JPH0668159B2 - 金属ic基板の電着塗装方法 - Google Patents
金属ic基板の電着塗装方法Info
- Publication number
- JPH0668159B2 JPH0668159B2 JP8783188A JP8783188A JPH0668159B2 JP H0668159 B2 JPH0668159 B2 JP H0668159B2 JP 8783188 A JP8783188 A JP 8783188A JP 8783188 A JP8783188 A JP 8783188A JP H0668159 B2 JPH0668159 B2 JP H0668159B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- electrodeposition coating
- electrodeposition
- coating film
- unsaturated carboxylic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 76
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 71
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 68
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 42
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 13
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 5
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- -1 α-alkylstyrene Chemical compound 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical class CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC(=C)C1=CC=CC=C1 XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYAVCUNFWUJTHY-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(CC)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 CYAVCUNFWUJTHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOCCOC(=O)C=C RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 2-Methylaziridine Chemical compound CC1CN1 OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroacrylic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enamide;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(C)=O.CC(=C)C(N)=O JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIYWMWTZIFFMCO-UHFFFAOYSA-N 3-(2-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1=CC(=O)NC1=O YIYWMWTZIFFMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Natural products C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPVVIIKTKWMIGP-UHFFFAOYSA-N butyl 3-(3-butoxy-3-oxopropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCC HPVVIIKTKWMIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003940 butylamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical class CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- MDNFYIAABKQDML-UHFFFAOYSA-N heptyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CCCCCCCOC(=O)C(C)=C MDNFYIAABKQDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N heptyl prop-2-enoate Chemical class CCCCCCCOC(=O)C=C SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical class CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000398 iron phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K iron(3+) phosphate Chemical compound [Fe+3].[O-]P([O-])([O-])=O WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical class CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N octadecyl prop-2-enoate Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C FSAJWMJJORKPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylenedisulfotetramine Chemical compound C1N(S2(=O)=O)CN3S(=O)(=O)N1CN2C3 AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine group Chemical class C(CCC)N(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、金属IC基板上に電着塗装で絶縁層を形成す
る方法に関する。詳しくは、耐薬品性、耐熱性、電気絶
縁性等の諸性能に優れ、更に被塗物との密着性に優れた
塗膜を形成する金属IC基板の電着塗装方法に関する。
る方法に関する。詳しくは、耐薬品性、耐熱性、電気絶
縁性等の諸性能に優れ、更に被塗物との密着性に優れた
塗膜を形成する金属IC基板の電着塗装方法に関する。
(従来の技術) 従来、電着塗装は、自動車、アルミ建材、家庭電化製
品、事務機器等の防食や表面仕上げに広く実施され、各
種基材に適用されている。一方、エレクトロニクス分野
では、技術革新が目ざましく、特にIC基板において
は、高密度化、高品質化が急速になされており、より精
密で高度な技術開発が要求されている。この対象の一つ
に金属IC基板の表面に絶縁層を形成し、これに銅メッ
キを施してなる金属IC基板があり、加工の容易さ、寸
法安定性、放熱性等の特性において、他のセラミックベ
ース基板やポリマーベース基板に対し、非常に優れてい
ることが認められている。
品、事務機器等の防食や表面仕上げに広く実施され、各
種基材に適用されている。一方、エレクトロニクス分野
では、技術革新が目ざましく、特にIC基板において
は、高密度化、高品質化が急速になされており、より精
密で高度な技術開発が要求されている。この対象の一つ
に金属IC基板の表面に絶縁層を形成し、これに銅メッ
キを施してなる金属IC基板があり、加工の容易さ、寸
法安定性、放熱性等の特性において、他のセラミックベ
ース基板やポリマーベース基板に対し、非常に優れてい
ることが認められている。
しかしながら、金属IC基板の生産においては、信頼性
の高い高品質な製品を得るためには、複雑な多くの工程
が必要であり、工程の簡素化が問題となっている。この
工程簡素化の手段としてエッジ部やスルーホール部分の
被覆性に優れる電着塗装が注目されている。しかし、従
来の電着塗装では、高膜厚の電着塗膜の形成が困難であ
り、したがって、金属IC基板に要求される耐熱性、電
気絶縁性等の諸性能を十分に満足させるものがなく、そ
の改良が切望されているのが現実である。
の高い高品質な製品を得るためには、複雑な多くの工程
が必要であり、工程の簡素化が問題となっている。この
工程簡素化の手段としてエッジ部やスルーホール部分の
被覆性に優れる電着塗装が注目されている。しかし、従
来の電着塗装では、高膜厚の電着塗膜の形成が困難であ
り、したがって、金属IC基板に要求される耐熱性、電
気絶縁性等の諸性能を十分に満足させるものがなく、そ
の改良が切望されているのが現実である。
一方、陽極参加処理を行ったアルミニウムを有機ケイ素
化合物で処理した後、熱硬化性樹脂塗料中で電着塗装を
行う方法(特公昭52−30945号)が知られてい
る。
化合物で処理した後、熱硬化性樹脂塗料中で電着塗装を
行う方法(特公昭52−30945号)が知られてい
る。
この方法は、陽極酸化皮膜の微孔内に残存する酸根によ
る電着塗装時のトラブルを解消する目的で、陽極酸化処
理工程と電着塗装工程の中間に有機ケイ素化合物で処理
する工程を付加したものであるが、この中間処理後は水
洗を行った後に電着塗装しており、得られる電着塗膜厚
はせいぜい20μm程度であり、これ以上厚膜の電着塗
膜の形成は困難であった。
る電着塗装時のトラブルを解消する目的で、陽極酸化処
理工程と電着塗装工程の中間に有機ケイ素化合物で処理
する工程を付加したものであるが、この中間処理後は水
洗を行った後に電着塗装しており、得られる電着塗膜厚
はせいぜい20μm程度であり、これ以上厚膜の電着塗
膜の形成は困難であった。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、前記従来法の欠点を解消し、塗膜厚コ
ントロールが自由に出来、しかも従来法では得られなか
った高膜厚の電着塗膜の形成が可能で、かつ耐熱性、電
気絶縁性等の諸性能に優れる電着塗膜が形成できる金属
IC基板の電着塗装方法を提供することである。
ントロールが自由に出来、しかも従来法では得られなか
った高膜厚の電着塗膜の形成が可能で、かつ耐熱性、電
気絶縁性等の諸性能に優れる電着塗膜が形成できる金属
IC基板の電着塗装方法を提供することである。
(問題を解決するための手段) 本発明を概説すると、金属IC基板に電着塗装で耐熱絶
縁層を形成するにあたり、該基板を電着塗装前にA.グ
リシジル基を有する有機アルコキシシラン化合物とB.
アミノ基を有する有機アルコキシシラン化合物とからな
りA成分/B成分の配合モル比が0.05〜5.0であ
るプライマー組成物で表面処理し1〜10μmの乾燥塗
膜を形成した後、塗膜形成成分が、C.(a)α、β−
エチレン性不飽和カルボン酸2〜15重量%、(b)
α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のアルキルエステ
ル5〜85重量%、(c)α、β−エチレン性不飽和カ
ルボン酸のヒドロキシアルキル含有エステル3〜30重
量%、(d)下記構造式で示される単量体3〜30重量
%及び(e)その他共重合性単量体0〜60重量%を反
応させて得られる酸価5〜100を有するポリカルボン
酸樹脂45〜98重量%とD.メラミン−ホルムアルデ
ヒド系樹脂2〜55重量%とからなる電着樹脂液を電着
塗装する方法である。
縁層を形成するにあたり、該基板を電着塗装前にA.グ
リシジル基を有する有機アルコキシシラン化合物とB.
アミノ基を有する有機アルコキシシラン化合物とからな
りA成分/B成分の配合モル比が0.05〜5.0であ
るプライマー組成物で表面処理し1〜10μmの乾燥塗
膜を形成した後、塗膜形成成分が、C.(a)α、β−
エチレン性不飽和カルボン酸2〜15重量%、(b)
α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のアルキルエステ
ル5〜85重量%、(c)α、β−エチレン性不飽和カ
ルボン酸のヒドロキシアルキル含有エステル3〜30重
量%、(d)下記構造式で示される単量体3〜30重量
%及び(e)その他共重合性単量体0〜60重量%を反
応させて得られる酸価5〜100を有するポリカルボン
酸樹脂45〜98重量%とD.メラミン−ホルムアルデ
ヒド系樹脂2〜55重量%とからなる電着樹脂液を電着
塗装する方法である。
ただし、(d)の構造式は次の通りである。
Rは、水素原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基又
はハロゲン原子を示す。
はハロゲン原子を示す。
又は、 本発明者等の研究によると、特定のアルコキシシラン化
合物よりなるプライマー組成物で被覆層を形成すれば、
これが導電性を示ししかもその後の電着塗装により高膜
厚の電着塗膜が得られるという知見及び特定の構造式を
有するマレイミド類をα、β−エチレン性不飽和ポリカ
ルボン酸樹脂の合成時に単量体として併用したポリカル
ボン酸樹脂を塗膜形成成分として用いると、耐薬品性、
耐熱性、電気絶縁性等の性能に優れた電着塗膜が形成さ
れるという知見に基づき本発明を完成したのである。
合物よりなるプライマー組成物で被覆層を形成すれば、
これが導電性を示ししかもその後の電着塗装により高膜
厚の電着塗膜が得られるという知見及び特定の構造式を
有するマレイミド類をα、β−エチレン性不飽和ポリカ
ルボン酸樹脂の合成時に単量体として併用したポリカル
ボン酸樹脂を塗膜形成成分として用いると、耐薬品性、
耐熱性、電気絶縁性等の性能に優れた電着塗膜が形成さ
れるという知見に基づき本発明を完成したのである。
本発明をより詳細に説明すると、プライマー組成物とし
て使用する有機アルコキシシランとしては、A.グリシ
ジル基を有する有機アルコキシシラン及びB.アミノ基
を有する有機アルコキシシランを併用することを特徴と
する。
て使用する有機アルコキシシランとしては、A.グリシ
ジル基を有する有機アルコキシシラン及びB.アミノ基
を有する有機アルコキシシランを併用することを特徴と
する。
A.成分のグリシジル基を有する有機アルコキシシラン
としては、具体的には、3−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシランなどが使用できる。
としては、具体的には、3−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシランなどが使用できる。
又、B.成分のアミノ基を有する有機アルコキシシラン
化合物としては、N−(2−アミノエチル)3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリエトキシシランなどが使用できる。
化合物としては、N−(2−アミノエチル)3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリエトキシシランなどが使用できる。
本発明が特徴とするこのプライマー被覆層を形成するこ
とによって、電着塗装時に、均質でピンホールのない塗
膜形成を促進し、つきまわり性、クーロン収量が高く、
さらに、電着塗膜厚を数μmから数百μmまで任意にコ
ントロールすることが可能となり、したがって、耐電圧
の高い、信頼性のある絶縁層が得られる。
とによって、電着塗装時に、均質でピンホールのない塗
膜形成を促進し、つきまわり性、クーロン収量が高く、
さらに、電着塗膜厚を数μmから数百μmまで任意にコ
ントロールすることが可能となり、したがって、耐電圧
の高い、信頼性のある絶縁層が得られる。
本発明では、前記A、B成分の二種の有機アルコキシシ
ランの組成物をプライマーとして使用するが、その配合
比は、A成分/B成分(モル比)が0.05〜5.0の
範囲が適当である。この配合比が0.05未満の場合
は、プライマー層と電着塗膜および導電性物品との接着
力が十分でなく、一方5.0より大となると、プライマ
ー被覆の膜形成性が悪く、次の電着塗装の段階でこのプ
ライマー被覆層のリフティングが生起し易いため好まし
くない。
ランの組成物をプライマーとして使用するが、その配合
比は、A成分/B成分(モル比)が0.05〜5.0の
範囲が適当である。この配合比が0.05未満の場合
は、プライマー層と電着塗膜および導電性物品との接着
力が十分でなく、一方5.0より大となると、プライマ
ー被覆の膜形成性が悪く、次の電着塗装の段階でこのプ
ライマー被覆層のリフティングが生起し易いため好まし
くない。
本発明で使用するプライマー組成物の調製は、次のよう
にしてなされる。
にしてなされる。
容器に、A.成分のグリシジル基を有する有機アルコキ
シシラン化合物とB.成分のアミノ基を有する有機アル
コキシシラン化合物とを所定量仕込み、温度5〜60℃
にコントロールしながら発熱がなくなるまで撹拌を続け
て終了する。この際、親水性の有機溶剤、例えばエチル
アルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、n−ブチルアルコール等の一種又は二種以上
を任意の割合で添加することができるが、プライマー被
覆層の形成に好ましい配合量を選択する必要がある。
シシラン化合物とB.成分のアミノ基を有する有機アル
コキシシラン化合物とを所定量仕込み、温度5〜60℃
にコントロールしながら発熱がなくなるまで撹拌を続け
て終了する。この際、親水性の有機溶剤、例えばエチル
アルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、n−ブチルアルコール等の一種又は二種以上
を任意の割合で添加することができるが、プライマー被
覆層の形成に好ましい配合量を選択する必要がある。
このように調製したプライマー組成物を金属板に被覆す
る方法としては、浸漬塗装、スプレー塗装、静電塗装、
電着塗装、はけ塗り等の各種塗装方法が適用できる。
る方法としては、浸漬塗装、スプレー塗装、静電塗装、
電着塗装、はけ塗り等の各種塗装方法が適用できる。
プライマー組成物の固形分は、適用する塗装方法により
異なるが、一般的には、1〜50重量%、好ましくは5
〜30重量%に調製して使用する。
異なるが、一般的には、1〜50重量%、好ましくは5
〜30重量%に調製して使用する。
プライマー処理により金属板表面に形成する被覆膜厚
は、乾燥膜厚で1μm〜10μm、好ましくは、2μm
〜5μmが適当である。
は、乾燥膜厚で1μm〜10μm、好ましくは、2μm
〜5μmが適当である。
これは、プライマー被覆膜厚が1μm未満であると、本
発明が目的とする高膜厚の電着塗膜の形成が困難であ
り、一方、10μmより厚くなると電着塗膜が均一に形
成されにくい傾向が見られるためである。
発明が目的とする高膜厚の電着塗膜の形成が困難であ
り、一方、10μmより厚くなると電着塗膜が均一に形
成されにくい傾向が見られるためである。
該プライマー組成物を被覆した金属板は、これを5〜2
00℃、好ましくは、10〜150℃の温度で被覆層を
乾燥させる。
00℃、好ましくは、10〜150℃の温度で被覆層を
乾燥させる。
このようにしてプライマー被覆層を形成した金属板は、
次に電着塗装を行う。
次に電着塗装を行う。
本発明で使用する電着樹脂液は、塗膜形成成分がC.ポ
リカルボン酸樹脂とD.メラミン−ホルムアルデヒド系
樹脂とから成るものである。C.のポリカルボン酸樹脂
は、次に示す(a)〜(e)よりなる単量体組成を反応
させて調製される。
リカルボン酸樹脂とD.メラミン−ホルムアルデヒド系
樹脂とから成るものである。C.のポリカルボン酸樹脂
は、次に示す(a)〜(e)よりなる単量体組成を反応
させて調製される。
(a)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸2〜15重
量%、(b)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のア
ルキルエステル5〜85重量%、(c)α、β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキル含有エステ
ル3〜30重量%、(d)下記構造式で示される単量体
3〜30重量%及び(e)その他共重合性単量体0〜6
0重量%を反応させて得られる。(ただし、単量体の総
量は100重量%とする。) ただし、(d)の構造式は次の通りである。
量%、(b)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のア
ルキルエステル5〜85重量%、(c)α、β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキル含有エステ
ル3〜30重量%、(d)下記構造式で示される単量体
3〜30重量%及び(e)その他共重合性単量体0〜6
0重量%を反応させて得られる。(ただし、単量体の総
量は100重量%とする。) ただし、(d)の構造式は次の通りである。
Rは、水素原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基又
はハロゲン原子を示す。
はハロゲン原子を示す。
又は、 (a)成分のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸の配
合量が2重量%未満の場合は、ポリカルボン酸樹脂に十
分な水分散性を付与できず、一方15重量%より多くな
ると、電着塗膜の耐水性、耐アルカリ性等の性能が低下
するため好ましくない。
合量が2重量%未満の場合は、ポリカルボン酸樹脂に十
分な水分散性を付与できず、一方15重量%より多くな
ると、電着塗膜の耐水性、耐アルカリ性等の性能が低下
するため好ましくない。
(b)成分のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸アル
キルエステルは、本発明に係る電着樹脂液を安定な液と
して提供するために、又、電着時の造膜性を向上し、電
着を効率良く実現するために使用する。
キルエステルは、本発明に係る電着樹脂液を安定な液と
して提供するために、又、電着時の造膜性を向上し、電
着を効率良く実現するために使用する。
この配合量が5重量%未満では、電着樹脂液としての安
定性に劣り、通常実行される電着条件ではほとんど造膜
性を示さず、一方、85重量%より多い場合は、ポリカ
ルボン酸樹脂の主骨格を成すマレイミド系単量体に基づ
く耐熱性、電気絶縁性等の性能が十分にえられず好まし
くない。
定性に劣り、通常実行される電着条件ではほとんど造膜
性を示さず、一方、85重量%より多い場合は、ポリカ
ルボン酸樹脂の主骨格を成すマレイミド系単量体に基づ
く耐熱性、電気絶縁性等の性能が十分にえられず好まし
くない。
(c)成分のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒ
ドロキシアルキル含有エステルは、ポリカルボン酸樹脂
に架橋反応性を付与するために重要な成分であり、配合
量が3重量%未満の場合には、塗膜の架橋密度が不足し
て塗膜強度、耐熱性が悪くなり、一方30重量%より多
い場合には、塗膜が脆く、クラックが入り易くなって好
ましくない。
ドロキシアルキル含有エステルは、ポリカルボン酸樹脂
に架橋反応性を付与するために重要な成分であり、配合
量が3重量%未満の場合には、塗膜の架橋密度が不足し
て塗膜強度、耐熱性が悪くなり、一方30重量%より多
い場合には、塗膜が脆く、クラックが入り易くなって好
ましくない。
(d)成分の単量体は電着塗膜に優れた耐薬品性、耐熱
性、電気絶縁性を付与するために、全単量体組成の少な
くとも3重量%使用することが必要である。
性、電気絶縁性を付与するために、全単量体組成の少な
くとも3重量%使用することが必要である。
一方、30重量%より多くなると反応においてゲル化す
る傾向があり好ましくない。
る傾向があり好ましくない。
適当な(a)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸とし
ては、アクリル酸、α−クロロアクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、
シトラコン酸、メサコン酸等の単独又は混合物あるいは
少なくとも1個のカルボキシル基を有するそれらの官能
性誘導体例えば不飽和の重合性のジー又はポリ−カルボ
ン酸の部分的エステル又はアミドである。
ては、アクリル酸、α−クロロアクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、
シトラコン酸、メサコン酸等の単独又は混合物あるいは
少なくとも1個のカルボキシル基を有するそれらの官能
性誘導体例えば不飽和の重合性のジー又はポリ−カルボ
ン酸の部分的エステル又はアミドである。
(b)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のアルキル
エステルの例としては、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタク
リレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレー
ト、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタク
リレート、ヘプチルアクリレート、ヘプチルメタクリレ
ートなどがあり、アルキル基内に炭素原子約20までを
有する同様なエステルが使用できる。
エステルの例としては、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタク
リレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレー
ト、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタク
リレート、ヘプチルアクリレート、ヘプチルメタクリレ
ートなどがあり、アルキル基内に炭素原子約20までを
有する同様なエステルが使用できる。
(c)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒドロキ
シアルキル含有エステルとしては、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピル
アクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレン
グリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモ
ノメタクリレートなどがある。
シアルキル含有エステルとしては、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピル
アクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレン
グリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモ
ノメタクリレートなどがある。
(d)構造式、 ただし Rは、水素原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基又
はハロゲン原子を示す。
はハロゲン原子を示す。
又は、 で示される単量体としては、N−シクロヘキシルマレイ
ミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニ
ルマレイミド、N−2−エチルフェニルマレイミド、N
−2−クロロフェニルマレイミド等がある。
ミド、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニ
ルマレイミド、N−2−エチルフェニルマレイミド、N
−2−クロロフェニルマレイミド等がある。
(e)その他の共重合性単量体としては、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メ
チロールメタクリルアミド、アルコキシメチロールアク
リルアミド、アルコキシメチロールメタクリルアミド、
ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミ
ドなどのα、β−エチレン性不飽和カルボン酸のアミド
若しくはアミド誘導体、スチレン、α−アルキルスチレ
ン、α−クロロスチレン、ビニルトルエン、アクリロニ
トリル、酢酸ビニル等がある。
ド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メ
チロールメタクリルアミド、アルコキシメチロールアク
リルアミド、アルコキシメチロールメタクリルアミド、
ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミ
ドなどのα、β−エチレン性不飽和カルボン酸のアミド
若しくはアミド誘導体、スチレン、α−アルキルスチレ
ン、α−クロロスチレン、ビニルトルエン、アクリロニ
トリル、酢酸ビニル等がある。
ポリカルボン酸樹脂は水またはイソプロピルアルコー
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルなどの親水性溶剤を用
い、重合温度40〜130℃で乳化重合、懸濁重合また
は溶液重合により調製される。この際必要に応じ、過硫
酸アンモニウム、過硫酸カリウム、α,α′−アゾビス
イソブチロニトリル、4,4′−アゾビス−4−シアノ
バレリン酸、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーオキシ
−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシベ
ンゾエートなどの重合開始剤、塩化第I鉄などの還元
剤、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、アルキルエー
テルスルホネートなどの界面活性剤が用いられる。該化
合物は単独あるいは2種以上の混合物として用いること
ができる。
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルなどの親水性溶剤を用
い、重合温度40〜130℃で乳化重合、懸濁重合また
は溶液重合により調製される。この際必要に応じ、過硫
酸アンモニウム、過硫酸カリウム、α,α′−アゾビス
イソブチロニトリル、4,4′−アゾビス−4−シアノ
バレリン酸、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーオキシ
−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシベ
ンゾエートなどの重合開始剤、塩化第I鉄などの還元
剤、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、アルキルエー
テルスルホネートなどの界面活性剤が用いられる。該化
合物は単独あるいは2種以上の混合物として用いること
ができる。
ポリカルボン酸樹脂の酸価は5〜100mgKOHが適当で
ある。酸価が5mgKOH未満の場合には電着樹脂液として
十分な水分散性が得られず、また電気泳動性も劣り好ま
しくない。一方、100mgKOHより大きくなると塗膜の
耐水性、耐アルカリ性などの化学的性質が著しく低下し
好ましくない。
ある。酸価が5mgKOH未満の場合には電着樹脂液として
十分な水分散性が得られず、また電気泳動性も劣り好ま
しくない。一方、100mgKOHより大きくなると塗膜の
耐水性、耐アルカリ性などの化学的性質が著しく低下し
好ましくない。
本発明の電着樹脂液におけるC成分のポリカルボン酸樹
脂とD成分のメラミン−ホルムアルデヒド系樹脂の配合
割合は、C成分が45〜98重量%、D成分が2〜55
重量%の範囲で使用するのが適当である。メラミン−ホ
ルムアルデヒド系樹脂としては、メラミン樹脂、特に、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等
の低級アルコールの一種もしくは二種以上により少なく
とも部分的にエーテル化されたメチロールメラミンの使
用が好ましい。
脂とD成分のメラミン−ホルムアルデヒド系樹脂の配合
割合は、C成分が45〜98重量%、D成分が2〜55
重量%の範囲で使用するのが適当である。メラミン−ホ
ルムアルデヒド系樹脂としては、メラミン樹脂、特に、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等
の低級アルコールの一種もしくは二種以上により少なく
とも部分的にエーテル化されたメチロールメラミンの使
用が好ましい。
メラミンーホルムアルデヒド系樹脂が、2重量%未満の
場合は、塗膜の架橋が十分になされず塗膜性能が低下す
るため、一方55重量%より多い場合は、塗膜が脆くな
り好ましくない。
場合は、塗膜の架橋が十分になされず塗膜性能が低下す
るため、一方55重量%より多い場合は、塗膜が脆くな
り好ましくない。
本発明で使用する電着樹脂液は、例えば次の方法で調製
する。
する。
かくはん機、温度計を備えた反応容器に、ポリカルボン
酸樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂及び有機溶
剤を投入した後、かくはんを行ない十分に混合したの
ち、塩基性化合物を添加し、ポリカルボン酸樹脂分子中
に存在するカルボキシ基の少なくとも一部を中和し、水
に分散可能な形態とした後、これに脱イオン水を加えて
適当な樹脂固形分濃度に希釈して電着樹脂液とする。
酸樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂及び有機溶
剤を投入した後、かくはんを行ない十分に混合したの
ち、塩基性化合物を添加し、ポリカルボン酸樹脂分子中
に存在するカルボキシ基の少なくとも一部を中和し、水
に分散可能な形態とした後、これに脱イオン水を加えて
適当な樹脂固形分濃度に希釈して電着樹脂液とする。
有機溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
イソブタノール、第2級ブタノール、第3級ブタノー
ル、ペンタノール等のようなアルコール類、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、第2級ブチルセロソルブ等のような
セロソルブ類等を使用する。
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
イソブタノール、第2級ブタノール、第3級ブタノー
ル、ペンタノール等のようなアルコール類、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、第2級ブチルセロソルブ等のような
セロソルブ類等を使用する。
使用しうる塩基性化合物としては、通常使用されるもの
であればよく、例えばアンモニア、あるいはモノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイ
ソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプ
ロピルアミン、モノブチルアミン類、ジブチルアミン
類、及びトリブチルアミン類等のような1級ないし3級
のアルキルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパ
ノールアミン、ジメチルアミノエタノール及びジエチル
アミノエタノール等のようなアルカノールアミン、エチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリア
ミン及びトリエチレンテトラミン等のようなアルキレン
ポリアミン、エチレンイミン及びプロピレンイミン等の
ようなアルキレンイミン、ピペラジン、ホルモリン、ピ
ラジン及びピリジン等がある。
であればよく、例えばアンモニア、あるいはモノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイ
ソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプ
ロピルアミン、モノブチルアミン類、ジブチルアミン
類、及びトリブチルアミン類等のような1級ないし3級
のアルキルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパ
ノールアミン、ジメチルアミノエタノール及びジエチル
アミノエタノール等のようなアルカノールアミン、エチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリア
ミン及びトリエチレンテトラミン等のようなアルキレン
ポリアミン、エチレンイミン及びプロピレンイミン等の
ようなアルキレンイミン、ピペラジン、ホルモリン、ピ
ラジン及びピリジン等がある。
電着樹脂液は、通常樹脂固形分濃度を、3〜50重量%
好ましくは7〜30重量%程度の範囲に調製して使用す
る。
好ましくは7〜30重量%程度の範囲に調製して使用す
る。
この際、必要に応じてパラトルエンスルホン酸、ジブチ
ルチンジラウレートなどの反応触媒、パラメトキシフェ
ノール、ジブチルチオジプロピオネート、ターシャリ−
ブチルカテコールなどの酸化防止剤あるいは紫外線吸収
剤、消泡剤、レベリング剤、沈降防止剤等の塗料添加
剤、酸化チタン、タルク、カーボンブラック等の顔料等
を混合して使用することできる。
ルチンジラウレートなどの反応触媒、パラメトキシフェ
ノール、ジブチルチオジプロピオネート、ターシャリ−
ブチルカテコールなどの酸化防止剤あるいは紫外線吸収
剤、消泡剤、レベリング剤、沈降防止剤等の塗料添加
剤、酸化チタン、タルク、カーボンブラック等の顔料等
を混合して使用することできる。
このようにして調製した電着樹脂液中で前記プライマー
被覆層を形成した金属板を陽極とし、対極との間に電圧
5〜300ボルトで10秒〜10分直流電圧を印加した
後、該金属IC基板を液より引上げ、十分に液切り、洗
浄の後加熱焼付すると、金属板表面に均一な高膜厚の電
着塗膜が形成される。
被覆層を形成した金属板を陽極とし、対極との間に電圧
5〜300ボルトで10秒〜10分直流電圧を印加した
後、該金属IC基板を液より引上げ、十分に液切り、洗
浄の後加熱焼付すると、金属板表面に均一な高膜厚の電
着塗膜が形成される。
本発明で得られる電着塗膜は50〜300℃、好ましく
は80〜250℃で15〜60分間加熱焼付を行う。
は80〜250℃で15〜60分間加熱焼付を行う。
(実施例) 本発明をより具体的に説明するため、以下に実施例を示
す。
す。
[プライマー1の調製] 撹拌装置及び温度計を備えた5容器に、N−(2−ア
ミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン1
11.1g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン236.3g、イソプロピルアルコール1389.
6gを仕込み、30℃に保ちながら240分間撹拌を行
った。ついで、常温まで冷却して、プライマー1を調製
した。
ミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン1
11.1g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン236.3g、イソプロピルアルコール1389.
6gを仕込み、30℃に保ちながら240分間撹拌を行
った。ついで、常温まで冷却して、プライマー1を調製
した。
[プライマー2〜5の調製] プライマー1の調製方法において、有機アルコキシシラ
ンの種類と配合量及び親水性溶剤の種類と配合量を第1
表に示す内容に変える以外は、すべて同じ方法を行ない
プライマー2〜5を調製した。
ンの種類と配合量及び親水性溶剤の種類と配合量を第1
表に示す内容に変える以外は、すべて同じ方法を行ない
プライマー2〜5を調製した。
[ポリカルボン酸樹脂イの調製] 温度計、攪拌機および還流冷却器を備えた1四つ口フ
ラスコに、エチレングリコールモノブチルエーテル25
0g、ターシャリーブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート7.5gを仕込み、80℃に昇温する。これ
に、メタクリル酸メチル190g、メタクリル酸n−ブ
チル100g、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル80
g、アクリル酸2−エチルヘキシル100g、メタクリ
ル酸15g、N−フエニルマレイミド15gおよび2,
4−ジフエニル−4−メチル−1−ペンテン1.0gの
単量体組成の混合物を、240分間にわたりフラスコ内
に滴下した後、更に240分間攪拌を行う。ついで、エ
チレングリコールモノブチルエーテル30g、ターシャ
リーブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート1.
5gの混合物を60分毎に3回添加する。その後、80
℃で240分間攪拌を続けポリカルボン酸樹脂イを調製
した。
ラスコに、エチレングリコールモノブチルエーテル25
0g、ターシャリーブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート7.5gを仕込み、80℃に昇温する。これ
に、メタクリル酸メチル190g、メタクリル酸n−ブ
チル100g、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル80
g、アクリル酸2−エチルヘキシル100g、メタクリ
ル酸15g、N−フエニルマレイミド15gおよび2,
4−ジフエニル−4−メチル−1−ペンテン1.0gの
単量体組成の混合物を、240分間にわたりフラスコ内
に滴下した後、更に240分間攪拌を行う。ついで、エ
チレングリコールモノブチルエーテル30g、ターシャ
リーブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート1.
5gの混合物を60分毎に3回添加する。その後、80
℃で240分間攪拌を続けポリカルボン酸樹脂イを調製
した。
[ポリカルボン酸樹脂ロ〜ヌの調製] 前記ポリカルボン酸樹脂イの調製方法において、単量体
組成を第2表に示す内容に変える以外はすべて同じ方法
を実施し、それぞれポリカルボン酸樹脂ロ〜ヌを調製し
た。
組成を第2表に示す内容に変える以外はすべて同じ方法
を実施し、それぞれポリカルボン酸樹脂ロ〜ヌを調製し
た。
[電着樹脂液ED−1の調製] 容器にポリカルボン酸樹脂イ120g、メラミン樹脂
(商品名サイメルHM−6 三井サイアナミッド社製)
30gを採取し十分に攪拌を行い、ついでトリエチルア
ミン及び2−エチルヘキシルアルコールを添加し、十分
に撹拌を行いながら脱イオン水を加え樹脂固形分15重
量%の電着樹脂液ED−1を調製した。
(商品名サイメルHM−6 三井サイアナミッド社製)
30gを採取し十分に攪拌を行い、ついでトリエチルア
ミン及び2−エチルヘキシルアルコールを添加し、十分
に撹拌を行いながら脱イオン水を加え樹脂固形分15重
量%の電着樹脂液ED−1を調製した。
[電着樹脂液ED−2〜10の調製] 電着樹脂液ED−1の調製と同様の方法において、ポリ
カルボン酸樹脂の種類を第3表に示す内容にかえる以外
はすべて同じ方法を行ない、電着樹脂液ED−2〜10
を調製した。
カルボン酸樹脂の種類を第3表に示す内容にかえる以外
はすべて同じ方法を行ない、電着樹脂液ED−2〜10
を調製した。
実施例1 常法に従い膜厚12μmの極酸化処理を施したアルミニ
ウム板をプライマー1中に2分間浸漬した後、30℃で
60分間加熱乾燥したところ、膜厚3μのプライマー層
が形成された。ついで、これを30℃に加温した電着樹
脂液(ED−1)中に浸漬し、陽極に接続し、対極のス
テンレス板との間に電圧160ボルトで3分間直流通電
を行い電着塗装を施した。ついで、アルミニウム板を液
より引上げ、水洗処理の後、180℃で30分間加熱乾
燥した。この結果、膜厚 μmの均一な電着塗膜が形成
された。この塗膜の性能試験をおこなったところ第5表
に示すとおりであった。ただし、塗膜性能試験は、次の
ようにして行った。
ウム板をプライマー1中に2分間浸漬した後、30℃で
60分間加熱乾燥したところ、膜厚3μのプライマー層
が形成された。ついで、これを30℃に加温した電着樹
脂液(ED−1)中に浸漬し、陽極に接続し、対極のス
テンレス板との間に電圧160ボルトで3分間直流通電
を行い電着塗装を施した。ついで、アルミニウム板を液
より引上げ、水洗処理の後、180℃で30分間加熱乾
燥した。この結果、膜厚 μmの均一な電着塗膜が形成
された。この塗膜の性能試験をおこなったところ第5表
に示すとおりであった。ただし、塗膜性能試験は、次の
ようにして行った。
1.耐熱性 :熱分析装置により窒素ガス雰囲気
下で熱分解開始温度を測定した。数値が大きいほど耐熱
性が優れている。
下で熱分解開始温度を測定した。数値が大きいほど耐熱
性が優れている。
2.耐衝撃性 :デュポン式落錘試験器を使用。5
00g荷重で行なった。数値は落下高さであり、大であ
るほど耐衝撃性、基材との密着性が優れている。
00g荷重で行なった。数値は落下高さであり、大であ
るほど耐衝撃性、基材との密着性が優れている。
3.ピンホール試験:ピンホール探知器を用いて、1Kv
の電圧をかけピンホールの有無を検査した。
の電圧をかけピンホールの有無を検査した。
○…ピンホールなし ×…ピンホールあり 4.絶縁抵抗 :JIS C6481に従い常態で
評価した。
評価した。
比較例1 実施例1の方法において、プライマー処理を行わない以
外はすべて同じ方法で電着塗装を行った。
外はすべて同じ方法で電着塗装を行った。
この結果、第4表に示す電着塗膜が形成された。
実施例2〜3及び比較例2〜5 実施例1の方法において、第4表に示すようにプライマ
ーの種類及び加熱乾燥条件をかえる以外は、すべて同じ
方法で電着塗装を行った。
ーの種類及び加熱乾燥条件をかえる以外は、すべて同じ
方法で電着塗装を行った。
この結果、第4表に示す電着塗膜が形成された。
実施例4〜6 実施例1の方法において、陽極酸化処理を施したアルミ
ニウム板に変えて脱脂処理したアルミニウム板、リン酸
鉄処理を施した鉄製板及びステンレス板を使用する以外
は同じ方法を実施し電着塗膜を形成した。
ニウム板に変えて脱脂処理したアルミニウム板、リン酸
鉄処理を施した鉄製板及びステンレス板を使用する以外
は同じ方法を実施し電着塗膜を形成した。
この結果は、第5表に示すとおりであった。
実施例7〜10 実施例1の方法において、電着塗装条件を第6表に示す
ように変える以外は、すべて同じ方法で電着塗装を行っ
た。この結果第5表に示す膜厚の電着塗膜が形成され
た。
ように変える以外は、すべて同じ方法で電着塗装を行っ
た。この結果第5表に示す膜厚の電着塗膜が形成され
た。
実施例11〜14及び比較例4〜8 実施例1の方法において、電着樹脂液(ED−1)の種
類を第3表に示す内容に変える以外はすべて同じ方法で
電着塗装を行った。この結果第6表に示す電着塗膜が形
成された。
類を第3表に示す内容に変える以外はすべて同じ方法で
電着塗装を行った。この結果第6表に示す電着塗膜が形
成された。
(発明の効果) 本発明の電着塗装方法は、塗膜厚コントロールが容易
で、かつ一回の電着塗装によってピンホールの無い優れ
た耐熱絶縁性を示す高膜厚の塗膜が形成できるという優
れた効果を奏する。
で、かつ一回の電着塗装によってピンホールの無い優れ
た耐熱絶縁性を示す高膜厚の塗膜が形成できるという優
れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/14 H05K 3/44 A 8727−4E
Claims (1)
- 【請求項1】金属IC基板に電着塗装で絶縁層を形成す
るにあたり、該基板を電着塗装前にA.グリシジル基を
有する有機アルコキシシラン化合物とB.アミノ基を有
する有機アルコキシシラン化合物とからなりA成分/B
成分の配合モル比が0.05〜5.0であるプライマー
組成物で表面処理し1〜10μmの乾燥塗膜を形成した
後、塗膜形成成分が、C.(a)α、β−エチレン性不
飽和カルボン酸2〜15重量%、(b)α、β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸のアルキルエステル5〜85重量
%、(c)α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒド
ロキシアルキル含有エステル3〜30重量%、(d)下
記構造式で示される単量体3〜30重量%及び(e)そ
の他共重合性単量体0〜60重量%を反応させて得られ
る酸価5〜100を有するポリカルボン酸樹脂45〜9
8重量%とD.メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂2〜
55重量%とからなる電着樹脂液を電着塗装することを
特徴とする金属IC基板の電着塗装方法。 ただし、(d)の構造式は次の通りである。 Rは、水素原子、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基又
はハロゲン原子を示す。 又は、
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8783188A JPH0668159B2 (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 金属ic基板の電着塗装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8783188A JPH0668159B2 (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 金属ic基板の電着塗装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01259595A JPH01259595A (ja) | 1989-10-17 |
JPH0668159B2 true JPH0668159B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=13925885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8783188A Expired - Lifetime JPH0668159B2 (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 金属ic基板の電着塗装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0668159B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001019145A1 (en) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Suzuki Sogyo Co., Ltd. | Substrate of circuit board |
JP2001139890A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電着液、電着硬化膜およびその製造方法、ならびに電子デバイス |
JP5291326B2 (ja) * | 2007-11-16 | 2013-09-18 | 積水化学工業株式会社 | 接着剤組成物 |
CN103250243B (zh) * | 2010-12-16 | 2016-04-27 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置 |
CN104221481B (zh) * | 2012-03-28 | 2017-08-22 | Dic株式会社 | 导电性图案、电路、电磁波屏蔽物、及导电性图案的制造方法 |
US9465317B2 (en) | 2013-02-25 | 2016-10-11 | Ricoh Company, Ltd. | Nozzle insertion member, powder container, and image forming apparatus |
JP2020030448A (ja) * | 2018-08-20 | 2020-02-27 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 | 静電容量式タッチセンサおよびその製造方法 |
JP7202636B2 (ja) * | 2019-01-31 | 2023-01-12 | ハニー化成株式会社 | 耐熱性電着樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-04-08 JP JP8783188A patent/JPH0668159B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01259595A (ja) | 1989-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0668159B2 (ja) | 金属ic基板の電着塗装方法 | |
JPH0637599B2 (ja) | 電着塗装方法 | |
JP3371926B2 (ja) | 艶消し電着塗料組成物及び艶消し電着塗装方法 | |
JP3443455B2 (ja) | ミクロゲル含有アニオン性水分散型樹脂組成物及びそれを含有する電着塗料組成物 | |
JPH0637598B2 (ja) | 電着塗装用樹脂組成物 | |
JPH09296023A (ja) | 水性樹脂組成物 | |
JPH0637601B2 (ja) | 電着塗装用樹脂組成物 | |
JP3371925B2 (ja) | 艶消し電着塗料の製造方法及び塗装方法 | |
JP2654120B2 (ja) | 熱硬化型被覆組成物 | |
JPH0131792B2 (ja) | ||
JP7202636B2 (ja) | 耐熱性電着樹脂組成物 | |
JP6904529B1 (ja) | アルミニウム顔料を含有する水性樹脂組成物、水性電着樹脂液、水性電着塗料、塗膜、及び電着塗膜の形成方法 | |
JPH07292314A (ja) | 低温乾燥塗料用樹脂組成物 | |
JPH0339370A (ja) | 艶消電着塗料組成物 | |
JPH0776314B2 (ja) | カチオン性バインダーをベースとする水性塗料 | |
JPS58213058A (ja) | 艶消塗装用樹脂組成物 | |
JP3444555B2 (ja) | フッ素樹脂含有艶消し電着塗料組成物 | |
JPH0762278A (ja) | 電着塗装用樹脂組成物 | |
JPH0251569A (ja) | 電子回路基板用の電着塗装用樹脂組成物 | |
JPS6336357B2 (ja) | ||
JP2863859B2 (ja) | 艶消電着塗装用組成物 | |
JPH01203481A (ja) | 電着塗装用樹脂組成物 | |
JPS63268775A (ja) | 艶消電着塗料組成物 | |
JPH051312B2 (ja) | ||
JPS62156170A (ja) | フツ素系艶消電着塗料組成物 |