JPH0645598B2 - ヒドロキシメチルピリジンの製造方法 - Google Patents

ヒドロキシメチルピリジンの製造方法

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JPH0645598B2
JPH0645598B2 JP60244718A JP24471885A JPH0645598B2 JP H0645598 B2 JPH0645598 B2 JP H0645598B2 JP 60244718 A JP60244718 A JP 60244718A JP 24471885 A JP24471885 A JP 24471885A JP H0645598 B2 JPH0645598 B2 JP H0645598B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ヒドロキシメチルピリジンの製造方法に関す
るものである。ヒドロキシメチルピリジンは、各種医薬
および農薬の原料として有用な化合物である。
従来の技術 従来、ヒドロキシメチルピリジンの製法としては下記の
文献が知られている。
a)H.S.Mosher,etal,J.Amer,Chem.Soc.,73,4926(1951) ニコチン酸エチルをリチウムアルミニウムハイドライド
で還元する方法。
b)U.S.2,547,048およびU.S.2,615,896 3−アミノピリジンを亜硝酸エチルでジアゾ化後、加水
分解する方法。
c)G.B.717,172(1952) 3−シアノピリジンを酸性水溶液中パラジウム炭素触媒
で常圧下、水素還元する方法。
d)公開特許昭60−132959号公報 2または4−シアノピリジンをラネーニッケル触媒の存
在下、酸性水溶液中で水素還元する方法。
上記文献中、a)およびb)の方法は、精製工程が複雑
になり、原料コスト的にも高価なものになる。c)およ
びd)の方法は、本発明と類似の方法であるが、収率や
副反応の量、反応時間の点で工業的製法としていまだ満
足できるものではない。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来の方法よりも収率に優れ、副反応が少な
く、反応時間も短時間で達成できる新規なヒドロキシメ
チルピリジンの製造方法を提供する。
問題点を解決する為の手段 上記問題点は、本発明の方法を適用することによって解
決される。すなわち、本発明はシアノピリジンを酸性水
溶液中、接触水素還元してヒドロキシメチルピリジンを
製造する方法において、触媒として鉛、錫、銅および亜
鉛から選ばれる少なくとも一種の金属を含有するパラジ
ウム炭素触媒を使用することを特徴とするヒドロキシメ
チルピリジンの製造方法である。
本発明で製造できるヒドロキシメチルピリジンは、2−
ヒドロキシメチルピリジン、3−ヒドロキシメチルピリ
ジン、4−ヒドロキシメチルピリジンの3種類である。
これらは、それぞれ対応するシアノピリジンを原料とし
て製造できる。ただ置換基の位置の違いにより、反応性
に若干の違いが認められる。すなわち、反応速度は2位
4位3位の順であるが、選択性および収率はその逆の順
に良い結果を示す。しかし、いずれの場合においても本
発明の触媒が、従来の触媒に較べて有効な結果を与える
ことが確認された。
本発明で使用する触媒は、鉛、錫、銅および亜鉛の可溶
性塩から選ばれる少なくとも一種をパラジウム炭素触媒
製造時に同時に添加するか、既成のパラジウム炭素触媒
をこれらの塩の水溶液で処理するかして調製される。具
体的には、酢酸鉛、炭酸鉛、塩化第二銅、硫酸銅、塩化
亜鉛、塩化第一錫などが使用される。添加量の範囲とし
ては、パラジウムが活性炭に対して1〜10重量%、第
1金属が0.3〜5.0重量%の範囲に調整された触媒
が好ましい結果を与える。触媒製造の実施態様を挙げれ
ば、所定量の活性炭を懸濁させた水溶液に第2金属を含
有する水溶液を添加し、攪拌しながら金属を活性炭に吸
着させる。次に所定量の塩化パラジウム酸の水溶液をこ
れに加え、パラジウムを活性炭に吸着させる。苛性ソー
ダ溶液を加えてアルカリ性にした後、ホルマリンを加え
加熱し還元する。触媒を充分に水洗しながら濾別し乾燥
して本発明で使用する触媒を得る。既成のパラジウム炭
素触媒より調製する場合には、それを水に懸濁させた
後、第2金属の水溶液を加え、一定時間攪拌して吸着さ
せ、水洗乾燥すれば良い。
本発明の反応条件として、溶媒となる酸性水溶液は種々
の無機酸および有機酸が使用できる。しかし、その内特
に硫酸、塩酸、燐酸などの強酸が好ましい。酸の使用量
は原料のシアノピリジンに対して2〜5当量が望まし
い。酸の使用量は本反応には重要なファクターであり、
少なすぎたり多すぎたりすると副反応が増えたり反応時
間が長くなるなどの悪影響が顕著にあらわれる。水素圧
力は1〜10kg/cm2が望ましい。特に1〜2kg/cm2が良
い結果を与える。常圧では反応時間が伸びるし、工業的
に行う場合には安全性の面でも問題になる。逆に水素圧
力が高すぎる場合にはアミノメチルピリジンへの副反応
が増加し、ヒドロキシメチルピリジンの収率は低下す
る。反応温度は30〜80℃が好ましい。温度が低すぎ
ても高すぎても収率が低下し、副生成物が増加したり反
応時間が長くなる傾向がある 本発明の実施態様を述べれば、シアノピリジンと触媒お
よび酸性水溶液をオートクレーブに仕込み、水素を適当
な圧までチャージし、攪拌しながら徐々に加温すれば反
応はスムーズに進行する。酸性水溶液は最初から全量仕
込んでも良いが、始めに一部を仕込み、反応の進行とと
もに徐々にオートクレーブ中に注入する方法も良い結果
を与える。反応終了後触媒を濾過し、濾液を約2/3ま
で減圧濃縮する。これをアルカリ性としてから酢酸エチ
ルまたはブタノールで抽出操作を行い、有機相を濃縮精
製してヒドロキシメチルピリジンを得る。
作用 本発明が良い結果を与える主原因は、本発明で使用する
触媒がシアノピリジンからヒドロキシメチルピリジンを
製造する反応において高い選択性を有する為と思われ
る。
以下、実施例において更に詳細に説明する。
製造例1 活性炭20gを水200mlに分散させ、酢酸鉛3水和物
0.82gを含有する水溶液50mlを加えた。室温で2
時間、80℃で1時間攪拌し良く吸着させた後、水洗し
た。これを再び250mlの水に分散後、塩化パラジウム
7.02gを含む溶液を加え、室温で13時間攪拌し吸
着させた。20%苛性ソーダ溶液16gを加え2時間攪
拌した後、37%ホルマリン2.4mlを添加し徐々に昇
温しながら2時間攪拌した。濾過後、500mlの水で洗
浄し乾燥して、5%パラジウム−2%鉛−炭素触媒20
gを得た。
製造例2 製造例1において、酢酸鉛3水和物に代えて塩化第二銅
2水和物1.19gを使用する以外は全く同様に行い5
%パラジウム−2%銅−炭素触媒20gを得た。
製造例3 市販の5%パラジウム炭素触媒20gを水200mlに分
散させ、塩化亜鉛0.94gを溶解した水溶液50mlを
加えた。室温で1時間攪拌した後濾過し、乾燥した。5
%パラジウム−2%亜鉛−炭素触媒20gを得た。
実施例1 3−シアノピリジン40g(0.384モル)を37%
硫酸水溶液158gに溶解し、製造例1で得た5%パラ
ジウム−2%鉛−炭素触媒を1.2gこれに加え、オー
トクレーブ中で水素圧1kg/cm2、80℃で反応した。水
素吸収の停止まで9.5時間を要した。触媒を濾過後、
濾液を約2/3まで濃縮した。濃縮物に48%苛性ソー
ダを加え中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮
し、ガスクロマトグラフィーによって定量分析した。そ
の結果3−ヒドロキシメチルピリジンが40.3g(収
率96.1%)で含まれており3−アミノピリジンの生
成量は1%以下であることが判った。
実施例2 実施例1において、硫酸に代えて塩酸を使用する以外は
ほぼ同様に行い、3−ヒドロキシメチルピリジン39.
8%(収率94.9%)を得た。
実施例3 実施例1において、触媒を製造例2で得た5%パラジウ
ム−2%銅−炭素触媒1.2gに代えて同様に反応を行
った。3−ヒドロメチルピリジンの収量は、40.0g
(収率95.4%)であった。
実施例4 実施例1において、触媒を製造例3で得た5%パラジウ
ム−2%亜鉛−炭素触媒1.2gに代えて同様に反応を
行った。3−ヒドロキシメチルピリジンの収量は、3
8.8g(収率90.6%)であった。
実施例5 実施例1において、触媒を製造例1に準じて製造した5
%パラジウム−2%錫−炭素触媒1.2gに代えて同様
に反応を行った。3−ヒドロキシメチルピリジンの収量
は、38.6g(収率92.1%)であった。
実施例6 4−シアノピリジン40gを30%硫酸水溶液188g
に溶解し、製造例2で得た5%パラジウム−2%銅−炭
素触媒1.2gを使用して、実施例1と同様に反応し
た。反応時間は6.5時間であった。後の操作は実施例
1と同様に行い、4−ヒドロキシメチルピリジン85.
2%、4−アミノメチルピリジン9.0%を得た。
実施例7 2−シアノピリジン40gを48%硫酸水溶液180g
に溶解し、製造例1で得た5%パラジウム−2%鉛−炭
素触媒1.2gを使用して、水素圧1kg/cm、40℃で
水素化反応を行った。反応は4時間で終了した。その後
は実施例1に準じて処理を行い、2−ヒドロキシメチル
ピリジンを83.7%、2−アミノメチルピリジンを
7.0%の収率で得た。
比較例1 3−シアノピリジン40gを3.16N硫酸水溶液38
0mlに溶解し、市販の5%パラジウム炭素触媒1%を加
えて、水素常圧下、20〜30℃で水素化反応を行っ
た。反応終了まで10時間を要した。その後は実施例1
に準じて処理を行い、3−ヒドロキシメチルピリジン8
0.3%、3−アミノメチルピリジン13.2%を得
た。
比較例2 4−シアノピリジン40gを市販の5%パラジウム炭素
触媒1.2gを使用して、実施例1と同じ反応条件で水
素化した。反応時間は5.3時間であった。4−ヒドロ
キシメチルピリジンの収率は76.3%、4−アミノメ
チルピリジンは22.5%であった。
発明の効果 本発明の実施により、ヒドロキシメチルピリジンの工業
的生産が収率よく、短時間で、容易に実施可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 213/38

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シアノピリジンを酸性水溶液中、接触水素
    還元してヒドロキシメチルピリジンを製造する方法にお
    いて、触媒として鉛、錫、銅および亜鉛から選ばれる少
    なくとも一種の金属を含有するパラジウム炭素触媒を使
    用することを特徴とするヒドロキシメチルピリジンの製
    造方法。
  2. 【請求項2】酸性水溶液が、硫酸、塩酸および燐酸から
    選ばれる酸の水溶液であり、酸の量がシアノピリジンに
    対して2〜5当量の範囲である特許請求の範囲第1項記
    載の製造方法。
  3. 【請求項3】水素圧力が、1〜10kg/cm2である特許請
    求の範囲第1項記載の製造方法。
  4. 【請求項4】反応温度が、30〜80℃である特許請求
    の範囲第1項記載の製造方法。
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