JP3236688B2 - 微小領域ｘ線回折装置 - Google Patents
微小領域ｘ線回折装置Info
- Publication number
- JP3236688B2 JP3236688B2 JP01947793A JP1947793A JP3236688B2 JP 3236688 B2 JP3236688 B2 JP 3236688B2 JP 01947793 A JP01947793 A JP 01947793A JP 1947793 A JP1947793 A JP 1947793A JP 3236688 B2 JP3236688 B2 JP 3236688B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- axis
- ray
- area
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料を少なくとも２
軸回りに回転可能にした微小領域Ｘ線回折装置に関す
る。
軸回りに回転可能にした微小領域Ｘ線回折装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の微小領域Ｘ線回折装置の斜
視図である。コリメータ１０で細く絞られたＸ線は、試
料保持機構１２の取り付け棒１６の先端に取り付けた試
料の微小領域に照射され、ここで回折したＸ線は、湾曲
型の位置感応型比例計数管１４で検出される。試料保持
機構１２は三つの回転機能を備えている。試料を取り付
ける取り付け棒１６はＸＹステージ１７に固定され、こ
れらはφ回転モータ２０の作用によりφ軸１８の回りを
回転する。φ回転モータ２０はＸＹＺステージ２１に固
定され、これらがχ回転モータ２４の作用によりχ軸２
２の回りを回転する。さらに、χ回転モータ２４はブラ
ケット２５に固定され、これらがω回転モータ２８の作
用によりω軸２６の回りを回転する。全体として、試料
はφ軸１８、χ軸２２、ω軸２６の回りを回転可能にな
っている。φ軸１８とχ軸２２は互いに直交している。
また、χ軸２２とω軸２６も互いに直交している。ω軸
２６は装置の架台に対して静止している。
視図である。コリメータ１０で細く絞られたＸ線は、試
料保持機構１２の取り付け棒１６の先端に取り付けた試
料の微小領域に照射され、ここで回折したＸ線は、湾曲
型の位置感応型比例計数管１４で検出される。試料保持
機構１２は三つの回転機能を備えている。試料を取り付
ける取り付け棒１６はＸＹステージ１７に固定され、こ
れらはφ回転モータ２０の作用によりφ軸１８の回りを
回転する。φ回転モータ２０はＸＹＺステージ２１に固
定され、これらがχ回転モータ２４の作用によりχ軸２
２の回りを回転する。さらに、χ回転モータ２４はブラ
ケット２５に固定され、これらがω回転モータ２８の作
用によりω軸２６の回りを回転する。全体として、試料
はφ軸１８、χ軸２２、ω軸２６の回りを回転可能にな
っている。φ軸１８とχ軸２２は互いに直交している。
また、χ軸２２とω軸２６も互いに直交している。ω軸
２６は装置の架台に対して静止している。
【０００３】試料をφ軸１８とχ軸２２とω軸２６の回
りにランダムに回転または揺動させれば、試料はＸ線に
対して任意の方向に向くことができ、Ｘ線が照射される
微小領域に含まれる結晶粒の数が少なくても、結晶粒を
任意の方向に向かせることによって回折に寄与する結晶
粒の数をふやすことができる。
りにランダムに回転または揺動させれば、試料はＸ線に
対して任意の方向に向くことができ、Ｘ線が照射される
微小領域に含まれる結晶粒の数が少なくても、結晶粒を
任意の方向に向かせることによって回折に寄与する結晶
粒の数をふやすことができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の微小領
域Ｘ線回折装置では、試料はランダムな方向を向くこと
ができるが、次のような問題がある。すなわち、試料表
面と入射Ｘ線とのなす角度がランダムに変化することに
なり、その結果、試料内での回折線の行路が変化し、ま
た、試料上のＸ線照射面積がランダムに変化する。回折
線の行路が変化すると、回折線の強度を評価する上で吸
収因子の補正が必要になる。また、Ｘ線照射面積が変化
すると、単位面積当たりのＸ線強度が変動する。これら
の問題から、試料の定量測定が非常に困難になってく
る。また、照射面積がランダムに変化すると、目的とし
た領域以外のところまでＸ線が照射されることにもな
り、特定の微小領域だけからのデータを得たい場合には
支障が生じることもある。
域Ｘ線回折装置では、試料はランダムな方向を向くこと
ができるが、次のような問題がある。すなわち、試料表
面と入射Ｘ線とのなす角度がランダムに変化することに
なり、その結果、試料内での回折線の行路が変化し、ま
た、試料上のＸ線照射面積がランダムに変化する。回折
線の行路が変化すると、回折線の強度を評価する上で吸
収因子の補正が必要になる。また、Ｘ線照射面積が変化
すると、単位面積当たりのＸ線強度が変動する。これら
の問題から、試料の定量測定が非常に困難になってく
る。また、照射面積がランダムに変化すると、目的とし
た領域以外のところまでＸ線が照射されることにもな
り、特定の微小領域だけからのデータを得たい場合には
支障が生じることもある。
【０００５】この発明の目的は、測定中に二つの回転軸
の回りに試料を回転可能にして、かつ、照射面積を一定
にした微小領域Ｘ線回折装置を提供することにある。
の回りに試料を回転可能にして、かつ、照射面積を一定
にした微小領域Ｘ線回折装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、Ｘ線源と、
Ｘ線源からのＸ線を試料の微小領域に導くコリメータ
と、試料を少なくとも二つの回転軸の回りで回転させる
ことのできる試料保持機構と、試料で回折したＸ線を検
出する位置感応型Ｘ線検出器とを備える微小領域Ｘ線回
折装置において、前記二つの回転軸のうちの一つが、常
に、前記コリメータの軸線と同一直線上にあり、前記二
つの回転軸のもう一方が試料表面に垂直であることを特
徴とするものである。
Ｘ線源からのＸ線を試料の微小領域に導くコリメータ
と、試料を少なくとも二つの回転軸の回りで回転させる
ことのできる試料保持機構と、試料で回折したＸ線を検
出する位置感応型Ｘ線検出器とを備える微小領域Ｘ線回
折装置において、前記二つの回転軸のうちの一つが、常
に、前記コリメータの軸線と同一直線上にあり、前記二
つの回転軸のもう一方が試料表面に垂直であることを特
徴とするものである。
【０００７】この発明で、微小領域とは、およそ直径１
００μｍ以下の領域を指し、したがって、使用するコリ
メータの孔の直径も、１００μｍ以下のものが使われ
る。また、微小領域Ｘ線回折装置は、大きな試料の一部
分の微小領域を測定対象とすることは当然であるが、試
料自体が微細なものについても測定対象としている。
００μｍ以下の領域を指し、したがって、使用するコリ
メータの孔の直径も、１００μｍ以下のものが使われ
る。また、微小領域Ｘ線回折装置は、大きな試料の一部
分の微小領域を測定対象とすることは当然であるが、試
料自体が微細なものについても測定対象としている。
【０００８】
【作用】二つの回転軸の一方（φ軸）は試料表面に垂直
であり、このφ軸回りの回転は試料の面内回転を可能に
する。したがって、試料をφ軸回りに回転させても、試
料表面とＸ線とのなす角度は変化しない。また、二つの
回転軸の他方（χ軸）はコリメータの軸線と同一直線上
にあるので、試料をχ軸回りに回転させても、やはり、
試料表面とＸ線とのなす角度は変化しない。したがっ
て、この発明によれば、試料を二つの回転軸の回りで回
転させながら試料の回折測定を行っても、試料表面とＸ
線とのなす角度は変化せず、試料上のＸ線照射面積は常
に一定に保たれる。
であり、このφ軸回りの回転は試料の面内回転を可能に
する。したがって、試料をφ軸回りに回転させても、試
料表面とＸ線とのなす角度は変化しない。また、二つの
回転軸の他方（χ軸）はコリメータの軸線と同一直線上
にあるので、試料をχ軸回りに回転させても、やはり、
試料表面とＸ線とのなす角度は変化しない。したがっ
て、この発明によれば、試料を二つの回転軸の回りで回
転させながら試料の回折測定を行っても、試料表面とＸ
線とのなす角度は変化せず、試料上のＸ線照射面積は常
に一定に保たれる。
【０００９】
【実施例】図１は、この発明の一実施例の斜視図であ
る。この微小領域Ｘ線回折装置は、主として、Ｘ線源
（図示せず）と、コリメータ３０と、湾曲型の位置感応
型比例計数管３２と、試料保持機構３４とからなる。試
料保持機構３４は試料を三つの回転軸すなわち、φ軸３
６、χ（カイ）軸３８、ω軸４０の回りに回転させるこ
とができる。このうち、測定中はφ軸３６とχ軸３８の
回りに試料を回転させることができ、ω軸４０回りの回
転は、試料に対するＸ線の入射角を変更するために使用
する。図示していないが、試料の照射位置の位置決めの
ためには顕微鏡を使用している。
る。この微小領域Ｘ線回折装置は、主として、Ｘ線源
（図示せず）と、コリメータ３０と、湾曲型の位置感応
型比例計数管３２と、試料保持機構３４とからなる。試
料保持機構３４は試料を三つの回転軸すなわち、φ軸３
６、χ（カイ）軸３８、ω軸４０の回りに回転させるこ
とができる。このうち、測定中はφ軸３６とχ軸３８の
回りに試料を回転させることができ、ω軸４０回りの回
転は、試料に対するＸ線の入射角を変更するために使用
する。図示していないが、試料の照射位置の位置決めの
ためには顕微鏡を使用している。
【００１０】試料保持機構３４において、試料を取り付
ける取り付け棒４２はＸＹステージ４４に固定され、こ
れらはφ回転モータ４６の作用によりφ軸３６の回りを
回転する。φ回転モータ４６はＺステージ４８に固定さ
れ、これらがω回転モータ５０の作用によりω軸４０の
回りを回転する。さらに、ω回転モータ５０はブラケッ
ト５２に固定され、これらがχ回転モータ５４の作用に
よりχ軸３８の回りを回転する。全体として、試料はφ
軸３６、χ軸３８、ω軸４０の回りを回転可能である。
φ軸３６とω軸４０は互いに直交している。χ軸３８と
ω軸４０も互いに直交している。χ回転モータ５４は架
台に対して静止した状態で固定されている。φ軸３６は
試料表面に対して垂直であり、φ軸３６回りの回転は試
料の面内回転となる。χ軸３８はコリメータ３０の軸線
と同一直線上にあって空間的に静止している。
ける取り付け棒４２はＸＹステージ４４に固定され、こ
れらはφ回転モータ４６の作用によりφ軸３６の回りを
回転する。φ回転モータ４６はＺステージ４８に固定さ
れ、これらがω回転モータ５０の作用によりω軸４０の
回りを回転する。さらに、ω回転モータ５０はブラケッ
ト５２に固定され、これらがχ回転モータ５４の作用に
よりχ軸３８の回りを回転する。全体として、試料はφ
軸３６、χ軸３８、ω軸４０の回りを回転可能である。
φ軸３６とω軸４０は互いに直交している。χ軸３８と
ω軸４０も互いに直交している。χ回転モータ５４は架
台に対して静止した状態で固定されている。φ軸３６は
試料表面に対して垂直であり、φ軸３６回りの回転は試
料の面内回転となる。χ軸３８はコリメータ３０の軸線
と同一直線上にあって空間的に静止している。
【００１１】図２は、試料付近の側面図である。試料５
６は、その表面がφ軸３６に対して垂直になるように、
取り付け棒４２に取り付けられる。コリメータ３０から
出たＸ線は試料５６の表面に対して角度αで入射する。
試料５６内の結晶格子面で反射した回折Ｘ線は、入射Ｘ
線に対して２θの方向に出てくる。この回折Ｘ線を湾曲
型の位置感応型比例計数管３２で検出する。位置感応型
比例計数管３２では、回折Ｘ線の入射位置が分かるの
で、どの２θ位置にどれだけの強度の回折Ｘ線が出てき
たのかを判別することができる。測定中は、試料５６は
φ軸３６の回りに回転するとともに、χ軸３８の回りに
も回転する。これらの回転によって、試料５６はいろい
ろな方向を向くことになり、照射領域が微小であって
も、回折に寄与する結晶粒の数をふやすことができる。
試料５６をφ軸３６とχ軸３８の回りに回転させても、
試料表面に対するＸ線入射角度αは一定に保たれる。
６は、その表面がφ軸３６に対して垂直になるように、
取り付け棒４２に取り付けられる。コリメータ３０から
出たＸ線は試料５６の表面に対して角度αで入射する。
試料５６内の結晶格子面で反射した回折Ｘ線は、入射Ｘ
線に対して２θの方向に出てくる。この回折Ｘ線を湾曲
型の位置感応型比例計数管３２で検出する。位置感応型
比例計数管３２では、回折Ｘ線の入射位置が分かるの
で、どの２θ位置にどれだけの強度の回折Ｘ線が出てき
たのかを判別することができる。測定中は、試料５６は
φ軸３６の回りに回転するとともに、χ軸３８の回りに
も回転する。これらの回転によって、試料５６はいろい
ろな方向を向くことになり、照射領域が微小であって
も、回折に寄与する結晶粒の数をふやすことができる。
試料５６をφ軸３６とχ軸３８の回りに回転させても、
試料表面に対するＸ線入射角度αは一定に保たれる。
【００１２】試料表面に対するＸ線入射角度αを変更す
る場合には、図１においてω回転モータ５０を回転させ
る。χ軸３８に対してφ軸３６を垂直にした状態をω＝
０度と定義し、φ軸３６がχ軸３８に近付く方向をω軸
の正回転方向と定義すると、角度ωは図２の角度αすな
わち試料表面に対するＸ線入射角度に等しい。ω回転の
可能範囲は通常０〜６０度程度である。ただし、ω＝０
度になることはない。なぜならば、ω＝０度になると、
試料表面と入射Ｘ線とが平行になってしまい、特定の微
小領域にＸ線を入射させることができなくなるからであ
る。また、ω＝６０度になると、２θ＝６０度より低角
側の回折Ｘ線は試料自体に遮られて位置感応型比例計数
管３２に到達しなくなる。したがって、ω＝６０度を越
えるようになると、低角側のかなりの回折線が測定不能
になり、測定に大きな支障となる。実際の測定では、ω
＝０〜６０度の任意の角度に試料をセットして、φ回転
及びχ回転をしながら測定を行う。必要に応じて、ωの
角度を変更して複数のデータをとることもできる。
る場合には、図１においてω回転モータ５０を回転させ
る。χ軸３８に対してφ軸３６を垂直にした状態をω＝
０度と定義し、φ軸３６がχ軸３８に近付く方向をω軸
の正回転方向と定義すると、角度ωは図２の角度αすな
わち試料表面に対するＸ線入射角度に等しい。ω回転の
可能範囲は通常０〜６０度程度である。ただし、ω＝０
度になることはない。なぜならば、ω＝０度になると、
試料表面と入射Ｘ線とが平行になってしまい、特定の微
小領域にＸ線を入射させることができなくなるからであ
る。また、ω＝６０度になると、２θ＝６０度より低角
側の回折Ｘ線は試料自体に遮られて位置感応型比例計数
管３２に到達しなくなる。したがって、ω＝６０度を越
えるようになると、低角側のかなりの回折線が測定不能
になり、測定に大きな支障となる。実際の測定では、ω
＝０〜６０度の任意の角度に試料をセットして、φ回転
及びχ回転をしながら測定を行う。必要に応じて、ωの
角度を変更して複数のデータをとることもできる。
【００１３】図３（Ａ）は、コリメータの方向から見た
試料５６付近の側面図である。このときのω＝３０度で
ある。したがって、試料５６の表面に対してＸ線は３０
度の角度で入射している。取り付け棒４２の端面に取り
付けられている試料５６の微小な領域５８に、コリメー
タからのＸ線が照射されている。χ回転モータ５４（図
１参照）を駆動すると、取り付け棒４２は円錐面上を移
動することになり、試料表面に対するＸ線の入射角は変
化しない。また、試料をφ軸回りで回転してもＸ線の入
射角は変化しない。したがって、照射領域５８の面積は
一定である。図３（Ｂ）は試料５６の表面に垂直な方向
から見た試料５６の正面図である。Ｘ線ビームがほぼ円
形の場合、Ｘ線の照射領域５８は楕円形状になる。楕円
の長軸と短軸の比率はＸ線の入射角度に依存する。試料
５６をχ軸回りに回転させても、試料上の照射領域５８
はその面積を一定に保ち、かつ、試料５６との相対位置
関係も変化しない。したがって、χ軸回りの回転を行っ
ても、試料上の照射領域は物理的に全く変化しない。こ
れに対して、試料５６をφ軸回りに回転させると、試料
上の照射領域５８の面積は変化しないが、照射領域５８
と試料５６との相対位置関係が変化する。すなわち、図
３（Ｂ）において、試料５６を静止して考えると、試料
のφ軸回りの回転により、照射領域５８はその中心回り
に面内回転する。その結果、Ｘ線で照射され得る領域
は、照射領域５８を構成する楕円の長軸を直径とする円
６０内に含まれる部分である。換言すれば、この円６０
より外部の領域がＸ線照射されることはない。
試料５６付近の側面図である。このときのω＝３０度で
ある。したがって、試料５６の表面に対してＸ線は３０
度の角度で入射している。取り付け棒４２の端面に取り
付けられている試料５６の微小な領域５８に、コリメー
タからのＸ線が照射されている。χ回転モータ５４（図
１参照）を駆動すると、取り付け棒４２は円錐面上を移
動することになり、試料表面に対するＸ線の入射角は変
化しない。また、試料をφ軸回りで回転してもＸ線の入
射角は変化しない。したがって、照射領域５８の面積は
一定である。図３（Ｂ）は試料５６の表面に垂直な方向
から見た試料５６の正面図である。Ｘ線ビームがほぼ円
形の場合、Ｘ線の照射領域５８は楕円形状になる。楕円
の長軸と短軸の比率はＸ線の入射角度に依存する。試料
５６をχ軸回りに回転させても、試料上の照射領域５８
はその面積を一定に保ち、かつ、試料５６との相対位置
関係も変化しない。したがって、χ軸回りの回転を行っ
ても、試料上の照射領域は物理的に全く変化しない。こ
れに対して、試料５６をφ軸回りに回転させると、試料
上の照射領域５８の面積は変化しないが、照射領域５８
と試料５６との相対位置関係が変化する。すなわち、図
３（Ｂ）において、試料５６を静止して考えると、試料
のφ軸回りの回転により、照射領域５８はその中心回り
に面内回転する。その結果、Ｘ線で照射され得る領域
は、照射領域５８を構成する楕円の長軸を直径とする円
６０内に含まれる部分である。換言すれば、この円６０
より外部の領域がＸ線照射されることはない。
【００１４】試料の回転例を示すと、φ軸回りの回転は
０〜３６０度の間で連続回転させる。また、χ軸回りの
回転は、例えば０〜９０度の範囲で揺動回転させる。
０〜３６０度の間で連続回転させる。また、χ軸回りの
回転は、例えば０〜９０度の範囲で揺動回転させる。
【００１５】
【発明の効果】この発明によれば、試料を二つの回転軸
の回りで回転させながら回折測定をすることができて、
かつ、試料表面に対するＸ線入射角を一定にすることが
でき、また、照射面積を一定に保つことができる。した
がって、吸収因子の補正が必要なくなり、また、単位面
積当たりの照射Ｘ線強度を一定に保つことができる。そ
の結果、微小領域のＸ線回折測定において定量測定が可
能になった。
の回りで回転させながら回折測定をすることができて、
かつ、試料表面に対するＸ線入射角を一定にすることが
でき、また、照射面積を一定に保つことができる。した
がって、吸収因子の補正が必要なくなり、また、単位面
積当たりの照射Ｘ線強度を一定に保つことができる。そ
の結果、微小領域のＸ線回折測定において定量測定が可
能になった。
【図１】この発明の一実施例の斜視図である。
【図２】試料付近の側面図である。
【図３】（Ａ）はコリメータの方向から見た試料付近の
側面図、（Ｂ）は試料表面に垂直な方向から見た試料の
正面図である。
側面図、（Ｂ）は試料表面に垂直な方向から見た試料の
正面図である。
【図４】従来の微小領域Ｘ線回折装置の斜視図である。
３０…コリメータ ３２…位置感応型比例計数管 ３４…試料保持機構 ３６…φ軸 ３８…χ軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/207
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線源と、Ｘ線源からのＸ線を試料の微
小領域に導くコリメータと、試料を少なくとも二つの回
転軸の回りで回転させることのできる試料保持機構と、
試料で回折したＸ線を検出する位置感応型Ｘ線検出器と
を備える微小領域Ｘ線回折装置において、 前記二つの回転軸のうちの一つが、常に、前記コリメー
タの軸線と同一直線上にあり、前記二つの回転軸のもう
一方が試料表面に垂直であることを特徴とする微小領域
Ｘ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01947793A JP3236688B2 (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 微小領域ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01947793A JP3236688B2 (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 微小領域ｘ線回折装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06213834A JPH06213834A (ja) | 1994-08-05 |
| JP3236688B2 true JP3236688B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=12000423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01947793A Expired - Fee Related JP3236688B2 (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 微小領域ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236688B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005127817A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 |
-
1993
- 1993-01-13 JP JP01947793A patent/JP3236688B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005127817A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06213834A (ja) | 1994-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3712531B2 (ja) | Ｘａｆｓ測定方法及びｘａｆｓ測定装置 | |
| JPH01187441A (ja) | Ｘ線回折装置の三軸回転ゴニオメータ | |
| JP3236688B2 (ja) | 微小領域ｘ線回折装置 | |
| US3728541A (en) | X-ray diffractometer | |
| JPH1144662A (ja) | 微小部ｘ線分析装置 | |
| JPH05126768A (ja) | 蛍光ｘ線の分析方法 | |
| JP3269692B2 (ja) | 微小領域ｘ線回折測定方法 | |
| JP3659553B2 (ja) | Ｘ線装置 | |
| JP3703125B2 (ja) | Ｘ線装置及びｘ線測定方法 | |
| JP2000146871A (ja) | 微小部ｘ線回折測定方法及び微小部ｘ線回折装置 | |
| JP2550382B2 (ja) | Ｘ線回折装置 | |
| JPH1137958A (ja) | 結晶軸の傾き角度測定方法 | |
| JP3741398B2 (ja) | Ｘ線測定方法及びｘ線測定装置 | |
| JP2000258366A (ja) | 微小部ｘ線回折装置 | |
| JP3462910B2 (ja) | 微小角入射ｘ線装置のｘ線入射角設定方法及びその機構 | |
| JP4359116B2 (ja) | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 | |
| JP3590681B2 (ja) | Ｘ線吸収微細構造分析方法およびその装置 | |
| JP3553362B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP2999272B2 (ja) | 平行ビーム法ｘ線回折装置 | |
| JPH0875677A (ja) | 四軸型自動回折装置 | |
| JP2003149179A (ja) | 単結晶体の方位測定装置 | |
| JPH05312736A (ja) | Ｘ線単結晶方位測定装置及び測定方法 | |
| JP3626965B2 (ja) | Ｘ線装置及びｘ線測定方法 | |
| JPH0117098B2 (ja) | ||
| JP2001013092A5 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |