JPS6230636A - 光フアイバ母材のガラス化方法 - Google Patents
光フアイバ母材のガラス化方法Info
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- JPS6230636A JPS6230636A JP16803585A JP16803585A JPS6230636A JP S6230636 A JPS6230636 A JP S6230636A JP 16803585 A JP16803585 A JP 16803585A JP 16803585 A JP16803585 A JP 16803585A JP S6230636 A JPS6230636 A JP S6230636A
- Authority
- JP
- Japan
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- preform
- porous glass
- base material
- glass base
- optical fiber
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- Materials Engineering (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はＶＡＤ法により合成したゲルマニウムをドープ
してなる多孔質ガラス母材をガラス化するに際し、該多
孔質ガラス母材の外周部に長手方向に均一な厚さを有す
るクラフト層を形成する光ファイバ母材のガラス化方法
に関するものである。
してなる多孔質ガラス母材をガラス化するに際し、該多
孔質ガラス母材の外周部に長手方向に均一な厚さを有す
るクラフト層を形成する光ファイバ母材のガラス化方法
に関するものである。
コア及び該コアのまわりに該コアより屈折率の低いクラ
ッド層を存する光ファイバ母材を製造する一つの方法と
して、まずゲルマニウム（ガラスの屈折率を高めるドー
プ材料）をドープしてなる多孔質ガラス母材を既知のＶ
ＡＤ法により合成し、これを塩素を含む雰囲気で加熱し
透明ガラス化し、該透明ガラス化時に下記の反応により
前記多孔質ガラス母材の表面からゲルマニウムを揮散さ
せクラッド層を形成する方法が従来から試みられている
。この反応とは以下の通りである。
ッド層を存する光ファイバ母材を製造する一つの方法と
して、まずゲルマニウム（ガラスの屈折率を高めるドー
プ材料）をドープしてなる多孔質ガラス母材を既知のＶ
ＡＤ法により合成し、これを塩素を含む雰囲気で加熱し
透明ガラス化し、該透明ガラス化時に下記の反応により
前記多孔質ガラス母材の表面からゲルマニウムを揮散さ
せクラッド層を形成する方法が従来から試みられている
。この反応とは以下の通りである。
ＧｅＯ＊ ＋ ２ Ｃ１ｚ ＧｅＣＩａ ＋
Ｏｔ−”’−＋１）（１）Ｑ反応により多孔質ガラス母
材のガラス化と、ゲルマニウムの揮散によるクラッド層
の形成と、さらには塩素の脱水効果により多孔質ガラス
母材からの脱水も同時に行なう。しかしながらこの方法
では第３図（ロ）に示す如くコアの周辺に裾引き８．８
ができて明確なりランド層ができにくい。
Ｏｔ−”’−＋１）（１）Ｑ反応により多孔質ガラス母
材のガラス化と、ゲルマニウムの揮散によるクラッド層
の形成と、さらには塩素の脱水効果により多孔質ガラス
母材からの脱水も同時に行なう。しかしながらこの方法
では第３図（ロ）に示す如くコアの周辺に裾引き８．８
ができて明確なりランド層ができにくい。
そこで、本発明者等は塩素の代わりに酸素をキャリアガ
スとする塩化チオニルを含む雰囲気下で前記多孔質ガラ
ス母材の脱水、ゲルマニウムの揮散によるクラッド層の
形成を試みた。結果は第３図（イ）に示すようにクラッ
ド層を作ることができなかった。
スとする塩化チオニルを含む雰囲気下で前記多孔質ガラ
ス母材の脱水、ゲルマニウムの揮散によるクラッド層の
形成を試みた。結果は第３図（イ）に示すようにクラッ
ド層を作ることができなかった。
そこでさらに不活性ガス、例えばＨｅ、、Ａｒｓ Ｎｔ
等をキャリアガスとする塩化チオニルを含む雰囲気で前
記多孔質ガラス母材の脱水、ゲルマニウムの揮散を行っ
た。この方法では第３図（ハ）のようにコア１のまわり
に明確なりラッド層２は形成できたものの、前記多孔質
ガラス母材の長手方向のガラス化時の熱履歴が異なるた
め（加熱炉内の温度分布が均一でないこと等に起因する
）、ガラス化による多孔質ガラス母材の粒子表面積の減
少速度が母材の長手方向において一定とならず、すなわ
ち、前記（１）の反応が完了するまでの時間が前記母材
の長手方向に一定でないため、長手方向に均一な厚さの
クラッド層を形成するには至らなかった。
等をキャリアガスとする塩化チオニルを含む雰囲気で前
記多孔質ガラス母材の脱水、ゲルマニウムの揮散を行っ
た。この方法では第３図（ハ）のようにコア１のまわり
に明確なりラッド層２は形成できたものの、前記多孔質
ガラス母材の長手方向のガラス化時の熱履歴が異なるた
め（加熱炉内の温度分布が均一でないこと等に起因する
）、ガラス化による多孔質ガラス母材の粒子表面積の減
少速度が母材の長手方向において一定とならず、すなわ
ち、前記（１）の反応が完了するまでの時間が前記母材
の長手方向に一定でないため、長手方向に均一な厚さの
クラッド層を形成するには至らなかった。
このように従来においては、ＶＡＤ法により合成したゲ
ルマニウムをドープしてなる多孔質ガラス母材を、ガラ
ス化と同時に該多孔質ガラス母材の外周部からゲルマニ
ウムを揮散させクラッド層を形成しようという試みはあ
っても成功には至っていない。
ルマニウムをドープしてなる多孔質ガラス母材を、ガラ
ス化と同時に該多孔質ガラス母材の外周部からゲルマニ
ウムを揮散させクラッド層を形成しようという試みはあ
っても成功には至っていない。
Ｃ発明の目的〕
前記問題に鑑み本発明の目的は、ＶＡＤ法により合成し
てなるゲルマニウム入り多孔質ガラス母材を透明ガラス
化するに際し、該透明ガラス化と同時に前記多孔質ガラ
ス母材の外周部からゲルマニウムを揮散せしめ、前記多
孔質ガラス母材の外周部に長手方向に均一な厚さのクラ
ッド層を容易に形成できる方法を提供することにある。
てなるゲルマニウム入り多孔質ガラス母材を透明ガラス
化するに際し、該透明ガラス化と同時に前記多孔質ガラ
ス母材の外周部からゲルマニウムを揮散せしめ、前記多
孔質ガラス母材の外周部に長手方向に均一な厚さのクラ
ッド層を容易に形成できる方法を提供することにある。
前記目的を達成すべく本発明は、ＶＡＤ法により合成し
たゲルマニウムをドープしてなる多孔質ガラス母材を塩
化物を含む無酸素雰囲気でガラス化して、前記多孔質ガ
ラス母材の外周部から前記ゲルマニウムを揮散させて前
記多孔質ガラス母材の外周部にクラッド層を形成する光
ファイバ母材のガラス化方法において、前記ガラス化に
先だち前記多孔質ガラス母材を予備加熱してその収縮率
を０．１〜０．７にせしめ、しかる後前記塩化物を含む
無酸素雰囲気でガラス化することを特徴とするものであ
る。
たゲルマニウムをドープしてなる多孔質ガラス母材を塩
化物を含む無酸素雰囲気でガラス化して、前記多孔質ガ
ラス母材の外周部から前記ゲルマニウムを揮散させて前
記多孔質ガラス母材の外周部にクラッド層を形成する光
ファイバ母材のガラス化方法において、前記ガラス化に
先だち前記多孔質ガラス母材を予備加熱してその収縮率
を０．１〜０．７にせしめ、しかる後前記塩化物を含む
無酸素雰囲気でガラス化することを特徴とするものであ
る。
本発明の実施例を図を参照して詳細に説明する。
本発明においては、まずゲルマニウム（ガラスの屈折率
を高める材料）をドープしてなる多孔質ガラス母材３を
ＶＡ［ｌ法により合成する。これを抵抗加熱炉４に囲ま
れてなる石英製の炉心管５に挿入し、この多孔質ガラス
母材３がガラス化しないように注意しながら予備加熱し
、ガラス化後の密度に対してその密度の比が０．１〜０
．７になるように収縮せしめる。ここで前記比を収縮率
と呼ぶことにし次のように定義する。
を高める材料）をドープしてなる多孔質ガラス母材３を
ＶＡ［ｌ法により合成する。これを抵抗加熱炉４に囲ま
れてなる石英製の炉心管５に挿入し、この多孔質ガラス
母材３がガラス化しないように注意しながら予備加熱し
、ガラス化後の密度に対してその密度の比が０．１〜０
．７になるように収縮せしめる。ここで前記比を収縮率
と呼ぶことにし次のように定義する。
収縮率＝加熱収縮後の密度／ガラス化後の密度向、多孔
質ガラス母材３を前記の女「＜収縮するにあたり、炉心
管５の中にはヘリウム、酸素及び塩化チオニルを流し多
孔質ガラス母材３から脱泡、脱水を行ってもよいが、こ
の予備加熱工程では前記ガスによる雰囲気は不可欠の条
件ではない。
質ガラス母材３を前記の女「＜収縮するにあたり、炉心
管５の中にはヘリウム、酸素及び塩化チオニルを流し多
孔質ガラス母材３から脱泡、脱水を行ってもよいが、こ
の予備加熱工程では前記ガスによる雰囲気は不可欠の条
件ではない。
このようにして多孔質ガラス母材３を収縮率０．１〜０
．７の範囲に収縮せしめたら、次にこれをヘリウムと、
塩化チオニル等の塩化物を含む無酸素雰囲気の炉心管５
内で前記抵抗加熱炉３により約１４００℃に加熱して透
明ガラス化する。
．７の範囲に収縮せしめたら、次にこれをヘリウムと、
塩化チオニル等の塩化物を含む無酸素雰囲気の炉心管５
内で前記抵抗加熱炉３により約１４００℃に加熱して透
明ガラス化する。
このようにゲルマニウムをドープしてなる多孔質ガラス
母材３を塩化物を含む無酸素雰囲気で透明ガラス化する
前に予備加熱してその収縮率を０゜１〜０．７にせしめ
ると、該多孔質ガラス母材３から脱水が充分行われると
同時に、多孔質ガラス母材３の外周部に該多孔質ガラス
母材３の長手方向にわたって均一な厚さを有する明確な
るクラッドＮ２を形成することができた。その理由は本
発明にあっては予め多孔質ガラス母材３を収縮したがた
めに還元作用を有する塩化物が、前記多孔質ガラス母材
３内に収縮前の多孔質ガラス母材３に対してより入り込
みにくくな°す、その結果前述した（１）の反応がゆる
やかに行われ、さらに既に収縮が前工程である程度進ん
でいるため、透明ガラス化が速やかに進行する。すなわ
ち、前述した（１）の反応が多孔質ガラス母材３の長手
方向に一定速度で進行し、もってこの反応の停止が均一
に完了する。
母材３を塩化物を含む無酸素雰囲気で透明ガラス化する
前に予備加熱してその収縮率を０゜１〜０．７にせしめ
ると、該多孔質ガラス母材３から脱水が充分行われると
同時に、多孔質ガラス母材３の外周部に該多孔質ガラス
母材３の長手方向にわたって均一な厚さを有する明確な
るクラッドＮ２を形成することができた。その理由は本
発明にあっては予め多孔質ガラス母材３を収縮したがた
めに還元作用を有する塩化物が、前記多孔質ガラス母材
３内に収縮前の多孔質ガラス母材３に対してより入り込
みにくくな°す、その結果前述した（１）の反応がゆる
やかに行われ、さらに既に収縮が前工程である程度進ん
でいるため、透明ガラス化が速やかに進行する。すなわ
ち、前述した（１）の反応が多孔質ガラス母材３の長手
方向に一定速度で進行し、もってこの反応の停止が均一
に完了する。
その結果仮に多孔質ガラス母材３にあってガラス化時そ
の長手方向に多少の熱履歴の相違等があっても長手方向
に均一なるクラッド層２が形成できるものと推定される
。これに対して従来の方法にあっては、多孔質ガラス母
材３がなんら収縮していないため塩化物が急激に前記多
孔質ガラス母材３内に取り込まれ、前記（１）の反応が
急激に起こり、この反応の完了までの時間やその度合が
多孔質ガラス母材３の長手方向において異なる。その結
果母材長手方向のゲルマニウムの揮散にばらつきが生じ
、均一なるクラッド層２を作ることができない、と考え
られる。尚、ＶＡＤ法により多孔質ガラス母材３を合成
する際、堆積面温度を高めると予め収縮した多孔質ガラ
ス母材３を得ることができるが、この方法では良好な屈
折率分布が得られず不適であった。
の長手方向に多少の熱履歴の相違等があっても長手方向
に均一なるクラッド層２が形成できるものと推定される
。これに対して従来の方法にあっては、多孔質ガラス母
材３がなんら収縮していないため塩化物が急激に前記多
孔質ガラス母材３内に取り込まれ、前記（１）の反応が
急激に起こり、この反応の完了までの時間やその度合が
多孔質ガラス母材３の長手方向において異なる。その結
果母材長手方向のゲルマニウムの揮散にばらつきが生じ
、均一なるクラッド層２を作ることができない、と考え
られる。尚、ＶＡＤ法により多孔質ガラス母材３を合成
する際、堆積面温度を高めると予め収縮した多孔質ガラ
ス母材３を得ることができるが、この方法では良好な屈
折率分布が得られず不適であった。
以下に本発明の具体例を示す。尚使用したゲルマニウム
ドープド多孔質ガラス母材３はすべて既知のＶＡＤ法に
より合成したものである。
ドープド多孔質ガラス母材３はすべて既知のＶＡＤ法に
より合成したものである。
具体例−１
前記多孔質ガラス母材３をまず炉内最高温度が１３００
〜１５００℃（適温は約１４００℃）でその前後に適当
な温度分布を有する抵抗加熱炉４により囲まれた石英製
の炉心管５内に毎分１００〜１０００＋ａｍ／１ｌｌｉ
ｎ（最適値７００ｍｍ／＊ｆｎ ）の速さで一度昇降さ
せ、前記多孔質ガラス母材３の収縮率を０．４にせしめ
た。
〜１５００℃（適温は約１４００℃）でその前後に適当
な温度分布を有する抵抗加熱炉４により囲まれた石英製
の炉心管５内に毎分１００〜１０００＋ａｍ／１ｌｌｉ
ｎ（最適値７００ｍｍ／＊ｆｎ ）の速さで一度昇降さ
せ、前記多孔質ガラス母材３の収縮率を０．４にせしめ
た。
ここで前記炉心管５内にはヘリウム、塩化チオニルおよ
び酸素を流しておいたが、これらガスは無くてもよいが
、予め脱水処理を行っておく意味からあった方が好まし
い、尚前述の如くヘリウムと塩化チオニルを流す場合、
酸素は不可欠である。
び酸素を流しておいたが、これらガスは無くてもよいが
、予め脱水処理を行っておく意味からあった方が好まし
い、尚前述の如くヘリウムと塩化チオニルを流す場合、
酸素は不可欠である。
このように多孔質ガラス母材３を収縮せしめたらこれを
前記炉心管５内に再度１８０ｍｍ／＋ｚｉｎの速度で下
降せしめて透明ガラス化した。このとき前記炉心管５内
にはヘリウム４Ｑ ｌ ／ｗｉｎ、塩化チオニル０．５
１ ／ｌｌｌ１ｎを流しておいた。このようにして得た
光ファイバ母材におけるクラッド外径／コア外径の比率
を前記光ファイバ母材の長手方向にわたって調べたら第
１図の○印で示す如く長手方向に均一な分布になった。
前記炉心管５内に再度１８０ｍｍ／＋ｚｉｎの速度で下
降せしめて透明ガラス化した。このとき前記炉心管５内
にはヘリウム４Ｑ ｌ ／ｗｉｎ、塩化チオニル０．５
１ ／ｌｌｌ１ｎを流しておいた。このようにして得た
光ファイバ母材におけるクラッド外径／コア外径の比率
を前記光ファイバ母材の長手方向にわたって調べたら第
１図の○印で示す如く長手方向に均一な分布になった。
具体例−２
前記多孔質ガラス母材３をまず炉内最高温度を約１１０
０℃に設定した抵抗加熱炉４により囲まれた石英製の炉
心管５内で予備加熱してその収縮率を０．７にせしめた
。ここで前記炉心管５内にはなんらガスは流さなかった
。
０℃に設定した抵抗加熱炉４により囲まれた石英製の炉
心管５内で予備加熱してその収縮率を０．７にせしめた
。ここで前記炉心管５内にはなんらガスは流さなかった
。
このようにして多孔質ガラス母材３を収縮せしめたらこ
れを炉内最高温度を約１４００℃に設定した前記炉心管
５内に１５０ｍｍ／ｗｉｎの速度で下降せしめて透明ガ
ラス化した。このとき前記炉心管５内は前記具体例−１
と同様に無酸素雰囲気とし、かつヘリウム４Ｑ ｊ２
／ｗｉｎ、塩化チオニル０．５ Ｉｔ ／ｗｉｎを流し
ておいた。このようにして得た光ファイバ母材における
クラッド外径／コア外径の比率を前記光ファイバ母材の
長手方向にわたって調べたら第１図の０印で示すごとく
長手方向に均一な分布になった。
れを炉内最高温度を約１４００℃に設定した前記炉心管
５内に１５０ｍｍ／ｗｉｎの速度で下降せしめて透明ガ
ラス化した。このとき前記炉心管５内は前記具体例−１
と同様に無酸素雰囲気とし、かつヘリウム４Ｑ ｊ２
／ｗｉｎ、塩化チオニル０．５ Ｉｔ ／ｗｉｎを流し
ておいた。このようにして得た光ファイバ母材における
クラッド外径／コア外径の比率を前記光ファイバ母材の
長手方向にわたって調べたら第１図の０印で示すごとく
長手方向に均一な分布になった。
尚、前記具体例−１及び具体例−２における予備加熱方
法の他にも、例えばＶＡＤ法により多孔質ガラス母材３
を形成する際に合成用バーナの上段に予備加熱用のバー
ナを設け、多孔質ガラス母材３の合成と予備加熱を同時
に行う方法もある。また予備加熱用の加熱炉４と透明ガ
ラス化用加熱炉４を別個に設けて各々を別工程でやって
もよい。−さらに加熱炉としては本実施例の抵抗加熱炉
４以外にも高周波加熱炉、カーボン加熱炉又はシリコニ
ント加熱炉等が使用できる。
法の他にも、例えばＶＡＤ法により多孔質ガラス母材３
を形成する際に合成用バーナの上段に予備加熱用のバー
ナを設け、多孔質ガラス母材３の合成と予備加熱を同時
に行う方法もある。また予備加熱用の加熱炉４と透明ガ
ラス化用加熱炉４を別個に設けて各々を別工程でやって
もよい。−さらに加熱炉としては本実施例の抵抗加熱炉
４以外にも高周波加熱炉、カーボン加熱炉又はシリコニ
ント加熱炉等が使用できる。
また多孔質ガラス母材３の収縮率を０．１〜０．７に限
定する理由は、０．７より大きいと、多孔質ガラス母材
３の一部が焼結してしまい、その結果塩化物が多孔質ガ
ラス母材３の中に入っていくことができず、第１図のム
印のようにクラッド１ｌｉ２の形成がほとんどできなく
なる。つまりゲルマニウムの揮散もさらには脱水も行う
ことができなくなる。一方収縮率が０．１だと第１図の
☆印の如くまだかなり安定した厚さのクラッド層２を形
成できるが、０．０５になると第１図のΔ印が示すよう
に多孔質ガラス母材３のガラス化時の熱履歴が一般に安
定しない母材両端部で均一な厚さのクラッド層２を形成
できない。つまり収縮率が０．１未満になると多孔質ガ
ラス母材３内に塩化物のガスが急激に入ってしまい、前
述の＋１１の反応の完了までの時間や度合が不安定で、
形成されるクラッドＭ２の厚さは母材３の長手方向に均
一にならない。
定する理由は、０．７より大きいと、多孔質ガラス母材
３の一部が焼結してしまい、その結果塩化物が多孔質ガ
ラス母材３の中に入っていくことができず、第１図のム
印のようにクラッド１ｌｉ２の形成がほとんどできなく
なる。つまりゲルマニウムの揮散もさらには脱水も行う
ことができなくなる。一方収縮率が０．１だと第１図の
☆印の如くまだかなり安定した厚さのクラッド層２を形
成できるが、０．０５になると第１図のΔ印が示すよう
に多孔質ガラス母材３のガラス化時の熱履歴が一般に安
定しない母材両端部で均一な厚さのクラッド層２を形成
できない。つまり収縮率が０．１未満になると多孔質ガ
ラス母材３内に塩化物のガスが急激に入ってしまい、前
述の＋１１の反応の完了までの時間や度合が不安定で、
形成されるクラッドＭ２の厚さは母材３の長手方向に均
一にならない。
前述の如く本発明によれば、ＶＡＤ法により合成されて
なるゲルマニウム入り多孔質ガラス母材を透明ガラス化
するに際し、該透明ガラス化と同時に前記多孔質ガラス
母材の外周部からゲルマニウムを揮散せしめ、前記多孔
質ガラス母材の外周部に長手方向に均一なりラッド層を
容易に形成できる。
なるゲルマニウム入り多孔質ガラス母材を透明ガラス化
するに際し、該透明ガラス化と同時に前記多孔質ガラス
母材の外周部からゲルマニウムを揮散せしめ、前記多孔
質ガラス母材の外周部に長手方向に均一なりラッド層を
容易に形成できる。
第１図は本発明で得られた光ファイバ母材及び比較例と
して挙げた光ファイバ母材のクラッド層の厚さ／コアの
半径の比を長手方向に調査した結果を示すグラフ、第２
図は本発明により多孔質ガラス母材を予備加熱する装置
の一実施例を示す概略図、第３図は従来方法により得ら
れる各光ファイバ母材の屈折率分布を示すグラフである
。 １〜コア ２〜クラッド層 ３〜多孔質ガラス母材
４〜抵抗加熱炉 ５〜炉心管第１図 長チオＩ旬杓べＬ 第２図 第３図
して挙げた光ファイバ母材のクラッド層の厚さ／コアの
半径の比を長手方向に調査した結果を示すグラフ、第２
図は本発明により多孔質ガラス母材を予備加熱する装置
の一実施例を示す概略図、第３図は従来方法により得ら
れる各光ファイバ母材の屈折率分布を示すグラフである
。 １〜コア ２〜クラッド層 ３〜多孔質ガラス母材
４〜抵抗加熱炉 ５〜炉心管第１図 長チオＩ旬杓べＬ 第２図 第３図
Claims (2)
- （１）ＶＡＤ法により合成したゲルマニウムをドープし
てなる多孔質ガラス母材を塩化物を含む無酸素雰囲気で
ガラス化して、前記多孔質ガラス母材の外周部から前記
ゲルマニウムを揮散させて前記多孔質ガラス母材の外周
部にクラッド層を形成する光ファイバ母材のガラス化方
法において、前記ガラス化に先だち前記多孔質ガラス母
材を予備加熱してその収縮率を０．１〜０．７にせしめ
、しかる後前記塩化物を含む無酸素雰囲気でガラス化す
ることを特徴とする光ファイバ母材のガラス化方法。 - （２）前記塩化物は塩化チオニルであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ母材のガラス
化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60168035A JPH0699163B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光フアイバ母材のガラス化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60168035A JPH0699163B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光フアイバ母材のガラス化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230636A true JPS6230636A (ja) | 1987-02-09 |
| JPH0699163B2 JPH0699163B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=15860609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60168035A Expired - Fee Related JPH0699163B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光フアイバ母材のガラス化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0699163B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6272536A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPH01118198A (ja) * | 1988-09-30 | 1989-05-10 | Casio Comput Co Ltd | 自動リズム伴奏装置 |
| US5090980A (en) * | 1989-04-11 | 1992-02-25 | U.S. Philips Corp. | Method of producing glass bodies with simultaneous doping and sintering |
| JP2019142746A (ja) * | 2018-02-21 | 2019-08-29 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5973443A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
-
1985
- 1985-07-30 JP JP60168035A patent/JPH0699163B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5973443A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6272536A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPH0416416B2 (ja) * | 1985-09-25 | 1992-03-24 | Asahi Glass Co Ltd | |
| JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPH01118198A (ja) * | 1988-09-30 | 1989-05-10 | Casio Comput Co Ltd | 自動リズム伴奏装置 |
| US5090980A (en) * | 1989-04-11 | 1992-02-25 | U.S. Philips Corp. | Method of producing glass bodies with simultaneous doping and sintering |
| JP2019142746A (ja) * | 2018-02-21 | 2019-08-29 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用母材の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0699163B2 (ja) | 1994-12-07 |
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