JPH0666741A - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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- JPH0666741A JPH0666741A JP22401992A JP22401992A JPH0666741A JP H0666741 A JPH0666741 A JP H0666741A JP 22401992 A JP22401992 A JP 22401992A JP 22401992 A JP22401992 A JP 22401992A JP H0666741 A JPH0666741 A JP H0666741A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線の入出射角の調整機能等における自由度
が非常に高く、多様な回折測定に利用し得るＸ線回折装
置を提供すること。 【構成】 試料１１を回転操作する試料回転装置６と、
Ｘ線検出器５を回転操作するＸ線検出器回転装置７と、
Ｘ線発生装置３を回転操作するＸ線源回転装置８と、こ
れらの回転装置６，７，８における回転量を個別に操作
し得る制御装置１０とを装備する。そして、各回転装置
６，７，８は、いずれもウォームホィールを用いた回転
機構６ｄ，７ｄ，８ｄで所定の回転量を得る構造とし、
また、各回転装置６，７，８の回転中心を互いに同心に
揃えた構成とする。
が非常に高く、多様な回折測定に利用し得るＸ線回折装
置を提供すること。 【構成】 試料１１を回転操作する試料回転装置６と、
Ｘ線検出器５を回転操作するＸ線検出器回転装置７と、
Ｘ線発生装置３を回転操作するＸ線源回転装置８と、こ
れらの回転装置６，７，８における回転量を個別に操作
し得る制御装置１０とを装備する。そして、各回転装置
６，７，８は、いずれもウォームホィールを用いた回転
機構６ｄ，７ｄ，８ｄで所定の回転量を得る構造とし、
また、各回転装置６，７，８の回転中心を互いに同心に
揃えた構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線回折装置に関する
もので、詳しくは、試料に対するＸ線の入出射角の調整
を柔軟になし得て、より広範囲の回折測定に利用し得る
Ｘ線回折装置にかかるものである。
もので、詳しくは、試料に対するＸ線の入出射角の調整
を柔軟になし得て、より広範囲の回折測定に利用し得る
Ｘ線回折装置にかかるものである。
【０００２】
【従来の技術】これまで、Ｘ線回折装置として、試料に
対するＸ線の入出射角の調整等のために２軸のゴニオメ
ータを装備したものが種々開発されてきた。
対するＸ線の入出射角の調整等のために２軸のゴニオメ
ータを装備したものが種々開発されてきた。
【０００３】図２は、試料面を水平に保つ必要のある液
体試料等の測定用として開発されたＸ線発生装置の従来
例を示したものである。
体試料等の測定用として開発されたＸ線発生装置の従来
例を示したものである。
【０００４】このＸ線回折装置は、試料１に入射Ｘ線２
を照射するＸ線発生装置３と試料１からの回折Ｘ線４を
検出するＸ線検出器５とを２軸のゴニオメータ（図示
略）で試料１の回りに回転可能にしたもので、試料１は
試料面が水平となる状態で固定したまま、Ｘ線発生装置
３とＸ線検出器５とを１：１のスピードで互いに逆方向
に回転操作することによって、入射Ｘ線２の試料面への
入射角θと回折Ｘ線４の試料面からの出射角θとを等し
く保ちながらの測定を可能ならしめる。
を照射するＸ線発生装置３と試料１からの回折Ｘ線４を
検出するＸ線検出器５とを２軸のゴニオメータ（図示
略）で試料１の回りに回転可能にしたもので、試料１は
試料面が水平となる状態で固定したまま、Ｘ線発生装置
３とＸ線検出器５とを１：１のスピードで互いに逆方向
に回転操作することによって、入射Ｘ線２の試料面への
入射角θと回折Ｘ線４の試料面からの出射角θとを等し
く保ちながらの測定を可能ならしめる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、Ｘ線回折装置
による解析処理は年々広範囲に応用されるようになって
きており、それに伴って、一つのＸ線回折装置でも多様
な回折測定に利用し得るように改善されたものが所望さ
れるようになってきた。ところが、多様な解析測定に利
用し得るようにするには、Ｘ線の入出射角の調整機能等
における自由度をさらに高めて拡張する必要があり、２
軸のゴニオメータを装備する従来の形式のものでは、限
界がある。
による解析処理は年々広範囲に応用されるようになって
きており、それに伴って、一つのＸ線回折装置でも多様
な回折測定に利用し得るように改善されたものが所望さ
れるようになってきた。ところが、多様な解析測定に利
用し得るようにするには、Ｘ線の入出射角の調整機能等
における自由度をさらに高めて拡張する必要があり、２
軸のゴニオメータを装備する従来の形式のものでは、限
界がある。
【０００６】例えば、入射Ｘ線２と回折Ｘ線４とのなす
角度（回折角）２θを一定に保ちながら試料１への入射
角を操作する場合など、図２に示した従来のＸ線発生装
置の場合では、Ｘ線発生装置３およびＸ線検出器５の双
方を同じ方向に１：１の速度で回転操作させねばなら
ず、ゴニオメータによる回転制御が煩雑になり、その結
果、精度出しや処理速度の向上が困難になる虞がある。
角度（回折角）２θを一定に保ちながら試料１への入射
角を操作する場合など、図２に示した従来のＸ線発生装
置の場合では、Ｘ線発生装置３およびＸ線検出器５の双
方を同じ方向に１：１の速度で回転操作させねばなら
ず、ゴニオメータによる回転制御が煩雑になり、その結
果、精度出しや処理速度の向上が困難になる虞がある。
【０００７】これに対して、例えば、Ｘ線発生装置３が
固定されていて、試料１およびＸ線検出器５を２軸のゴ
ニオメータで独立に回転操作する形式のＸ線発生装置で
は、２軸のゴニオメータを使用している点では共通して
いるが、前述の回折角２θを一定に保ちながら試料１へ
の入射角を操作する場合は、Ｘ線検出器５を予め指定角
２θに設定しておいて、後は試料１の方位角を変化させ
るために試料１を回転させるだけでよいから、ゴニオメ
ータによる回転制御が極めて簡単になり、その分、精度
出しや処理速度の向上を図ることも可能になる。しか
し、このようにＸ線発生装置３を固定にしたＸ線発生装
置では、試料面を水平に保つ必要のある場合の測定には
不向きとなる。
固定されていて、試料１およびＸ線検出器５を２軸のゴ
ニオメータで独立に回転操作する形式のＸ線発生装置で
は、２軸のゴニオメータを使用している点では共通して
いるが、前述の回折角２θを一定に保ちながら試料１へ
の入射角を操作する場合は、Ｘ線検出器５を予め指定角
２θに設定しておいて、後は試料１の方位角を変化させ
るために試料１を回転させるだけでよいから、ゴニオメ
ータによる回転制御が極めて簡単になり、その分、精度
出しや処理速度の向上を図ることも可能になる。しか
し、このようにＸ線発生装置３を固定にしたＸ線発生装
置では、試料面を水平に保つ必要のある場合の測定には
不向きとなる。
【０００８】即ち、２軸のゴニオメータを使用した従来
のＸ線発生装置では、ゴニオメータによって試料１，Ｘ
線発生装置３，Ｘ線検出器５のいずれを回転可能にして
おくか等によって用途が限定されてしまい、それ以上に
用途の拡張を図ることはできないといった問題があっ
た。
のＸ線発生装置では、ゴニオメータによって試料１，Ｘ
線発生装置３，Ｘ線検出器５のいずれを回転可能にして
おくか等によって用途が限定されてしまい、それ以上に
用途の拡張を図ることはできないといった問題があっ
た。
【０００９】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、Ｘ線発生装置および試料およびＸ線検出器のいずれ
も任意角度に回転操作することができて、Ｘ線の入出射
角の調整機能等における自由度が非常に高く、多様な回
折測定に利用し得るＸ線回折装置を提供することを目的
とする。
で、Ｘ線発生装置および試料およびＸ線検出器のいずれ
も任意角度に回転操作することができて、Ｘ線の入出射
角の調整機能等における自由度が非常に高く、多様な回
折測定に利用し得るＸ線回折装置を提供することを目的
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のＸ線回
折装置は、試料をウォームとウォームホィールとの組み
合わせによる回転機構によって回転操作する試料回転装
置と、Ｘ線検出器回転装置と、Ｘ線源回転装置と、制御
装置とを備えている。
折装置は、試料をウォームとウォームホィールとの組み
合わせによる回転機構によって回転操作する試料回転装
置と、Ｘ線検出器回転装置と、Ｘ線源回転装置と、制御
装置とを備えている。
【００１１】ここに、前記Ｘ線検出器回転装置は、試料
からの回折Ｘ線を検出するＸ線検出器を、ウォームとウ
ォームホィールとの組み合わせによる回転機構によっ
て、前記試料回転装置による試料の回転中心の回りに回
転操作する。
からの回折Ｘ線を検出するＸ線検出器を、ウォームとウ
ォームホィールとの組み合わせによる回転機構によっ
て、前記試料回転装置による試料の回転中心の回りに回
転操作する。
【００１２】また、Ｘ線源回転装置は、前記試料に入射
Ｘ線を照射するＸ線発生装置を、ウォームとウォームホ
ィールとの組み合わせによる回転機構によって、前記試
料回転装置による試料の回転中心の回りに回転操作す
る。
Ｘ線を照射するＸ線発生装置を、ウォームとウォームホ
ィールとの組み合わせによる回転機構によって、前記試
料回転装置による試料の回転中心の回りに回転操作す
る。
【００１３】これらの前記試料回転装置およびＸ線検出
器回転装置およびＸ線源回転装置のウォームホィール
は、いずれも互いに同心に配備されている。
器回転装置およびＸ線源回転装置のウォームホィール
は、いずれも互いに同心に配備されている。
【００１４】また、制御装置は、以上の各回転装置にお
ける回転機構のウォームホィールの回転量を個別に制御
する。
ける回転機構のウォームホィールの回転量を個別に制御
する。
【００１５】請求項２に記載のＸ線回折装置は、請求項
１に記載のＸ線回折装置を改善したもので、各回転装置
における回転操作を連動させる機能として、前記制御装
置に、θ−２θ制御機能と、θ−θ制御機能とを装備し
たものである。
１に記載のＸ線回折装置を改善したもので、各回転装置
における回転操作を連動させる機能として、前記制御装
置に、θ−２θ制御機能と、θ−θ制御機能とを装備し
たものである。
【００１６】ここに、前記θ−２θ制御機能は、前記Ｘ
線源回転装置によるＸ線発生装置の回転量を任意角度で
固定した状態で、試料回転装置による試料の回転量θ1
と、この試料の回転量θ1 に対応したＸ線検出器回転装
置によるＸ線検出器の回転量２θ1 とを設定して、任意
の回折角２θ1 における回折測定を可能ならしめるもの
である。
線源回転装置によるＸ線発生装置の回転量を任意角度で
固定した状態で、試料回転装置による試料の回転量θ1
と、この試料の回転量θ1 に対応したＸ線検出器回転装
置によるＸ線検出器の回転量２θ1 とを設定して、任意
の回折角２θ1 における回折測定を可能ならしめるもの
である。
【００１７】また、θ−θ制御機能は、前記試料回転装
置による試料の回転量を任意角度で固定した状態で、Ｘ
線源回転装置によるＸ線発生装置の回転量θ2 と、この
Ｘ線発生装置の回転量θ2 に対応したＸ線検出器回転装
置によるＸ線検出器の前記Ｘ線発生装置とは逆向きの回
転量θ2 とを設定して、任意の回折角２θ2 における回
折測定を可能ならしめるものである。
置による試料の回転量を任意角度で固定した状態で、Ｘ
線源回転装置によるＸ線発生装置の回転量θ2 と、この
Ｘ線発生装置の回転量θ2 に対応したＸ線検出器回転装
置によるＸ線検出器の前記Ｘ線発生装置とは逆向きの回
転量θ2 とを設定して、任意の回折角２θ2 における回
折測定を可能ならしめるものである。
【００１８】請求項３に記載のＸ線回折装置は、請求項
２に記載のＸ線回折装置を改善したもので、各回転装置
における回転操作を連動させる機能として、前記制御装
置に、２θ走査機能を装備したものである。
２に記載のＸ線回折装置を改善したもので、各回転装置
における回転操作を連動させる機能として、前記制御装
置に、２θ走査機能を装備したものである。
【００１９】ここに、２θ走査機能は、前記θ−２θ制
御機能において、試料回転装置による試料の回転量θ3
を任意角度で固定した状態で、Ｘ線検出器回転装置によ
るＸ線検出器の回転量θ4 のみを変化させるものであ
る。
御機能において、試料回転装置による試料の回転量θ3
を任意角度で固定した状態で、Ｘ線検出器回転装置によ
るＸ線検出器の回転量θ4 のみを変化させるものであ
る。
【００２０】
【作用】請求項１に記載のＸ線回折装置は、個別に回転
操作することができる３つの回転装置を有していて、こ
れらの回転装置によってＸ線発生装置および試料および
Ｘ線検出器のいずれも任意角度に個別に回転操作するこ
とができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等における
自由度が非常に高く、試料が試料面を水平状態に保って
測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折測定を
速やかに処理することができる。
操作することができる３つの回転装置を有していて、こ
れらの回転装置によってＸ線発生装置および試料および
Ｘ線検出器のいずれも任意角度に個別に回転操作するこ
とができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等における
自由度が非常に高く、試料が試料面を水平状態に保って
測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折測定を
速やかに処理することができる。
【００２１】また、各回転装置は、ウォームとウォーム
ホィールとの組み合わせによる回転機構によって所望の
回転量を得るもので、機構上、回転量の制御を高精度
（例えば、１／１０００゜）化することが可能で、これ
によって測定精度の向上を図ることも可能になる。
ホィールとの組み合わせによる回転機構によって所望の
回転量を得るもので、機構上、回転量の制御を高精度
（例えば、１／１０００゜）化することが可能で、これ
によって測定精度の向上を図ることも可能になる。
【００２２】また、請求項２，３に記載のＸ線回折装置
のように、各回転装置における回転操作を連動させるθ
−２θ制御機能，２θ走査機能，θ−θ制御機能等を予
め制御装置に装備しておくことによって、測定作業時に
おける装置取り扱い者（ユーザ）の操作（入力指示等の
操作）を簡便にすることができ、装置の取り扱い性を向
上させると同時に、作業効率を向上させことが可能にな
る。
のように、各回転装置における回転操作を連動させるθ
−２θ制御機能，２θ走査機能，θ−θ制御機能等を予
め制御装置に装備しておくことによって、測定作業時に
おける装置取り扱い者（ユーザ）の操作（入力指示等の
操作）を簡便にすることができ、装置の取り扱い性を向
上させると同時に、作業効率を向上させことが可能にな
る。
【００２３】
【実施例】図１は、本発明に係るＸ線回折装置の一実施
例を示したものである。この一実施例のＸ線回折装置
は、試料回転装置６と、Ｘ線検出器回転装置７と、Ｘ線
源回転装置８と、支持台９と、制御装置１０などから構
成されている。
例を示したものである。この一実施例のＸ線回折装置
は、試料回転装置６と、Ｘ線検出器回転装置７と、Ｘ線
源回転装置８と、支持台９と、制御装置１０などから構
成されている。
【００２４】前記試料回転装置６は、試料１１を円板状
の回転盤６ａによって支持し、この回転盤６ａをウォー
ム６ｂとウォームホィール６ｃとの組み合わせによる回
転機構６ｄによって回転操作する。ここに、前記回転盤
６ａはウォームホィール６ｃに固定されており、ウォー
ムホィール６ｃの回転中心軸は水平方向（図１の紙面に
垂直な方向）に延在する構成とされている。なお、試料
１１は、図１では、試料面を水平に設定した状態を示し
ている。
の回転盤６ａによって支持し、この回転盤６ａをウォー
ム６ｂとウォームホィール６ｃとの組み合わせによる回
転機構６ｄによって回転操作する。ここに、前記回転盤
６ａはウォームホィール６ｃに固定されており、ウォー
ムホィール６ｃの回転中心軸は水平方向（図１の紙面に
垂直な方向）に延在する構成とされている。なお、試料
１１は、図１では、試料面を水平に設定した状態を示し
ている。
【００２５】前記Ｘ線検出器回転装置７は、前記試料１
１からの回折Ｘ線４を検出するＸ線検出器５や該Ｘ線検
出器５の直前に配置されるスリット群１２をリング状の
回転盤７ａによって支持し、この回転盤７ａをウォーム
７ｂとウォームホィール７ｃとの組み合わせによる回転
機構７ｄによって回転操作する。ここに、回転盤７ａは
ウォームホィール７ｃに固定されており、また、回転盤
７ａは前記回転盤６ａの周囲を囲うリング状であり、ウ
ォームホィール７ｃの回転中心軸はウォームホィール６
ｃと同心に配置されている。即ち、Ｘ線検出器５は、前
記回転機構７ｄによって、前記試料回転装置６による試
料１１の回転中心の回りに回転操作される。なお、Ｘ線
検出器５およびスリット群１２は、これらを載せた基板
１３を介して前記回転盤７ａに固定されている。また、
前記スリット群１２は、受光スリット（receiving sli
t）ＲＳと、ソーラスリット（soller slit ）Ｓ2 と、
散乱スリット（scatter slit）ＳＳとから構成されてい
る。
１からの回折Ｘ線４を検出するＸ線検出器５や該Ｘ線検
出器５の直前に配置されるスリット群１２をリング状の
回転盤７ａによって支持し、この回転盤７ａをウォーム
７ｂとウォームホィール７ｃとの組み合わせによる回転
機構７ｄによって回転操作する。ここに、回転盤７ａは
ウォームホィール７ｃに固定されており、また、回転盤
７ａは前記回転盤６ａの周囲を囲うリング状であり、ウ
ォームホィール７ｃの回転中心軸はウォームホィール６
ｃと同心に配置されている。即ち、Ｘ線検出器５は、前
記回転機構７ｄによって、前記試料回転装置６による試
料１１の回転中心の回りに回転操作される。なお、Ｘ線
検出器５およびスリット群１２は、これらを載せた基板
１３を介して前記回転盤７ａに固定されている。また、
前記スリット群１２は、受光スリット（receiving sli
t）ＲＳと、ソーラスリット（soller slit ）Ｓ2 と、
散乱スリット（scatter slit）ＳＳとから構成されてい
る。
【００２６】前記Ｘ線源回転装置８は、前記試料１１に
入射Ｘ線２を照射するＸ線発生装置３をリング状の回転
盤８ａによって支持し、この回転盤８ａをウォーム８ｂ
とウォームホィール８ｃとの組み合わせによる回転機構
８ｄによって回転操作する。ここに、回転盤８ａはウォ
ームホィール８ｃに固定されており、また、回転盤８ａ
は前記回転盤７ａの周囲囲うリング状であり、ウォーム
ホィール８ｃの回転中心軸はウォームホィール６ｃ，７
ｃと同心に配置されている。即ち、Ｘ線発生装置３は、
前記試料回転装置６による試料１１の回転中心の回りに
回転操作される。なお、Ｘ線発生装置３は、Ｘ線源１４
と、該Ｘ線源１４の前方に配置されるスリット群１５
と、これらを載せた基板１６とで構成されており、前記
基板１６を介して前記回転盤８ａに固定されている。ま
た、前記スリット群１５は、ソーラスリット（soller s
lit ）Ｓ1 と、発散スリット（divergence slit ）ＤＳ
とから構成されている。
入射Ｘ線２を照射するＸ線発生装置３をリング状の回転
盤８ａによって支持し、この回転盤８ａをウォーム８ｂ
とウォームホィール８ｃとの組み合わせによる回転機構
８ｄによって回転操作する。ここに、回転盤８ａはウォ
ームホィール８ｃに固定されており、また、回転盤８ａ
は前記回転盤７ａの周囲囲うリング状であり、ウォーム
ホィール８ｃの回転中心軸はウォームホィール６ｃ，７
ｃと同心に配置されている。即ち、Ｘ線発生装置３は、
前記試料回転装置６による試料１１の回転中心の回りに
回転操作される。なお、Ｘ線発生装置３は、Ｘ線源１４
と、該Ｘ線源１４の前方に配置されるスリット群１５
と、これらを載せた基板１６とで構成されており、前記
基板１６を介して前記回転盤８ａに固定されている。ま
た、前記スリット群１５は、ソーラスリット（soller s
lit ）Ｓ1 と、発散スリット（divergence slit ）ＤＳ
とから構成されている。
【００２７】前記支持台９は、前述の各回転機構６ｄ，
７ｄ，８ｄの回転軸を回転自在に支持している。
７ｄ，８ｄの回転軸を回転自在に支持している。
【００２８】前記制御装置１０は、パーソナルコンピュ
ータを利用した制御装置本体と、前述の各回転機構６
ｄ，７ｄ，８ｄのウォーム６ｂ，７ｂ，８ｂを回転駆動
するモータの動作を前記制御装置本体から制御するため
のインターフェースと、Ｘ線検出器５やＸ線源１４の動
作を制御するためのインターフェースとを具備してい
る。
ータを利用した制御装置本体と、前述の各回転機構６
ｄ，７ｄ，８ｄのウォーム６ｂ，７ｂ，８ｂを回転駆動
するモータの動作を前記制御装置本体から制御するため
のインターフェースと、Ｘ線検出器５やＸ線源１４の動
作を制御するためのインターフェースとを具備してい
る。
【００２９】この制御装置１０は、ウォーム６ｂ，７
ｂ，８ｂを回転駆動する各モータの動作を個別に制御す
ることができ、したがって、各回転機構６ｄ，７ｄ，８
ｄのウォームホィール６ｃ，７ｃ，８ｃの回転量を個別
に制御し、試料１１およびＸ線検出器５およびＸ線発生
装置３を互いに独立に、任意の回転量で回転操作するこ
とができる。また、この制御装置１０では、回折測定処
理を円滑化することから、ウォーム６ｂ，７ｂ，８ｂを
回転駆動する各モータの動作を所定の関係で連動させる
θ−２θ制御機能，θ−θ制御機能，２θ走査機能など
も備えている。
ｂ，８ｂを回転駆動する各モータの動作を個別に制御す
ることができ、したがって、各回転機構６ｄ，７ｄ，８
ｄのウォームホィール６ｃ，７ｃ，８ｃの回転量を個別
に制御し、試料１１およびＸ線検出器５およびＸ線発生
装置３を互いに独立に、任意の回転量で回転操作するこ
とができる。また、この制御装置１０では、回折測定処
理を円滑化することから、ウォーム６ｂ，７ｂ，８ｂを
回転駆動する各モータの動作を所定の関係で連動させる
θ−２θ制御機能，θ−θ制御機能，２θ走査機能など
も備えている。
【００３０】前記θ−２θ制御機能は、図３に示すよう
に、前記Ｘ線源回転装置８によるＸ線発生装置３の回転
量を任意角度で固定した状態で、試料回転装置６による
試料１１の回転量θ1 と、この試料１１の回転量θ1 に
対応したＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の回
転量２θ1 とを設定して、任意の回折角２θ1 における
回折測定を可能ならしめるものである。この制御機能に
よる測定は、試料１１が試料面を水平に保つ必要のない
ものである場合で、回折角２θを種々に変更して測定を
行う場合に適している。
に、前記Ｘ線源回転装置８によるＸ線発生装置３の回転
量を任意角度で固定した状態で、試料回転装置６による
試料１１の回転量θ1 と、この試料１１の回転量θ1 に
対応したＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の回
転量２θ1 とを設定して、任意の回折角２θ1 における
回折測定を可能ならしめるものである。この制御機能に
よる測定は、試料１１が試料面を水平に保つ必要のない
ものである場合で、回折角２θを種々に変更して測定を
行う場合に適している。
【００３１】前記２θ走査機能は、図４に示すように、
前記θ−２θ制御機能において試料回転装置６による試
料１１の回転量θ3 を任意角度で固定した状態にし、こ
の状態で、Ｘ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の
回転量θ4 のみを変化させるものである。この制御機能
による測定は、試料１１が試料面を水平に保つ必要のな
いものである場合で、入射Ｘ線２の試料１１への入射角
をパラメータとしてＸ線検出器５のみを走査する薄膜測
定などに適している。
前記θ−２θ制御機能において試料回転装置６による試
料１１の回転量θ3 を任意角度で固定した状態にし、こ
の状態で、Ｘ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の
回転量θ4 のみを変化させるものである。この制御機能
による測定は、試料１１が試料面を水平に保つ必要のな
いものである場合で、入射Ｘ線２の試料１１への入射角
をパラメータとしてＸ線検出器５のみを走査する薄膜測
定などに適している。
【００３２】前記θ−θ制御機能は、図５に示すよう
に、前記試料回転装置６による試料１１の回転量を任意
角度で固定した状態で、Ｘ線源回転装置８によるＸ線発
生装置３の回転量θ2 と、このＸ線源の回転量θ2 に対
応したＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の前記
Ｘ線発生装置３とは逆向きの回転量θ2 とを設定して、
任意の回折角２θ2 における回折測定を可能ならしめる
ものである。この制御機能による測定は、試料１１が試
料面を水平に保つ必要のある液体試料等の場合で、試料
面への入射角と試料面からの出射角とを常に等しい角度
に保ちながら測定する場合に適している。
に、前記試料回転装置６による試料１１の回転量を任意
角度で固定した状態で、Ｘ線源回転装置８によるＸ線発
生装置３の回転量θ2 と、このＸ線源の回転量θ2 に対
応したＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出器５の前記
Ｘ線発生装置３とは逆向きの回転量θ2 とを設定して、
任意の回折角２θ2 における回折測定を可能ならしめる
ものである。この制御機能による測定は、試料１１が試
料面を水平に保つ必要のある液体試料等の場合で、試料
面への入射角と試料面からの出射角とを常に等しい角度
に保ちながら測定する場合に適している。
【００３３】なお、前記制御装置１０では、各ウォーム
ホィール６ｃ，７ｃ，８ｃを独立に制御することができ
ることから、前記Ｘ線源回転装置８によるＸ線発生装置
３の回転量およびＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出
器５の回転量を任意角度で固定した状態にし、この状態
で試料回転装置６によって試料１１のみを回転させるこ
ともでき、このような回転操作によれば、入射Ｘ線２と
回折Ｘ線４とのなす回折角２θを一定に保ちながら試料
１１への入射角を走査する測定も、容易に達成すること
ができる。
ホィール６ｃ，７ｃ，８ｃを独立に制御することができ
ることから、前記Ｘ線源回転装置８によるＸ線発生装置
３の回転量およびＸ線検出器回転装置７によるＸ線検出
器５の回転量を任意角度で固定した状態にし、この状態
で試料回転装置６によって試料１１のみを回転させるこ
ともでき、このような回転操作によれば、入射Ｘ線２と
回折Ｘ線４とのなす回折角２θを一定に保ちながら試料
１１への入射角を走査する測定も、容易に達成すること
ができる。
【００３４】以上に詳述したように、一実施例のＸ線回
折装置は、個別に回転操作することができる３つの回転
装置６，７，８を有していて、これらの回転装置６，
７，８によってＸ線発生装置３および試料１１およびＸ
線検出器５のいずれも任意角度に個別に回転操作するこ
とができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等における
自由度が非常に高く、試料１１が試料面を水平状態に保
って測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折測
定を速やかに処理することができる。
折装置は、個別に回転操作することができる３つの回転
装置６，７，８を有していて、これらの回転装置６，
７，８によってＸ線発生装置３および試料１１およびＸ
線検出器５のいずれも任意角度に個別に回転操作するこ
とができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等における
自由度が非常に高く、試料１１が試料面を水平状態に保
って測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折測
定を速やかに処理することができる。
【００３５】また、各回転装置６，７，８は、ウォーム
とウォームホィールとの組み合わせによる回転機構６
ｄ，７ｄ，８ｄによって所望の回転量を得るもので、機
構上、回転量の制御を高精度（例えば、１／１０００
゜）化することが可能で、これによって測定精度の向上
を図ることも可能になる。
とウォームホィールとの組み合わせによる回転機構６
ｄ，７ｄ，８ｄによって所望の回転量を得るもので、機
構上、回転量の制御を高精度（例えば、１／１０００
゜）化することが可能で、これによって測定精度の向上
を図ることも可能になる。
【００３６】また、一実施例のように、各回転装置にお
ける回転操作を連動させるθ−２θ制御機能，２θ走査
機能，θ−θ制御機能等を予め制御装置１０に装備して
おくことによって、測定作業時における装置取り扱い者
（ユーザ）の操作（入力指示等の操作）を簡便にするこ
とができ、装置の取り扱い性を向上させると同時に、作
業効率を向上させことが可能になる。
ける回転操作を連動させるθ−２θ制御機能，２θ走査
機能，θ−θ制御機能等を予め制御装置１０に装備して
おくことによって、測定作業時における装置取り扱い者
（ユーザ）の操作（入力指示等の操作）を簡便にするこ
とができ、装置の取り扱い性を向上させると同時に、作
業効率を向上させことが可能になる。
【００３７】なお、一実施例のＸ線回折装置では、試料
回転装置６が直接試料１１を支持する構成とした。しか
し、試料回転装置６の上には、試料の向きを回転操作可
能な試料支持装置を搭載し、この試料支持装置を介して
試料回転装置６上に試料１１をセットする構成としても
よい。このような試料支持装置を装備すれば、試料１１
の向きの調整等に対する能力をさらに高めることがで
き、微小領域測定等の際における測定領域の設定を容易
にすることができる。
回転装置６が直接試料１１を支持する構成とした。しか
し、試料回転装置６の上には、試料の向きを回転操作可
能な試料支持装置を搭載し、この試料支持装置を介して
試料回転装置６上に試料１１をセットする構成としても
よい。このような試料支持装置を装備すれば、試料１１
の向きの調整等に対する能力をさらに高めることがで
き、微小領域測定等の際における測定領域の設定を容易
にすることができる。
【００３８】
【発明の効果】請求項１に記載のＸ線回折装置は、個別
に回転操作することができる３つの回転装置を有してい
て、これらの回転装置によってＸ線発生装置および試料
およびＸ線検出器のいずれも任意角度に個別に回転操作
することができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等に
おける自由度が非常に高く、試料が試料面を水平状態に
保って測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折
測定を速やかに処理することができる。
に回転操作することができる３つの回転装置を有してい
て、これらの回転装置によってＸ線発生装置および試料
およびＸ線検出器のいずれも任意角度に個別に回転操作
することができるため、Ｘ線の入出射角の調整機能等に
おける自由度が非常に高く、試料が試料面を水平状態に
保って測定する必要があるか否かに拘らず、多様な回折
測定を速やかに処理することができる。
【００３９】また、各回転装置は、ウォームとウォーム
ホィールとの組み合わせによる回転機構によって所望の
回転量を得るもので、機構上、回転量の制御を高精度
（例えば、１／１０００゜）化することが可能で、これ
によって測定精度の向上を図ることも可能になる。
ホィールとの組み合わせによる回転機構によって所望の
回転量を得るもので、機構上、回転量の制御を高精度
（例えば、１／１０００゜）化することが可能で、これ
によって測定精度の向上を図ることも可能になる。
【００４０】また、請求項２，３に記載のＸ線回折装置
のように、各回転装置における回転操作を連動させるθ
−２θ制御機能，２θ走査機能，θ−θ制御機能等を予
め制御装置に装備しておくことによって、測定作業時に
おける装置取り扱い者（ユーザ）の操作（入力指示等の
操作）を簡便にすることができ、装置の取り扱い性を向
上させると同時に、作業効率を向上させことが可能にな
る。
のように、各回転装置における回転操作を連動させるθ
−２θ制御機能，２θ走査機能，θ−θ制御機能等を予
め制御装置に装備しておくことによって、測定作業時に
おける装置取り扱い者（ユーザ）の操作（入力指示等の
操作）を簡便にすることができ、装置の取り扱い性を向
上させると同時に、作業効率を向上させことが可能にな
る。
【図１】本発明の一実施例の正面図である。
【図２】従来のＸ線回折装置の説明図である。
【図３】本発明の一実施例の動作説明図である。
【図４】本発明の一実施例の動作説明図である。
【図５】本発明の一実施例の動作説明図である。
２ 入射Ｘ線 ３ Ｘ線発生装置 ４ 回折Ｘ線 ５ Ｘ線検出器 ６ 試料回転装置 ７ Ｘ線検出器回転装置 ８ Ｘ線源回転装置 ６ｂ，７ｂ，８ｂ ウォーム ６ｃ，７ｃ，８ｃ ウォームホィール ６ｄ，７ｄ，８ｄ 回転機構 １１ 試料
Claims (3)
- 【請求項１】 試料を、ウォームとウォームホィールと
の組み合わせによる回転機構によって回転操作する試料
回転装置と、 試料からの回折Ｘ線を検出するＸ線検出器を、ウォーム
とウォームホィールとの組み合わせによる回転機構によ
って、前記試料回転装置による試料の回転中心の回りに
回転操作するＸ線検出器回転装置と、 前記試料に入射Ｘ線を照射するＸ線発生装置を、ウォー
ムとウォームホィールとの組み合わせによる回転機構に
よって、前記試料回転装置による試料の回転中心の回り
に回転操作するＸ線源回転装置と、 これらの各装置における回転機構のウォームホィールの
回転量を個別に制御し得る制御装置とが備えられ、 前記試料回転装置およびＸ線検出器回転装置およびＸ線
源回転装置のウォームホィールが、いずれも互いに同心
に配備されたことを特徴としたＸ線回折装置。 - 【請求項２】 前記制御装置には、 前記Ｘ線源回転装置によるＸ線発生装置の回転量を任意
角度で固定した状態で、試料回転装置による試料の回転
量θ1 と、この試料の回転量θ1 に対応したＸ線検出器
回転装置によるＸ線検出器の回転量２θ1 とを設定し
て、任意の回折角２θ1 における回折測定を可能ならし
めるθ−２θ制御機能と、 前記試料回転装置による試料の回転量を任意角度で固定
した状態で、Ｘ線源回転装置によるＸ線発生装置の回転
量θ2 と、このＸ線発生装置の回転量θ2 に対応したＸ
線検出器回転装置によるＸ線検出器の前記Ｘ線発生装置
とは逆向きの回転量θ2 とを設定して、任意の回折角２
θ2 における回折測定を可能ならしめるθ−θ制御機能
とが装備されたことを特徴とする請求項１に記載のＸ線
発生装置。 - 【請求項３】 前記θ−２θ制御機能において、試料回
転装置による試料の回転量θ3 を任意角度で固定した状
態で、Ｘ線検出器回転装置によるＸ線検出器の回転量θ
4 のみを変化させる２θ走査機能が装備されたことを特
徴とする請求項２に記載のＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22401992A JPH0666741A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22401992A JPH0666741A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Ｘ線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0666741A true JPH0666741A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16807316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22401992A Pending JPH0666741A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666741A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006138837A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-06-01 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd | 多機能ｘ線分析システム |
| EP2112505A1 (de) | 2008-04-22 | 2009-10-28 | Bruker AXS GmbH | Röntgendiffraktometer zum mechanisch korrelierten Verfahren von Quelle, Detektor und Probenposition |
| US8243878B2 (en) | 2010-01-07 | 2012-08-14 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | High-resolution X-ray diffraction measurement with enhanced sensitivity |
| US8437450B2 (en) | 2010-12-02 | 2013-05-07 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Fast measurement of X-ray diffraction from tilted layers |
| US8687766B2 (en) | 2010-07-13 | 2014-04-01 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Enhancing accuracy of fast high-resolution X-ray diffractometry |
| US8781070B2 (en) | 2011-08-11 | 2014-07-15 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Detection of wafer-edge defects |
| US9726624B2 (en) | 2014-06-18 | 2017-08-08 | Bruker Jv Israel Ltd. | Using multiple sources/detectors for high-throughput X-ray topography measurement |
-
1992
- 1992-08-24 JP JP22401992A patent/JPH0666741A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006138837A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-06-01 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd | 多機能ｘ線分析システム |
| EP2112505A1 (de) | 2008-04-22 | 2009-10-28 | Bruker AXS GmbH | Röntgendiffraktometer zum mechanisch korrelierten Verfahren von Quelle, Detektor und Probenposition |
| DE102008020108B3 (de) * | 2008-04-22 | 2010-01-14 | Bruker Axs Gmbh | Röntgendiffraktometer zum mechanisch korrelierten Verfahren von Quelle, Detektor und Probenposition |
| US7852983B2 (en) | 2008-04-22 | 2010-12-14 | Bruker Axs Gmbh | X-ray diffractometer for mechanically correlated movement of the source, detector, and sample position |
| US8243878B2 (en) | 2010-01-07 | 2012-08-14 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | High-resolution X-ray diffraction measurement with enhanced sensitivity |
| US8687766B2 (en) | 2010-07-13 | 2014-04-01 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Enhancing accuracy of fast high-resolution X-ray diffractometry |
| US8693635B2 (en) | 2010-07-13 | 2014-04-08 | Jordan Valley Semiconductor Ltd. | X-ray detector assembly with shield |
| US8437450B2 (en) | 2010-12-02 | 2013-05-07 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Fast measurement of X-ray diffraction from tilted layers |
| US8781070B2 (en) | 2011-08-11 | 2014-07-15 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Detection of wafer-edge defects |
| US9726624B2 (en) | 2014-06-18 | 2017-08-08 | Bruker Jv Israel Ltd. | Using multiple sources/detectors for high-throughput X-ray topography measurement |
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