JPH0650783A - 質量流量センサ - Google Patents
質量流量センサInfo
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- JPH0650783A JPH0650783A JP5140626A JP14062693A JPH0650783A JP H0650783 A JPH0650783 A JP H0650783A JP 5140626 A JP5140626 A JP 5140626A JP 14062693 A JP14062693 A JP 14062693A JP H0650783 A JPH0650783 A JP H0650783A
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- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- Fluid Mechanics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 正確に定められ良好に再現可能な流れの特性
が測定チップ表面で得られるように改善を行うこと。 【構成】 当該質量流量センサは、流入路を備えたケー
シングを有しており、該ケーシングには測定チップが少
なくとも部分的に組み込まれているように構成される。
が測定チップ表面で得られるように改善を行うこと。 【構成】 当該質量流量センサは、流入路を備えたケー
シングを有しており、該ケーシングには測定チップが少
なくとも部分的に組み込まれているように構成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、測定チップを有し、該
測定チップは誘電性ダイヤフラムを単結晶シリコンから
なるフレーム内に有し、さらに該測定チップは、前記ダ
イヤフラムの上に配置された加熱体を有しており、この
場合導体線路が該加熱体へ案内されており、前記フレー
ムの上には前記測定チップの接触接続のためのボンディ
ングパッドが設けられている、質量流量センサに関す
る。
測定チップは誘電性ダイヤフラムを単結晶シリコンから
なるフレーム内に有し、さらに該測定チップは、前記ダ
イヤフラムの上に配置された加熱体を有しており、この
場合導体線路が該加熱体へ案内されており、前記フレー
ムの上には前記測定チップの接触接続のためのボンディ
ングパッドが設けられている、質量流量センサに関す
る。
【0002】
【従来の技術】WO89/05963号明細書からは、
誘電性ダイヤフラムが単結晶シリコンからなるフレーム
内に配置されている質量流量センサが公知である。ダイ
ヤフラムの上には加熱素子と温度測定素子とが配置され
ている。別の温度測定素子はシリコンフレーム上に配置
されている。
誘電性ダイヤフラムが単結晶シリコンからなるフレーム
内に配置されている質量流量センサが公知である。ダイ
ヤフラムの上には加熱素子と温度測定素子とが配置され
ている。別の温度測定素子はシリコンフレーム上に配置
されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】測定チップを有し、該
測定チップは誘電性ダイヤフラムを単結晶シリコンから
なるフレーム内に有し、さらに該測定チップは、前記ダ
イヤフラムの上に配置された加熱体を有しており、この
場合導体線路が該加熱体へ接続されており、前記フレー
ムの上には前記測定チップの接触接続のためのボンディ
ングパッドが設けられている、質量流量センサにおい
て、正確に定められ良好に再現可能な流れ特性が測定チ
ップ表面で得られるように改善を行うことである。
測定チップは誘電性ダイヤフラムを単結晶シリコンから
なるフレーム内に有し、さらに該測定チップは、前記ダ
イヤフラムの上に配置された加熱体を有しており、この
場合導体線路が該加熱体へ接続されており、前記フレー
ムの上には前記測定チップの接触接続のためのボンディ
ングパッドが設けられている、質量流量センサにおい
て、正確に定められ良好に再現可能な流れ特性が測定チ
ップ表面で得られるように改善を行うことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によ
り、当該質量流量センサは、流入路を備えたケーシング
を有しており、該ケーシングには測定チップが少なくと
も部分的に組み込まれているように構成されて解決され
る。
り、当該質量流量センサは、流入路を備えたケーシング
を有しており、該ケーシングには測定チップが少なくと
も部分的に組み込まれているように構成されて解決され
る。
【0005】請求項1の特徴部分に記載された本発明に
よる質量流量センサによって得られる利点は、ケーシン
グ流入路への測定チップの組み込みにより、正確に定め
られ良好に再現可能な流れ特性が測定チップ表面で得ら
れることである。さらに別の利点として得られること
は、流入路への測定チップの組み込みにより、機械的な
負荷と質量流中を案内される粒子から当該測定チップを
良好に保護することができることである。
よる質量流量センサによって得られる利点は、ケーシン
グ流入路への測定チップの組み込みにより、正確に定め
られ良好に再現可能な流れ特性が測定チップ表面で得ら
れることである。さらに別の利点として得られること
は、流入路への測定チップの組み込みにより、機械的な
負荷と質量流中を案内される粒子から当該測定チップを
良好に保護することができることである。
【0006】本発明の有利な構成例及び改善例は従属請
求項に記載される。流入路内の質量流の加速により、測
定チップへの汚染粒子の付着が低減される。さらにノイ
ズを高める渦の発生が抑圧され、それによって測定精度
が向上する。特に、流入路の横断面が流れ方向において
先細になっていることにより当該加速が簡単に達成され
る。この場合本発明の有利な実施例では、センサの上方
でも空気が加速されることを保証するために最も小さな
横断面が流れの方向において測定チップの下流に置かれ
る。測定チップを流入路の1つの壁部に面一になるよう
に位置合わせして組み込むことにより、角の突出が避け
られる。この角の突出は特に多くの汚れの付着を引き起
こす。フレームの面状の結合によりケーシングとの良好
な熱伝導が保証される。面状の接着がダイヤフラムの片
側でのみ行われた場合にはダイヤフラム3内の機械的な
ひずみが低減される。ケーシング温度を媒体流の温度に
適合させることは、冷却体を用いることによりさらに改
善される。媒体流の急激な圧力上昇と、測定チップとケ
ーシングとの間を取り巻くガスの、温度に起因する膨張
とから誘電性ダイヤフラムを保護するために、ケーシン
グに換気孔が設けられる。この場合ダイヤフラムの下方
側への流れ込みを避けるためには、換気孔の横断面を該
換気孔の長さよりも小さくすべきである。ケーシングへ
の当該測定チップの非常に密な組み込みは、シールリッ
プを用いることによって達成される。この場合シールリ
ップがフレームに載置されると、測定チップとケーシン
グとの組み立ては非常に簡単になる。測定チップの機械
的負荷は、当該シールリップがフレームに対して比較的
わずかな空隙しか持たず、しかも該空隙が接着剤によっ
て閉鎖されるため低減される。ダイヤフラムとボンディ
ングパッドをシールリップの種々異なる側に配置するこ
とにより、電気的な接続領域と測定領域との明確な分離
が達成される。例えばこのような分離は、媒体流による
影響を受けることなくスイッチング回路又は他の高感度
素子のダイヤフラム近傍での使用を可能にする。
求項に記載される。流入路内の質量流の加速により、測
定チップへの汚染粒子の付着が低減される。さらにノイ
ズを高める渦の発生が抑圧され、それによって測定精度
が向上する。特に、流入路の横断面が流れ方向において
先細になっていることにより当該加速が簡単に達成され
る。この場合本発明の有利な実施例では、センサの上方
でも空気が加速されることを保証するために最も小さな
横断面が流れの方向において測定チップの下流に置かれ
る。測定チップを流入路の1つの壁部に面一になるよう
に位置合わせして組み込むことにより、角の突出が避け
られる。この角の突出は特に多くの汚れの付着を引き起
こす。フレームの面状の結合によりケーシングとの良好
な熱伝導が保証される。面状の接着がダイヤフラムの片
側でのみ行われた場合にはダイヤフラム3内の機械的な
ひずみが低減される。ケーシング温度を媒体流の温度に
適合させることは、冷却体を用いることによりさらに改
善される。媒体流の急激な圧力上昇と、測定チップとケ
ーシングとの間を取り巻くガスの、温度に起因する膨張
とから誘電性ダイヤフラムを保護するために、ケーシン
グに換気孔が設けられる。この場合ダイヤフラムの下方
側への流れ込みを避けるためには、換気孔の横断面を該
換気孔の長さよりも小さくすべきである。ケーシングへ
の当該測定チップの非常に密な組み込みは、シールリッ
プを用いることによって達成される。この場合シールリ
ップがフレームに載置されると、測定チップとケーシン
グとの組み立ては非常に簡単になる。測定チップの機械
的負荷は、当該シールリップがフレームに対して比較的
わずかな空隙しか持たず、しかも該空隙が接着剤によっ
て閉鎖されるため低減される。ダイヤフラムとボンディ
ングパッドをシールリップの種々異なる側に配置するこ
とにより、電気的な接続領域と測定領域との明確な分離
が達成される。例えばこのような分離は、媒体流による
影響を受けることなくスイッチング回路又は他の高感度
素子のダイヤフラム近傍での使用を可能にする。
【0007】
【実施例】図1aには測定チップ2の横断面図が示され
ており、図1bには測定チップ2の平面図が示されてい
る。符号3で誘電性ダイヤフラムが、単結晶シリコンか
らなるフレーム4内に示されている。ダイヤフラム3に
は少なくとも1つの加熱体5と少なくとも1つの温度セ
ンサ6が配置されている。フレーム4には別の基準温度
センサ20が配置されている。加熱体5と温度センサ6
と基準温度センサ20は、導体線路7を介してボンディ
ングパッド8と接続している。導体線路7により加熱体
5及び温度センサ6及び基準温度センサ20と、外部と
の間の電気的な接触が行われる。ボンディングパッド8
へのワイヤのボンディングによりここでは図示されてい
ない外部スイッチング回路への電気的な接続が形成され
得る。誘電性ダイヤフラム3は例えば窒化シリコン及び
/又は酸化シリコンからなる。これらの材料はわずかな
熱伝導性を有し、またシリコンウエハ表面に非常に簡単
に作り出すことができる。表面に誘電材料をコーティン
グされたシリコンウエハをエッチングすることにより片
持ち式に支えられたダイヤフラム3が形成される。相応
するエッチング手法は当業者にはよく知られている。加
熱体5は抵抗素子からなる。この抵抗素子は導体線路7
を介して供給された電流によって熱をダイヤフラムに生
ぜしめる。この抵抗素子は例えば金属からなることも、
相応にドーピングされたシリコンからなることもでき
る。温度センサ6及び基準温度センサ20は、例えば温
度に依存する導電性を有するような抵抗素子からなり得
る。このような抵抗素子に適した材料は金属か又は相応
にドーピングされたシリコンである。温度センサ6に対
しては、ダイヤフラムとフレームとの間の温度差をゼー
ベック効果に関して用いる素子も使用可能である。
ており、図1bには測定チップ2の平面図が示されてい
る。符号3で誘電性ダイヤフラムが、単結晶シリコンか
らなるフレーム4内に示されている。ダイヤフラム3に
は少なくとも1つの加熱体5と少なくとも1つの温度セ
ンサ6が配置されている。フレーム4には別の基準温度
センサ20が配置されている。加熱体5と温度センサ6
と基準温度センサ20は、導体線路7を介してボンディ
ングパッド8と接続している。導体線路7により加熱体
5及び温度センサ6及び基準温度センサ20と、外部と
の間の電気的な接触が行われる。ボンディングパッド8
へのワイヤのボンディングによりここでは図示されてい
ない外部スイッチング回路への電気的な接続が形成され
得る。誘電性ダイヤフラム3は例えば窒化シリコン及び
/又は酸化シリコンからなる。これらの材料はわずかな
熱伝導性を有し、またシリコンウエハ表面に非常に簡単
に作り出すことができる。表面に誘電材料をコーティン
グされたシリコンウエハをエッチングすることにより片
持ち式に支えられたダイヤフラム3が形成される。相応
するエッチング手法は当業者にはよく知られている。加
熱体5は抵抗素子からなる。この抵抗素子は導体線路7
を介して供給された電流によって熱をダイヤフラムに生
ぜしめる。この抵抗素子は例えば金属からなることも、
相応にドーピングされたシリコンからなることもでき
る。温度センサ6及び基準温度センサ20は、例えば温
度に依存する導電性を有するような抵抗素子からなり得
る。このような抵抗素子に適した材料は金属か又は相応
にドーピングされたシリコンである。温度センサ6に対
しては、ダイヤフラムとフレームとの間の温度差をゼー
ベック効果に関して用いる素子も使用可能である。
【0008】測定チップ2を用いることにより当該質量
流の特性量を求めることができる。この場合流れの方向
は測定チップ2の表面に平行である。加熱体5によって
ダイヤフラム3は流量の温度よりも大きい温度に維持さ
れる。流量によってダイヤフラム3から奪われた熱は当
該流量の強さに依存する。ダイヤフラム3の温度の測定
によって当該流量の強さを求めることができる。ダイヤ
フラム3の温度の測定は温度センサ6によってか又は加
熱体5の抵抗値の測定によって行われる。基準温度セン
サ20は、流過媒体の温度の影響を遮断することのため
に用いられる。この場合フレーム4が流過する媒体の温
度であることを前提としている。経験的にはこのような
測定チップは例えば汚染粒子により生ぜしめられる表面
の汚れの影響を受けやすい。
流の特性量を求めることができる。この場合流れの方向
は測定チップ2の表面に平行である。加熱体5によって
ダイヤフラム3は流量の温度よりも大きい温度に維持さ
れる。流量によってダイヤフラム3から奪われた熱は当
該流量の強さに依存する。ダイヤフラム3の温度の測定
によって当該流量の強さを求めることができる。ダイヤ
フラム3の温度の測定は温度センサ6によってか又は加
熱体5の抵抗値の測定によって行われる。基準温度セン
サ20は、流過媒体の温度の影響を遮断することのため
に用いられる。この場合フレーム4が流過する媒体の温
度であることを前提としている。経験的にはこのような
測定チップは例えば汚染粒子により生ぜしめられる表面
の汚れの影響を受けやすい。
【0009】図2には本発明による質量流量センサの平
面図が示されている。測定チップ2はケーシング1の流
入路9内に組み込まれている。矢印によって当該流入路
9を通過する流れの方向が示されている。測定チップ2
の図においては簡略化のために温度センサ6と基準温度
センサ20の図示が省かれている。ダイヤフラム3の上
に配置された加熱体5は導体線路7を介してボンディン
グパッドと接続している。ボンディングワイヤ21によ
り、ここでは図示されていないスイッチング回路との接
触接続が形成される。符号14で、直接測定チップの上
に配置されているスイッチング回路が概略的に示されて
いる。このスイッチング回路14により、温度センサ6
と基準温度センサ20の信号の処理ないし加熱体5の制
御を行うことができる。スイッチング回路の、測定チッ
プとのモノリシックな集積化により、該測定チップの感
度がより高まる。このことは耐ノイズ性を高め、コスト
を著しく低減させる。流入路9の横断面は流れの方向に
沿って小さくなっている。この場合最も小さい横断面は
流れの方向で見て測定チップの後方(下流)に置かれ
る。この手段により測定チップ2への汚染粒子の付着は
低減される。さらに測定チップ表面上の渦の発生は抑圧
される。このことによりノイズが低減され、センサ信号
の測定能力が向上するものとなる。
面図が示されている。測定チップ2はケーシング1の流
入路9内に組み込まれている。矢印によって当該流入路
9を通過する流れの方向が示されている。測定チップ2
の図においては簡略化のために温度センサ6と基準温度
センサ20の図示が省かれている。ダイヤフラム3の上
に配置された加熱体5は導体線路7を介してボンディン
グパッドと接続している。ボンディングワイヤ21によ
り、ここでは図示されていないスイッチング回路との接
触接続が形成される。符号14で、直接測定チップの上
に配置されているスイッチング回路が概略的に示されて
いる。このスイッチング回路14により、温度センサ6
と基準温度センサ20の信号の処理ないし加熱体5の制
御を行うことができる。スイッチング回路の、測定チッ
プとのモノリシックな集積化により、該測定チップの感
度がより高まる。このことは耐ノイズ性を高め、コスト
を著しく低減させる。流入路9の横断面は流れの方向に
沿って小さくなっている。この場合最も小さい横断面は
流れの方向で見て測定チップの後方(下流)に置かれ
る。この手段により測定チップ2への汚染粒子の付着は
低減される。さらに測定チップ表面上の渦の発生は抑圧
される。このことによりノイズが低減され、センサ信号
の測定能力が向上するものとなる。
【0010】図3には図2による質量流量センサのI−
I線に沿った縦断面図が示されている。測定チップ2は
次のようにケーシング1内に組み込まれている。すなわ
ちダイヤフラム3とフレーム4が流入路9の中において
壁部10に面一になるように組み込まれている。フレー
ム4は接着剤22によりケーシング1と面状に接着され
ている。流入路9の横断面は先細になっており、さらに
測定素子2の下流で最も狭くなっている。ケーシング1
は冷却リブ11の形態での冷却体を有している。この冷
却リブ11はその長手側が質量流に対して平行になるよ
うに配向されている。
I線に沿った縦断面図が示されている。測定チップ2は
次のようにケーシング1内に組み込まれている。すなわ
ちダイヤフラム3とフレーム4が流入路9の中において
壁部10に面一になるように組み込まれている。フレー
ム4は接着剤22によりケーシング1と面状に接着され
ている。流入路9の横断面は先細になっており、さらに
測定素子2の下流で最も狭くなっている。ケーシング1
は冷却リブ11の形態での冷却体を有している。この冷
却リブ11はその長手側が質量流に対して平行になるよ
うに配向されている。
【0011】測定チップ2の面一の組み込みにより、流
入路9において稜縁部が避けられる。この稜縁部は経験
的に特に多くの汚染粒子の付着を引き起こすものであ
る。汚染粒子は特にダイヤフラム3近傍において、測定
チップの特性曲線を変化させるものなので、前記手段に
より当該質量流量センサの出力信号の長時間安定性が向
上される。質量流の温度の影響を低減するために、基準
温度センサ20はほぼ質量流の温度を有する必要があ
る。この目的のために測定チップ2は面状に、すなわち
該測定チップ面の大きい方の部分がケーシングと接着さ
れる。この手法により測定チップとケーシング1との間
の良好な熱伝導が保証される。その他に冷却体11は、
加熱体5によって引き起こされるフレーム4の加熱状態
を補償するのに充分な熱量を質量流に放出させなければ
ならない。この場合媒体の温度が変化した際にもフレー
ム温度の適合化を迅速に行うべきである。そのためケー
シング1及び冷却体11はわずかな質量しか持っておら
ず、また比熱容量の小さな材料から製造されている。冷
却体11表面積の対容積比を大きくすることにより(例
えば冷却リブとして構成することにより)、媒体への大
きな熱放出が保証され、さらに温度変化への迅速な適合
が保証される。
入路9において稜縁部が避けられる。この稜縁部は経験
的に特に多くの汚染粒子の付着を引き起こすものであ
る。汚染粒子は特にダイヤフラム3近傍において、測定
チップの特性曲線を変化させるものなので、前記手段に
より当該質量流量センサの出力信号の長時間安定性が向
上される。質量流の温度の影響を低減するために、基準
温度センサ20はほぼ質量流の温度を有する必要があ
る。この目的のために測定チップ2は面状に、すなわち
該測定チップ面の大きい方の部分がケーシングと接着さ
れる。この手法により測定チップとケーシング1との間
の良好な熱伝導が保証される。その他に冷却体11は、
加熱体5によって引き起こされるフレーム4の加熱状態
を補償するのに充分な熱量を質量流に放出させなければ
ならない。この場合媒体の温度が変化した際にもフレー
ム温度の適合化を迅速に行うべきである。そのためケー
シング1及び冷却体11はわずかな質量しか持っておら
ず、また比熱容量の小さな材料から製造されている。冷
却体11表面積の対容積比を大きくすることにより(例
えば冷却リブとして構成することにより)、媒体への大
きな熱放出が保証され、さらに温度変化への迅速な適合
が保証される。
【0012】図4には図2による質量流量センサのII
−II線に沿った横断面図が示されている。ケーシング
1は上方部24と下方部25からなっている。測定チッ
プ2はケーシング1の下方部25内の切欠き26に組み
込まれている。フレーム4は接着剤22によってケーシ
ング1の下方部25と面状に接着されている。さらに測
定チップ2は別のスイッチング回路14とボンディング
パッド8を有している。ボンディングワイヤ21によっ
て測定チップ2と、ここでは図示されていない他のスイ
ッチング回路とが接続される。その他にケーシング1の
下方部25は冷却リブ11を有している。ダイヤフラム
3の下側は換気孔12によって換気されている。上方の
ケーシング部24はシールリップ13を有している。こ
のシールリップ13は接着剤23によって測定チップ2
と接続される。
−II線に沿った横断面図が示されている。ケーシング
1は上方部24と下方部25からなっている。測定チッ
プ2はケーシング1の下方部25内の切欠き26に組み
込まれている。フレーム4は接着剤22によってケーシ
ング1の下方部25と面状に接着されている。さらに測
定チップ2は別のスイッチング回路14とボンディング
パッド8を有している。ボンディングワイヤ21によっ
て測定チップ2と、ここでは図示されていない他のスイ
ッチング回路とが接続される。その他にケーシング1の
下方部25は冷却リブ11を有している。ダイヤフラム
3の下側は換気孔12によって換気されている。上方の
ケーシング部24はシールリップ13を有している。こ
のシールリップ13は接着剤23によって測定チップ2
と接続される。
【0013】換気孔12によりダイヤフラム3の上側と
下側の間の圧力差が除かれる。ダイヤフラム3は該ダイ
ヤフラムの熱伝導性を少なく抑えるために非常に薄く構
成されているので、圧力差はダイヤフラムの破壊を招く
恐れがある。しかしながらこの場合、ダイヤフラム3と
フレーム4とケーシング下方部25とで形成される中空
室に流れを生ぜしめることは望まれない。なぜならそう
でないと汚染粒子の付着を招く恐れがあるからである。
それ故換気孔12の横断面は孔の長さよりも小さくすべ
きである。
下側の間の圧力差が除かれる。ダイヤフラム3は該ダイ
ヤフラムの熱伝導性を少なく抑えるために非常に薄く構
成されているので、圧力差はダイヤフラムの破壊を招く
恐れがある。しかしながらこの場合、ダイヤフラム3と
フレーム4とケーシング下方部25とで形成される中空
室に流れを生ぜしめることは望まれない。なぜならそう
でないと汚染粒子の付着を招く恐れがあるからである。
それ故換気孔12の横断面は孔の長さよりも小さくすべ
きである。
【0014】シールリップ13により測定チップ2の上
側は複数の領域に細分化される。1つの領域にはダイヤ
フラム3と流入路9がある。シールリップ13の別の側
にはスイッチング回路14とボンディングパッド8とボ
ンディングワイヤ21がある。この領域は媒体から離さ
れている。この手段により次のことが達成される。すな
わちスイッチング回路14とボンディングパッド8とボ
ンディングワイヤ21が質量流の障害的な影響から保護
されることが達成される。これらの2つの領域の間での
密閉された分離構成は、フレーム4上にシールリップ1
3を載置することにより達成されるか又はシールリップ
13とフレーム4との間に接着層23を用いることによ
り達成される。
側は複数の領域に細分化される。1つの領域にはダイヤ
フラム3と流入路9がある。シールリップ13の別の側
にはスイッチング回路14とボンディングパッド8とボ
ンディングワイヤ21がある。この領域は媒体から離さ
れている。この手段により次のことが達成される。すな
わちスイッチング回路14とボンディングパッド8とボ
ンディングワイヤ21が質量流の障害的な影響から保護
されることが達成される。これらの2つの領域の間での
密閉された分離構成は、フレーム4上にシールリップ1
3を載置することにより達成されるか又はシールリップ
13とフレーム4との間に接着層23を用いることによ
り達成される。
【0015】図5には質量流量センサの別の実施例が示
されている。この質量流量センサでは、測定チップ2が
接着剤22によってダイヤフラム3の片側でのみケーシ
ング下方部25と接着されている。また測定チップ2の
ためのケーシング下方部25の切欠き26は該測定チッ
プ2よりも幾分大きい。このような構成により、加熱の
際にケーシング1との緊張(衝突)なしに測定チップ2
の膨張が可能になる。ケーシング上方部24から構成さ
れるシールリップ13(このシールリップはダイヤフラ
ム3とボンディングワイヤ21を分離する)は、接着な
しで弾性的に測定チップ2に載置される。密封は接着に
よって高めることもできる。この質量流量センサの実施
例では、ケーシング下方部25が換気孔を有していな
い。なぜならダイヤフラム3の上側と下側との間の圧力
補償が測定チップ2とケーシング下方部25とによって
構成される換気孔によって行うことができるからであ
る。
されている。この質量流量センサでは、測定チップ2が
接着剤22によってダイヤフラム3の片側でのみケーシ
ング下方部25と接着されている。また測定チップ2の
ためのケーシング下方部25の切欠き26は該測定チッ
プ2よりも幾分大きい。このような構成により、加熱の
際にケーシング1との緊張(衝突)なしに測定チップ2
の膨張が可能になる。ケーシング上方部24から構成さ
れるシールリップ13(このシールリップはダイヤフラ
ム3とボンディングワイヤ21を分離する)は、接着な
しで弾性的に測定チップ2に載置される。密封は接着に
よって高めることもできる。この質量流量センサの実施
例では、ケーシング下方部25が換気孔を有していな
い。なぜならダイヤフラム3の上側と下側との間の圧力
補償が測定チップ2とケーシング下方部25とによって
構成される換気孔によって行うことができるからであ
る。
【0016】
【発明の効果】請求項1の特徴部分に記載された本発明
による質量流量センサによって得られる利点は、ケーシ
ング流入路への測定チップの組み込みにより、正確に定
められ良好に再現可能な流れ特性が測定チップ表面で得
られることである。
による質量流量センサによって得られる利点は、ケーシ
ング流入路への測定チップの組み込みにより、正確に定
められ良好に再現可能な流れ特性が測定チップ表面で得
られることである。
【0017】さらに、流入路への測定チップの組み込み
により、機械的な負荷と質量流中を案内される汚染粒子
から当該測定チップを良好に保護することができる。
により、機械的な負荷と質量流中を案内される汚染粒子
から当該測定チップを良好に保護することができる。
【図1】a及びbには測定チップの側面図及び平面図が
示されている。
示されている。
【図2】本発明による質量流量センサの平面図が示され
ている。
ている。
【図3】本発明による質量流量センサの横断面図が示さ
れている。
れている。
【図4】本発明による質量流量センサの縦断面図が示さ
れている。
れている。
【図5】本発明による質量流量センサの別の有利な実施
例の横断面図が示されている。
例の横断面図が示されている。
1 ケーシング 2 測定チップ 3 ダイヤフラム 4 フレーム 5 加熱体 6 温度センサ 7 導体線路 8 ボンディングパッド 9 流入路 10 壁部 11 冷却体 12 換気孔 13 シールリップ 14 スイッチング回路 21 ボンディングワイヤ 22 接着剤 23 接着層 24 ケーシング上方部 25 ケーシング下方部 26 切欠き
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴォルフガング キーンツレ ドイツ連邦共和国 ヘミンゲン シュロス ガルテンシュトラーセ 18 (72)発明者 ルードルフ ザウアー ドイツ連邦共和国 ベニンゲン アウフ デア ルーク 3 (72)発明者 エッカルト ライレン ドイツ連邦共和国 ロイトリンゲン リヒ ャルト−ヴァーグナー−シュトラーセ 1 (72)発明者 クルト ヴァイプレン ドイツ連邦共和国 メッツィンゲン 2 メッツィンガー シュトラーセ 14
Claims (15)
- 【請求項1】 測定チップ(2)を有し、該測定チップ
(2)は誘電性ダイヤフラム(3)を単結晶シリコンか
らなるフレーム(4)内に有し、さらに該測定チップ
(2)は、前記ダイヤフラム(3)の上に配置された加
熱体(5)を有しており、この場合導体線路(7)が該
加熱体(5)へ接続されており、前記フレーム(4)の
上には前記測定チップ(2)の接触接続のためのボンデ
ィングパッド(8)が設けられている、質量流量センサ
において、 当該質量流量センサは、流入路(9)を備えたケーシン
グ(1)を有しており、該ケーシング(1)には測定チ
ップ(2)が少なくとも部分的に組み込まれていること
を特徴とする、質量流量センサ。 - 【請求項2】 当該質量流は前記流入路(9)の幾何学
的構造によって加速される、請求項1記載の質量流量セ
ンサ。 - 【請求項3】 前記流入路(9)は、流れの方向におい
て先細になっている横断面を有している、請求項2記載
の質量流量センサ。 - 【請求項4】 前記横断面の最も小さい部分は、流れの
方向において前記測定チップ(2)の下流に存在してい
る、請求項3記載の質量流量センサ。 - 【請求項5】 前記測定チップ(2)は前記流入路
(9)の1つの壁部(10)に面一にされるように埋め
込まれている、請求項1〜4いずれか1記載の質量流量
センサ。 - 【請求項6】 前記測定チップ(2)のフレーム(4)
は、ケーシング(1)と面状に接着されている、請求項
1〜5いずれか1記載の質量流量センサ。 - 【請求項7】 前記フレーム(4)は前記ダイヤフラム
(3)の片側でのみ接着されている、請求項6記載の質
量流量センサ。 - 【請求項8】 前記ケーシング(1)は冷却体(11)
を有している、請求項1〜7いずれか1記載の質量流量
センサ。 - 【請求項9】 前記ダイヤフラム(3)の裏側で換気が
行われる、請求項1〜8いずれか1記載の質量流量セン
サ。 - 【請求項10】 前記換気は換気孔(12)によって行
われ、該換気孔(12)の横断面は、当該換気孔(1
2)の長さより小さい、請求項9記載の質量流量セン
サ。 - 【請求項11】 前記ケーシング(1)はシールリップ
(13)を有しており、該シールリップ(13)により
前記フレーム(4)の一部が密封される、請求項1〜1
0いずれか1記載の質量流量センサ。 - 【請求項12】 前記シールリップ(13)はフレーム
(4)に載置されている、請求項11記載の質量流量セ
ンサ。 - 【請求項13】 前記シールリップ(13)はフレーム
(4)に対してわずかな空隙を有しており、該空隙は接
着剤によって閉鎖される、請求項11記載の質量流量セ
ンサ。 - 【請求項14】 前記シールリップ(13)の一方の側
にダイヤフラム(3)が設けられ、他方の側にボンディ
ングパッド(8)が設けられる、請求項11〜13いず
れか1記載の質量流量センサ。 - 【請求項15】 前記測定チップ(2)はスイッチング
回路(14)を有しており、該スイッチング回路(1
4)は前記シールリップ(13)における前記ボンディ
ングパッド(8)と同じ側に設けられている、請求項1
4記載の質量流量センサ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3302444B2 JP3302444B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=6460989
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Country | Link |
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JP (1) | JP3302444B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5404753A (en) | 1995-04-11 |
DE4219454C2 (de) | 1995-09-28 |
DE4219454A1 (de) | 1993-12-16 |
JP3302444B2 (ja) | 2002-07-15 |
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