JPH0658533B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPH0658533B2 JPH0658533B2 JP8899388A JP8899388A JPH0658533B2 JP H0658533 B2 JPH0658533 B2 JP H0658533B2 JP 8899388 A JP8899388 A JP 8899388A JP 8899388 A JP8899388 A JP 8899388A JP H0658533 B2 JPH0658533 B2 JP H0658533B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- diacrylate
- photosensitive resin
- resin composition
- dyed
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はガラス等の透明な基材をアニオン性染料により
任意に色調に容易に染色する為の感光性樹脂組成物に関
するものである。
任意に色調に容易に染色する為の感光性樹脂組成物に関
するものである。
近年ガラス等の透明な基材を着色し各種デスプレー等に
使用されつつある。特にガラス等の透明基材を着色し色
分解用フイルターとして液晶カラーテレビジョン、又は
カラーテレビジョン用カメラのカラー化の為に益々需要
が増大しつつある。
使用されつつある。特にガラス等の透明基材を着色し色
分解用フイルターとして液晶カラーテレビジョン、又は
カラーテレビジョン用カメラのカラー化の為に益々需要
が増大しつつある。
本発明はかかる需要を満たす為になされたガラス等の透
明基材の染色の為の感光性樹脂組成物に関するものであ
る。
明基材の染色の為の感光性樹脂組成物に関するものであ
る。
（従来の技術） 従来この分野に於いては主としてカゼイン、ゼラチン等
蛋白質系天然高分子物質が用いられているが、これ等の
用い方はカゼイン、ゼラチン等を温水で溶解した液に光
硬化材として重クロム酸カリウム又はアンモニウムを添
加してこれをガラス板にスピンコート法で塗布し、次に
マスクを介して活性光線を照射してガラス板に可染性層
の潜像を形成させ、次に現象により可染性層を顕在化さ
せる。次にこれを染料により染色する等天然高分子物質
が用いられている。
蛋白質系天然高分子物質が用いられているが、これ等の
用い方はカゼイン、ゼラチン等を温水で溶解した液に光
硬化材として重クロム酸カリウム又はアンモニウムを添
加してこれをガラス板にスピンコート法で塗布し、次に
マスクを介して活性光線を照射してガラス板に可染性層
の潜像を形成させ、次に現象により可染性層を顕在化さ
せる。次にこれを染料により染色する等天然高分子物質
が用いられている。
（発明が解決しようとする課題） このカゼイン、ゼラチン等を用いる場合、これらが天然
物である為に腐敗し易いとか品質が一定せず原料ソース
によるバラツキが大きく色の再現性が極めて劣るとか、
熱水中で剥離し易く、又熱による物性劣化が大きく、加
工条件が制約される等の欠点がある。更に染色時の染浴
温度が制約される為濃色が得難い等の染色上での問題が
ある。
物である為に腐敗し易いとか品質が一定せず原料ソース
によるバラツキが大きく色の再現性が極めて劣るとか、
熱水中で剥離し易く、又熱による物性劣化が大きく、加
工条件が制約される等の欠点がある。更に染色時の染浴
温度が制約される為濃色が得難い等の染色上での問題が
ある。
更にこれらカゼイン、ゼラチン等を使用する場合、光硬
化剤として重クロム酸アンモニウム又は重クロム酸カリ
ウム等を用いるから、これらの作業工程及び廃棄の際に
公害の問題等を解決しなければならなく、更にゼラチン
に取り込まれたクロムが完全に除去できず残存したクロ
ムが悪影響を与える等の問題もある。
化剤として重クロム酸アンモニウム又は重クロム酸カリ
ウム等を用いるから、これらの作業工程及び廃棄の際に
公害の問題等を解決しなければならなく、更にゼラチン
に取り込まれたクロムが完全に除去できず残存したクロ
ムが悪影響を与える等の問題もある。
本発明者等はこれらの問題を解決すべく合成高分子の検
討を行った。先ずアニオン性染料と親和性を有する塩基
性基又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマーを用
いて基材表面を染色しようと試みたが、この場合このポ
リマー自体はアニオン性染料と親和性を有するので可染
性であるが、水溶性である為に、これをガラス基材等に
塗布し乾燥後染色を行うと染色工程に於いて、基材表面
から塗膜が染浴中に剥離してしまい、染色の目的を果た
すことも染色された染色基材も得ることが出来なかっ
た。更に本発明者等は可染性ポリマーに架橋剤としてア
ジド化合物を添加しこの感光性樹脂組成物をガラス板等
の基材表面に塗布光照射することにより、膜剥離のない
染色性の良い樹脂膜を作成することが出来ることがわか
り、実用に供しつつある。しかし最近に至り高解像度の
品質、工程のスピードアップ、省エネルギー等の要求の
為に、感光性樹脂組成物の硬化に用いる光量の一層の減
少を求められていた。一般に感光性樹脂組成物に対する
光量が不足すると膜が弱く染色時に膜荒れ現像を起し、
染色膜は不透明となる。又染色性も悪く、解像性も劣
る。更に又画像の寸法安定性も悪い等の問題がある。か
かる要求を満たす為に感光性樹脂組成物中のアジド化合
物の光反応速度を早める為に従来公知の種々の増感剤を
添加し、その効果を検討したが満足の得られるものはな
かった。
討を行った。先ずアニオン性染料と親和性を有する塩基
性基又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマーを用
いて基材表面を染色しようと試みたが、この場合このポ
リマー自体はアニオン性染料と親和性を有するので可染
性であるが、水溶性である為に、これをガラス基材等に
塗布し乾燥後染色を行うと染色工程に於いて、基材表面
から塗膜が染浴中に剥離してしまい、染色の目的を果た
すことも染色された染色基材も得ることが出来なかっ
た。更に本発明者等は可染性ポリマーに架橋剤としてア
ジド化合物を添加しこの感光性樹脂組成物をガラス板等
の基材表面に塗布光照射することにより、膜剥離のない
染色性の良い樹脂膜を作成することが出来ることがわか
り、実用に供しつつある。しかし最近に至り高解像度の
品質、工程のスピードアップ、省エネルギー等の要求の
為に、感光性樹脂組成物の硬化に用いる光量の一層の減
少を求められていた。一般に感光性樹脂組成物に対する
光量が不足すると膜が弱く染色時に膜荒れ現像を起し、
染色膜は不透明となる。又染色性も悪く、解像性も劣
る。更に又画像の寸法安定性も悪い等の問題がある。か
かる要求を満たす為に感光性樹脂組成物中のアジド化合
物の光反応速度を早める為に従来公知の種々の増感剤を
添加し、その効果を検討したが満足の得られるものはな
かった。
（課題を解決するための手段） 本発明者等はかかる問題を解決する為に更に検討を重ね
た結果 （ａ）アニオン性染料可染性ポリマー（Ａ）、 （ｂ）アジド感光性化合物及び （Ｂ） （ｃ）同一分子内にアクリロイル基及び／又は メタクリロイル基を２ケ以上有する化合 物 （Ｃ） を含む感光性樹脂組成物 （Ｄ） を用いることにより目的を達成出来ることがわかり本発
明を完成するに至った。
た結果 （ａ）アニオン性染料可染性ポリマー（Ａ）、 （ｂ）アジド感光性化合物及び （Ｂ） （ｃ）同一分子内にアクリロイル基及び／又は メタクリロイル基を２ケ以上有する化合 物 （Ｃ） を含む感光性樹脂組成物 （Ｄ） を用いることにより目的を達成出来ることがわかり本発
明を完成するに至った。
即ち本発明に用いられる感光性樹脂組成物（Ｄ）はアジ
ド感光性化合物（Ｂ）のみを用いた場合に比して数分の
１の光量で硬化反応を行い目的が達成される。一般に化
合物（Ｃ）はこれ単独ではアジド感光性化合物（Ｂ）の
数倍も多く光量を必要とする。所が、アジド感光性化合
物（Ｂ）と化合物（Ｃ）を同時に用いる事により、少量
の光量で目的を達成出来る。これはアジド感光性化合物
（Ｂ）と化合物（Ｃ）との間に何らかの好ましい相互作
用が働く為に少量の光量で目的で達成されるものと推定
される。
ド感光性化合物（Ｂ）のみを用いた場合に比して数分の
１の光量で硬化反応を行い目的が達成される。一般に化
合物（Ｃ）はこれ単独ではアジド感光性化合物（Ｂ）の
数倍も多く光量を必要とする。所が、アジド感光性化合
物（Ｂ）と化合物（Ｃ）を同時に用いる事により、少量
の光量で目的を達成出来る。これはアジド感光性化合物
（Ｂ）と化合物（Ｃ）との間に何らかの好ましい相互作
用が働く為に少量の光量で目的で達成されるものと推定
される。
本発明で用いられるアニオン性染料可染性ポリマー
（Ａ）は可染性モノマー（イ）、親水性モノマー
（ロ）、疎水性モノマー（ハ）を構成成分としている事
が好ましい。又ポリマー（Ａ）は従来公知の重合方法を
用いる事により作成出来る。
（Ａ）は可染性モノマー（イ）、親水性モノマー
（ロ）、疎水性モノマー（ハ）を構成成分としている事
が好ましい。又ポリマー（Ａ）は従来公知の重合方法を
用いる事により作成出来る。
ここで可染性モノマー（イ）としては例えば次のものが
挙げられる。
挙げられる。
（N,N−ジメチルアミノ）エチルアクリレート、 （N,N−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート、 （N,N−ジエチルアミノ）エチルアクリレート、 （N,N−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート、 （N,N−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミド、 （N,N−ジメチルアミノ）プロピルメタクリルアミド、 （N,N−ジメチルアミノ）エチルビニルエーテル、 （N,N−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート、 （N,N−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート、 ４−ビニールピリジン、ジアリールアミン、 ２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルト
リメチルアンモニウムクロライド、 メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムク
ロライド 又親水性モノマー（ロ）としては例えば次のものが挙げ
られる。
リメチルアンモニウムクロライド、 メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムク
ロライド 又親水性モノマー（ロ）としては例えば次のものが挙げ
られる。
ヒドロキシエチルアクリレート、 ヒドロキシエチルメタクリレート、 アクリルアミド、メタクリルアミド、 ビニールピロリドン、 ジメチルアミノアクリルアミド、 メチルアミノアクリルアミド 又疎水性モノマー（ハ）としては次のものが挙げられ
る。
る。
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、 エチルアクリレート、スチテン、 Ｐ−メチルスチレン、ブチルアクリレート、 ブチルメタクリレート、 ２−エチルヘキシルアクリレート、 ２−エチルヘキシルメタクリレート、 これら可染性モノマー（イ）、親水性モノマー（ロ）、
疎水性モノマー（ハ）の配合割合は可染性モノマー
（イ）１０〜８０重量％、親水性モノマー（ロ）２〜６
０％重量％、疎水性モノマー（ハ）５〜５０重量％であ
る事が好ましい。又このようにして作成されたポリマー
（Ａ）の分子量は５，０００〜２００，０００が好まし
く、特に１０，０００〜１００，０００であることが好
ましい。
疎水性モノマー（ハ）の配合割合は可染性モノマー
（イ）１０〜８０重量％、親水性モノマー（ロ）２〜６
０％重量％、疎水性モノマー（ハ）５〜５０重量％であ
る事が好ましい。又このようにして作成されたポリマー
（Ａ）の分子量は５，０００〜２００，０００が好まし
く、特に１０，０００〜１００，０００であることが好
ましい。
又本発明で用いられるアジド感光性化合物（Ｂ）として
は次のものが挙げられる。
は次のものが挙げられる。
4,4′−ジアジドカルコン、 2,6−ビス（４′−アジドベンザル）シクロヘキサノ
ン、 2,6−ビス（４′−アジドベンザル）４−メチルシクロ
ヘキサノン、 1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパノ
ン、 Ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、 Ｐ−アジドベンザルアセトン、 1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパノン
−２′−スルホン酸、 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸、 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ソー
ダ、 1,3−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）−２−プロパノン、 1,3−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸ソーダ−
ベンザル）−２−プロパノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）シクロヘキサノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）メチルシクロヘキサノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸ソーダ−
ベンザル）メチルシクロヘキサノン、 これらアジド感光性化合物（Ｂ）の使用量は可染性ポリ
マー（Ａ）１００部に対して0.1〜２０部が好ましく、
特に0.5〜１０部が好ましい。
ン、 2,6−ビス（４′−アジドベンザル）４−メチルシクロ
ヘキサノン、 1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパノ
ン、 Ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、 Ｐ−アジドベンザルアセトン、 1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパノン
−２′−スルホン酸、 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸、 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ソー
ダ、 1,3−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）−２−プロパノン、 1,3−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸ソーダ−
ベンザル）−２−プロパノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）シクロヘキサノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸−ベンザ
ル）メチルシクロヘキサノン、 2,6−ビス（４′−アジド−２′−スルホン酸ソーダ−
ベンザル）メチルシクロヘキサノン、 これらアジド感光性化合物（Ｂ）の使用量は可染性ポリ
マー（Ａ）１００部に対して0.1〜２０部が好ましく、
特に0.5〜１０部が好ましい。
これらアジド感光性化合物（Ｂ）の中でスルホン基を有
するものは、水溶性である為、現像性が良く、低温で短
時間に現像出来る利点を有する。
するものは、水溶性である為、現像性が良く、低温で短
時間に現像出来る利点を有する。
又本発明で用いられる化合物（Ｃ）としては例えば次の
ものが挙げられる。
ものが挙げられる。
スピログリコールジアクリレート〔3,9−ビス（２−ア
クリロイルオキシ−1,1−ジメチル）−2,4,8,1０−テト
ラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン〕、 シクロヘキサンジメチロールジアクリレート、 エチレングリコールジアクリレート、 ジエチレングリコールジアクリレート、 トリエチレングリコールジアクリレート、 ポリエチレングリコールジアクリレート、 ポリプロピレングリコールジアクリレート、 ブチレングリコールジアクリレート、 ネオペンチルグリコールジアクリレート、 1,4−ブタンジオールジアクリレート、 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、 ペンタエリスリトールジアクリレート、 ペンタエリスリトールトリアクリレート、 トリメチロールプロパントリアクリレート、 ノボラック系エポキシアクリレート、 ビスフエノールＡ系エポキシアクリレート、 アルキレングリコールジエポキシアクリレート、 グリシジルエステルアクリレート、 ポリエステル系ジアクリレート、 ビスフエノールＡ系ジアクリレート、 ウレタン系ジアクリレート、 メチレンビスアクリルアミド、 エチレングリコールジメタクリレート、 ジエチレングリコールジメタクリレート、 トリエチレングリコールジメタクリレート、 ポリエチレングリコールジメタクリレート、 プロピレングリコールジメタクリレート、 ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、 1,4−ブタンジオールジメタクリレート、 1,6−ヘンサンジオールジメタクリレート、 トリメチロールプロパントリメタクリレート、 これら化合物（Ｃ）の使用量は可染性ポリマー（Ａ）１
００部に対して0.1部〜２０部が好ましく、特に0.5〜１
０部が好ましい。
クリロイルオキシ−1,1−ジメチル）−2,4,8,1０−テト
ラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン〕、 シクロヘキサンジメチロールジアクリレート、 エチレングリコールジアクリレート、 ジエチレングリコールジアクリレート、 トリエチレングリコールジアクリレート、 ポリエチレングリコールジアクリレート、 ポリプロピレングリコールジアクリレート、 ブチレングリコールジアクリレート、 ネオペンチルグリコールジアクリレート、 1,4−ブタンジオールジアクリレート、 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、 ペンタエリスリトールジアクリレート、 ペンタエリスリトールトリアクリレート、 トリメチロールプロパントリアクリレート、 ノボラック系エポキシアクリレート、 ビスフエノールＡ系エポキシアクリレート、 アルキレングリコールジエポキシアクリレート、 グリシジルエステルアクリレート、 ポリエステル系ジアクリレート、 ビスフエノールＡ系ジアクリレート、 ウレタン系ジアクリレート、 メチレンビスアクリルアミド、 エチレングリコールジメタクリレート、 ジエチレングリコールジメタクリレート、 トリエチレングリコールジメタクリレート、 ポリエチレングリコールジメタクリレート、 プロピレングリコールジメタクリレート、 ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、 1,4−ブタンジオールジメタクリレート、 1,6−ヘンサンジオールジメタクリレート、 トリメチロールプロパントリメタクリレート、 これら化合物（Ｃ）の使用量は可染性ポリマー（Ａ）１
００部に対して0.1部〜２０部が好ましく、特に0.5〜１
０部が好ましい。
以上の組成より成る感光性樹脂組成物は通常有機溶剤等
により希釈されて使用される。有機溶剤としては例え
ば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、
キシレン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエー
テル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレン
グリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられるが、これら１種
又は２種以上の混合系でも良い。この可染性感光性樹脂
液中に占める有機溶剤の割合はこれら樹脂液中に占める
組成によって異なるので一概に規定出来ないが、樹脂液
を基材表面に塗布可能な粘度となるようにすることが好
ましい。
により希釈されて使用される。有機溶剤としては例え
ば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、
キシレン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエー
テル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレン
グリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられるが、これら１種
又は２種以上の混合系でも良い。この可染性感光性樹脂
液中に占める有機溶剤の割合はこれら樹脂液中に占める
組成によって異なるので一概に規定出来ないが、樹脂液
を基材表面に塗布可能な粘度となるようにすることが好
ましい。
更に又可染性樹脂膜とガラス板との密着性を良くする為
に感光性樹脂組成物に通常シランカップリング剤を添加
する。添加割合は可染性ポリマー（Ａ）１００部に対し
て0.1〜２０部が好ましく、特に0.5〜１０部が好まし
い。
に感光性樹脂組成物に通常シランカップリング剤を添加
する。添加割合は可染性ポリマー（Ａ）１００部に対し
て0.1〜２０部が好ましく、特に0.5〜１０部が好まし
い。
この可染性樹脂液を塗布したガラス等の基材は通常マス
クを介して紫外線等により露光される。未露光部は水溶
液により現像される。
クを介して紫外線等により露光される。未露光部は水溶
液により現像される。
現像は常温〜６０℃が好ましい。このように現像された
樹脂の膜厚は例えば0.2〜１０μの任意の厚さに膜を作
成出来る。現像された所定のパターンを有するガラス、
プラスチック等の基材はアニオン染料により染色され
る。
樹脂の膜厚は例えば0.2〜１０μの任意の厚さに膜を作
成出来る。現像された所定のパターンを有するガラス、
プラスチック等の基材はアニオン染料により染色され
る。
アニオン性染料としてはカラーインデックス（Society
of Dyers and Colourists発行）にC.l.Acidとして記載
されている酸性染料、同じくC.l.Directとして記載され
ている直接染料及び同じくC.l.Reactiveとして記載され
ている反応性染料等が挙げられるが、特に酸性染料が好
ましい。酸性染料としてはC.l.Acid Yellow１７、同４
９、同６７、同７２、同１２７、同１１０、同１３５、
同１６１、C.l.Acid Red３７、同５０、同１１１、同１
１４、同２５７、同２６６、同３１７、C.l.Acid Blue
４１、同８３、同９０、同１１３、同１２９、同１８
２、同１２５、C.l.Acid Orange７、同５６、C.l.Acid
Green２５、同４１、C.l.Acid Violet９７、同２７、同
２８、同４８等が挙げられる。
of Dyers and Colourists発行）にC.l.Acidとして記載
されている酸性染料、同じくC.l.Directとして記載され
ている直接染料及び同じくC.l.Reactiveとして記載され
ている反応性染料等が挙げられるが、特に酸性染料が好
ましい。酸性染料としてはC.l.Acid Yellow１７、同４
９、同６７、同７２、同１２７、同１１０、同１３５、
同１６１、C.l.Acid Red３７、同５０、同１１１、同１
１４、同２５７、同２６６、同３１７、C.l.Acid Blue
４１、同８３、同９０、同１１３、同１２９、同１８
２、同１２５、C.l.Acid Orange７、同５６、C.l.Acid
Green２５、同４１、C.l.Acid Violet９７、同２７、同
２８、同４８等が挙げられる。
これらを用いて染色する方法は染料0.0１〜２００重量
部を水１０００重量部に溶解する。この際液のpHは弱ア
ルカリ〜酸性の範囲で良い。この染料溶液にて室温〜１
００℃の温度範囲で染色するものであるが、高温で染色
すると短時間で染色物を得ることが出来るので高温で行
うことが好ましい。このようにして染色を行ったのち染
色物を取出し乾燥を行うと表面被膜が染色された染色基
材が得られる。
部を水１０００重量部に溶解する。この際液のpHは弱ア
ルカリ〜酸性の範囲で良い。この染料溶液にて室温〜１
００℃の温度範囲で染色するものであるが、高温で染色
すると短時間で染色物を得ることが出来るので高温で行
うことが好ましい。このようにして染色を行ったのち染
色物を取出し乾燥を行うと表面被膜が染色された染色基
材が得られる。
（実施例） 実施例１ ジメチルアミノプロピルアクリルアミド ３１部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １４部 ビニルピロリドン １５部 メチルメタクリレート １５部 メチルアクリレート １３部 ジメチルアミノアクリルアミド １０部 ジオキサン ２００部 α，α′−アゾビス（イソブチロニトリル）１部 上記処方の液体を窒素雰囲気中８０℃、５時間重合反応
を行わせたのち、この重合溶液を多量のイソプロピルエ
ーテル中に投入しポリマー分を沈澱させたのちこのポリ
マーを取出し乾燥を行う。この乾燥ポリマー１５部に4,
4′−ジアジドカルコン0.6３部、スピログリコールジア
クリレート0.5７部、エチルセロソルブ８８部、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル２７部、シランカップ
リング剤ＫＢＭ６０３（信越化学工業（株））0.6部を
混合溶解させた溶液を可染性感光性樹脂液とした。
を行わせたのち、この重合溶液を多量のイソプロピルエ
ーテル中に投入しポリマー分を沈澱させたのちこのポリ
マーを取出し乾燥を行う。この乾燥ポリマー１５部に4,
4′−ジアジドカルコン0.6３部、スピログリコールジア
クリレート0.5７部、エチルセロソルブ８８部、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル２７部、シランカップ
リング剤ＫＢＭ６０３（信越化学工業（株））0.6部を
混合溶解させた溶液を可染性感光性樹脂液とした。
次にこれをスピンコート法によりガラス板にコートし、
８０℃、３０分乾燥後解像度テスト用パターンを有する
マスクを介して面照度８mw/cm2のＵＶ照射を５秒間行
い、エマルゲン９１３（花王石鹸（株）製、ポリオキシ
エチレンノニルフエノールエーテル型非イオン界面活性
剤）を水１０００部に対して２部含有する６０℃の現像
液にて攪拌下、５分間現像を行うと照射部のみ可染膜を
有するガラス基板が得られた。このガラス板を更に１６
０℃、３０分間ポストベーク後の膜厚は0.5μであっ
た。このガラス板をブルー４３Ｐ（日本化薬（株）製、
カラーフイルター用色素）を0.2％となるように水に溶
解させ、６０℃、１０分間染色を行うと濃厚青色のパタ
ーンに染色されたガラス板が得られた。このガラス板の
パターンの解像度は５μで、染色膜の透明性、画像の寸
法安定性共に満足いくものであった。
８０℃、３０分乾燥後解像度テスト用パターンを有する
マスクを介して面照度８mw/cm2のＵＶ照射を５秒間行
い、エマルゲン９１３（花王石鹸（株）製、ポリオキシ
エチレンノニルフエノールエーテル型非イオン界面活性
剤）を水１０００部に対して２部含有する６０℃の現像
液にて攪拌下、５分間現像を行うと照射部のみ可染膜を
有するガラス基板が得られた。このガラス板を更に１６
０℃、３０分間ポストベーク後の膜厚は0.5μであっ
た。このガラス板をブルー４３Ｐ（日本化薬（株）製、
カラーフイルター用色素）を0.2％となるように水に溶
解させ、６０℃、１０分間染色を行うと濃厚青色のパタ
ーンに染色されたガラス板が得られた。このガラス板の
パターンの解像度は５μで、染色膜の透明性、画像の寸
法安定性共に満足いくものであった。
実施例２ 実施例１に於いてスピログリコールジアクリレート0.5
７部の代りに、ＳＵ−４１００（三菱油化フアイン
（株）製、ポリアクリレートオリゴマー）0.5９部を使
用して同様に操作を行った。実施例１と同様の解像度、
染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ
照射時間は７秒であった。
７部の代りに、ＳＵ−４１００（三菱油化フアイン
（株）製、ポリアクリレートオリゴマー）0.5９部を使
用して同様に操作を行った。実施例１と同様の解像度、
染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ
照射時間は７秒であった。
実施例３ 実施例１に於いてスピログコールジアクリレート0.5７
部の代りにシクロヘキサンジメチロールジアクリレート
0.6７部を使用して同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は５秒であった。
部の代りにシクロヘキサンジメチロールジアクリレート
0.6７部を使用して同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は５秒であった。
実施例４ 実施例１に於いて4,4′−ジアジドカルコン0.6３部の代
りに1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパ
ノン0.2部、4,4′−ジアジドカルコン0.4部を使用して
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は５秒であった。
りに1,3−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロパ
ノン0.2部、4,4′−ジアジドカルコン0.4部を使用して
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は５秒であった。
実施例５ 実施例１に於いてスピログリコールジアクリレート0.5
７部の代りにエチレングリコールジメタクリレート0.3
部、スピログリコールジアクリレート0.3部を使用して
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は５秒であった。
７部の代りにエチレングリコールジメタクリレート0.3
部、スピログリコールジアクリレート0.3部を使用して
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は５秒であった。
実施例６ 実施例１に於いて4,4′−ジアジドカルコン0.6３部の代
りにｐ−アジドベンザルアセトフエノン0.6５部を使用
して同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染
色膜の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照
射時間は５秒であった。
りにｐ−アジドベンザルアセトフエノン0.6５部を使用
して同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染
色膜の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照
射時間は５秒であった。
参考例１ 実施例１に於いてスピログリコールジアクリレート0.5
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は４０秒であった。
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は４０秒であった。
参考例２ 実施例４に於いてスピログリコールジアクリレート0.5
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例４と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は３５秒であった。
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例４と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は３５秒であった。
参考例３ 実施例６に於いてスピログリコールジアクリレート0.5
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は４３秒であった。
７部を添加しないで同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は４３秒であった。
実施例７ 実施例１に於いて4,4′−ジアジドカルコン0.6３部の代
りに4,4′−ジアジドスチルベン−2,2−ジスルホン酸ソ
ーダ0.6８部及びスピログリコールジアクリレート0.5７
部の代りにシクロヘキサンジメチロールジアクリレート
0.6７部を使用したこと及び、６０℃の現像液にて攪拌
下、５分間現像を行う代りに２５℃の現像液にて攪拌下
１分間現像を行った以外はすべて同様の操作を行った。
実施例１と同様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法
安定性を得るに必要なＵＶ照射時間は５秒であった。
りに4,4′−ジアジドスチルベン−2,2−ジスルホン酸ソ
ーダ0.6８部及びスピログリコールジアクリレート0.5７
部の代りにシクロヘキサンジメチロールジアクリレート
0.6７部を使用したこと及び、６０℃の現像液にて攪拌
下、５分間現像を行う代りに２５℃の現像液にて攪拌下
１分間現像を行った以外はすべて同様の操作を行った。
実施例１と同様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法
安定性を得るに必要なＵＶ照射時間は５秒であった。
実施例８ 実施例１に於いて4,4′−ジアジドカルコン0.6３部の代
りに1,3′−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロ
パノン−２′−スルホン酸0.6７部及びスピログリコー
ルジアクリレート0.5７部の代りにシクロヘキサンジメ
チロールジアクリレート0.6７部を使用したこと及び６
０℃の現像液にて攪拌下、５分間現像を行う代りに２５
℃の現像液にて攪拌下２分間現像を行った以外はすべて
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は２０秒であった。
りに1,3′−ビス（４′−アジドベンザル）−２−プロ
パノン−２′−スルホン酸0.6７部及びスピログリコー
ルジアクリレート0.5７部の代りにシクロヘキサンジメ
チロールジアクリレート0.6７部を使用したこと及び６
０℃の現像液にて攪拌下、５分間現像を行う代りに２５
℃の現像液にて攪拌下２分間現像を行った以外はすべて
同様の操作を行った。実施例１と同様の解像度、染色膜
の透明性、画像の寸法安定性を得るに必要なＵＶ照射時
間は２０秒であった。
参考例４ 実施例７に於いてシクロヘキサンジメチロールジアクリ
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った所、
ＵＶ照射を３０秒行っても画像形成が悪く、満足な結果
が得られなかった。
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った所、
ＵＶ照射を３０秒行っても画像形成が悪く、満足な結果
が得られなかった。
参考例５ 実施例８に於いてシクロヘキサンジメチロールジアクリ
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った所、
ＵＶ照射を６０秒おこなっても画像形成が悪く、満足な
結果が得られなかった。
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った所、
ＵＶ照射を６０秒おこなっても画像形成が悪く、満足な
結果が得られなかった。
実施例９ 実施例１に於いて4,4′−ジアジドカルコン0.6３部の代
りに4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸
ソーダ0.1５部及び4,4′−ジアジドカルコン0.4８部、
及びスピログリコールジアクリレート0.5７部の代りに
シクロヘキサンジメチロールジアクリレート0.6７部を
使用したこと及び６０℃の現像液にて攪拌下、５分間現
像を行う代りに４０℃の現像液にて攪拌下５分間現像を
行った以外はすべて同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は８秒であった。
りに4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸
ソーダ0.1５部及び4,4′−ジアジドカルコン0.4８部、
及びスピログリコールジアクリレート0.5７部の代りに
シクロヘキサンジメチロールジアクリレート0.6７部を
使用したこと及び６０℃の現像液にて攪拌下、５分間現
像を行う代りに４０℃の現像液にて攪拌下５分間現像を
行った以外はすべて同様の操作を行った。実施例１と同
様の解像度、染色膜の透明性、画像の寸法安定性を得る
に必要なＵＶ照射時間は８秒であった。
参考例６ 実施例９に於いてシクロヘクサンジメチロールジアクリ
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った。実
施例９と同様の結果を得るに必要なＵＶ照射時間は５０
秒であった。
レート0.6７部を添加しないで同様の操作を行った。実
施例９と同様の結果を得るに必要なＵＶ照射時間は５０
秒であった。
（発明の効果） 本発明は従来の天然物であるゼラチン、又はカゼイン重
クロム酸塩系感光性樹脂に比べて腐敗し易いとか、原料
によるバラツキが大きいとかの問題がない。又廃液によ
る６価クロム公害の問題もない。
クロム酸塩系感光性樹脂に比べて腐敗し易いとか、原料
によるバラツキが大きいとかの問題がない。又廃液によ
る６価クロム公害の問題もない。
更に又本発明の可染性感光性樹脂組成物（Ｄ）は化合物
（Ｃ）を用いなかった場合に比して数分の１の光量で樹
脂が硬化するので省エネルギー、工程の合理化、コスト
ダウンに役立つ。
（Ｃ）を用いなかった場合に比して数分の１の光量で樹
脂が硬化するので省エネルギー、工程の合理化、コスト
ダウンに役立つ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/008 7/027 ５０１ // Ｃ０８Ｆ 299/02 ＭＲＲ 7442−4Ｊ (56)参考文献 特開 昭60−252341（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−258241（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−290444（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−141403（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−56978（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−199342（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ）アニオン性染料可染性ポリマー、 （ｂ）アジド感光性化合物及び （ｃ）同一分子内にアクリロイル基及び／又はメタクリ
ロイル基を２ヶ以上有する化合物 を含む感光性樹脂組成物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP1988/000700 WO1989001186A1 (en) | 1987-07-28 | 1988-07-14 | Photosensitive resin composition and color filter |
| DE3852756T DE3852756T2 (de) | 1987-07-28 | 1988-07-14 | Photoempfindliche harzzusammensetzung und farbfilter. |
| US07/345,543 US5190845A (en) | 1987-07-28 | 1988-07-14 | Photosensitive resin composition and color filter comprising a polymer dyeable with an anionic dye, an azide compound and a compound with at least two acrylol groups |
| KR1019890700551A KR940007778B1 (ko) | 1987-07-28 | 1988-07-14 | 감광성 수지 조성물 및 칼라 필터 |
| EP88906089A EP0329791B1 (en) | 1987-07-28 | 1988-07-14 | Photosensitive resin composition and color filter |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-186561 | 1987-07-28 | ||
| JP18656187 | 1987-07-28 | ||
| JP24590087 | 1987-10-01 | ||
| JP62-245900 | 1987-10-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01198615A JPH01198615A (ja) | 1989-08-10 |
| JPH0658533B2 true JPH0658533B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=26503839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8899388A Expired - Fee Related JPH0658533B2 (ja) | 1987-07-28 | 1988-04-13 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0658533B2 (ja) |
| KR (1) | KR940007778B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040091646A1 (en) | 2002-11-08 | 2004-05-13 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Ink-jet recording sheet |
| JP2005219369A (ja) | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Konica Minolta Holdings Inc | 空隙型インクジェット記録用紙及びその製造方法とインクジェット記録方法 |
| JP2006076113A (ja) | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Konica Minolta Holdings Inc | インクジェット記録用紙 |
| KR101674990B1 (ko) | 2012-12-07 | 2016-11-10 | 제일모직 주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
| US10011672B2 (en) | 2013-05-16 | 2018-07-03 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53325B2 (ja) * | 1974-04-26 | 1978-01-07 | ||
| JPS5952549B2 (ja) * | 1981-08-12 | 1984-12-20 | 株式会社日立製作所 | カラ−固体撮像素子 |
| JPH0612453B2 (ja) * | 1982-05-17 | 1994-02-16 | 積水フアインケミカル株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS60252341A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Chisso Corp | 感光性樹脂組成物 |
| JPS61258241A (ja) * | 1985-05-11 | 1986-11-15 | Chisso Corp | 感光性樹脂組成物 |
| JPS61290444A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-20 | Chisso Corp | 光硬化性樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP8899388A patent/JPH0658533B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-14 KR KR1019890700551A patent/KR940007778B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940007778B1 (ko) | 1994-08-25 |
| KR890702080A (ko) | 1989-12-22 |
| JPH01198615A (ja) | 1989-08-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |