JPH0641447A - 非線形光学特性を有する化合物 - Google Patents
非線形光学特性を有する化合物Info
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- JPH0641447A JPH0641447A JP4110483A JP11048392A JPH0641447A JP H0641447 A JPH0641447 A JP H0641447A JP 4110483 A JP4110483 A JP 4110483A JP 11048392 A JP11048392 A JP 11048392A JP H0641447 A JPH0641447 A JP H0641447A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】非線形光学特性を有する単量体有機化合物又は
重合体有機化合物、及びその製造法を提供する。 【構成】いかなる水溶性基をも含有しない、式（Ｉ）： 例えば、（II）（III）式に例示する 〔式中、Ｒ10：Ｈ、Ｒ11：＝Ｃ（ＣＮ）2 〕で表される
化合物及び式（Ｉ）から誘導される繰返単位を含有する
重合体。 【効果】電気光学装置、光屈折装置又はホログラフィー
装置としての用途、特にシーケンス変換として、とりわ
け周波数２倍器として機能するための変調器、スイッ
チ、増幅器、導波管、センサーとして用いられる。
重合体有機化合物、及びその製造法を提供する。 【構成】いかなる水溶性基をも含有しない、式（Ｉ）： 例えば、（II）（III）式に例示する 〔式中、Ｒ10：Ｈ、Ｒ11：＝Ｃ（ＣＮ）2 〕で表される
化合物及び式（Ｉ）から誘導される繰返単位を含有する
重合体。 【効果】電気光学装置、光屈折装置又はホログラフィー
装置としての用途、特にシーケンス変換として、とりわ
け周波数２倍器として機能するための変調器、スイッ
チ、増幅器、導波管、センサーとして用いられる。
Description
【０００１】本発明は、非線形光学特性を有する単量体
有機化合物又は重合体有機化合物、その生産及び、光
学、集積光学、電気光学光屈折装置又はホログラフィー
装置としての用途、特にシーケンス変換として、とりわ
け周波数２倍器として機能するための変調器、スイッ
チ、増幅器、導波管、センサーとしてのその用途に関す
る。これらの化合物は、方向性結合器として用いること
もできる。
有機化合物又は重合体有機化合物、その生産及び、光
学、集積光学、電気光学光屈折装置又はホログラフィー
装置としての用途、特にシーケンス変換として、とりわ
け周波数２倍器として機能するための変調器、スイッ
チ、増幅器、導波管、センサーとしてのその用途に関す
る。これらの化合物は、方向性結合器として用いること
もできる。
【０００２】本発明は、いかなる水溶性基をも含有しな
い、一般式（Ｉ）：
い、一般式（Ｉ）：
【０００３】
【化９】
【０００４】［ここで、Ｒ1 は、一般式（ａ）で表され
る基、
る基、
【０００５】
【化１０】
【０００６】一般式（ｂ）で表される基、
【０００７】
【化１１】
【０００８】又は−ＮＯ2 を表し、Ｒ2 は、Ｒ1 が一般
式（ａ）で表される基である場合水素及びＣ1-4 アルコ
キシ基から選択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基
である場合水素であり、Ｒ1がニトロ基である場合水
素、ハロゲン、シアノ基及びニトロ基から選択され、Ｒ
3 は、Ｒ1 が一般式（ａ）又は一般式（ｂ）で表される
基である場合水素、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキ
シ基及びＣ1-4 アルキルカルボニルアミノ基から選択さ
れ、Ｒ1 がニトロ基である場合は水素を表し、Ｒ4 は、
Ｃ2-6 アルキレン基を表し、Ｒ5 は、Ｒ1 が一般式
（ａ）で表される基又はニトロ基である場合ベンジル
基、フェニルエチル基（但し、ベンジル基又はフェニル
エチル基のフェニル基は必要に応じＣ1-4 アルキル基、
Ｃ1-4 アルコキシ基及びハロゲンから選択される１又は
２個の置換基を有する）から選択され、Ｒ1 が一般式
（ｂ）で表される基である場合水素、Ｃ1-4 アルキル
基、ベンジル基及びフェニルエチル基（但し、ベンジル
基又はフェニルエチル基のフェニル基は必要に応じハロ
ゲン、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基から選択
される１又は２個の置換基を有する）から選択され、Ｒ
6 は、水素、ハロゲン又はシアノ基を表し、Ｒ7 は、ニ
トロ基、シアノ基又は−Ｃ（Ｒ14）＝Ｃ（Ｒ15）
（Ｒ16）を表し、Ｒ8 は、水素、ハロゲン、シアノ基又
はニトロ基を表し、Ｒ9 は、水素、又はＲ6 が水素且つ
Ｒ8 がニトロ基である場合、付随的にＳＣＮを表し、Ｒ
10は、水素、ハロゲン、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アル
コキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基又はＣ
1-4 アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ11は、酸素又は
一般式＝Ｃ（Ｒ12Ｒ13）（ここで、Ｒ12及びＲ13は、独
立に、シアノ基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、アミ
ノカルボニル基及びモノ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボ
ニル基及びジ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボニル基から
選択される）で表される基であり、Ｒ14は、水素又はシ
アノ基を表し、Ｒ15およびＲ16は、独立に、シアノ基又
はＣ1-10アルコキシカルボニル基を表す。］を有する化
合物を提供する。
式（ａ）で表される基である場合水素及びＣ1-4 アルコ
キシ基から選択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基
である場合水素であり、Ｒ1がニトロ基である場合水
素、ハロゲン、シアノ基及びニトロ基から選択され、Ｒ
3 は、Ｒ1 が一般式（ａ）又は一般式（ｂ）で表される
基である場合水素、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキ
シ基及びＣ1-4 アルキルカルボニルアミノ基から選択さ
れ、Ｒ1 がニトロ基である場合は水素を表し、Ｒ4 は、
Ｃ2-6 アルキレン基を表し、Ｒ5 は、Ｒ1 が一般式
（ａ）で表される基又はニトロ基である場合ベンジル
基、フェニルエチル基（但し、ベンジル基又はフェニル
エチル基のフェニル基は必要に応じＣ1-4 アルキル基、
Ｃ1-4 アルコキシ基及びハロゲンから選択される１又は
２個の置換基を有する）から選択され、Ｒ1 が一般式
（ｂ）で表される基である場合水素、Ｃ1-4 アルキル
基、ベンジル基及びフェニルエチル基（但し、ベンジル
基又はフェニルエチル基のフェニル基は必要に応じハロ
ゲン、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基から選択
される１又は２個の置換基を有する）から選択され、Ｒ
6 は、水素、ハロゲン又はシアノ基を表し、Ｒ7 は、ニ
トロ基、シアノ基又は−Ｃ（Ｒ14）＝Ｃ（Ｒ15）
（Ｒ16）を表し、Ｒ8 は、水素、ハロゲン、シアノ基又
はニトロ基を表し、Ｒ9 は、水素、又はＲ6 が水素且つ
Ｒ8 がニトロ基である場合、付随的にＳＣＮを表し、Ｒ
10は、水素、ハロゲン、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アル
コキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基又はＣ
1-4 アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ11は、酸素又は
一般式＝Ｃ（Ｒ12Ｒ13）（ここで、Ｒ12及びＲ13は、独
立に、シアノ基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、アミ
ノカルボニル基及びモノ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボ
ニル基及びジ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボニル基から
選択される）で表される基であり、Ｒ14は、水素又はシ
アノ基を表し、Ｒ15およびＲ16は、独立に、シアノ基又
はＣ1-10アルコキシカルボニル基を表す。］を有する化
合物を提供する。
【０００９】更に、本発明は、前記に於いて定義した一
般式（Ｉ）で表される単量体化合物から誘導される繰り
返し単位を含有する重合体（単独重合体又は共重合体）
を提供する。
般式（Ｉ）で表される単量体化合物から誘導される繰り
返し単位を含有する重合体（単独重合体又は共重合体）
を提供する。
【００１０】従って、本発明による単量体化合物は、重
合又は共重合を通じて、本発明による重合化合物を形成
する前駆物質であり得る。
合又は共重合を通じて、本発明による重合化合物を形成
する前駆物質であり得る。
【００１１】Ｒ2 は、Ｒ2 ′（Ｒ2 ′は水素又は、Ｒ1
が−ＮＯ2 を表す場合Ｒ2 は付随的にニトロ基を表す）
が好ましいＲ3 は、Ｒ3 ′（Ｒ3 ′は水素又は、Ｒ2 が
一般式（ａ）である場合メチル基であり得る）が好まし
い。
が−ＮＯ2 を表す場合Ｒ2 は付随的にニトロ基を表す）
が好ましいＲ3 は、Ｒ3 ′（Ｒ3 ′は水素又は、Ｒ2 が
一般式（ａ）である場合メチル基であり得る）が好まし
い。
【００１２】Ｒ4 は、Ｒ4 ′（Ｒ4 ′は一般式−ＣＨ2
ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−で表される基
である）であり、特に一般式−ＣＨ2ＣＨ2 −が好まし
い。
ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−で表される基
である）であり、特に一般式−ＣＨ2ＣＨ2 −が好まし
い。
【００１３】Ｒ5 は、Ｒ5 ′（Ｒ5 ′は、Ｒ1 が一般式
（ａ）で表される基又はニトロ基である場合ベンジル基
及びフェニルエチル基、特に好ましくはベンジル基から
選択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基である場合
メチル基、ベンジル基又はフェニルエチル基、特に好ま
しくはベンジル基又はメチル基から選択される）が好ま
しい。
（ａ）で表される基又はニトロ基である場合ベンジル基
及びフェニルエチル基、特に好ましくはベンジル基から
選択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基である場合
メチル基、ベンジル基又はフェニルエチル基、特に好ま
しくはベンジル基又はメチル基から選択される）が好ま
しい。
【００１４】Ｒ6 は、Ｒ6 ′（Ｒ6 ′は水素、塩素、臭
素又はシアノ基、特に好ましくは水素、塩素又はシアノ
基から選択される）が好ましい。。
素又はシアノ基、特に好ましくは水素、塩素又はシアノ
基から選択される）が好ましい。。
【００１５】Ｒ7 は、Ｒ7 ′（Ｒ7 ′はニトロ基又はジ
シアノビニル基を表す）が好ましい。
シアノビニル基を表す）が好ましい。
【００１６】Ｒ8 は、水素が好ましい。
【００１７】Ｒ9 は、水素が好ましい。
【００１８】Ｒ10は、Ｒ10′（Ｒ10′は水素又はニトロ
基を表す）、特にＲ10が５位にある場合はニトロ基が好
ましい。
基を表す）、特にＲ10が５位にある場合はニトロ基が好
ましい。
【００１９】Ｒ11は、Ｒ11′（Ｒ11′は酸素又は一般式
＝Ｃ（ＣＮ）2 で表される基を表す）が好ましい。
＝Ｃ（ＣＮ）2 で表される基を表す）が好ましい。
【００２０】一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式
（ＩＩ）で表される化合物１モルと
（ＩＩ）で表される化合物１モルと
【００２１】
【化１２】
【００２２】メタクリル酸又は、メタクリル酸の官能誘
導体（好ましくはそのメチルエステル又はエチルエステ
ル）又は塩化メタクリロイル１モルとの既知の方法によ
るエステル化により生産することができる。
導体（好ましくはそのメチルエステル又はエチルエステ
ル）又は塩化メタクリロイル１モルとの既知の方法によ
るエステル化により生産することができる。
【００２３】一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式
（ＩＩ）で表される化合物のＲ4 に結合しているＯＨ基
とメタクリロイル基とのエステル化により調製される。
（ＩＩ）で表される化合物のＲ4 に結合しているＯＨ基
とメタクリロイル基とのエステル化により調製される。
【００２４】一般式（ＩＩ）で表される化合物は、既知
の化合物から既知の方法により調製し得る。
の化合物から既知の方法により調製し得る。
【００２５】一般式（Ｉ）で表される化合物は［ここ
で、Ｒ1 は一般式（ａ）で表される基である］、一般式
（ＩＩＩ）で表されるジアゾ化アミン１モルと
で、Ｒ1 は一般式（ａ）で表される基である］、一般式
（ＩＩＩ）で表されるジアゾ化アミン１モルと
【００２６】
【化１３】
【００２７】一般式（ＩＶ）で表される化合物１モルと
の
の
【００２８】
【化１４】
【００２９】（ここで、記号は前記で定義したとおりで
ある）カップリングにより調製することが出来る。
ある）カップリングにより調製することが出来る。
【００３０】一般式（Ｉ）で表される化合物（ここで、
Ｒ1 は一般式（ｂ）で表される基である）は、一般式
（Ｖ）で表される化合物１モルと
Ｒ1 は一般式（ｂ）で表される基である）は、一般式
（Ｖ）で表される化合物１モルと
【００３１】
【化１５】
【００３２】一般式（ＶＩ）で表される化合物１モルと
の
の
【００３３】
【化１６】
【００３４】（ここで、記号は前記で定義したとおりで
ある）縮合（クネベナーゲル反応による）により生産す
ることができる。
ある）縮合（クネベナーゲル反応による）により生産す
ることができる。
【００３５】一般式（ＩＩＩ）から（ＶＩ）で表される
化合物は、既知であるか、又は既知の化合物から既知の
方法により調製することが出来る。
化合物は、既知であるか、又は既知の化合物から既知の
方法により調製することが出来る。
【００３６】かかる共重合体の形成に用いることが出来
る重合可能な化合物としては、メタクリル酸Ｃ1-4 アル
キルエステル、特にメタクリル酸メチルエステルが挙げ
られる。
る重合可能な化合物としては、メタクリル酸Ｃ1-4 アル
キルエステル、特にメタクリル酸メチルエステルが挙げ
られる。
【００３７】本発明による単量体化合物及び重合体化合
物は、通常、例えば非線形光学効果を創出する光学部品
又は電気光学部品のコーティングのために薄膜の形で用
いられ、例えば変調器や周波数２倍器用の周波数変換用
電気光学スイッチなどに用いられる。又、この高分子フ
ィルムは非常に良好な導波特性を示す。
物は、通常、例えば非線形光学効果を創出する光学部品
又は電気光学部品のコーティングのために薄膜の形で用
いられ、例えば変調器や周波数２倍器用の周波数変換用
電気光学スイッチなどに用いられる。又、この高分子フ
ィルムは非常に良好な導波特性を示す。
【００３８】この重合体は、有機溶媒によく溶解するの
で、例えばスピンコーティング処理又は浸せき塗装処理
に容易に使用し得る。
で、例えばスピンコーティング処理又は浸せき塗装処理
に容易に使用し得る。
【００３９】更に、本発明による重合体は、高ガラス転
移温度、良好な（即ち長期間にわたる）安定性及び、電
気光学的作用及び非線形光学的作用のための高非線形係
数を有する。
移温度、良好な（即ち長期間にわたる）安定性及び、電
気光学的作用及び非線形光学的作用のための高非線形係
数を有する。
【００４０】本明細書に於ける、いずれのＣ1-4 アルキ
ル基もＣ1-2 アルキル基が好ましく、いずれのＣ1-4 ア
ルコキシ基もＣ1-2 アルコキシ基が好ましい。
ル基もＣ1-2 アルキル基が好ましく、いずれのＣ1-4 ア
ルコキシ基もＣ1-2 アルコキシ基が好ましい。
【００４１】ハロゲンとは、塩素、臭素又はヨウ素を意
味し、塩素、臭素が好ましく、塩素が最も好ましい。
味し、塩素、臭素が好ましく、塩素が最も好ましい。
【００４２】
【実施例】以下の実施例により、本発明を具体的に説明
する。
する。
【００４３】実施例１Ａ． Ｎ−ベンジル−Ｎ−β−ヒドロキシアニリンの調
製 １０リットルのスルホン化用反応容器に３０００ｍｌの
エタノール及び２９０ｇの酢酸ナトリウムを加えた。室
温にて撹拌しながら４１１ｇのＮ−（β−ヒドロキシエ
チル）アニリン及び４５５．４ｇの塩化ベンジルを加え
た。しかる後、これを８０℃に加温しこの温度で６時間
撹拌した。この混合物を室温に冷却した後、濾過し、濾
液をロータリーエバポレーター中で濃縮し、その結果生
じた粘性を有する液体を冷蔵庫で一晩静置した。その結
果生じた固形物を濾別した。
製 １０リットルのスルホン化用反応容器に３０００ｍｌの
エタノール及び２９０ｇの酢酸ナトリウムを加えた。室
温にて撹拌しながら４１１ｇのＮ−（β−ヒドロキシエ
チル）アニリン及び４５５．４ｇの塩化ベンジルを加え
た。しかる後、これを８０℃に加温しこの温度で６時間
撹拌した。この混合物を室温に冷却した後、濾過し、濾
液をロータリーエバポレーター中で濃縮し、その結果生
じた粘性を有する液体を冷蔵庫で一晩静置した。その結
果生じた固形物を濾別した。
【００４４】その結果、一般式（１ａ）で表される化合
物、
物、
【００４５】
【化１７】
【００４６】Ｎ−ベンジル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）アニリン５９０ｇを褐色の油状物質として得た。
ル）アニリン５９０ｇを褐色の油状物質として得た。
【００４７】Ｂ．ｐ−ニトロアニリンを用いたカップリ
ング １．５リットルのスルホン化用反応容器に５５０ｍｌの
水及び２１９ｇの９５％硫酸を小量づつ撹拌しながら加
えた。室温にて１１７．３ｇのｐ−ニトロアニリンを加
え約１時間撹拌した。この混合物を０℃まで冷却した
後、４−Ｎ−亜硝酸ナトリウム２１２．５ｍｌを加え更
に３時間撹拌した。最後に余剰の亜硝酸を充分な量のア
ミドスルホン酸で除去した。
ング １．５リットルのスルホン化用反応容器に５５０ｍｌの
水及び２１９ｇの９５％硫酸を小量づつ撹拌しながら加
えた。室温にて１１７．３ｇのｐ−ニトロアニリンを加
え約１時間撹拌した。この混合物を０℃まで冷却した
後、４−Ｎ−亜硝酸ナトリウム２１２．５ｍｌを加え更
に３時間撹拌した。最後に余剰の亜硝酸を充分な量のア
ミドスルホン酸で除去した。
【００４８】８００ｍｌのメタノールに溶解させた１９
３．５ｇのＮ−ベンジル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）アニリン［一般式（１ａ）で表される化合物］を６
リットルのスルホン化用反応容器に入れた。３０分に亙
って黄褐色のジアゾニウム塩の懸濁液を加え、３０％Ｎ
ａＯＨ水溶液を小量づつ加えた。その間ｐＨは、１．５
に、温度は約２０℃に維持した。この混合液を一晩撹拌
した後、ｐＨを４にした。混合液を濾過し、６０℃から
８０℃の真空下で乾燥させた。
３．５ｇのＮ−ベンジル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）アニリン［一般式（１ａ）で表される化合物］を６
リットルのスルホン化用反応容器に入れた。３０分に亙
って黄褐色のジアゾニウム塩の懸濁液を加え、３０％Ｎ
ａＯＨ水溶液を小量づつ加えた。その間ｐＨは、１．５
に、温度は約２０℃に維持した。この混合液を一晩撹拌
した後、ｐＨを４にした。混合液を濾過し、６０℃から
８０℃の真空下で乾燥させた。
【００４９】一般式（１ｂ）で表される赤色染料３１３
ｇを生成した。
ｇを生成した。
【００５０】
【化１８】
【００５１】トルエンからの３回の再結晶後、一般式
（１ｂ）で表される生成物２１０ｇを生成した。
（１ｂ）で表される生成物２１０ｇを生成した。
【００５２】Ｃ．塩化メチルアクリロイルを用いた反応 窒素存在下で、１．５リットルの乾燥塩化メチレン及び
０．６ｇのヒドロキノンを６リットルのスルホン化用反
応容器に加えた。この混合液を０℃に冷却し、撹拌しな
がら８３．１ｇの塩化メタクリル酸を加えた。温度を０
℃から１０℃の範囲に維持して、１．５リットルの乾燥
塩化メチレン、２００ｇの一般式（１ｂ）で表される染
料及び、８０．４ｇの乾燥トリエチルアミンの混合液を
小量づつ先の混合液に加えた。
０．６ｇのヒドロキノンを６リットルのスルホン化用反
応容器に加えた。この混合液を０℃に冷却し、撹拌しな
がら８３．１ｇの塩化メタクリル酸を加えた。温度を０
℃から１０℃の範囲に維持して、１．５リットルの乾燥
塩化メチレン、２００ｇの一般式（１ｂ）で表される染
料及び、８０．４ｇの乾燥トリエチルアミンの混合液を
小量づつ先の混合液に加えた。
【００５３】反応混合液を、徐々に室温まで加温し、薄
層クロマトグラフィー（溶媒：トルエン／酢酸エステル
２：１）によりモニターした。反応が終了した（３−５
時間）後、反応混合液を濾過し、濾液を１リットルの１
０％ＮａＯＨ水溶液で３回、最後に１リットルの水で３
回洗浄した。
層クロマトグラフィー（溶媒：トルエン／酢酸エステル
２：１）によりモニターした。反応が終了した（３−５
時間）後、反応混合液を濾過し、濾液を１リットルの１
０％ＮａＯＨ水溶液で３回、最後に１リットルの水で３
回洗浄した。
【００５４】この混合物を硫酸ナトリウムで乾燥させ、
溶媒をロータリーエバポレーターで除去することによ
り、一般式（１ｃ）で表される赤色染料２３０ｇを生成
した。
溶媒をロータリーエバポレーターで除去することによ
り、一般式（１ｃ）で表される赤色染料２３０ｇを生成
した。
【００５５】
【化１９】
【００５６】この生成物を酢酸エステルに溶解し、ヘキ
サンでの再度析出を３回繰り返すことにより、更に生成
物を精製することが出来た。一般式（１ｃ）で表される
１４８ｇの染料を生成した（Ｆａ．Ｍａｃｈｅｒｙ−Ｎ
ａｇｅｌ社のＰｏｌｙｇｒａｍ ＳＩＬ Ｇ／ＵＶを用
いた薄層クロマトグラフ Ｒｆ値：０．９３ 溶媒：ト
ルエン／酢酸エチル ２：１）。
サンでの再度析出を３回繰り返すことにより、更に生成
物を精製することが出来た。一般式（１ｃ）で表される
１４８ｇの染料を生成した（Ｆａ．Ｍａｃｈｅｒｙ−Ｎ
ａｇｅｌ社のＰｏｌｙｇｒａｍ ＳＩＬ Ｇ／ＵＶを用
いた薄層クロマトグラフ Ｒｆ値：０．９３ 溶媒：ト
ルエン／酢酸エチル ２：１）。
【００５７】Ｄ．Ｎ−ベンジル−Ｎ−（β−メタクリロ
キシエチル）−アニリンの調製 ０℃の４リットルのスルホン化用反応容器に１０００ｍ
ｌの乾燥塩化メチレンを３３４ｇの塩化メタクリル酸と
共に加えた。この混合物に、５００ｍｌの乾燥塩化メチ
レン、３２３ｍｌの乾燥トリエチルアミン及び４５４ｇ
のＮ−ベンジル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アニリ
ン［一般式（１ａ）で表される化合物］を小量づつ０℃
から１０℃で加えた。反応混合物の温度をを徐々に室温
まで上昇させ、薄層クロマトグラフィー（シリカゲル）
（溶媒：トルエン／酢酸エステル２：１）によってモニ
ターした。反応終了後（一晩静置した後）反応混合液を
濾過し、濾液を１リットルの１０％ＮａＯＨ水溶液で３
回、最後に１リットルの水で４回洗浄した。
キシエチル）−アニリンの調製 ０℃の４リットルのスルホン化用反応容器に１０００ｍ
ｌの乾燥塩化メチレンを３３４ｇの塩化メタクリル酸と
共に加えた。この混合物に、５００ｍｌの乾燥塩化メチ
レン、３２３ｍｌの乾燥トリエチルアミン及び４５４ｇ
のＮ−ベンジル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アニリ
ン［一般式（１ａ）で表される化合物］を小量づつ０℃
から１０℃で加えた。反応混合物の温度をを徐々に室温
まで上昇させ、薄層クロマトグラフィー（シリカゲル）
（溶媒：トルエン／酢酸エステル２：１）によってモニ
ターした。反応終了後（一晩静置した後）反応混合液を
濾過し、濾液を１リットルの１０％ＮａＯＨ水溶液で３
回、最後に１リットルの水で４回洗浄した。
【００５８】この有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、
溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。一般式
（１ｄ）で表される生成物４８２ｇを得た。
溶媒をロータリーエバポレーターで除去した。一般式
（１ｄ）で表される生成物４８２ｇを得た。
【００５９】
【化２０】
【００６０】Ｅ．ｐ−ニトロアニリンを用いたカップリ
ング ６９ｇのｐ−ニトロアニリン、１２５０ｍｌの水及び１
５５ｍｌの３０％塩酸を３リットルのビーカー中で一晩
撹拌した。０℃に冷却した後、１３７ｍｌの４−Ｎ−亜
硝酸ナトリウム溶液を加え、３時間撹拌した。最後に余
剰の亜硝酸を小量のアミドスルホン酸で除去した。
ング ６９ｇのｐ−ニトロアニリン、１２５０ｍｌの水及び１
５５ｍｌの３０％塩酸を３リットルのビーカー中で一晩
撹拌した。０℃に冷却した後、１３７ｍｌの４−Ｎ−亜
硝酸ナトリウム溶液を加え、３時間撹拌した。最後に余
剰の亜硝酸を小量のアミドスルホン酸で除去した。
【００６１】４リットルのスルホン化用反応容器に、８
００ｍｌの氷酢酸、１５０ｍｌのプロピオン酸及び前述
の一般式（１ｄ）で表されるメタクリレート１５０ｇを
加え、０℃に冷却した。しかる後、０℃でポンプを介し
てジアゾニウム塩溶液を徐々に加え、その間酢酸ナトリ
ウムを用いてｐＨを１．５に維持した。この混合液を一
晩撹拌し、約３００ｍｌの３０％ＮａＯＨ水溶液の添加
によりｐＨを４まで上げた。混合液を濾過し、全量１５
リットルの水で洗浄した。得られた生成物を精製するた
めに、２リットルのメタノールに懸濁させた後濾過する
工程を３回繰り返した。４０℃の真空下で乾燥させた
後、一般式（１ｃ）で表される生成物９７ｇを得た。更
に生成物を精製するために、カラムクロマトグラフィー
を用いた（シリカゲル 溶媒：クロロホルム／ヘキサン
１：１）。
００ｍｌの氷酢酸、１５０ｍｌのプロピオン酸及び前述
の一般式（１ｄ）で表されるメタクリレート１５０ｇを
加え、０℃に冷却した。しかる後、０℃でポンプを介し
てジアゾニウム塩溶液を徐々に加え、その間酢酸ナトリ
ウムを用いてｐＨを１．５に維持した。この混合液を一
晩撹拌し、約３００ｍｌの３０％ＮａＯＨ水溶液の添加
によりｐＨを４まで上げた。混合液を濾過し、全量１５
リットルの水で洗浄した。得られた生成物を精製するた
めに、２リットルのメタノールに懸濁させた後濾過する
工程を３回繰り返した。４０℃の真空下で乾燥させた
後、一般式（１ｃ）で表される生成物９７ｇを得た。更
に生成物を精製するために、カラムクロマトグラフィー
を用いた（シリカゲル 溶媒：クロロホルム／ヘキサン
１：１）。
【００６２】実施例２−８ 実施例１と同様の方法により、一般式（２）で表される
化合物を調製した。
化合物を調製した。
【００６３】
【化２１】
【００６４】（ここで、Ｒ3 、Ｒ6 及びＲ7 は以下の表
１に示すとおりである）
１に示すとおりである）
【００６５】
【表１】
【００６６】Ｒｆ値は、Ｆａ．Ｍａｃｈｅｒｙ−Ｎａｇ
ｅｌ社のＰｏｌｙｇｒａｍ ＳＩＬＧ７ＵＶを用いた薄
層クロマトグラフで溶媒としてトルエン／酢酸エチル
２：１を用いて測定した。
ｅｌ社のＰｏｌｙｇｒａｍ ＳＩＬＧ７ＵＶを用いた薄
層クロマトグラフで溶媒としてトルエン／酢酸エチル
２：１を用いて測定した。
【００６７】実施例９ 一般式（１ｃ）で表される化合物の重合 一般式（１ｃ）で表される化合物（実施例１Ｃ）０．５
ｇ及びアゾビスイソブチロニトリル９ｍｇを１０ｍｌの
トルエンに溶解させた。この混合液を酸素非含有窒素で
３分間洗浄後、空気を通さない密閉容器に入れたまま６
０℃で４７時間保持した。しかる後、残留溶液をデカン
トして容器の底にある混合物をテトラヒドロフラン１０
ｍｌに溶解させた。しかる後、溶液を濾過し２００ｍｌ
のメタノールに加えた後、得られた沈澱重合体を濾過
し、恒量に達するまで真空下で乾燥させた。
ｇ及びアゾビスイソブチロニトリル９ｍｇを１０ｍｌの
トルエンに溶解させた。この混合液を酸素非含有窒素で
３分間洗浄後、空気を通さない密閉容器に入れたまま６
０℃で４７時間保持した。しかる後、残留溶液をデカン
トして容器の底にある混合物をテトラヒドロフラン１０
ｍｌに溶解させた。しかる後、溶液を濾過し２００ｍｌ
のメタノールに加えた後、得られた沈澱重合体を濾過
し、恒量に達するまで真空下で乾燥させた。
【００６８】実施例１０−２５ 実施例９と同様の方法により、一般式（９）で表される
化合物の重合生成物を適当なリアクタントから生成し
た。
化合物の重合生成物を適当なリアクタントから生成し
た。
【００６９】
【化２２】
【００７０】（ここで、記号Ｒ3 、Ｒ6 及びＲ7 は、以
下の表２に示すとおりである）
下の表２に示すとおりである）
【００７１】
【表２】
【００７２】実施例２６ ５０ｍｌのスルホン化用反応容器に入れた２．５３ｇの
Ｎ−メチル−Ｎ−（βメタクリロイロキシエチル）アニ
リン及び３．２ｍｌのジメチルホルムアミド溶液に５分
間に亙って１．２ｍｌのホスホロキシクロライドを加え
た。温度を６０℃に上げ、反応混合液を７０℃で５時間
撹拌した。しかる後、反応混合液を室温に冷却し、２．
０ｇの３−シアノメチレン−２，３−ジヒドロ−ベンズ
チオフェン−１，１−ジオキサイド、１．９７ｇの炭酸
ナトリウム及び６ｍｌのメタノールの懸濁液に５分間に
亙って滴下した。得られた青色の懸濁液を室温で８時間
撹拌した。反応混合液を濾過し、残査を１５ｍｌのメタ
ノール及び１００ｍｌの水で洗浄し、メタノールから再
結晶させた（実施例１Ｃと同様の薄層クロマトグラフィ
ーに於けるＲｆ値は０．５４）。
Ｎ−メチル−Ｎ−（βメタクリロイロキシエチル）アニ
リン及び３．２ｍｌのジメチルホルムアミド溶液に５分
間に亙って１．２ｍｌのホスホロキシクロライドを加え
た。温度を６０℃に上げ、反応混合液を７０℃で５時間
撹拌した。しかる後、反応混合液を室温に冷却し、２．
０ｇの３−シアノメチレン−２，３−ジヒドロ−ベンズ
チオフェン−１，１−ジオキサイド、１．９７ｇの炭酸
ナトリウム及び６ｍｌのメタノールの懸濁液に５分間に
亙って滴下した。得られた青色の懸濁液を室温で８時間
撹拌した。反応混合液を濾過し、残査を１５ｍｌのメタ
ノール及び１００ｍｌの水で洗浄し、メタノールから再
結晶させた（実施例１Ｃと同様の薄層クロマトグラフィ
ーに於けるＲｆ値は０．５４）。
【００７３】実施例２７−３１ 実施例２６の方法により適当なリアクタントから一般式
２７で表される化合物を調製した。Ｒｆ値は実施例１
ｃ）と同様である。
２７で表される化合物を調製した。Ｒｆ値は実施例１
ｃ）と同様である。
【００７４】
【化２３】
【００７５】（記号は、表３に示すとおりである）
【００７６】
【表３】
【００７７】実施例３２−３７ 実施例９と同様の方法により、一般式３２で表される単
量体から誘導される重合化合物を調製した。
量体から誘導される重合化合物を調製した。
【００７８】
【化２４】
【００７９】（ここで、Ｒ5 、Ｒ3 、Ｒ10及びＲ11は、
以下の表４に示すとおりである）
以下の表４に示すとおりである）
【００８０】
【表４】
【００８１】実施例３８ −５℃に冷却した、２３ｇの（Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−ベンジル−２，４−ジニトロフェニル）−アミン及
び乾燥トリエチルアミン３０ｍｌを溶解させた５００ｍ
ｌの乾燥メチレンクロライドの溶液に、３０ｍｌの乾燥
メチレンクロライドに溶解させた７．６５ｇ（７．０５
ｍｌ）のメタクリロイルクロライド溶液を小量づつ滴下
した。添加終了後、この混合液を更に１６時間室温で撹
拌した。しかる後、生成物を希釈水酸化ナトリウムを用
いて３回洗浄（精製）し、硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を蒸留し、粗生成物をエーテルから再結晶させ
た。
Ｎ−ベンジル−２，４−ジニトロフェニル）−アミン及
び乾燥トリエチルアミン３０ｍｌを溶解させた５００ｍ
ｌの乾燥メチレンクロライドの溶液に、３０ｍｌの乾燥
メチレンクロライドに溶解させた７．６５ｇ（７．０５
ｍｌ）のメタクリロイルクロライド溶液を小量づつ滴下
した。添加終了後、この混合液を更に１６時間室温で撹
拌した。しかる後、生成物を希釈水酸化ナトリウムを用
いて３回洗浄（精製）し、硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、溶媒を蒸留し、粗生成物をエーテルから再結晶させ
た。
【００８２】Ｎ−メタクリロイロキシエチル−Ｎ−ベン
ジル−２，４−ジニトロフェニルアミンは、良好な収量
であった。
ジル−２，４−ジニトロフェニルアミンは、良好な収量
であった。
【００８３】Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−ベンジル−
２，４−ジニトロフェニルアミンをＮ−β−ヒドロキシ
エチル−Ｎ−ベンジルアミン及び１，３−ジニトロ−４
−フルオロ−ベンゼンから同様の方法により調製した。
２，４−ジニトロフェニルアミンをＮ−β−ヒドロキシ
エチル−Ｎ−ベンジルアミン及び１，３−ジニトロ−４
−フルオロ−ベンゼンから同様の方法により調製した。
【００８４】実施例３９ 実施例３８と同様の方法により、Ｎ−メタクリロイロキ
シエチル−Ｎ−ベンジル−４−ニトロフェニル−アミン
を調製した。
シエチル−Ｎ−ベンジル−４−ニトロフェニル−アミン
を調製した。
【００８５】実施例４０及び４１ 実施例９と同様の方法により、実施例３７及び３８の単
量体を重合した。両方の実施例に於ける溶媒には、トル
エンを用いた。実施例４０に於いて、Ｔｇは９０、ＣＨ
2 Ｃｌ2 中のλｍａｘは３６７ｎｍであり、実施例４１
に於いて、Ｔｇは１０７、ジメチルホルムアミド中のλ
ｍａｘは３９０ｎｍであった。
量体を重合した。両方の実施例に於ける溶媒には、トル
エンを用いた。実施例４０に於いて、Ｔｇは９０、ＣＨ
2 Ｃｌ2 中のλｍａｘは３６７ｎｍであり、実施例４１
に於いて、Ｔｇは１０７、ジメチルホルムアミド中のλ
ｍａｘは３９０ｎｍであった。
【００８６】実施例４２ ３．５ｍｌのテトラヒドロフラン及び３．５ｍｌのＮ−
メチルピロリドンの混合液に、室温で１２時間に亙って
実施例９の重合体３ｇを溶解させた。微粒子を除去する
ために、この溶液を、平均孔径０．２μｍを有するフィ
ルターを通過させた。Ｂａｌｚｅｒ社の酸化すずインジ
ウム（ＩＴＯ）カバーガラスプレート（２６ｘ７５ｍ
ｍ）を以下のごとく洗浄した、即ち、プレートを濃縮溶
液中に一晩置き、蒸留水で洗浄し、真空乾燥器で乾燥さ
せたアセトンで洗浄した。
メチルピロリドンの混合液に、室温で１２時間に亙って
実施例９の重合体３ｇを溶解させた。微粒子を除去する
ために、この溶液を、平均孔径０．２μｍを有するフィ
ルターを通過させた。Ｂａｌｚｅｒ社の酸化すずインジ
ウム（ＩＴＯ）カバーガラスプレート（２６ｘ７５ｍ
ｍ）を以下のごとく洗浄した、即ち、プレートを濃縮溶
液中に一晩置き、蒸留水で洗浄し、真空乾燥器で乾燥さ
せたアセトンで洗浄した。
【００８７】重合溶液を先のプレート上で１分当り８０
０回転で回転させ、最後に１００−１１０℃で１２時間
真空乾燥器で乾燥させた。この結果、良好な光学的品質
を有する均質フィルムを得た。Ａｌｐｈａ Ｓｔｅｐ
（Ｆａ．Ｔｅｎｃｏｒ社 Ｒｕｎｇｎｉｓ，フランス）
上で測定したフィルムの厚さは０．８３μｍであった。
０回転で回転させ、最後に１００−１１０℃で１２時間
真空乾燥器で乾燥させた。この結果、良好な光学的品質
を有する均質フィルムを得た。Ａｌｐｈａ Ｓｔｅｐ
（Ｆａ．Ｔｅｎｃｏｒ社 Ｒｕｎｇｎｉｓ，フランス）
上で測定したフィルムの厚さは０．８３μｍであった。
【００８８】このフィルムをＣｏｒｏｎａ Ｐｏｌｉｎ
ｇ ｍａｃｈｉｎｅで５ｋボルト１１０−１２０℃で３
０分間分極化した。分極化は１０６４ｎｍで“Ｍａｋｅ
ｒ−ｆｒｉｎｇｅ”法（Ｍ．Ａ．Ｍｏｒｔａｚａｒｉ等
Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ：Ａｍ．Ｂ６（４）ｐ７３３−７４
１（１９８９年))によるＳＨＧ測定を介してモニターし
た。
ｇ ｍａｃｈｉｎｅで５ｋボルト１１０−１２０℃で３
０分間分極化した。分極化は１０６４ｎｍで“Ｍａｋｅ
ｒ−ｆｒｉｎｇｅ”法（Ｍ．Ａ．Ｍｏｒｔａｚａｒｉ等
Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ：Ａｍ．Ｂ６（４）ｐ７３３−７４
１（１９８９年))によるＳＨＧ測定を介してモニターし
た。
【００８９】最大ＳＨＧ活性を示す点において、このフ
ィルムを室温に冷却しても、電場は生じていた。
ィルムを室温に冷却しても、電場は生じていた。
【００９０】以下のＳＨＧを測定した。
【００９１】ｄ３３（ｍａｘ）＝８０ｐｍ／Ｖ 分極化
中の最大値 ｄ３３（５ｄ）＝５４ｐｍ／Ｖ 室温で５日後のＳＨＧ
値 ｄ３３（３１ｄ）＝５２ｐｍ／Ｖ 室温で３１日後のＳ
ＨＧ値 実施例４３ 実施例４２と同様の方法により、適当な溶媒又は溶媒混
合液中に重合体を溶解させ、濾過、スピンコーティン
グ、重合体フィルムの極性化及び室温でのフィルムの貯
蔵により、以下の値が得られた。
中の最大値 ｄ３３（５ｄ）＝５４ｐｍ／Ｖ 室温で５日後のＳＨＧ
値 ｄ３３（３１ｄ）＝５２ｐｍ／Ｖ 室温で３１日後のＳ
ＨＧ値 実施例４３ 実施例４２と同様の方法により、適当な溶媒又は溶媒混
合液中に重合体を溶解させ、濾過、スピンコーティン
グ、重合体フィルムの極性化及び室温でのフィルムの貯
蔵により、以下の値が得られた。
【００９２】
【表５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 255/58 9357−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 333/60 333/64 Ｃ０８Ｆ 20/34 ＭＭＱ 7242−4Ｊ 20/38 ＭＭＵ 7242−4Ｊ 36/20 ＭＰＬ 8416−4Ｊ Ｃ０９Ｂ 29/085 Ａ 7306−4Ｈ
Claims (19)
- 【請求項１】 いかなる水溶性基をも含有しない、一般
式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、Ｒ1 は、一般式（ａ）で表される基、 【化２】 一般式（ｂ）で表される基、 【化３】 又は−ＮＯ2 を表し、Ｒ2 は、Ｒ1 が一般式（ａ）で表
される基である場合水素及びＣ1-4 アルコキシ基から選
択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基である場合水
素であり、Ｒ1がニトロ基である場合水素、ハロゲン、
シアノ基及びニトロ基から選択され、Ｒ3 は、Ｒ1 が一
般式（ａ）又は一般式（ｂ）で表される基である場合水
素、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基及びＣ1-4
アルキルカルボニルアミノ基から選択され、Ｒ1 がニト
ロ基である場合は水素を表し、Ｒ4 は、Ｃ2-6 アルキレ
ン基を表し、Ｒ5 は、Ｒ1 が一般式（ａ）で表される基
又はニトロ基である場合ベンジル基、フェニルエチル基
（但し、ベンジル基又はフェニルエチル基のフェニル基
は必要に応じＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基及
びハロゲンから選択される１又は２個の置換基を有す
る）から選択され、Ｒ1 が一般式（ｂ）で表される基で
ある場合水素、Ｃ1-4 アルキル基、ベンジル基及びフェ
ニルエチル基（但し、ベンジル基又はフェニルエチル基
のフェニル基は必要に応じハロゲン、Ｃ1-4 アルキル
基、Ｃ1-4 アルコキシ基から選ばれる１又は２個の置換
基を有する）から選択され、Ｒ6 は、水素、ハロゲン又
はシアノ基を表し、Ｒ7 は、ニトロ基、シアノ基又は−
Ｃ（Ｒ14）＝Ｃ（Ｒ15）（Ｒ16）を表し、Ｒ8 は、水
素、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、Ｒ9 は、
水素、又はＲ6 が水素且つＲ8 がニトロ基である場合、
付随的にＳＣＮを表し、Ｒ10は、水素、ハロゲン基、Ｃ
1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、シアノ基、ニト
ロ基、カルボキシル基又はＣ1-4 アルコキシカルボニル
基を表し、Ｒ11は、酸素又は一般式＝Ｃ（Ｒ12Ｒ13）で
表される基を表し（ここで、Ｒ12及びＲ13は、独立に、
シアノ基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、アミノカル
ボニル基及びモノ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボニル基
及びジ−Ｃ1-4 アルキルアミノカルボニル基から選択さ
れる）、Ｒ14は、水素又はシアノ基を表し、Ｒ15および
Ｒ16は、独立に、シアノ基又はＣ1-10アルコキシカルボ
ニル基を表す。］で表される化合物。 - 【請求項２】 Ｒ2 がＲ2 ′（ここで、Ｒ2 ′は水素又
は、Ｒ1 が−ＮＯ2を表す場合Ｒ2 は付随的にニトロ基
を表す）であることを特徴とする請求項１に記載の化合
物。 - 【請求項３】 Ｒ3 がＲ3 ′（ここで、Ｒ3 ′は水素又
は、Ｒ2 が一般式（ａ）である場合メチル基をとり得
る）であることを特徴とする請求項１に記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｒ4 がＲ4 ′（ここで、Ｒ4 ′は一般式
−ＣＨ2 ＣＨ2 −又は−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−で表
される基である）であることを特徴とする請求項１に記
載の化合物。 - 【請求項５】 Ｒ5 がＲ5 ′（ここで、Ｒ5 ′は、Ｒ1
が一般式（ａ）で表される基又はニトロ基である場合ベ
ンジル基及びフェニルエチル基から選択され、Ｒ1 が一
般式（ｂ）で表される基である場合メチル基、ベンジル
基又はフェニルエチル基から選ばれる）であることを特
徴とする請求項１に記載の化合物。 - 【請求項６】 Ｒ6 がＲ6 ′（ここで、Ｒ6 ′は水素、
塩素、臭素又はシアノ基から選ばれる）であることを特
徴とする請求項１に記載の化合物。 - 【請求項７】 Ｒ7 がニトロ基又はジシアノビニル基で
あることを特徴とする請求項１に記載の化合物。 - 【請求項８】 Ｒ8 が水素であることを特徴とする請求
項１に記載の化合物。 - 【請求項９】 Ｒ9 が水素であることを特徴とする請求
項１に記載の化合物。 - 【請求項１０】 Ｒ10がＲ10′（ここで、Ｒ10′は水素
又はニトロ基を表す）であることを特徴とする請求項１
に記載の化合物。 - 【請求項１１】 Ｒ11がＲ11′（ここで、Ｒ11′は酸素
又は一般式＝Ｃ（ＣＮ）2 で表される基を表す）である
ことを特徴とする請求項１に記載の化合物。 - 【請求項１２】 請求項１に於いて定義した一般式
（Ｉ）で表される単量体化合物から誘導される繰り返し
単位を含有する重合体（単独重合体又は共重合体）。 - 【請求項１３】 一般式（ＩＩ）で表される化合物１モ
ルと 【化４】 メタクリル酸又はメタクリル酸の官能誘導体又は塩化メ
タクリロイル１モルとの既知の方法によるエステル化か
ら成ることを特徴とする、一般式（Ｉ）で表される化合
物の製法。 - 【請求項１４】 一般式（ＩＩＩ）で表されるジアゾ化
アミン１モルと 【化５】 一般式（ＩＶ）で表される化合物１モルとの 【化６】 （ここで、記号は請求項１に於いて定義した通りであ
る）カップリングから成ることを特徴とする、一般式
（Ｉ）で表される化合物［ここで、Ｒ1 は一般式（ａ）
で表される基である］の製法。 - 【請求項１５】 一般式（Ｖ）で表される化合物１モル
と 【化７】 一般式（ＶＩ）で表される化合物１モルとの 【化８】 （ここで、記号は請求項１に於いて定義したとおりであ
る）縮合（クネベナーゲル反応による）から成ることを
特徴とする、一般式（Ｉ）で表される化合物［ここで、
Ｒ1 は一般式（ｂ）で表される基である］の製法。 - 【請求項１６】 請求項１から11のいずれかに於いて定
義した一般式（Ｉ）で表される化合物のいずれか又は請
求項１２に於いて定義した重合体を用いた光学、集積光
学、電気光学光屈折装置又はホログラフィー装置。 - 【請求項１７】 非線形光学効果を生ずる光学装置又は
電気光学装置に於ける、請求項１から11のいずれかに於
いて定義した一般式（Ｉ）で表される化合物又は請求項
１２に於いて定義した重合体の用途。 - 【請求項１８】 本明細書中で実際に実施例のいずれか
一つとして述べられている、請求項１から11のいずれか
に於いて定義した一般式（Ｉ）で表される化合物。 - 【請求項１９】 本明細書中で実際に実施例のいずれか
一つとして述べられている重合体。
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