JPH0648935U - リベッティング装置 - Google Patents

リベッティング装置

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JPH0648935U JP8597492U JP8597492U JPH0648935U JP H0648935 U JPH0648935 U JP H0648935U JP 8597492 U JP8597492 U JP 8597492U JP 8597492 U JP8597492 U JP 8597492U JP H0648935 U JPH0648935 U JP H0648935U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 リベットの成形不良を防ぐことができるリベ
ッティング装置を提供する。 【構成】 X−Yテーブル1’の上方にコラム2によっ
て支持されたリベッティングマシン3のシリンダ4に距
離センサ31を取り付け、その距離センサ31によって
X−Yテーブル1’に載置されたワーク11から突出す
るリベット端面から距離センサ31間の距離を測定す
る。そして、その測定値を比較手段50によってリベッ
ト9を正しい治具10にセットされた場合の規定値と比
較し、両者が一致するとリベッティングマシン3によっ
てかしめ成形を行う。また、両者が一致しない場合その
旨を報知してかしめ成形を行わない。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案は、リベットのかしめ成形に用いられるリベッティング装置に関し、 特に、ワークへのリベットの装着ミスを検出し、成形時のかしめ不良の発生を無 くすようにしたリベッティング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ワークに装着されたリベットのかしめ成形に用いられるリベッティング装置と して図11に示すリベッティング装置がある。
【0003】 この装置は加工用テーブル1とその上方にコラム2によって支持されたリベッ ティングマシン3とからなっている。
【0004】 リベッティングマシン3は、前記加工用テーブル1に対して垂直に支持された シリンダ4と、そのシリンダ4に嵌め合わされ、上下に進退自在に支持されるピ ストン軸5と、前記ピストン軸5に挿通され回動自在に支持されるスピンドル軸 6と、そのスピンドル軸6上端に取り付けられ、スピンドル軸6を回転するモー タ7と、スピンドル軸6下端に、スピンドル軸6に対して傾斜して着脱自在に取 り付けられたリベットヘッド成形軸8とからなっている。このようなリベッティ ング装置では、図10に示すように、加工テーブル1に頭を治具10にセットし たリベット9の装着されたワーク11を載置し、その載置されたワーク11から 突出するリベット軸9’端へ、スピンドル軸6先端のリベットヘッド成形軸8を シリンダ4によって降下させ、圧接しながら回転させ、その旋回揺動による摩擦 熱と加圧とによるかしめ成形によって、リベット9をワーク11に取り付ける。
【0005】 ところで、このようなリベット9のかしめ成形を行う場合、ワーク11に装着 されるリベット9は全て同じリベット9が使用されるとは限らず、ワーク11の 接合箇所に応じて複数の寸法の違うリベット9が用いられる場合がある。そのよ うな場合、それら接合箇所に合ったリベット9をリベット9の寸法の合った治具 10にセットして装着しなければならないが、複数種のリベット9を使用するこ とから、リベット9と治具10とのセット間違いを起こし易く、例えば、間違っ てリベット9をリベットの頭長よりも深いセット孔10’の形成された治具10 にミスセットした場合、図7に示すように、ワーク10とリベット9の頭との間 に隙間が生じてしまい、このままかしめ成形を行った場合、図8に示すように、 成形後のリベット9にガタが生じ、成形不良を生じてしまう。また同様に、リベ ット9をリベット9の頭よりも浅いセット孔10’の形成された治具10に間違 ってセットした場合も、図9に示すように、間違って装着したリベット9の頭が ワーク10を持ち上げてしまい、今度は正しく治具10に装着されたリベット9 とワーク10間に隙間を生じさせ、接合不良を生じるという問題がある。
【0006】 このため、上記のように、間違った治具10にセットされたリベット9がワー ク10に装着された場合、ワーク10から突出するリベット9の軸の長さが正し い治具10に装着された場合の突出長に比べ、規定の長さよりも長くなったり、 あるいは短かくなることから、例えば、ピストン軸5に衝撃によって作動するタ ッチスイッチを取り付け、リベットヘッド成形軸8をピストン軸5によって、加 工テーブル1上のリベット軸9’に向けてゆっくりと降下させ、その降下させた 前記成形軸8がリベット軸9’端面と当接した際の衝撃をタッチセンサによって 検出し、その検出信号からピストン軸5の移動の開始から前記検出信号を検出す るまでのピストン軸5の移動距離あるいは、移動時間を測定することにより、リ ベット軸9’の突出長が規定寸法であるかどうかを検出し、その検出長が規定寸 法であると、前記成形軸8を旋回揺動させてかしめ成形を行い、また規定寸法以 外の場には、NG信号を出力するものが従来から使用されている。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の検出方法を用いたリベッティング装置では、検出時の破 損を防ぐため、リベットヘッド成形軸をゆっくりと降下させなければならないた め、検出時間が長くかかり、かしめ成形の効率が悪い。
【0008】 また、検出時に、リベットヘッド成形軸がリベット軸に衝突するため、振動を 生じる。
【0009】 さらに、その衝突時の衝撃により、リベットヘッド成形軸が損傷したり摩耗す ることがある等の問題がある。
【0010】 そこで、この考案の課題は、検出のスピードアップを図ると同時に、検出時に 振動やリベットヘッド成形軸の損傷、摩耗等を起こさないリベッティング装置を 提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、この考案では、従来のリベッティング装置に加工 用テーブルに載置されたワークのリベット軸の突出長を検出する検出手段と、そ の検出手段の検出値から、リベット軸が規定の長さ突出しているかどうかを判別 する比較手段を備えた構成としたのである。
【0012】
【作用】
このように構成されるリベッティング装置では、寸法に合った正しい治具にセ ットされてワークに装着されたリベットのリベット軸のワークからの突出長は、 一定の規定寸法内に収まることから、加工用テーブルに載置された加工用ワーク にセットされたリベットの突出長を、かしめ成形に先立って検出手段によって測 定し、その測定値を比較手段によって規定寸法と比較し、その比較結果が許容値 内にある場合にのみ、リベッティングマシンを作動してリベットヘッド成形軸を ワークのリベット端面へ降下させてリベット成形を行ない、測定長が規定に達し ない場合や規定よりも長い場合には、異常を報知してリベット成形を行わない。
【0013】 このため、リベット軸の突出長が規定の長さ突出しているかどうかの検出のた めに、リベットヘッド成形軸をゆっくり降下させてリベット軸に当接させる必要 がなく、検出時間が短くできる。
【0014】 また、リベットヘッド成形軸の衝突に伴う振動も発生せず、リベットの加工用 のワークへの装着漏れもかしめ成形を行う前に検出できる。
【0015】
【実施例】
以下、この考案の実施例を図面に基づいて説明する。
【0016】 なお、その際、従来例で述べた部材については、図面に同一番号を付して説明 を省略する。
【0017】 図1に示す本実施例のリベッティング装置は、加工用テーブル1として設けら れたX−Yテーブル1’と、その上方にコラム2によって支持されたリベッティ ングマシン3と、前記X−Yテーブル1’の位置決め制御並びにリベッティング マシン3のシリンダ4の作動によるピストン軸5の上昇、下降及びリベットヘッ ド成形軸8の作動を制御するNC制御装置30と、前記X−Yテーブル1’に載 置されるワーク11にセットされたリベット軸9’の突出長を測定する検出手段 として前記リベッティングマシン3のシリンダ4に取り付けられた距離センサ3 1と、その距離センサ31の測定値を規定された前記リベット軸9の突出長と比 較する比較手段50とからなっている。
【0018】 前記X−Yテーブル1’は、図1に示すように加工テーブル20を載置するキ ャリッジ21と、そのキャリッジ21を移動させるステッピングモータ22とか らなっている。このキャリッジ21には、X軸とY軸方向とに雌ネジが形成され 、その雌ネジと螺合するボールネジがそれぞれ各軸ごとに設けられている。また 、そのボールネジは、それぞれ、ステッピングモータ22のモータ軸に取り付け られており、これらのステッピングモータ22は、前記NC制御装置30と接続 されている。このため、ステッピングモータ22は、前記テーブル1’の位置決 めシーケンスのプログラミングによって回転角度がNC制御装置30に制御され 、前記テーブル1’は、ネジ送りによってX軸及びY軸方向へ移動自在となって いる。
【0019】 距離センサ31は、本実施例では、図2に示すように、同一ケース32に収め られた、半導体検出素子(PSD)33と測距用光源34とからなり、三角法に より、リベットヘッド成形軸8の直下に位置するX−Yテーブル1’に載置され たワーク11のリベット軸9’端面までの距離を測距する。
【0020】 即ち、前記半導体位置検出素子33は、図3に示すように、PN接合面の形成 された半導体素子35の両端に出力電極36、36’が設けられ、そのPN接合 のP層あるいはP層とN層の両方を抵抗値の大きな抵抗層となるように形成した もので、入射光により半導体素子35内で発生した正と負、同量の電荷が、接合 を通過して入射光の入射点近傍のP層に正、N層に負の電荷となって現われ、こ のP層内の不均一な正の電荷の分布がP層内の電荷の流れを作り出し、両端の1 対の出力電極までの距離に反比例する電流として出力される。
【0021】 このため、図2に示すように、半導体位置検出素子33と測距用光源34とが 投光レンズ37と集光レンズ38の光軸距離Bmmを置いて、並行にケース32 に配置された距離センサ31では、半導体位置検出素子33の受光面の電極36 、36’から入射光位置までの距離をxとし、集光レンズ38と半導体位置検出 素子33の受光面間距離をfmmとし、被測定対称までの距離をlとすると、そ の測定距離lは、 l=B・f/x で示される。
【0022】 このとき両電極36、36’から出力される光電流は、前記受光面長をLとし 、全電流をIとして、電極36の出力電流をI1 、及び電極36’の出力電流を I2 とするとそれぞれ、電流I1 、I2 は、 I1 =I(L−x)/L I2 =Ix/L となる。
【0023】 また、測距用光源34は、前記半導体位置検出素子33が受光面上のスポット 状の光束の重心(強度中心)位置を検出する光検出素子であることから、本実施 例では、レーザ発光ダイオード34を用いている。
【0024】 一方前記半導体位置検出素子33の検出出力は、電流−電圧コンバータ回路4 1と増幅回路42及びサンプルホールド回路43等からなる制御回路40を介し 測定距離lに比例した検出電圧として比較手段50へ入力される。
【0025】 比較手段50は、前記サンプルホールド回路43のホールドする検出電圧をデ ジタル変換するA/D変換器51と、リベット軸9’の突出長の変位量の上限、 下限の有効長を設定する基準値設定回路52及び前記両データを比較し、その結 果を出力する比較回路53とからなっており、この比較手段50は、例えばマイ クロコンピュータにより構成することができる。
【0026】 この比較手段50の比較回路53は、前記NC制御装置30と接続されており 、NC制御装置30は、比較手段50の比較回路53の判定出力をトリガ信号と して、X−Yテーブル1’に載置されたワーク11のリベット9をリベットヘッ ド成形軸8の直下へ、順次移動し、位置決めを行なうと共に、その位置決め完了 と同時に、制御回路40のサンプルホールド回路43へサンプリング信号SGを 出力する。また、同時に、このサンプリング信号SGは、前記距離センサ31の レーザ発光ダイオード34の駆動回路(図示せず)にも加えられており、前記ダ イオード34をパルス点燈して大きな光量が得られるようにしている。
【0027】 この実施例は、以上のように構成されており、次にその作用を説明する。
【0028】 本実施例のリベッティング装置では、治具10にセットされたリベット9の装 着されたワーク11をX−Yテーブル1’に載置してリベッティング装置を作動 させる。このとき、比較手段50の基準値設定回路52にワーク11のリベット 軸9’の突出長の規定寸法の許容範囲である上限と下限とを設定する。また、N C制御装置30には、前記X−Yテーブル1’に載置されたワーク11のリベッ ト9接合箇所をリベットヘッド成形軸8の直下へ移動させるための位置データを 入力しておく。
【0029】 このように、データの設定がなされると、NC制御装置30は、X−Yテーブ ル1’を移動させて、ワーク11のリベット9の接合箇所をリベットヘッド成形 軸8の直下へ移動させ、その位置決めが完了すると、サンプリング信号SGを出 力して、距離センサ31からレーザビームを照射させる。すると、このレーザビ ームは、丁度、ワーク11から突出した前記リベット軸9’の端面へ照射され、 その反射ビームは半導体位置検出素子33の受光面に受光され、そのビームスポ ットの検出位置に対応した電流が電極36、36’から出力される。この検出電 流は、制御回路40の電流−電圧コンバータ回路41により、電圧に変換され、 その変換電圧は、増幅回路42を介して増幅され、サンプルホールド回路43に ホールドされる。このホールドされた検出電圧は、比較手段50のA/D変換器 51によりA/D変換され、そのA/D変換された値は、比較回路53によって 基準値設定回路52に設定された規定寸法、即ち、その値が基準設定回路52に 設定されたリベット9が正しい治具10にセットされた際のリベット端面から距 離センサ31までの距離における許容誤差を含んだ上限及び下限値と比較される 。ちなみに、この設定値は、例えば正しくセットされた状態のリベット端面から 距離センサ31までの距離をRとして、制御回路50の電圧出力をOVに調整し 、その基準値Rに対して、±30mmの変位量を±10Vのアナログ電圧として 出力させ、A/Dコンバータ51で数値化された変位量を、0.1mm単位で上 限、下限値として有効範囲を設定させるようにすることができる。
【0030】 このように比較されるリベット軸9’は、例えば図4(A)、(B)に示すよ うに異なった寸法のリベット9でも正しい治具10にセットされ、ワーク11に 装着されている場合、ワーク11から突出される両リベット9のリベット軸9’ の突出長は等しくなるため、前記距離センサ31によって検出される前記リベッ ト軸9’の端面から距離センサ31までの距離は、前記上限、下限値の間の規定 値内に収まり、比較回路53からは、OK信号がNC制御回路30へ出力される 。この信号の入力によってNC制御回路30は、X−Yテーブル1’をシーケン スプログラムに従って移動させ、ワーク11に装着されたリベット9を順次リベ ットヘッド成形軸8の直下へ移動させその突出長を測定する。そして、ワーク1 1に装着されたリベット9すべてについて異常が検出されない場合、今度は、リ ベッティングマシン3を作動してワーク11のリベット9のリベット成形を行わ せる。
【0031】 このとき、前記測定中に、リベット9を治具10にミスセットしたものがある 場合、例えば、図5(B)に示すようにリベット軸9’が、ワーク11から突出 せずワーク11の取り付け孔に埋設されてしまった場合でも、レーザビームは埋 設されたリベット軸9’端面に達し、反射されることから、図5(A)に示すよ うに正しく治具10にセットされたリベット軸9’との差を示す変位量分だけ長 い距離が検出され、その測定値は前記上限及び下限値を越えるため、比較回路5 3はNG信号をNC制御回路30へ出力する。そのため、そのNG信号の入力さ れた、NC制御回路30は、X−Yテーブル1’の移動を止めて、リベット9の ミスセットを報知する。また、このとき、ワーク11へのリベット9の装着もれ も同様にして検出される。
【0032】 このように、この実施例のリベッティング装置では、X−Yテーブル1’上方 に設けた距離センサ31からワーク11のリベット軸9’端面迄の距離を測定し 、その距離の変化からワーク11からのリベット軸9’の突出長を検出し、リベ ッティングマシン3を降下させることなく、かしめ成形を行う前にワーク11へ のリベット9のミスセットを検出できる。また、このとき、リベット9の突出長 を非接触で検出しているため、リベットヘッド成形軸8を降下させて検出するも のに比べ、その検出速度が格段に速く、このため、ワーク11のかしめ成形に要 する時間も大幅に短縮できる。
【0033】 なお、図6(A)、(B)に示すように、ワーク11にかしめ代9”の異なる リベット9が装着された場合や段差のあるワーク11にリベット9が装着された 場合には、例えば図1の比較手段50の基準設定回路52にバンクメモリを設け 、そのメモリに前記かしめ代9”の異なるリベット9の突出長の規定値データを 記憶させておき、前記かしめ代9’の異なったリベット9の測定を行う場合、そ のデータを随時読み出し、その読み出したデータを基準設定回路52の規定値と して用いるようにしてもよい。
【0034】 また、本実施例では、リベット軸の突出長を検出する検出手段にレーザ発光ダ イオードと半導体位置検出素子を用いた距離センサ31を用いたが、これに限定 されるものではなく、測距用光源に赤外発光ダイオードを用いたり、半導体位置 検出素子にイメージセンサを用いて画像処理によって検出を行っても良く、さら に取り付け位置もシリンダに限定されるものではなく、スピンドル軸やリベット ヘッド成形軸へ取り付けても良い。また、距離センサ31は、リベッティングマ シンに直接取り付けずにX−Yテーブル上に距離センサ用の支持部材を設け、そ の支持部材に検出手段を取り付けるようにしても良い。
【0035】
【効果】
この考案は、以上のように構成し、リベッティング装置にリベットのワークか らの突出長を測定する検出手段を設け、リベッティングマシンのリベットヘッド 成形軸を降下させずにリベットの突出長を測定できるようにしたため、ワークへ のリベット装着ミスによるかしめ不良を防止し、同時にその検出時間も短縮し、 かしめ成形の効率を向上させることもできる。さらに、検出時に振動やリベット 成形軸の欠損等も発生しないようにできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の模式図
【図2】実施例の作用図
【図3】実施例の作用図
【図4】(A)、(B)は実施例の作用図
【図5】(A)、(B)は実施例の作用図
【図6】(A)、(B)は実施例の作用図
【図7】従来例の作用図
【図8】従来例の作用図
【図9】従来例の作用図
【図10】従来例の作用図
【図11】従来例のリベッティング装置を示す模式図
【符号の説明】
1 加工用テーブル 1’ X−Yテーブル 2 コラム 3 リベッティングマシン 4 シリンダ 5 ピストン軸 6 スピンドル軸 7 モータ 8 リベットヘッド成形軸 9 リベット 9’ リベット軸 10 治具 11 ワーク 31 距離センサ 50 比較手段

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加工用テーブルと、リベッティングマシ
    ンとからなり、前記リベッティングマシンは、前記加工
    用テーブル上方に垂直に支持されたシリンダと、前記シ
    リンダに嵌め合わされ、垂直に進退自在に支持されるピ
    ストン軸と、前記ピストン軸に挿通され、回動自在に支
    持されるスピンドル軸と、そのスピンドル軸の上端に取
    り付けられたモータと、前記スピンドル軸の下端に取り
    付けられたリベットヘッド成形軸とからなり、前記加工
    用テーブルに、リベット軸を突出させたワークを載置
    し、そのワークの突出したリベット軸端部へ、ピストン
    軸を降下させてリベットヘッド成形軸を圧接し、スピン
    ドル軸を回転させてリベットをかしめるリベッティング
    装置において、 上記加工用テーブルに載置されたワークのリベット軸の
    突出長を検出する検出手段と、その検出手段の検出値か
    ら、リベット軸が規定の長さ突出しているかどうかを判
    別する比較手段を備えたことを特徴とするリベッティン
    グ装置。
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