JP2912670B2 - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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- JP2912670B2 JP2912670B2 JP2082399A JP8239990A JP2912670B2 JP 2912670 B2 JP2912670 B2 JP 2912670B2 JP 2082399 A JP2082399 A JP 2082399A JP 8239990 A JP8239990 A JP 8239990A JP 2912670 B2 JP2912670 B2 JP 2912670B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｘ線源から発生したＸ線を試料に照射し、
その試料で回折したＸ線の強度をＸ線検出手段で測定す
るＸ線回折装置に関する。特に、Ｘ線源と試料との間に
第１結晶を配置して、Ｘ線源から発生するＸ線のうち特
性Ｘ線を取り出して試料に照射するようにしたＸ線回折
装置に関する。
その試料で回折したＸ線の強度をＸ線検出手段で測定す
るＸ線回折装置に関する。特に、Ｘ線源と試料との間に
第１結晶を配置して、Ｘ線源から発生するＸ線のうち特
性Ｘ線を取り出して試料に照射するようにしたＸ線回折
装置に関する。
［従来の技術］ 上記のような第１結晶（いわゆる結晶モノクロメー
タ）を用いたＸ線回折装置として、従来、第４図に示す
ものが知られている。この図は、そのＸ線折回装置を上
方から見たものである。
タ）を用いたＸ線回折装置として、従来、第４図に示す
ものが知られている。この図は、そのＸ線折回装置を上
方から見たものである。
この従来のＸ線回折装置は、固定配置されたＸ線発生
装置１と、同じく固定配置された第１結晶２と、そして
その第１結晶２を中心として矢印Ａ−Ａの方向に位置変
位可能なゴニオメータ３とを有している。ゴニオメータ
３の上には、試料台４および検出器アーム５が配設され
ており、試料台４の上に測定される試料６が、そして検
出器アーム５の上にＸ線検出器７が固定して取り付けら
れている。
装置１と、同じく固定配置された第１結晶２と、そして
その第１結晶２を中心として矢印Ａ−Ａの方向に位置変
位可能なゴニオメータ３とを有している。ゴニオメータ
３の上には、試料台４および検出器アーム５が配設され
ており、試料台４の上に測定される試料６が、そして検
出器アーム５の上にＸ線検出器７が固定して取り付けら
れている。
［発明が解決しようとする課題］ 上記の従来装置において第１結晶２は、周知の通り、
Ｘ線発生装置１内のターゲット８から放出されたＸ線を
単色化、すなわち特定波長のＸ線を取り出すために用い
られるものである。粉末法Ｘ線回折装置においては、こ
の第１結晶として、グラフアイト、Ge（ゲルマニウ
ム）、Si（シリコン）（110）などが用いられることが
多い。第１結晶としていずれの結晶を用いるかについて
は、測定者の選択に任せられるが、これらの各結晶は、
それぞれ異なったＸ線回折角度を有しており、従って、
第１結晶を異なる種類のものに交換した場合には、試料
台４上の試料６の位置および検出器アーム５上のＸ線検
出器７の位置にそれに合わせて調整しなければならな
い。
Ｘ線発生装置１内のターゲット８から放出されたＸ線を
単色化、すなわち特定波長のＸ線を取り出すために用い
られるものである。粉末法Ｘ線回折装置においては、こ
の第１結晶として、グラフアイト、Ge（ゲルマニウ
ム）、Si（シリコン）（110）などが用いられることが
多い。第１結晶としていずれの結晶を用いるかについて
は、測定者の選択に任せられるが、これらの各結晶は、
それぞれ異なったＸ線回折角度を有しており、従って、
第１結晶を異なる種類のものに交換した場合には、試料
台４上の試料６の位置および検出器アーム５上のＸ線検
出器７の位置にそれに合わせて調整しなければならな
い。
上記のように、ゴニオメータ３をＡ−Ａ方向へ位置変
位可能にしてあるのは、試料６およびＸ線検出器７の位
置を、用いられる第１結晶２の種類に合わせて上記のよ
うに調節できるようにするためである。
位可能にしてあるのは、試料６およびＸ線検出器７の位
置を、用いられる第１結晶２の種類に合わせて上記のよ
うに調節できるようにするためである。
しかしながら、図からも理解できるように、ゴニオメ
ータ３はその形状がかなり大きいものであり、それ故、
Ｘ線発生装置１その他の周辺機器が邪魔になって、ゴニ
オメータ３をＡ−Ａ方向へ大きく揺動させることは難し
い。従って、従来のＸ線回折装置においては、第１結晶
２としてあまり多くの種類の結晶を適用することができ
ないという問題があった。
ータ３はその形状がかなり大きいものであり、それ故、
Ｘ線発生装置１その他の周辺機器が邪魔になって、ゴニ
オメータ３をＡ−Ａ方向へ大きく揺動させることは難し
い。従って、従来のＸ線回折装置においては、第１結晶
２としてあまり多くの種類の結晶を適用することができ
ないという問題があった。
本発明は、従来のＸ線回折装置における上記の問題点
に鑑みてなされたものであって、第１結晶を用いるＸ線
回折装置において、その第１結晶として多くの種類の結
晶を用いることができるようにすることを目的とする。
に鑑みてなされたものであって、第１結晶を用いるＸ線
回折装置において、その第１結晶として多くの種類の結
晶を用いることができるようにすることを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、本発明に係るＸ線回折装
置は、Ｘ線源と試料との間に第１結晶を配置し、試料の
表面を通る試料軸はその位置が移動しないように設定さ
れ、第１結晶で回折したＸ線を試料に照射し、試料を試
料軸のまわりにθ回転させながらその試料で回折するＸ
線の強度を試料に対して相対的に回転移動するＸ線検出
手段で測定するＸ線回折装置において、上記第１結晶の
配置位置を、上記Ｘ線源からＸ線が取り出される方向に
沿って、移動させる第１結晶移動手段と、上記試料及び
上記Ｘ線検出手段を支持すると共に上記試料軸を中心と
するそれら試料及びＸ線検出手段の回転角度を測角する
ゴニオメータとを有し、そのゴニオメータは、上記試料
軸を中心として回転する方向内で配設位置を変えられる
ことを特徴とするＸ線回折装置。
置は、Ｘ線源と試料との間に第１結晶を配置し、試料の
表面を通る試料軸はその位置が移動しないように設定さ
れ、第１結晶で回折したＸ線を試料に照射し、試料を試
料軸のまわりにθ回転させながらその試料で回折するＸ
線の強度を試料に対して相対的に回転移動するＸ線検出
手段で測定するＸ線回折装置において、上記第１結晶の
配置位置を、上記Ｘ線源からＸ線が取り出される方向に
沿って、移動させる第１結晶移動手段と、上記試料及び
上記Ｘ線検出手段を支持すると共に上記試料軸を中心と
するそれら試料及びＸ線検出手段の回転角度を測角する
ゴニオメータとを有し、そのゴニオメータは、上記試料
軸を中心として回転する方向内で配設位置を変えられる
ことを特徴とするＸ線回折装置。
次に、請求項２記載のＸ線回折装置は、上記構成のＸ
線回折装置において、上記試料軸を中心として回転する
方向内で配設位置を変えられるゴニオ回転板を設け、上
記ゴニオメータはそのゴニオ回転板によって支持された
状態でその配設位置が変えられることを特徴とする。
線回折装置において、上記試料軸を中心として回転する
方向内で配設位置を変えられるゴニオ回転板を設け、上
記ゴニオメータはそのゴニオ回転板によって支持された
状態でその配設位置が変えられることを特徴とする。
次に、請求項３記載のＸ線回折装置は、上記構成のＸ
線回折装置において、上記ゴニオメータは、第１結晶か
ら遠ざかる方向あるいは第１結晶に近づく方向へ移動可
能であることを特徴とする。
線回折装置において、上記ゴニオメータは、第１結晶か
ら遠ざかる方向あるいは第１結晶に近づく方向へ移動可
能であることを特徴とする。
［作用］ Ｘ線源（Ｘ線発生装置１）から放出されるＸ線は、第
１結晶（２）によって単色化された後に試料（６）に照
射される。試料（６）で回折したＸ線はＸ線検出手段
（Ｘ線検出器７）によってそのＸ線強度が測定される。
１結晶（２）によって単色化された後に試料（６）に照
射される。試料（６）で回折したＸ線はＸ線検出手段
（Ｘ線検出器７）によってそのＸ線強度が測定される。
測定者の希望に応じ、第１結晶として異なった種類の
結晶を用いようとする場合には、第１結晶移動手段（ガ
イド溝14、突出片15など）によって第１結晶の配置位置
を変更し、そしてそれと同時に、Ｘ線光軸回動手段（ゴ
ニオ回転板11）によって試料（６）およびＸ線検出手段
（７）の配置位置をそれに応じて変更する。こうして、
用いられる第１結晶（２）の種類に応じて、試料（６）
およびＸ線検出手段（７）を所定の位置に配置する。
結晶を用いようとする場合には、第１結晶移動手段（ガ
イド溝14、突出片15など）によって第１結晶の配置位置
を変更し、そしてそれと同時に、Ｘ線光軸回動手段（ゴ
ニオ回転板11）によって試料（６）およびＸ線検出手段
（７）の配置位置をそれに応じて変更する。こうして、
用いられる第１結晶（２）の種類に応じて、試料（６）
およびＸ線検出手段（７）を所定の位置に配置する。
［実施例］ 第１図は本発明に係るＸ線回折装置の一実施例を示し
ている。この図において、先に説明した第４図に示され
ている部材と同じ部材は同じ符号を付してある。
ている。この図において、先に説明した第４図に示され
ている部材と同じ部材は同じ符号を付してある。
第１図において、フレーム９の上にゴニオメータ基台
10が載置されており、そのゴニオメータ基台10の上にゴ
ニオ回転板11が配設されている。このゴニオ回転板11
は、ゴニオメータ基台10に対して直交する軸線ω（後述
する試料軸と同一の軸線）を中心として回転移動するこ
とができ、そして回転移動後の任意の位置でクランプ、
すなわち位置固定することができるようになっている。
10が載置されており、そのゴニオメータ基台10の上にゴ
ニオ回転板11が配設されている。このゴニオ回転板11
は、ゴニオメータ基台10に対して直交する軸線ω（後述
する試料軸と同一の軸線）を中心として回転移動するこ
とができ、そして回転移動後の任意の位置でクランプ、
すなわち位置固定することができるようになっている。
ゴニオ回転板11の上には、ゴニオメータ３が固定され
ており、そのゴニオメータ３の上に試料台４および検出
器アーム５が設けられている。このゴニオメータ３は、
周知の通り、Ｘ線回折測定の際に試料台４を試料軸ωを
中心としてθ回転させ、それと同時に検出器アーム５を
その２倍の角度（２θ）で回転させるものであり、内部
にそのための回転駆動機構が納められている。この回転
駆動機構それ自体は従来よりよく知られているので、こ
こでの説明は省略する。
ており、そのゴニオメータ３の上に試料台４および検出
器アーム５が設けられている。このゴニオメータ３は、
周知の通り、Ｘ線回折測定の際に試料台４を試料軸ωを
中心としてθ回転させ、それと同時に検出器アーム５を
その２倍の角度（２θ）で回転させるものであり、内部
にそのための回転駆動機構が納められている。この回転
駆動機構それ自体は従来よりよく知られているので、こ
こでの説明は省略する。
試料台４の上には測定される試料６が装着され、一
方、検出器アーム５の上には試料６で回折したＸ線の強
度を測定するためのＸ線検出器７が設けられている。
方、検出器アーム５の上には試料６で回折したＸ線の強
度を測定するためのＸ線検出器７が設けられている。
ゴニオメータ３の左側のゴニオメータ基台10上には、
結晶支持台12がネジなどの固定手段によって固定して設
けられており、その結晶支持台12の上に第１結晶２が装
着されている。Ｘ線発生装置１は、ゴニオメータ基台10
よりも左側のフレーム９上に固定されている線源支持台
13の上に固定されている。
結晶支持台12がネジなどの固定手段によって固定して設
けられており、その結晶支持台12の上に第１結晶２が装
着されている。Ｘ線発生装置１は、ゴニオメータ基台10
よりも左側のフレーム９上に固定されている線源支持台
13の上に固定されている。
Ｘ線発生装置１から放出されたＸ線は、第１結晶２で
回折することによって単色化され、次いで、試料６に照
射されてそこで再び回折する。こうして回折したＸ線
は、Ｘ線検出器７によって受けられ、そのＸ線検出器７
によってＸ線強度が測定される。その測定の間、試料台
４はゴニオメータ３によって駆動されて試料軸ωを中心
として所定のステップ角度ごとに所定のステップ時間を
おいて回転（いわゆるθ回転）する。一方、検出器アー
ム５は同じくゴニオメータ３によって駆動されて試料軸
ωを中心として、試料台４の２倍のステップ角度で試料
台４と同じ方向へ回転（いわゆる２θ回転）する。試料
台４のθ回転により試料６も同じくθ回転し、検出器ア
ーム５の２θ回転によりＸ線検出器７も同じく２θ回転
する。このような試料６のθ回転およびＸ線検出器７の
２θ回転によって、周知のＸ線回折図形が得られる。
回折することによって単色化され、次いで、試料６に照
射されてそこで再び回折する。こうして回折したＸ線
は、Ｘ線検出器７によって受けられ、そのＸ線検出器７
によってＸ線強度が測定される。その測定の間、試料台
４はゴニオメータ３によって駆動されて試料軸ωを中心
として所定のステップ角度ごとに所定のステップ時間を
おいて回転（いわゆるθ回転）する。一方、検出器アー
ム５は同じくゴニオメータ３によって駆動されて試料軸
ωを中心として、試料台４の２倍のステップ角度で試料
台４と同じ方向へ回転（いわゆる２θ回転）する。試料
台４のθ回転により試料６も同じくθ回転し、検出器ア
ーム５の２θ回転によりＸ線検出器７も同じく２θ回転
する。このような試料６のθ回転およびＸ線検出器７の
２θ回転によって、周知のＸ線回折図形が得られる。
第２図は、第１図の装置を上方から見た状態を示して
いる。同図において、第１結晶へ入射したＸ線は、回折
角度２θで回折して試料６およびＸ線検出器７に向かっ
て進行する。なお第２図では、試料６およびＸ線検出器
７がθ＝ゼロの基準位置に置かれている場合を示してい
る。
いる。同図において、第１結晶へ入射したＸ線は、回折
角度２θで回折して試料６およびＸ線検出器７に向かっ
て進行する。なお第２図では、試料６およびＸ線検出器
７がθ＝ゼロの基準位置に置かれている場合を示してい
る。
ところで、本実施例に係るＸ線回折装置を用いて、粉
末試料の測定を行なおうとする場合には、第１結晶２と
してグラフアイト、Ge（ゲルマニウム）、Si（シリコ
ン）（110）などの各結晶が用いられる。これらの結晶
は、Ｘ線回折角度２θが比較的小さいので、第２図に示
すように、第１結晶２をできるだけＸ線発生装置１に近
い位置に配置し、その第１結晶２の右方にゴニオメータ
３を配置するという配置構成がとられる。
末試料の測定を行なおうとする場合には、第１結晶２と
してグラフアイト、Ge（ゲルマニウム）、Si（シリコ
ン）（110）などの各結晶が用いられる。これらの結晶
は、Ｘ線回折角度２θが比較的小さいので、第２図に示
すように、第１結晶２をできるだけＸ線発生装置１に近
い位置に配置し、その第１結晶２の右方にゴニオメータ
３を配置するという配置構成がとられる。
このように、第１結晶２の位置をＸ線発生装置１にで
きるだけ近づけておけば、そのＸ線発生装置１から放出
されたＸ線の減衰を抑えてＸ線の出力を高い状態に維持
できるので、都合が良い。
きるだけ近づけておけば、そのＸ線発生装置１から放出
されたＸ線の減衰を抑えてＸ線の出力を高い状態に維持
できるので、都合が良い。
他方、本実施例に係るＸ線回折装置を用いて単結晶試
料の格子欠陥、格子歪などを直接観察しようとする場合
には、いわゆる２結晶法のＸ線回折測定が実行される。
この２結晶法においては、きわめて精度の高い分解能が
要求されるので、試料６に入射するＸ線として波長幅の
狭い特性Ｘ線が必要となる。そのため、この２結晶法に
おいては通常、第１結晶２としてSi（シリコン）（40
0）が用いられている。この場合、このSi（400）はＸ線
回折角度２θが非常に大きいので、Ｘ線の光軸を調節す
るのにあたって従来であれば、試料６およびＸ線検出器
７を載置しているゴニオメータ３それ自体を、第１結晶
２を中心として第２図のＡ方向へ大きく回転させて位置
移動させなければならなかった。しかしながらその場
合、何等の措置も講じておかないと、ゴニオメータ３が
Ｘ線発生装置１にぶつかってしまうので、そのように大
きな回転移動をさせることは困難である。
料の格子欠陥、格子歪などを直接観察しようとする場合
には、いわゆる２結晶法のＸ線回折測定が実行される。
この２結晶法においては、きわめて精度の高い分解能が
要求されるので、試料６に入射するＸ線として波長幅の
狭い特性Ｘ線が必要となる。そのため、この２結晶法に
おいては通常、第１結晶２としてSi（シリコン）（40
0）が用いられている。この場合、このSi（400）はＸ線
回折角度２θが非常に大きいので、Ｘ線の光軸を調節す
るのにあたって従来であれば、試料６およびＸ線検出器
７を載置しているゴニオメータ３それ自体を、第１結晶
２を中心として第２図のＡ方向へ大きく回転させて位置
移動させなければならなかった。しかしながらその場
合、何等の措置も講じておかないと、ゴニオメータ３が
Ｘ線発生装置１にぶつかってしまうので、そのように大
きな回転移動をさせることは困難である。
このような問題を解消するため本実施例では、以下に
説明するような構成を採用している。
説明するような構成を採用している。
第１図に示すように、ゴニオメータ３はゴニオ回転板
11の上に設けられていて、試料軸ωを中心として回転す
る方向に位置移動することができるようになっている。
また、第２図に示すように、ゴニオメータ基台10のうち
結晶支持台12が固定されている所には、Ｘ線発生装置１
内のターゲット８からＸ線が取り出される方向Ｃ（すな
わち、Ｘ線取出角：通常は３゜〜12゜）に向けて、ガイ
ド溝14が設けられている。結晶支持台12の底面には、こ
のガイド溝14に嵌合することのできる突出片15（第１図
参照）が設けられており、従って結晶支持台12はガイド
溝14に沿って、すなわちＸ線発生装置１に関するＸ線取
出方向Ｃに沿って位置移動することができる。
11の上に設けられていて、試料軸ωを中心として回転す
る方向に位置移動することができるようになっている。
また、第２図に示すように、ゴニオメータ基台10のうち
結晶支持台12が固定されている所には、Ｘ線発生装置１
内のターゲット８からＸ線が取り出される方向Ｃ（すな
わち、Ｘ線取出角：通常は３゜〜12゜）に向けて、ガイ
ド溝14が設けられている。結晶支持台12の底面には、こ
のガイド溝14に嵌合することのできる突出片15（第１図
参照）が設けられており、従って結晶支持台12はガイド
溝14に沿って、すなわちＸ線発生装置１に関するＸ線取
出方向Ｃに沿って位置移動することができる。
２結晶法その他、第１結晶としてＸ線回折角度２θが
大きい結晶を用いる場合には、まず第２図において、ゴ
ニオメータ３をそれ自体を試料軸ωを中心として反時計
方向（Ｄ方向）へ回転させ、そして第３図に示すように
適宜の位置でクランプする。そしてそれと同時に、第１
結晶２を支持している結晶支持台12をガイド溝14に沿っ
てＸ線発生装置１から離れる方向（Ｅ方向）へ移動させ
て、適宜の位置でクランプする。こうして第３図に示す
ように、第１結晶２のほぼ上方位置に試料６およびＸ線
検出器７を配置する。この配置によれば、第１結晶２に
おけるＸ線回折角度２θが大きい場合であっても、その
Ｘ線を確実に試料６およびＸ線検出器７へ導くことがで
き、２結晶法などのＸ線回折測定を実行することができ
る。
大きい結晶を用いる場合には、まず第２図において、ゴ
ニオメータ３をそれ自体を試料軸ωを中心として反時計
方向（Ｄ方向）へ回転させ、そして第３図に示すように
適宜の位置でクランプする。そしてそれと同時に、第１
結晶２を支持している結晶支持台12をガイド溝14に沿っ
てＸ線発生装置１から離れる方向（Ｅ方向）へ移動させ
て、適宜の位置でクランプする。こうして第３図に示す
ように、第１結晶２のほぼ上方位置に試料６およびＸ線
検出器７を配置する。この配置によれば、第１結晶２に
おけるＸ線回折角度２θが大きい場合であっても、その
Ｘ線を確実に試料６およびＸ線検出器７へ導くことがで
き、２結晶法などのＸ線回折測定を実行することができ
る。
以上、１つの実施例をあげて本発明を説明したが、本
発明はその実施例に限定されるものではない。
発明はその実施例に限定されるものではない。
例えば、上記の実施例では、ゴニオ回転板11が単にω
軸を中心として回転移動するだけの構成としたが、この
構成に加えて、ゴニオ回転板11を第２図の矢印Ｆ−Ｆで
示すように、第１結晶２から遠ざかったり、あるいはそ
れに近づいたりする方向へ移動可能にしておくこともで
きる。このようにしておけば、Ｘ線発生装置１内のター
ゲット８から出てＸ線検出器７に到達するＸ線の光路を
できるだけ短くすることができるようになって、Ｘ線の
減衰を極力抑えることができる。
軸を中心として回転移動するだけの構成としたが、この
構成に加えて、ゴニオ回転板11を第２図の矢印Ｆ−Ｆで
示すように、第１結晶２から遠ざかったり、あるいはそ
れに近づいたりする方向へ移動可能にしておくこともで
きる。このようにしておけば、Ｘ線発生装置１内のター
ゲット８から出てＸ線検出器７に到達するＸ線の光路を
できるだけ短くすることができるようになって、Ｘ線の
減衰を極力抑えることができる。
また、第１結晶２の配置位置をＸ線発生装置１に関す
るＸ線取出角方向（Ｃ方向）に沿って移動させるための
手段として、ゴニオメータ基台10に設けたガイド溝14
と、結晶支持台12の底面に設けられていてそのガイド溝
14に嵌合する突出片15とを利用したが、第１結晶２をＸ
線取出角方向（Ｃ方向）へ正確に移動させることができ
さえされば、その他任意の移動方法を採用することがで
きる。
るＸ線取出角方向（Ｃ方向）に沿って移動させるための
手段として、ゴニオメータ基台10に設けたガイド溝14
と、結晶支持台12の底面に設けられていてそのガイド溝
14に嵌合する突出片15とを利用したが、第１結晶２をＸ
線取出角方向（Ｃ方向）へ正確に移動させることができ
さえされば、その他任意の移動方法を採用することがで
きる。
［発明の効果］ 本発明によれば、第１結晶移動手段によって第１結晶
の配置位置を変更し、同時にＸ線光軸回動手段によって
試料およびＸ線検出手段の配置位置を変更することによ
り、種々のＸ線回折特性を有する結晶を第１結晶として
用いることが可能となった。これにより、粉末法Ｘ線回
折測定、２結晶法Ｘ線回折測定など、異なった種類の結
晶を第１結晶として用いる多くの種類のＸ線回折測定
を、１つのＸ線回折装置によって行うことができるよう
になった。
の配置位置を変更し、同時にＸ線光軸回動手段によって
試料およびＸ線検出手段の配置位置を変更することによ
り、種々のＸ線回折特性を有する結晶を第１結晶として
用いることが可能となった。これにより、粉末法Ｘ線回
折測定、２結晶法Ｘ線回折測定など、異なった種類の結
晶を第１結晶として用いる多くの種類のＸ線回折測定
を、１つのＸ線回折装置によって行うことができるよう
になった。
第１図は、本発明に係るＸ線回折装置の一実施例を示す
側面図、第２図はそのＸ線回折装置を上方から見た場合
の平面図、第３図は第２図において試料などの配置位置
条件を変更した状態を示す平面図、第４図は従来のＸ線
回折装置の一例を示す平面図である。 １……Ｘ線発生装置、２……第１結晶、３……ゴニオメ
ータ、６……試料、７……Ｘ線検出器、10……ゴニオメ
ータ基台、11……ゴニオ回転板、14……ガイド溝、15…
…突出片、ω……試料軸
側面図、第２図はそのＸ線回折装置を上方から見た場合
の平面図、第３図は第２図において試料などの配置位置
条件を変更した状態を示す平面図、第４図は従来のＸ線
回折装置の一例を示す平面図である。 １……Ｘ線発生装置、２……第１結晶、３……ゴニオメ
ータ、６……試料、７……Ｘ線検出器、10……ゴニオメ
ータ基台、11……ゴニオ回転板、14……ガイド溝、15…
…突出片、ω……試料軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 勇二 東京都昭島市松原町３―９―12 理学電 機株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−214747（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−124348（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 23/20 - 23/227
Claims (3)
- 【請求項１】Ｘ線源と試料との間に第１結晶を配置し、
試料の表面を通る試料軸はその位置が移動しないように
設定され、第１結晶で回折したＸ線を試料に照射し、試
料を試料軸のまわりにθ回転させながらその試料で回折
するＸ線の強度を試料に対して相対的に回転移動するＸ
線検出手段で測定するＸ線回折装置において、 上記第１結晶の配置位置を、上記Ｘ線源からＸ線が取り
出される方向に沿って、移動させる第１結晶移動手段
と、 上記試料及び上記Ｘ線検出手段を支持すると共に上記試
料軸を中心とするそれら試料及びＸ線検出手段の回転角
度を測角するゴニオメータとを有し、 そのゴニオメータは、上記試料軸を中心として回転する
方向内で配設位置を変えられることを特徴とするＸ線回
折装置。 - 【請求項２】請求項１において、上記試料軸を中心とし
て回転する方向内で配設位置を変えられるゴニオ回転板
を設け、上記ゴニオメータはそのゴニオ回転板によって
支持された状態でその配設位置が変えられることを特徴
とするＸ線回折装置。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２において、上記ゴニ
オメータは、第１結晶から遠ざかる方向あるいは第１結
晶に近づく方向へ移動可能であることを特徴とするＸ線
回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082399A JP2912670B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082399A JP2912670B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Ｘ線回折装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03282240A JPH03282240A (ja) | 1991-12-12 |
| JP2912670B2 true JP2912670B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=13773515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2082399A Expired - Fee Related JP2912670B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2912670B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP2082399A patent/JP2912670B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03282240A (ja) | 1991-12-12 |
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