JPH06506484A

JPH06506484A - 燐化合物

Info

Publication number: JPH06506484A
Application number: JP5512828A
Authority: JP
Inventors: ブロガー，　エミール・アルビン; セレゲツテイ，　マルコ
Original assignee: エフ・ホフマン−ラ　ロシユ　アーゲー
Priority date: 1992-01-31
Filing date: 1993-01-22
Publication date: 1994-07-21
Anticipated expiration: 2018-01-20
Also published as: EP0582692B1; EP0582692A1; ATE165361T1; WO1993015089A1; DK0582692T3; US5508438A; DE59308424D1; JP3369560B2; ES2116435T3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】燐化合物本発明は、一般式Ｒは低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシまたは保護されたヒドロキシ基を示し、Ｒ１およびＲ２は互いに異なりそして低級アルキルクロアルキル、アリール、５−員のへテロ芳香族または式％式％］の新規なラセミ体のおよび光学的に活性な燐化合物に関する。

本発明は、式Ｉの燐化合物の製造および例えば非対称性水素化（ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ）、ブロキシル性アリル系におけるエナンチオ選択的水素置換（ｅｎａｎｔｔｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ　ｈｙｄｒｏｇｅｎ　ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔｓ）などの如きエナンチオ選択的反応のためのそれらの使用にも関する。

「低級アルキル」という語は本発明では、炭素数が１〜４の直鎖もしくは分枝鎖状のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルを意味する。「低級アルコキシ」という語は、アルキル残基が上記の意味を有する基を示す。ヒドロキシ基用の保護基としては、一般的なエーテル−生成基、例えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級アルコキシメチルまたは２−メトキシエトキシメチルなどが特に本発明の範囲内で考えられる。「シクロアルキル」という語は、３−〜７ー員の環、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロヘプチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルを意味する。

「アリール」という語は本発明の範囲では特にフェニル残基を意味し、それは未置換であるだけでなくオルト−、メタ−またはパラ−位置で多重−置換されていてもよい。この場合に考えられる置換基は、フェニル、低級アルキルもしくは低級アルコキシ基、好適にはメチルまたはメトキシ基、またはジ−低級アルキル− アミノ、好適にはジメチルアミノ、基、並びに弗素またはトリアルキルシリル、例えばトリメチルシリルなとである。さらにこの語はナフチルを意味することもできる。「５−員のへテロ芳香族」という語は、本発明の範囲内では式の置換基を示す。

さらに、式（ａ）〜（ｄ）の置換基中では、Ａは酸素、硫黄または一ＮＲ’を示す。置換基Ｒ３は水素、低級アルキル、特にメチル、または低級アルコキシ、特にメトキシ、を示し、そしてＲ４は低級アルキル、好適にはメチルを示す。

以下で使用される「脱離基」という語では、本発明の範囲内では例えばハロゲン、特に塩素および臭素の如き基並びに例えばメトキシなどの如きアルコキシ基であると理解すべきである。

式Ｉの燐化合物はラセミ体の形だけでなく光学的に活性な形で存在することもできる。好適な式Ｉの化合物は、Ｒがメトキシまたはメチルを意味するものである。さらに、Ｒ１およびＲ２がフェニル、ｐ−ｔ−リル、シクロベンチル、シクロヘキシル、２−もしくは３−フリールまた（マク−チェニルを表すものが好適である。特に好適な式■の化合物類は、（Ｒ３）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、（Ｒ３）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル＝Ｐ’、　Ｐ’−ジ−ｐ− トリル−（６゜６′−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジ−ｐ− ４リルー（６，６’−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、（Ｒ８）−Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジー２−チェニル−（６，６ ’　−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジー２−チェニル−（６，６’ −ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン、並びに対応する６、６−ジメトキシビフェニル類である。

本発明に従う式１の化合物はそれ自体既知の方法で製造することができる。それは例えば、一般式［式中、Ｒは上記の意味を有する］のラセミ体のまたは光学的に活性な化合物を一般式％式％［式中、Ｒ１は上記の意味を有しモしてＹは脱離性基を表す］の化合物と反応させ、このようにして得られる一般式［式中、ＲおよびＲ１は上記の意味を有する］の化合物をアルキルリチウムと反応させて式［式中、ＲおよびＲ１は上記の意味を有する］の化合物を与え、これを一般式％式％［式中、Ｒ１およびＹは上記の意味を有する］の化合物と反応させ、そして、Ｒがヒドロキシを示す式Ｉの化合物を製造するために、Ｒが低級アルコキンを表す式Ｉの対応する化合物をエーテル分解に付すことにより、行うことができる。

式ＩＩの化合物と式ＩＩＩの化合物との反応はそれ自体は既知である方法で行うことができる。反応は一般的には不活性な非プロトン性有機溶媒、例えばベンゼン、トルエン・ハ如き芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサンなどの如き液体の脂肪族炭化水素、または例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチルメトキシエタンなどの如きエーテル、またはこれらの溶媒のいすねかの混合物、の中で実施される。反応は一般的にはほぼ室温〜−８０℃の温度においても実施される。圧力は重要な意味をもたず、そし、て反応は大気圧において容易に実施することができる。

弐Ｖの化合物を与えるための式ＩＶの化名物とアルキルリチウムとの反応はｎ− ブチルリチウムを用いて、特にｔｅｒｔ−ブチルリチウムを用いて、行われる。

反応は」−記の溶媒中で実施することができる。温度は一般的には約−５０℃〜約−１，２０℃、好適には約り０℃〜約−８０℃、である。圧力はこの場合にも重要ではなく、従って反応は大気圧において容易に実施することができる。

弐Ｖの化合物と式ＶＩの化合物との反応は、化合物ＩＩと化合物ＩＩＩとの反応と同様にして行うことができる。

Ｒが低級アルコキシを表す式Ｉの化合物のエーテル分解はそれ自体は既知である方法で、例えば三臭化ホウ素などを用いて、行うことができる。

出発物質として使用される式ＩＩの化合物はそれ自体既知の方法で、対応するジアイオド化合物を例えばｎ−ブチルリチウムまたは好適にはｔｅｒｔ−ブチルリチウムの如きアルキルリチウムで処理することにより、得られる。反応条件は、式（ｍの化合物から式Ｖの化合物への転化用に使用されるものと同様にして選択できる。１個だけのヨウ素をリチウムにより確実に置換しようとするためには、反応は一般的にはほぼ等モル量の反応相手を使用して行われる。

上記のジアイオド化合物［（Ｒ，Ｓ）形だけでなく（Ｒ）または（Ｓ）形も］並びに式ＩＩＩおよびＶＩの出発物質は、既知化合物またはそれ自体は既知である方法で容易に製造できる既知化合物の同族体である。

全ての上記の反応は一般的には例えばアルゴンまたは窒素の如き不活性気体下で行われる。

本発明に従う式Ｉの燐化合物は例えばＶＩＩＩ族金属類、例えばルテニウム、ロジウムおよびイリジウム、の如き遷移金属類との錯体を形成し、それらは非対称性水素化における触媒としておよびブロキシル性アリル系におけるエナンチオ選択的水素置換のために使用できる。ルテニウムおよびロジウム錯体は上記の水素化用に好適であり、一方ロジウム饋体は異性化用に好適である。これらの触媒、すなわちＶＩＩＩ族金属と式■の燐化合物との錯体は新規でありそして本発明の目的でもある。

上記の錯体はそれ自体既知の方法で、例えば式■の化合物を例えば適当な不活性有機または水性溶媒中でＶＩＩＩ族金属を生成可能な化合物と反応させることにより製造することができる。例えばロジウムを生成するために適している化合物としては、例えば、エチレン、プロピレンなど、並びにビス−オレフィン類、例えば（Ｚ、Ｚ）−１，５−シクロオクタジエン、１．５−へキサジエン、ビシクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエンまたはロジウムとの易溶性錯体を生成する池のジエン類との有機口ジウム錯体が挙げられる。ロジウムを生成する好適な化合物は、例えば、ジ−μｍクロロ−ビス［７７’−（Ｚ、　Ｚ）−１，５− シクロオクタジエン］ジロジウム（１）、ジ−μｍクロロ−ビス［η４−ノルポルナジエンコジロジウム（１）、ジーμｍベルフルオロアセタトービス［η’− （Ｚ、　Ｚ）−１，５−シクロオクタジエン］ジロジウム（Ｉ）、ロジウムテトラフルオロホウ酸ビス［η’−（Ｚ、　Ｚ）−１，５−シクロオクタジエン］またはジロジウム過塩素酸ビス［η４−（Ｚ、Ｚ）−シクロオクタジエン］である。ジ−μｍクロロ−ビス［η４−（Ｚ、Ｚ）−１，５−シクロオクタジエンコシイリジウム（１）が例えばイリジウムを生成する化合物として挙げられる。

上記のルテニウム錯体は、例えば、下記の式％式％［式中、Ｚはハロゲンまたは基Ａ−Ｃｏｏを表し、Ａは低級アルキル、アリール、ハロゲン化された低級アルキルまたは）１０ゲン化されたアリールを表し、そしてＬは式Ｉのキシルジホスフイン配位子を表す］により示すことができる。

これらの錯体は原則的にはそれ自体既知の方法で製造することができる。一般的にそして好適には、ルテニウム化合物は、例えば、式％式％［式中、Ｚｌはハロゲンまたは基Ａｌ−ＣＯＯを表し、ＡＩは低級アルキルまたはハロゲン化された低級アルキルを表し、１，１は中性配位子を表し、ｍは数１．２または３を表し、ｐは数１または２を表し、そしてｑは数０または１を表す］の錯体を式Ｉのキシルジホスフイン配位子と反応させることにより、または式％式％［式中、Ｌは式■のキシルジホスフィン配位子を表す］のルテニウム錯体をアニオンＺ（ここでＺは上記の意味を有する）を生成する塩と反応させることにより製造される。

「中性配位子」という語は本発明の範囲内では、容易に交換可能な配位子、例えばジオレフィン、例えばノルボルナジェン、（Ｚ、　Ｚ）−１，５−シクロオクタジエンなど、またはニトリル、例えばアセトニトリル、ベンゾニトリルなどを意味する。ｍが数２または３を表す場合には、配位子は同一であってもまたは異なっていてもよい。

式ＩＸのルテニウム錯体は既知の物質であるかまたは例えばアルペルス（八１ｂ６ｒｓ）、　Ｍ、　Ｏ，他、ザ・ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー（Ｊ、　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ、　Ｃｈｅｗ、）、λ７２．Ｃ６２−Ｃ６６（１９８４）に従う如き既知物質の製造と同様な方法で容易に得られる既知物質の同族体である。

式■Ｘのルテニウム錯体と式■のキシルジホスフィン配位子との反応はそれ自体は既知である方法で行うことができる。反応は一般的には不活性有機溶媒中で行うことができる。そのような溶媒の例としては、例えばテトラヒドロフランまたはジオキサンの如きエーテル類、例えばアセトンの如きケトン類、例えばメタノール、エタノールなどの如き低級アルコール類、例えば塩化メチレン、クロロホルムなどの如きハロゲン化された炭化水素類、または該溶媒の混合物が挙げられる。さらに、反応はＯ℃〜約１００℃の間の、好適には約り５℃〜約６０℃の間の、温度において、酸素を厳密に除去しながら、行うこともできる。

式Ｘのルテニウム錯体（式ＩＸの錯体から得られる）とアニオンＺを含有している塩との反応は、それ自体は既知である方法で行うことができる。「アニオンＺを生成する塩」という語は本発明の範囲内では、例えば、アンモニウム塩、アルカリ金属塩または他の適当な金属塩を意味している。そのような塩類の溶解度を改良するためには、ある場合にはクラウンエーテル類などを加えることもできる。

前記の如（、ＶＩＩＩ族金属、特にロジウムおよびルテニウム、との錯体の形状の本発明に従う燐化合物は、特に非対称性水素化用に使用することができる。特に適している基質としては、これに関しては特にアリルアルコール類、例えばゲラニオール、６．７−シヒドローゲラニオール、６．７−シヒドロフラネソール、６．７．１０．１１−テトラヒドロフラネソールなど、並びに官能化されたケトン類、例えばβ−ケトエステル類、例えばアセト酢酸メチルもしくはエチルなど、または２−ピリジルケトン類、例えば２−アセチルピリジン、２〜ピリジル２．８−ビス（トリフルオロメチル）−４−キノリルケトンなどが挙げられる。

そのような水素化を行う際には、これらの錯体を最初に製造しそして次に水素化しようとする物質の溶液に加える。しかしながら、一方ではそれらをその場で例えば水素化しようとする物質の存在下で製造することもできる。

非対称性水素化は、反応条件下で不活性である適当な有機溶媒の中で実施することができる。そのような溶媒としては、芳香族炭化水素類、例えばベンゼン、トルエンなど、低級アルコール類、例えばメタノールまたはエタノール、水、エステル類、例えば酢酸エチル、ハロゲン化された炭化水素類、例えば塩化メチレン、クロロホルムなど、環式エーテル類、例えばテトラヒドロフランまたはジオキサンなど、または該溶媒類の混合物が特に挙げられる。

金属対配位子りの比は一般的には、１モルの配位子当たり約０．０５〜約５モルの間のそしてそれぞれ約０．５〜約２モルの間の、好適には約１モルの金属である。例えば式ＶＩＩＩの如き錯体中の金属対水素化しようとする物質の比は一般的には、約０．００５〜約１モル％の間、好適には約１００２〜約０．１モル％の間である。

例えば式ＶＩＩＩの如き錯体を用いる非対称性水素化は一般的には、使用される基質によるが約０°Ｃ〜約１５０℃の温度において実施される。この水素化は一般的には圧力下で、好適には約２〜約２００バール、特に約１０〜約１００バールの圧力下でも実施される。

式■の化合物の製造および使用と同様にして、下記の式［式中、Ｒ１およびＲ２は上記の意味を有する］のビナフチル型化合物を製造しそして使用することもできる。ビナフチル環は一般的方法で置換することができる。

下記の実施例は本発明を説明するものであり、そして何ら限定しようとするものではない。これらの実施例中では、略語は下記の意味を有する。

ＴＬＣ薄層クロマトグラフィーＧＣ毛管ガスクロマトグラフィーｅ、　ｅ、エナンチオマー過剰。水素化生成物のｅ、　ｅ、はＧＣによりベルメチル化されたシクロデキストリン相の上で測定された。

ＲＴ　室温全ての温度は摂氏０で示されている。

実施例１ａ）８．０ｇ　（０，０１６２モノいの（Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド −６，６’−ジメチルービフエニリー２−ル）ホスフィンを１００ｍ１の無水トルエン、２００ｍ１のエーテルおよび９．５ｍｌのトリエチルアミンの混合物の中に一６５°に冷却されているＡｒ気体下で溶解させ、１２ｍ１のターシャリー −ブチルリチウム溶液（ペンタン中１．６Ｍ。

０、０１９モル）を加え、そして反応混合物を一６０″において１時間撹拌した。次に、５．０ｇ　（０，０２１モル）のジシクロへキシルクロロホスフィンを一部分ずつ加え、少量のトルエンですすぎ、そして灰−べ−シュ色懸濁液を室温において一夜撹拌した。処理するために、混合物を５９ｍ１の水および５Ｑｍｌの３Ｎ　ＮａＯＨで処理し、１／４時間撹拌し、ａｏｏｍｔのトルエンで抽出し、有機相を２００ｍ１の水で１回洗浄し、乾燥しくＮａ２５Ｏ４）　、濾過し、そして蒸発させた。酢酸エチルからの粗製生成物の再結晶化後に、６．２ｇ（６８％）の（Ｓ）−Ｐ、　Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメチルービフエ二り−２，２′−ジイル）ジホスフィンが白色結晶状で得られた。融点＝１８５．４°（キラセルＯＤ相上でのＨＰＬＣ分析に従う９９．８％ｅ、　ｅ。

；ＧＣ含有量：９９．２％）、［αＩＷ　＋５２．３　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ５）。

同様な方法で、（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−シンクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメチルービフエニリー２．２′−ジイル）ジホスフィンが得られた。融点：　１８６−１８６．９’　（９９，３％ｅ、ｅ、；ＧＣ含有量：９９．３％）、［ α］智−５２，８（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ３）。

ｂ）出発物質として使用された（Ｒ）−および（Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルービフヱニリー２−ル）ホスフィンは下記の如（して製造された。

３２ｍ１のターシャリー−ブチルリチウム溶液（ペンタン中１．６Ｍ。

０、０５１モル）を、−７６°に冷却されている２０．０ｇ　（０，０４６モル）の（Ｒ）−２，２’−ファイオド−６，６′−ジメチルビフエニル（Ｔ。

フレド（Ｆｒｅｊｄ）およびＴ、リングステッド（Ｋｌｉｎｇｓｔｅｄｔ）、ザ・ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエテイ・ケミカル・コミユニケージ１ン（Ｊ。

Ｃｈｅｔ　Ｓｏｃ、　Ｃｈｅｗ、　Ｃｏｍｍｕｎ、）、（１９８３）１０２１）の４３０ｍ１の無水トルエンおよび９０ｍ１のエーテル中溶液にＡｒ気体下で加え、そして混合物を一７５°において加え、そして混合物を一７５″において３７４時間撹拌した。２０．１ｇ　（０，０９２モル）のクロロジフェニルホスフィンの１００ｍ１の無水トルエン中溶液を次に滴下漏斗から１／４時間以内に滴々添加し、混合物を一７０°において１時間撹拌し、そして冷却浴を除去した後に室温において一夜撹拌した。

処理するために、反応混合物である灰−ベージュ色懸濁液を１５０ｍ１の水で処理し、８０ｍ１の３Ｎ　ＮａＯＨでアルカリ性とし、そして３００ｍ１のトルエンで抽出した。有機相を各回とも２００　ｍ　ｌの水で２回洗浄して中性とし、乾燥しくＮ　ａ　ｔｓ　Ｏａ）　、そして蒸発させ、そして生じた残渣（３２，５ｇ、黄色油）を４５０ｇのシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。三主要留分中で、４．５リツトルのへキサンを用いて３．２ｇの未変化の出発物質が、１５リツトルのヘキサン−トルエン（９５：５）混合物を用いて１３．１ｇ（７１，３％混合物のエナンチオマー−純粋性モノアイオダイドが白色結晶状で、そして２す・ソトルのトルエンを用いて１．５ｇの白色結晶状の（Ｒ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルービフエニリー２−ル）ホスフィンが溶離された。融点１６７．５−１６８．４’；［α］ｆ　４４．８　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ３）。

同様な方法で、（Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルービフエニリー２ −ル）ホスフィンが製造された。融点１．６７．５−１６８．７°：［α席＋４３．５　（ｃ＝１　：　ＣＨＣ１３）。

堵牲７下記の化合物類が実施例１と同様な方法で製造された：（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジ−ｐ−トリル−（６，６’−ジメチル−ビフェニル−２，２’−ジイル）ジホスフィン。融点１６７゜：　（９８，６％ｅ、　ｅ、　＋ＧＣ：　９８％）：［αｌｆ　７１．２　（ｃ＝ｉ　：ＣＨＣｌ３）。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキンルーＰ’、　Ｐ’−ジ−ｐ−トリル−（６，６ ’−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１６６゜１６：　（９７％ｅ、ｅ、；ＧＣ：９８％）：［α用＋６９．４　（ｃ＝１．　：　ＣＨＣ１３）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキンルーＰ’、　Ｐ’−ジー２−チェニル−（６゜６′−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１５１− １５１．３°：（９９，２％ｅ、　ｅ、　；ＧＣ：　９９．５％）；［α］背＋７１．９　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ５）。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジー２−チェニル−（６゜６′−ジメチル−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１４９− １５０°：（９９，９％ｅ、ｅ、；ＧＣ：９９．７％）：［ａ］ｉｆ　７０．２（ｃ＝１；ＣＨＣｌ５）。

出発物質として使用された下記の化合物類は実施例２ｂ）と同様な方法で製造された：（Ｒ）−ジ−ｐ−トリル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルビフエニリー２−ル）ホスフィンが溶離された。融点１３５−１３６°：［α］背−５５，１（ｃ＝１．ｏ　；　ＣＨＣＩｇ）。

（Ｓ）−ジ−ｐ−トリル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルビフェニリー２−ル）ホスフィンが溶離された。融点１３６．４°；［α］Ｖ　＋５５．７　（ｃ＝１．ｏ　：ＣＨＣｌ５）。

（Ｒ）−ジシクロへキシル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルビフエニリー２−ル）ホスフィンが溶離された。融点１３７−１．３９６：［α］背−８，６（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ５）。

（Ｓ）−ジシクロへキシル−（２′−アイオド−６，６′−ジメチルビフェニＩ）−２−ル）ホスフィンが溶離された。融点１３７−１３９°：［α］Ｔ？　＋　８．７　（ｃ＝１　：　ＣＨＣＩｓ）。

下記の化合物類をそれぞれ実施例１および２と同様な方法で製造することができた：（Ｓ）−５−（２’−アイオド−６，６′−ジメチルビフェニリー２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］−ホスフィントール。融点１７３−１７４°：［αｌｆ　＋　１０７．７　（ｃ＝１　：　ＣＨＣ１３）。

（Ｒ）−５−（２’−アイオド−６，６′−ジメチルビフェニリー２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］−ホスフィントール。融点１７２−１７４°：［α］１１’　１０６．８　（ｃ＝１　：ＣＨＣｌ３）。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−シンクロベンチルーＰ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメチルフェニル−２，２’−ジイル）ジホスフィン。融点１２９−１３０゜［ α用＋４０．４　（ｃ＝５　：　ＣＨＣｈ）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロベンチルーＰ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメチルフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１２９−１３０゜〔 α〕甘せ３９．５　（ｃ＝０．６：ＣＨＣｌ５）。

（Ｒ）−５−（６，６’−ジメチル−２′−ジシクロヘキシルホスフィノビフエニリ−２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］−ホスフィントール。融点１６４−１６５ ’：〔α〕智−１４４，６（ｃ＝０．７＋ｃＨｃｌｓ）。

（Ｓ）−５−（６，６’−ジメチル−２′−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニリ−２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］−ホスフィントール。融点１６３−１６４ ″：［α］ｆ＋１４４　（Ｃ＝０．７；ＣＨＣｌ３）。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、　Ｐ′−ジフェニル−（６，６’−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１０８°：［α庫＋２５．０　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ３）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１０８°：［（Ｚ］！　２４．８　（Ｃ＝１　：ＣＨＣｌ３）。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジー２−フリール−Ｐ’、Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１２５°；［α］ｔ！’＋６６、７　（ｃ＝１　：　ＣＨＣＩｓ）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジー２−フリール−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。融点１２２．５−１２３．３°。

［ａ］ｆ−６６，３（ｃ＝１　；ＣＨＣＩｓ）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシ−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル＝（６，６’− ジメトキシ−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシ−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシ−ビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−５−（２’−アイオド−６，６′−ジメトキシビフェニリル２−ル）− ５Ｈ−ベンゾ［ｂ］−ホスフィントール。

（Ｒ）−５−（２’−アイオド−６，６′−ジメトキシビフェニリル２−ル）− ５Ｈ−ベンゾＣｂ、！−ホスフィントール。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−５−（６，６’−ジメトキン〜２′−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニリ−２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］ホスフィントール。

（Ｓ）−５−（６，６’−ジメトキシ−２′−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニリ−２−ル）−５Ｈ−ベンゾ［ｂ］ホスフィントール。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、　Ｐ′−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジ−２〜フリール−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２′〜ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジー２−フリール−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ：ｌ−Ｐ、Ｐ−ジシクロベキ／ルーＰ’、　Ｐ’−ジ−ｐ−トリル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓｌ−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキンルーＰ’、　Ｐ’−ジ−ｐ−トリル−（６，６ ’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−−ジフェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジ−２〜チエニル−（６，６’ −ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジフェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジー２−チェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）ジホスフィン。

実施例４ａ）１０．２ｇ　（０，０１９モル）　＋７）（Ｒ）−ジフェニル−（２’−フイオド−６，６’−ジメトキシビフェニリル２−ル）ホスフィンを１５０ｍ１の無水）　ルｌ　ンおよび５０ｍ１のエーテルの混合物の中にアルゴン気体下で溶解させ、溶液を一７０°に冷却し、次に１５ｍ１のブチルリチウム溶液（ヘキサン中１．６Ｍ；０．０２３モル）で処理し、そして反応混合物を一６９’において４５分間撹拌した。次に、５０ｍ１のトルエン中に溶解されている１０．０ｇ　（０，０４３モル）のジシクロへキシルクロロホスフィンを一６５°において１５分以内に滴々添加し、そして灰−ベージュ色懸濁液を一６５°において１時間そして室温において一夜撹拌した。処理するために、混合物を８５ｍ１の水および１５ｍ１の３ＮＮａＯＨで処理し、１５分間撹拌し、３００ｍ１のトルエンで抽出し、有機相を１５０ｍ１の水で２回洗浄し、乾燥しくＮａｚＳＯｎ）　、濾過し、そして蒸発させた。４００ｇのシリカゲル（ヘキサン／トルエン１：ｌ）上でのクロマトグラフィー濾過および酢酸エチルからの粗製生成物の再結晶化後に、４．７ｇの（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）シボスフィン［（Ｒ）−ＣｙｚＭｅＯＢＩＰＨＥＰコが白色結晶状で得られた。融点２３９．３° ：［α］Ｖ＋１．０．３　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ５）。

同様な方法で、（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル＝Ｐ’、Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン［（Ｓ）　ＣｙｔＭｅＯＢ　ＩＰＨＥＰ］が製造された。

ｂ）出発物質として使用された（Ｒ）−および（Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメトキシビフェニリル２−ル）ホスフィン類は下記の如くして製造された。

１８ｍ１のターシャリー−ブチルリチウム溶液（ペンタン中１５％溶液；０．０２８モル）をアルゴン気体下で一７６°に冷却されている２０Ｑｍｌの無水トルエンおよび５０ｍ１のエーテルの中に溶解されている１　３．７ｇ　（０，０２９モル）の（Ｓ）−２，２’−ジアイオドー６．６′−ジメトキシ−１，１′− ビフェニルの溶液に加え、そして混合物を−７０゜において１時間撹拌した。次に、１３ｇ（０，０６２モル）のクロロジフェニルホスフィンの５Ｑｍｌの無水トルエン中溶液を滴下漏斗から１５分以内に滴々添加し、混合物を一７０°において１時間撹拌し、そして冷却浴を除去した後に室温において一夜撹拌した。処理するために、反応混合物を７０ｍ１の水で処理し、３０ｍ１の３Ｎ　ＮａＯＨでアルカリ性とし、そして５００ｍ１の酢酸エチルで抽出した。有機相を１５Ｑｍｌの水で洗浄して中性とし、乾燥しくＮａ！５０４）、蒸発させ、そして得られた残渣を３００ｇのシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。二主要留分中で、２．１リツトルのヘキサン／トルエン（６：　４）混合物を用いて４．０ｇの未変化出発物質がそして３．５リツトルのへキサン／トルエン（１：　１）混合物を用いて９．９ｇのエナンチオマー−純粋なモノアイオダイドが白色結晶状で溶離され、それは次の段階で直接使用された。さらに１２０ｍｇの結晶性の（Ｓ）−ＭｅＯＢＩＰＨＥＰを極性留分類から単離することができた。分析のために、モノアイオダイドの試料を酢酸エチル／メタノールから再結晶化させた：（Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメトキシビフエニリー２ −ル）ホスフィン。融点１２５．７°：［α］ｆ　９．０（ｃ＝０．７：ＣＨＣｌ５）。

同様な方法で、（Ｒ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメトキシビフェニリー２ −ル）ホスフィン、（Ｒ，Ｓ）−ジフェニル−（２′−アイオド−６，６′−ジメトキシビフェニリー２−ル）ホスフィン、融点１９４．０−１９４．４’、が製造された。

ｃ）ｂ）で出発物質として使用された（Ｒ）−および（Ｓ）−２，２’−ジアイオドー６．６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルは下記の如くして製造された。

１２．１５ｇ　（０，０５モル）の（Ｓ）−２，２’−ジアミノ−６，６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルを２８８ｍ１の水および１００水の濃硫酸の混合物の中に約３０−４０’において溶解させ、そして溶液を冷却洛中で２°に冷却した。この混合物に２°において３０分間以内に９．６ｇ（０，１４０モル）の亜硝酸ナトリウムの２５ｍ１の水中溶液を加え、そして添加の完了後に、混合物を４°において３０分間撹拌した。次に、混合物を１５０ｍ１のトルエンで処理し、４２ｇ　（０，２５３モル）のヨウ化カリウムおよび１６．８ｇ（０，１モル）のヨウ素の７５ｍ１の水中溶液を５分間以内に滴下漏斗から滴々添加し、そして混合物を室温において３時間撹拌した。処理するために、反応混合物を３００ｍ１の酢酸エチルおよび２００ｍ１のトルエンで抽出し、有機相を各回とも２００ｍ１の１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回そして各回とも１５０ｍ１の水で２回洗浄し、−緒にし、乾燥しくＮａ１ＳＯ４）　、蒸発させ、そして生じた粗製生成物を１５０ｇのシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた。生成物を１０リツトルのヘキサン／ジクロロメタン（４：１−１　：　１）混合物を用いて溶離し、モしてヘキサンから１回再結晶化させて１４．２　ｇの白色の結晶性のエナンチオマー−純粋な（Ｓ）−２゜２′−ファイオド−６，６’−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルを与えた。

融点１６３．５°：［α］Ｖｌ＝５５．１°（ｃ＝１　；　ＣＨＣＩｓ）。

同様な方法で、（Ｒ）−２，２’−ジアイオドー６．６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルが製造された。融点１５２°：［σ庫＝５４．４’　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ３）。

ｄ）ｃ）で出発物質として使用された（Ｒ）−および（Ｓ）−２，２’−ジアミノ−６，６−シメトキシー１．１′−ビフェニル類は下記の如くして製造された。

８０ｇ（０，３３モル）の（ラセミ）−２，２’−ジアミノ−６，６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルを６００ｍ１の酢酸エチル中に溶解させ、そして１５０ｇの（ＳＳ）−ン（フェニルアミノカルボニルオキシ）−琥珀酸［（ＳＳ） −ＤＩＰＡＣＯＳＡ、］を４４００ｍＩの酢酸エチルおよび５０ｍ１のメタノール中に溶解させ、そして２種の溶液を６０°において一緒にしそして結晶化のために室温で一夜放置した。溶液の濾過、洗浄（１５０ｍｌの酢酸エチル）および白色結晶の乾燥（１４ｍｍＨｇ、室温、３０分間）後に、１７３．９ｇの（Ｓ） −２，２′−ジアミノ−６，６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニル−（ＳＳ）−ＤＩ　ＰＡＣＯ３Ａ　（１：　２）−会合物が得られた。［（Ｓ）／（Ｒ）含有量＝９９％／１％。

エナンチオマー分離を改良するために、結晶（１７３，９ｇ）を３００ｍ１の酢酸エチル中に懸濁させ、６０°において１５分間撹拌し、懸濁液を室温において一夜放置し、吸引濾過し、残渣を酢酸エチル（１００ｍｌ）で洗浄し、乾燥しく１４ｍｍＨｇ／室温）、そしてこの方法で１５４ｇの（１：　２）−会合物［（Ｓ）／（Ｒ）含有量＝９９％１０．３％］が得られた。溶解剤を分離するために、この物質（１５４ｇ）を２リツトルの酢酸エチル中に溶解させ、７００ｍ１の水をこれに加え、モして水相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いて撹拌しながらｐＨ８に調節した。有機相を分離し、それを洗浄しく２００ｍ１の水）、乾燥しくＮａ１ＳＯ４）　、そして蒸発させた後に、３０．９ｇの（Ｓ）−２，２’ −ジアミノ−６，６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルが得られた。［（Ｓ）／（Ｒ）含有量：９９．８％１０，２％。

［α］廿＝−３２，０°（ｃ＝１　；　ＣＨＣｌ５）。

同様な方法で、ジアミンと（ＲＲ）−ＤＩＰＡＣＯＳＡから出発して、油状の（Ｒ）−２，２’−ジアミノ−６，６′−ジメトキシ−１，１′−ビフェニルが得られ、それはジエチルエーテルから再結晶化することができた。

［（Ｓ）／（Ｒ）−含有量Ｏ％／１００％］。融点８６．９°。

［α］１！＝　＋３２．８’　（ｃ＝１　；ＣＨＣｌ５）。

以上と同様な方法で下記のジホスフィン類も製造された：（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロペンチル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル −２，２′−ジイル）ジホスフィン：［（Ｓ）−Ｃｙｐ２ＭｅＯＢＩＰＨＥＰ］：融点２１０．９’。

［α］Ｗ＝−１５．７°（ｃ＝０．４　；ＣＨＣｌ５）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロペンチル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン：［（Ｒ）　Ｃ）’Ｉ）ｓＭｅＯＢＩＰＨＥＰ］。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジイソプロピル−Ｐ’、Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン：［（Ｓ）−ＩｐｒｚＭｅＯＢＩＰＨＥＰ］；融点１４７．９’。

［ａ］ｔｌ’　＝　−２９°（ｃ＝ｏ、５　；ＣＨＣｌ５）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジイソプロピル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン；［（Ｒ）　Ｉ　ｐｒｚＭｅＯＢＴ　ＰＨＥＰ］。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン：［α］Ｖ＝−４０°（ｃ＝１　；　ＣＨＣｌ５）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジエチル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジ−α−フリール−Ｐ’、Ｐ’−ジフェニル−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン：融点２１３．９°。

［α］Ｗ＝−２８，４°（Ｃ＝０．５　；　ＣＨＣＩｓ）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジ−α−フリール−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

（Ｓ）−Ｐ、Ｐ−ジ−α−チェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン：融点２２３．１．’ 。

［α］１＝−１０２°（ｃ　＝Ｑ、　５　；　ＣＨＣＩ　ｓ）。

（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジ−α−チェニル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６’− ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。

実施例５ａ）グローブボックス（０，含有量く１ｐｐｍ）中の５０ｍ１ガラスフラスコの中で１０．２ｍｇ　（０，０２５ミリモル）のテトラフルオロホウ酸ビス−（１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（１）、１４１ｍｇ（０゜０２５ミリモル）の（Ｒ）−Ｐ、Ｐ−ジシクロへキシル−Ｐ’、　Ｐ’−ジフェニル−（６，６ ’−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン（実施例１に従い製造された）および８．１ｍｇ　（０，０２５ミリモル）の臭化テトラブチルアンモニウムを２０ｍ１のトルエン中に溶解させた。懸濁液を次に６０分間にわたり撹拌すると、それにより橙色の透明溶液が生成した。

ｂ）グローブボックス（０，含有量＜Ｉｐｐｍ）中で５００ｍ１のオートクレーブに１４．８ｇ　（４０ミリモル）の２−ピリジル２．８−ビス（トリフルオロメチル）−４−キノリルケトン、上記で製造された触媒溶液および１３４ミリモルのトルエンを充填した。水素化を６０６において６０バールＨ２の一定圧力において強く撹拌しながら行った。１９時間の水素化時間後に、転化度は１００° （Ｔ　Ｌ　Ｃ）であった。水素化溶液を回転蒸発器上で４５°／２０ミリバールにおいて蒸発させた。生成物の結晶化後に、残渣（１３，８ｇ）を２１ｍ１の熱いトルエンの中に溶解させ、ゆっくりと室温に冷却し、そして１６時間撹拌した。黄色結晶を濾別し、冷たいトルエンで洗浄し、そして１８時間にわたり５０° ／２０ミリバールにおいて乾燥した。１２．７ｇ（９２％）の（Ｒ）−α−（２ −ピリジル）−２，８−ビス（トリフルオロメチル）−４−キノリンメタノールが得られた。融点１．３０−１３１°；９１．８％ｅ、　ｅ、。

［αｌＢ’＝＋１７．１’　（ｃ＝１　；ＭｅＯＨ）。

エタノール／水からの２回の再結晶化で純粋な（Ｒ）エナンチオマーが生成した［（Ｓ）異性体はＧＣ中で検出できなかった］　：［α］Ｖ＝＋１８．７°（ｃ＝１　：ＭｅＯＨ）。

融点：１３６．５−１３７．７°。

フロントページの続き

Claims

【特許請求の範囲】

１．一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼Ｉ［式中、Ｒは低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシまたは保護されたヒドロキシ基を示し、Ｒ１およびＲ２は互いに異なりそして低級アルキル、シクロアルキル、アリール、５−員のヘテロ芳香族または式▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表す］のラセミ体のおよび光学的に活性な燐化合物。
２．Ｒがメトキシまたはメチルを意味し、そしてＲ１およびＲ２がフェニル、ｐ −トリル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−もしくは３−フリールまたは２−チエニルを表す請求の範囲第１項に記載の式Ｉのラセミ体のおよび光学的に活性な燐化合物。
３．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジシクロヘキシル−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル−（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
４．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジシクロヘキシル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−ｐ− トリル−（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
５．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジフェニル−Ｐ′，Ｐ′−ジ−２−チエニル−（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
６．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジシクロヘキシル−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル−（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
７．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジシクロペンチル−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル−（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
８．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジイソプロピル−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル −（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
９．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジ−α−フリール−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル−（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。
１０．（Ｒ）−または（Ｓ）−Ｐ，Ｐ−ジ−α−チエニル−Ｐ′，Ｐ′−ジフェニル−（６，６′−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ジホスフィン。