JPH0669235U - 光ファイバ母材の焼結炉 - Google Patents

光ファイバ母材の焼結炉

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Publication number
JPH0669235U
JPH0669235U JP1749493U JP1749493U JPH0669235U JP H0669235 U JPH0669235 U JP H0669235U JP 1749493 U JP1749493 U JP 1749493U JP 1749493 U JP1749493 U JP 1749493U JP H0669235 U JPH0669235 U JP H0669235U
Authority
JP
Japan
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optical fiber
fiber preform
furnace body
furnace
sintering furnace
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Pending
Application number
JP1749493U
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English (en)
Inventor
文雄 大竹
真一 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Priority to JP1749493U priority Critical patent/JPH0669235U/ja
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  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多孔質の光ファイバ母材を均一に加熱でき、
脱OH基剤を効果的に入れることができるものを提供す
る。 【構成】 複数の高温加熱体31,32,33を処理す
べき光ファイバ母材1の周りに炉体2の軸方向に並べ、
これらの最上端から最下端に至る全高さが、処理すべき
光ファイバ母材の長さより大きく設定される。炉体2内
が均一に加熱されるよう上方の加熱体ほど低い温度に調
整される。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案は光ファイバ母材の焼結炉、特に均一加熱ができ、脱水剤が入りやす く効率的な焼結が可能な光ファイバ母材の焼結炉に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図2について従来の光ファイバ母材の焼結炉を説明する。 VAD法における光ファイバ母材1はスートの堆積による生成の過程でかなり のOH基を含む多孔質のものになり、このため線引きして光ファイバを製造する 前に、この多孔質の光ファイバ母材1からOH基を排脱して透明ガラス化するい わゆる脱水焼結の工程が取られる。
【0003】 この工程は図2に示すように多孔質の光ファイバ母材1を炉体102内で回転 しつつ加熱し、図示のように塩素(Cl2 )を炉体102内に導入して下記の化 学反応により母材1内のOH基を除くものである。 Si−2OH+Cl2 → Si−O2 +2HCl
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら焼結炉の場合は、1500℃にも達する高温に耐えられる加熱体 101として材質はMoSi2 、あるいはCSi4 しかなく、しかもこれらの材 料は高価で長大な単一の加熱装置として作ることが困難なため、従来は図2に明 示するように光ファイバ母材1の長さを十分カバーするものが得られず、このた め炉体102内の温度分布が上方ほど高い、いわゆる温度傾斜のある傾斜型加熱 炉にならざるを得ないものであった。
【0005】 この傾斜型の従来炉の場合は光ファイバ母材1には回転のみならず炉体2内の 上下昇降運動も与えて、その均一な加熱および脱OH基処理剤の入り込みが計ら れたが、上述した加熱体101の軸方向の長さの短さのために所期の目的が十分 達せられなかったのである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この考案は上述の課題を解決するためになされたものであって、その解決手段 は、ほぼ中空円柱状をなし、多孔質の光ファイバ母材をその中心軸線位置に回転 可能に吊架するようにされた炉体と、前記光ファイバ母材の周囲に、前記炉体の 軸方向に複数個配置され、その最上端部から最下端部までの高さが前記光ファイ バ母材の同じ軸方向の高さよりも大きくなるように設けられた高温加熱体とを有 する光ファイバ母材の焼結炉である。
【0007】
【作用】
複数の加熱体の加熱温度を上方のもの程低くなるように調整することにより、 炉体内の温度分布を均一にすることが可能となり、脱OH基剤が十分入り易くな る。
【0008】
【実施例】
図1についてこの考案の一実施例装置を説明する。この装置において図2につ いて既に説明したものは説明を省略する。この考案の特徴的構成は、光ファイバ 母材1の周りに配設される高温加熱体3が、炉体2の軸方向に並ぶ複数の、この 実施例では3個の高温加熱体31,32および33から成り、その最上端から最 下端に至る全高さが、処理すべき光ファイバ母材1の長さより大きくなるように 設定されていることである。
【0009】 高温加熱体3が全体として均一に炉体2内を加熱するようにするために、各高 温加熱体31,32,33は上の加熱体程低い温度に加熱するようにされる。そ のための装置は図示していないが、熱電対などの温度測定手段と組み合わせた簡 単なプロセス制御装置であるから当該技術者にとっては容易であろう。炉体2内 が均一に加熱される結果、脱OH基剤を光ファイバ母材1内に効果的に浸透させ ることができる。
【0010】 この考案装置の場合は、高温加熱体の最上端から最下端に至る全高さが、処理 すべき光ファイバ母材1の長さより大きく設定されて光ファイバ母材1を均一に 加熱するように構成されているから、処理すべき光ファイバ母材1を工程中昇降 させる必要はなく、単に回転させるだけで十分である。
【0011】
【考案の効果】
この考案によれば、炉体内に複数の高温加熱体が配設されているため、これら 複数の加熱体の加熱温度を上方のもの程低くなるように調整することにより、炉 体内の温度分布を均一にすることが可能となり、脱OH基剤を効果的に入れるこ とができる効果がある。 また高温加熱体の最上端から最下端に至る全高さが、処理すべき光ファイバ母 材の長さより大きく設定されて光ファイバ母材を均一に加熱するように構成され ているから、処理すべき光ファイバ母材を工程中昇降させる必要はなく、単に回 転させるだけでよい好都合な点もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の一実施例装置を示す側断面図であ
る。
【図2】従来の光ファイバ母材の焼結炉を示す側断面図
である。
【符号の説明】
1 光ファイバ母材 2 炉体 3,31,32,33 高温加熱体

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ほぼ中空円柱状をなし、多孔質の光ファ
    イバ母材(1)をその中心軸線位置に回転可能に吊架す
    るようにされた炉体(2)と、前記光ファイバ母材
    (1)の周囲に、前記炉体(2)の軸方向に複数個配置
    され、その最上端部から最下端部までの高さが前記光フ
    ァイバ母材(1)の同じ軸方向の高さよりも大きくなる
    ように設けられた高温加熱体(3)とを有する光ファイ
    バ母材の焼結炉。
JP1749493U 1993-03-17 1993-03-17 光ファイバ母材の焼結炉 Pending JPH0669235U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10310444A (ja) * 1997-05-01 1998-11-24 Fujikura Ltd 光ファイバ用母材製造用加熱炉

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10310444A (ja) * 1997-05-01 1998-11-24 Fujikura Ltd 光ファイバ用母材製造用加熱炉

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