第3のCu層15上に、上記E2 電力端子5の
クッション部55は、上記C2 回路41内の第2のDB
C基板27の幅の広くなっている領域の第6のCu層2
5上に、上記C1 電力端子7のクッション部57は、上
記C1 回路37内の第2のDBC基板27の幅が狭くな
っており、第1のDBC基板19上の第3のCu層15
が露出されている領域上に、それぞれ半田により接続さ
れている。
【0040】また、上記E2 電力端子5とC1 電力端子
7とは、実質的に向い合う平板部51,53およびクッ
ション部55,57の双方において、実質的に平行で、
かつその距離dは端子幅wの短い方の端子幅wに対する
1/5倍以下の距離に設けられている。すなわち、図4
および図7に示す如く、上記E2 端子5とC1 端子7を
流れる主電流の向きは逆向きに流れる。従って、この
時、上記E2 端子5およびC1 端子7には、負の値を示
す相互インダクタンスME2C1が働き、E2 端子5および
1 端子7のインダクタンスLE2およびLC1を低減する
様に作用する。
【0041】ところで、相互インダクタンスの大きさ
は、端子幅wと、C1 端子・E2 端子間距離dにより変
化する。つまり、端子のインダクタンスも、端子幅wと
1 端子・E2 端子間距離dにより変化する。図8は、
端子幅wとC1 端子・E2 端子間距離dの比d/wと、
端子の単位長さ当りのインダクタンスの関係を示したも
のである。図8から判る様に、端子の単位長さ当りのイ
ンダクタンスは、d/wの増加に伴い指数関数的に増加
するもので、特にその増加はd/wが0.2を越えると
急激に増加する。よって、上記d/wは、0.2以下す
なわちd≦w/5にすることが望ましい。
【0042】なお、上記C2 1 電力端子3、E2 電力
端子5、C1 電力端子7は、図3に示す如く、予め樹脂
で形成されたターミナルホルダ71に位置決めされてお
り、それぞれの端子が前記説明の如き位置に固着された
後に、樹脂ケース73が放熱板9に接着され、樹脂封止
される。それによって、図3に示した様な外形図をなす
半導体装置が形成される。
【0043】以上の様な構成を持つ半導体装置であれ
ば、上記C1 電力端子7、E2 電力端子5、C2 1
力端子3は、上記C1 回路37、C2 回路41から垂直
に立設されているため、各々の電力端子長さを最短距離
にすることが出来る。かつ、上記各電力端子3,5,7
は高さlより幅wの方が長い平板部および複数のクッシ
ョン部55,55,57および複数のスクリュー穴5
9,59,61を具備し、かつ、半導体素子(トランジ
スタ,ダイオード)と電気的に接続される第3のCu層
15および第6のCu層25の幅が広いため、主電流を
均等に分散できる。従って、各端子における自己インダ
クタンスを低減することが出来る。
【0044】また、上記C1 電力端子7とE2 電力端子
5は、実質的に平行で近接する様に配置され、C1 電力
端子7とE2 電力端子5には逆方向の電流が流れるの
で、C1 電力端子7とE2 電力端子5の相互インダクタ
ンスを低減出来る。
【0045】さらに、2層絶縁層構造の実装基板(第1
のDBC基板19および第2のDBC基板27)を使用
しているため、図4に示す様に、ボンディングワイヤ3
3と第3のCu層15に流れる電流も逆方向の向きを採
る。従って、この部分の相互インダクタンスも低減出来
る。よって半導体装置の内部インダクタンスは極めて小
さくなるものである。
【0046】以上、本発明の一実施例として、2回路を
持つ半導体装置について説明したが、本発明は、1回
路,4回路,6回路を持つ半導体装置にも当然適用出来
る。また、DBC基板のCuパターンや、端子のクッシ
ョン形状および個数、スクリュー穴の個数等は、上述し
た実施例に限定されるものではない。また、基板はDB
C法以外の方法で形成した基板でもかまわない。更に本
発明の他の実施例として、第15図に示す様に、第2の
絶縁層23の下に第5のCu層21がある構成でもかま
わない。
【0047】尚、第15図の実施例の場合は、DBC法
により積層し、形成された第5のCu層21、Al2
3 やAlN等の第2の絶縁セラミックス板23、および
第6のCu層25からなり、幅が狭い部分と広い部分が
規則的に同数箇所(本実施例では3箇所)形成された実
装基板27(第2のDBC基板23)が前記第3のCu
層15上に半田により接続されているものである。
【0048】
【発明の効果】以上述べた様に、本発明によれば、半導
体装置の内部インダクタンスを効果的に低減出来る。従
来例と本発明の半導体装置のスイッチングターンオフ時
のサージ電圧波形を図9(a),(b)に示す。ここ
で、図9(a)は、従来例におけるサージ電圧波形を示
し、図9(b)は、本発明におけるサージ電圧波形を示
すものである。
【0049】図9(a),(b)に示す様に、本発明の
半導体装置は、内部インダクタンスの低減により従来の
半導体装置に比べ約50%サージ電圧ΔVが低減され
る。従って、大電流を高速スイッチングする使用(di
/dtの大きな使用)に対しても、破壊せず、外部回路
の誤動作、破壊も防止できる半導体装置を提供出来るも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施した大電力用半導体装置の内部構
成を示す図で、特に、その各電力端子を基板部の所定位
置に接続する前の状態を示す斜視図である。
【図2】本発明を実施した大電力用半導体装置の内部構
成を示す図で、特に、その各電力端子を基板部の所定位
置に接続した状態を示す斜視図である。
【図3】図2に示す内部構成を有する大電力用半導体装
置の樹脂成形後の外観斜視図である。
【図4】図2に示す内部構成の要部拡大斜視図である。
【図5】図2に示す内部構成におけるジャパープレート
の拡大図である。
【図6】各電力端子の形状を示す図である。
【図7】図2に示す内部構成の要部拡大側面図である。
【図8】電力端子幅wと電力端子間距離dの比d/wと
電力端子の単位長さ当りのインダクタンスの関係を示す
グラフである。
【図9】従来例および本発明に従う半導体装置における
スイッチングターンオフ時のサージ電圧波形を示すグラ
フである。
【図10】従来の大電力用半導体装置の等価回路図であ
る。
【図11】大電力用半導体装置の使用される3相モータ
駆動回路の回路図である。
【図12】従来の他の構成を有する大電力用半導体装置
の等価回路図である。
【図13】半導体装置におけるサージ電圧を小さくする
ためのスナバ回路を示す図である。
【図14】一般の導体におけるインダクタンスを説明す
るための説明図である。
【図15】本発明に従う大電力用半導体装置の他の実施
例の内部構造を示す図である。
【符号の説明】
1 基板部 3 C2 1 電力端子 5 E2 電力端子 7 C1 電力端子 9 放熱板 11 第1のCu層 13 第1の絶縁セラミック板 15 第3のCu層 17 第4のCu層 19 第1のDBC基板 21 第5のCu層 23 第2のセラミック板 25 第6のCu層 27 第2のDBC基板 29 トランジスタ 31 ダイオード 33,35 Alボンディングワイヤ 37 C1 回路 39 中心点 41 C2 回路 45 第1の領域 47 第2の領域 49 ジャンパープレート 51,53 平板部 55,57 クッション部 59,61 スクリュー穴 71 ターミナルホルダ 73 樹脂ケース

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放熱板と、前記放熱板上に固着された第
    1の導体と、前記第1の導体上に固着された第1の絶縁
    層と、前記第1の絶縁層上に固着された第2の導体と、
    前記第2の導体上に固着された半導体素子および第2の
    絶縁層と、前記第2の絶縁層上に固着された第3の導体
    と、前記半導体素子の表面電極と前記第3の導体を電気
    的に接続する第4の導体と、前記第2の導体上に固着さ
    れた第1の電力端子と、前記第3の導体上に固着された
    第2の電力端子とを具備したことを特徴とした半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 前記第2の絶縁層が前記半導体素子と前
    記第1の電力端子の間に存在する領域を具備した事を特
    徴とした請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記第2の導体内を流れる主電流と前記
    第4の導体を流れる主電流の向きが互いに逆になる様に
    構成されていることを特徴とした請求項2に記載の半導
    体装置。
  4. 【請求項4】 第1の導体と、前記第1の導体上に固着
    された第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層上に固着され
    た第2の導体と、前記第2の導体上に固着された第2の
    絶縁層と、前記第2の絶縁層導体上に固着された第3の
    導体とからなる実装基板が複数、放熱板上に固着され、
    少なくとも一つの前記実装基板内の前記第2の導体上に
    半導体素子が固着された半導体装置において、複数の前
    記実装基板相互を少なくとも複数箇所電気的に接続する
    第4の導体を具備したことを特徴とした半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記実装基板が点対称に向き合う様に前
    記放熱板上に固着されたことを特徴とした請求項4に記
    載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記実装基板が同一構造であることを特
    徴とした請求項4に記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 第1の導体と、前記第1の導体上に固着
    された第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層上に固着され
    た第2の導体と、前記第2の導体上に固着された半導体
    素子と、前記半導体素子の表面電極と電気的に接続する
    第1の電力端子と、前記半導体素子の裏面電極と電気的
    に接続する第2の電力端子を具備する半導体装置におい
    て、前記第1の電力端子あるいは前記第2の電力端子
    が、高さより幅の方が長い平板部を持つことを特徴とし
    た半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記平板部が、クッション部を有するこ
    とを特徴とした請求項7に記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記平板部が、複数のクッション部を並
    列に有することを特徴とした請求項7に記載の半導体装
    置。
  10. 【請求項10】 前記平板部の幅が、両端に位置する前
    記クッション間の距離以上の幅を有することを特徴とし
    た請求項9に記載の半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記第1の電力端子と前記第2の電力
    端子の双方が前記平板部を具備しており、前記第1の電
    力端子の平板部と、前記第2の電力端子の平板部が実質
    的に平行であることを特徴とした請求項7に記載の半導
    体装置。
  12. 【請求項12】 前記第1の電力端子の平板部と前記第
    2の電力端子の平板部の間隔が、前記第1の電力端子の
    平板部ないし前記第2の電力端子の平板部のどちらか一
    方の短い幅の1/5倍以下になっていることを特徴とし
    た請求項11に記載の半導体装置。
  13. 【請求項13】 前記第1の電力端子の平板部と前記第
    2の電力端子の平板部の双方がクッション部を具備しか
    つ、前記双方のクッション部も実質的に平行であること
    を特徴とした請求項11に記載の半導体装置。
  14. 【請求項14】 前記第1の電力端子あるいは前記第2
    の電力端子が、外部配線結線用の穴を複数具備すること
    を特徴とした請求項7に記載の半導体装置。
  15. 【請求項15】 前記第1および第2の電力端子内を流
    れる主電流の向きが、互いに逆になる様に構成されてい
    ることを特徴とした請求項7に際の半導体装置。
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KR2019980000938U KR0139699Y1 (en) 1992-08-19 1998-01-26 Semiconductor device

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1722413A2 (en) 2005-05-10 2006-11-15 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Terminal connection structure for semiconductor device
US7862272B2 (en) 2004-05-31 2011-01-04 Piolax Inc. Clip
JP2011097053A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 General Electric Co <Ge> インダクタンスを低減した電力モジュール組立体
JP2016042562A (ja) * 2014-08-19 2016-03-31 株式会社東芝 半導体モジュール
JP2016122869A (ja) * 2009-05-14 2016-07-07 ローム株式会社 半導体装置
CN110199388A (zh) * 2017-01-13 2019-09-03 科锐费耶特维尔股份有限公司 用于并联功率装置的具有低电感和快速切换的高功率多层模块

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2973799B2 (ja) * 1993-04-23 1999-11-08 富士電機株式会社 パワートランジスタモジュール
JP2912526B2 (ja) * 1993-07-05 1999-06-28 三菱電機株式会社 半導体パワーモジュールおよび複合基板
US5528073A (en) * 1994-07-05 1996-06-18 Allen-Bradley Company, Inc. Bus bar having reduced parasitic inductances and equal current path lengths
US5956231A (en) * 1994-10-07 1999-09-21 Hitachi, Ltd. Semiconductor device having power semiconductor elements
US5569957A (en) * 1994-10-31 1996-10-29 Harris Corporation Low inductance conductor topography for MOSFET circuit
US5705848A (en) * 1995-11-24 1998-01-06 Asea Brown Boveri Ag Power semiconductor module having a plurality of submodules
JP3480771B2 (ja) * 1995-12-20 2003-12-22 三菱電機株式会社 半導体装置
DE69715214T2 (de) * 1996-07-22 2003-04-30 Hydro Quebec Stromwandlermodul zur gleich-/wechselspannungsumwandlung mit niedriger anschlussstreuinduktivität und verfahren dazu
US6954368B1 (en) 1996-07-22 2005-10-11 HYDRO-QUéBEC Low stray interconnection inductance power converting molecule for converting a DC voltage into an AC voltage, and a method therefor
EP0924845A3 (en) * 1997-12-22 2001-05-23 Omnirel LLC Power semiconductor module
US6232654B1 (en) * 1998-07-10 2001-05-15 Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Seisakusho Semiconductor module
JP3552549B2 (ja) * 1998-09-08 2004-08-11 株式会社豊田自動織機 半導体モジュールの電極端子接続構造
JP3521757B2 (ja) 1998-09-08 2004-04-19 株式会社豊田自動織機 半導体モジュール電極構造
EP1169736B1 (de) 1999-03-17 2006-07-12 EUPEC Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH &amp; Co. KG Leistungshalbleitermodul
JP3695260B2 (ja) * 1999-11-04 2005-09-14 株式会社日立製作所 半導体モジュール
JP2001308265A (ja) * 2000-04-21 2001-11-02 Toyota Industries Corp 半導体装置
JP2002026251A (ja) * 2000-07-11 2002-01-25 Toshiba Corp 半導体装置
JP2002141463A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体モジュール
JP2003009508A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JP4066644B2 (ja) * 2001-11-26 2008-03-26 株式会社豊田自動織機 半導体装置、半導体装置の配線方法
JP4732692B2 (ja) * 2002-01-29 2011-07-27 マイクロセミ コーポレーション パワー・モジュールおよびその製造方法
DE10237561C1 (de) * 2002-08-16 2003-10-16 Semikron Elektronik Gmbh Induktivitätsarme Schaltungsanordnung bzw. Schaltungsaufbau für Leistungshalbleitermodule
JP4660214B2 (ja) * 2005-01-26 2011-03-30 日本インター株式会社 電力用半導体装置
JP2006253516A (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Hitachi Ltd パワー半導体装置
JP2007209184A (ja) 2006-02-06 2007-08-16 Mitsubishi Electric Corp 電力変換装置
JP4564937B2 (ja) 2006-04-27 2010-10-20 日立オートモティブシステムズ株式会社 電気回路装置及び電気回路モジュール並びに電力変換装置
EP2071626A1 (en) * 2007-12-11 2009-06-17 ABB Research Ltd. Semiconductor module and connection terminal device
US20110024896A1 (en) * 2008-07-07 2011-02-03 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device
JP5476028B2 (ja) * 2009-04-17 2014-04-23 株式会社日立製作所 パワー半導体スイッチング素子のゲート駆動回路及びインバータ回路
DE102011008261A1 (de) * 2011-01-11 2012-07-12 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Schiene für die elektrische Kontaktierung eines elektrisch leitfähigen Substrates
FR2974969B1 (fr) * 2011-05-03 2014-03-14 Alstom Transport Sa Dispositif d'interconnexion electrique d'au moins un composant electronique avec une alimentation electrique comprenant des moyens de diminution d'une inductance de boucle entre des premiere et deuxieme bornes
US20130175704A1 (en) * 2012-01-05 2013-07-11 Ixys Corporation Discrete power transistor package having solderless dbc to leadframe attach
DE102012216401A1 (de) * 2012-09-14 2014-04-10 Powersem GmbH Halbleiterbauelement
WO2015176985A1 (en) 2014-05-20 2015-11-26 Abb Technology Ag Semiconductor power module with low stray inductance
US9655265B2 (en) 2014-05-26 2017-05-16 Infineon Technologies Ag Electronic module
WO2016084241A1 (ja) 2014-11-28 2016-06-02 日産自動車株式会社 ハーフブリッジパワー半導体モジュール及びその製造方法
CN104617414B (zh) * 2015-01-19 2017-06-09 株洲南车时代电气股份有限公司 叠层功率端子
US10396057B2 (en) * 2015-02-13 2019-08-27 Nissan Arc, Ltd. Half-bridge power semiconductor module and method for manufacturing same
US9839146B2 (en) * 2015-10-20 2017-12-05 Cree, Inc. High voltage power module
US10347608B2 (en) * 2016-05-27 2019-07-09 General Electric Company Power module
CN109997223B (zh) * 2016-11-25 2023-06-30 日立能源瑞士股份公司 功率半导体模块
USD908632S1 (en) 2018-09-17 2021-01-26 Cree Fayetteville, Inc. Power module
DE102022205513A1 (de) 2022-05-31 2023-11-30 Vitesco Technologies GmbH Halbbrückenmodul mit isolierten Anschlussflächen zwischen zwei Transistor-Streifenabschnitten
DE102022205514A1 (de) 2022-05-31 2023-11-30 Vitesco Technologies GmbH Halbbrückenmodul mit parallel geführten Versorgungs-Zuleitungen verbunden mit isolierten Anschlussflächen zwischen zwei Streifenabschnitten sowie mit einem der Streifenabschnitte einer Leiterbahnschicht

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4042952A (en) * 1976-06-09 1977-08-16 Motorola, Inc. R. F. power transistor device with controlled common lead inductance
DE3241509A1 (de) * 1982-11-10 1984-05-10 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Leistungstransistor-modul
US4649416A (en) * 1984-01-03 1987-03-10 Raytheon Company Microwave transistor package
JPS6164144A (ja) * 1984-09-05 1986-04-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH0622265B2 (ja) * 1985-02-20 1994-03-23 株式会社日立製作所 半導体装置
US4920405A (en) * 1986-11-28 1990-04-24 Fuji Electric Co., Ltd. Overcurrent limiting semiconductor device
US4907068A (en) * 1987-01-21 1990-03-06 Siemens Aktiengesellschaft Semiconductor arrangement having at least one semiconductor body
DE3837920A1 (de) * 1988-11-09 1990-05-10 Semikron Elektronik Gmbh Halbleiterelement
DE3937045A1 (de) * 1989-11-07 1991-05-08 Abb Ixys Semiconductor Gmbh Leistungshalbleitermodul
US5172215A (en) * 1990-03-06 1992-12-15 Fuji Electric Co., Ltd. Overcurrent-limiting type semiconductor device
JP2656416B2 (ja) * 1991-12-16 1997-09-24 三菱電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法、並びに半導体装置に用いられる複合基板および複合基板の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7862272B2 (en) 2004-05-31 2011-01-04 Piolax Inc. Clip
EP1722413A2 (en) 2005-05-10 2006-11-15 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Terminal connection structure for semiconductor device
US7633166B2 (en) 2005-05-10 2009-12-15 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Terminal connection structure for semiconductor device
JP2016122869A (ja) * 2009-05-14 2016-07-07 ローム株式会社 半導体装置
JP2011097053A (ja) * 2009-10-30 2011-05-12 General Electric Co <Ge> インダクタンスを低減した電力モジュール組立体
JP2016042562A (ja) * 2014-08-19 2016-03-31 株式会社東芝 半導体モジュール
US9881906B2 (en) 2014-08-19 2018-01-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor module
CN110199388A (zh) * 2017-01-13 2019-09-03 科锐费耶特维尔股份有限公司 用于并联功率装置的具有低电感和快速切换的高功率多层模块
CN110199388B (zh) * 2017-01-13 2024-01-30 沃孚半导体公司 用于并联功率装置的具有低电感和快速切换的高功率多层模块

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DE69323823D1 (de) 1999-04-15
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EP0588094B1 (en) 1999-03-10

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