JPH05506872A - 非線形光学レスポンスを示す側鎖コポリマー - Google Patents

非線形光学レスポンスを示す側鎖コポリマー

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JPH05506872A JP91506546A JP50654691A JPH05506872A JP H05506872 A JPH05506872 A JP H05506872A JP 91506546 A JP91506546 A JP 91506546A JP 50654691 A JP50654691 A JP 50654691A JP H05506872 A JPH05506872 A JP H05506872A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 非線形光学レスポンスを示す側鎖コポリマー関連特許出願の相互参照 本特許出願は、同時係属中の、特許出願S、N、 148.262 (1988 年1月25日付は提出)、特許上II S、lr、 156.051 (198 8年2月16日提出);及び特許出願S、N、(CEL−88−116)に記載 の開示内容に関連した主題を含んでいる。
発明の背景 ペンダント状側鎖の櫛構造(comb 5tructure)をもったポリマー は、興味ある光学特性を表す新しい種類の有機材料である。
櫛様の液晶質ポリマーについては、Eur、 Pa1ya、 J、、 1865 L (1982);アドバンスト−ポリマーサイエンス、液晶ポリv−If/I I1. Spriager−Yerlag、 New York(1984)、  pa215−220:及び米国特許第4.293.435号と4.631.3 28号、に説明されている。開示のポリマー構造物は、オプトエレクトロニク表 示装!に利用できるメソーゲン光学特性(mesogen optical p roperties)が得られるよう開発されたものである。
米国特許1i 4.694.066; 4.755.574+及び4.762. 912号においては、メンーゲン特性に加えて非線形の光学感受率(optic al 5usceptibility)も示す、ペンダント状の側鎖をもった液 晶質ポリマーが開示されている。米国特許第4.792.208号は、非線形光 学的に応答する有機化合物と側鎖ポリマー(side chain poly@ ers)を開示しており、これらの物質においては、その分子双極子が、共役結 合系を介して電子受容体であるスルホニル部分に繋がまた電子供与体部分を有し ている。
日本特許第88175834号は、ニトロ(エチルヒドロキシ一二チルアミノ) アブベンゼン側鎖を有するアクリレートポリマーを開示している。
有機ポリマー材料の非線形光学特性は、1982年9月のアメリカ化学会第18 回ミーティングにおいてポリマー化学AO部により主催されたシンポジウムのテ ーマであった。このミーティングにおいて提出された報又は、「ACSシンポジ ウムシリーズ233.アメリカ化学会、ワシントン、 D、C−1983Jとし て発行されている。
大きな二次の非線形性(second order nonlineariti es)をもった有機物質又はポリマー物質の薄膜をシリコンベースの電子回路と 組み合わせたものは、レーザー変調やレーザー偏光、及び光学回路における情報 制御等のためのシステムとして有用である。
縮退4光波ミキシング(degenerate four−wave mxin g)のような三次の非線形性(third order noulinaari ty)により行われる他の新規なプロセス(これにより光学フィールドのリアル タイム処理が行われる)は、光通信や!!積回路製造等の種々の分野で有用であ ると考えられる。
非線形光学特性を示す液晶質側鎖ポリマー(liquid crystalli ne 5ide chainpolymer)は、光学的な光スイツチデバイス や光変調器デバイスにおける非線形光学部品としての用途に適切である。液晶質 側鎖ポリマーを使用した光学媒体の1つの欠点は、理想的なメソーゲンオーダー (masogenic order)からのずれによる光散乱によって光の伝送 効率が低下することである。
櫛様側鎖構造がある配向状態をとっていることを特徴とする光応答性ポリマーの 理論と実際については、従来より強い関心がもたれている。
さらに、有用性が期待される新たな現象に対する新規の非線形光学有機システム 、及びレーザー周波数変換や光学回路における情報制御用のデバイス、光弁、及 び光スィッチを開発するための研究が益々盛んになってきている。非常に高い周 波数向けの用途として、大きな二次及び三次の非線形性をもった有機材料の有用 性は高く、従来の無mii子光学材料に帯域幅の制約があるのとは対照的である 。
従って本発明の目的は、新規の光学応答性モノマー及び光学応答性ポリマーを提 供することにある。
本発明の他の目的は、非線形の光学レスポンスを示す、側鎖をもったアクリルコ ポリマーを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、外部場によって一軸配向することのできる非線形の 光学応答性ペンダント状測鎖をもったアクリルコポリマーの薄膜、を含んだ透明 ポリマーの非線形光学部品を使用した光学的な光スイツチデバイスや光変調器デ バイスを提供することにある。
本発明の他の目的及び利点は、以下に記載の説明及び実施例から明らかとなる本 発明の1つ以上の目的は、式 (式中、Rは水素又は01〜C4アルキル置換基であり;R1はC+ −Csア ルキル置換基であり二mとm’は合計して少なくとも10となる整数であり:n は約1〜20)整数であ’);そLTAは−CN、−NO2,CH=C(CN) 2゜−C(CN)=C(CN)z、−So□CF!。
であり、このときXは−H,−CN、Not、又は−CFsである)で示される 反復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーを提供す ることによって達成される。
(式中、Rは水素又は01〜C,アルキル置換基であり、R1はC5〜C1アル キル置換基であり、mとI′Ill′は合計して少なくとも10となる整数であ り、そしてAはCN、−NO2,CH=C(CN)2. C(CN)=C(CN )211−802CF3゜ であり、このときXは−H,−CN、−NO2,又は−CF!である〕で示され る反復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーを提供 する。
他の実施態様においては、本発明は、式(式中、Rは水素又はC3〜C,アルキ ル置換基であり:R1はC1〜Csアルキル置換基であり1mとmlは合計して 少なくとも10となる整数であり、nは約1〜20の整数であり、そしてAは− CN、−NO2,−CH−C(CN)y、。
−C(CN)−C(CN)2.−5ChCF、。
であり、このときXは−H,CN、Not、又は−CFsである)で示される反 復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーを提供する 。
本発明の代表的なコポリマーは、約5000〜200.000の〔囲の重量平均 分子量、及び約40〜150℃の1囲のガラス転移温度を有する。
本発明のコポリマーは、非線形光学感受率Oを示すペンダント状側鎖を有する。
コポリマー(=、基板上の透明皮な皮膜もしくは被膜のような非線形光学実体1 こ形成することができる。コポリマーは、従来からの手段(例えば、スピンコー ティング、噴霧、及びラングミュア−ブロジェット付着等)によって支持体に施 すことができる。
本発明のコポリマーを使用して作製した皮膜もしくは被膜は、三次の非線形光学 感受率を示す。
本発明の非線形光学媒体は、外部場で処理してコポリマーの倒鎮を一軸配向する ことかできる。ある1つの方法においては、ポリマー媒体をコポリマーのガラス 転移温度T、近く又はそれ以上に加熱し、次いで易動性コポリマー分子(mob ilecopoly+mer molecules)の媒体に外部場(例えばD C電場)を加えて、加えた場に平行なコポリマー側鎖の一軸分子整列を起こさせ 、そして外部場の影響を保持させつつポリマー媒体を冷却する。
二〇方法によって、本発明の非線形光学説体は、コポリマー(II+鎖の安定な 一軸整列を有するようになる。ボールド光学媒体(polea optical  aediu■〕は、二次の非線形光学感受率x′21を示す。本発明のボール ド光学媒体は、1.34μmの励起波長(excitation waveLe nth)での測定にて2 x 10−’esuJ2J上のX Illレベル示す ことができる。
他の実施態様においては、本発明は、上記したような構造のペンダント状側鎖を 有する等方性アクリルコポリマーの透明固体媒体を含んだポリマー非線形光学部 品、を組み込んだ光学的な光スイツチデバイス又は光変調器デIくイスを提供す る。
本発明の光学的な光スイツチデバイス又は光変調器デノくイスにおし)では、ポ リマー非線形光学部品は、伝送された入射光波に対して約10%未満の散乱を示 す。
本明細書で使用している“透明な(trans匪rent)”とは、入射光の基 本周波数と生成した光の周波数に関して透明すなわち光透過性であるようなポリ マー光学媒体を意味する。本発明の光学デバイスにおいては、コポリマー薄膜を 含んだメ1線形光学媒体部品は、入射する光の周波数と出ていく光の周波数の両 方(二対して透明である。
本明wl書で使用している“等方性の(isotropic)”とは、その光学 特性か全てのテンソル方向において同等であるような透明コポリマー光学媒体を 意味する。
本明細書で使用1−ている“外部場゛とは、易動性コポリマー分子の支持体に加 えられる電場、磁場、又は機械的応力場を意味しており、これらの場によってコ ポリマー分子の双極整列が、加えられた場に対して平行になる。
本発明の光学デバイスとしては、レーザー周波数変換器、光学カー効果デバイス 、電子光学カー効果デバイス、縮退4光波ミキシングデバイス、光学インターフ エoメトリー導波管ゲート(optical ioterferometric  waveguide gate)、広帯@電子先学導波管によるアナログ−デ ジタル変換器(wide−bとd electroopticalguided −wave analog−to−digital converter)、全 ての光学マルチプレクサ−1全ての光学デマルチプレクサ−5光学双安定デバイ ス、光学パラメトリックデバイス、及び米国特許第4.775.215号に記載 の類似物等がある。 コヒーレント光の周波数変調による非線形調波発生の理論 が、LF、 Garitoらによる「“1lolecularOptics:  Non1inear 0ptical Properties of Orga nic and Polymeric C窒凾唐狽≠撃刀g。
ACSシンポジウムシリーズ233(1983) jの第1章に詳細に説明され ている。
光学インターフェロメトリー導波管ゲートデバイスについては、ム、Latte sらによるrIEEE J、 Quantu+m Electronics、  QE−19(11)、 1718 (1983)Jに説明されている。
広帯域電子光学導波管によるアナログ−デジタル変換器デバイスについては、L  A、、 BeckerらによるrProceedings of the I EEE、 72(7)、 802(1984月に説明さ光学マルチプレクサー− デマルチプレクサ−デバイスについては、米国特許第3、532.890: 3 .755.676+ 4.427.895: 4.455.643:及び4.4 68.776号:に説明されている。
光学双安定デバイスについては、米国特許第4.515.429及び4.583 .818号、PJSmithらによる[^pplied Physics Le tters、 30(6)、 280(1977)J ;及びrIEEEスペク トラム、 1981年6月」 :に説明されている。
光学パラメトリックデバイスについては、米国特許第3.371.220 ;  3.530.301 ;及び3.537.020号:に説明されている。
本発明の光学デバイスは、本発明のポリマー媒体が非線形光学成分として使用さ れること以外は、技術文献に記載の光学デバイスの1つを組み立てることによっ て得られる。
モノマーとポリマーの合成 電子受容体基でバラ置換されたアニリン化合物は、市販されていない場合はこれ を合成することができる。バラ置換されたアニリンがジアゾ化され、適切なヒド ロキシアルキル買換芳香族アミンとカップリング反応してヒドロキシアルキル置 換アゾスチルベンを生成する。このアゾスチルベンを適切な塩化アクリロイル又 はアクリル酸無水物でエステル化するとモノマーが得られ、この七ツマ−が適切 なアクリレートコモノマー又はアルキルアクリレートコモノマーと共重合される 。
買換基Aは、−CN、−NO2,−CH=C(CN)z。
−C(CN)=C(CN)2、−So、CF、。
そしてXは−H,CN、Now、又は−CF!である。
上記の反応図式を参照すると、メタノール中にて、テトラヒドロキノリンに過剰 のブCモニタノール、ヨウ化ナトリウム、及び炭駿カリウムを加え、そして本溶 液を24時間還流することによって、テトラヒドロキノリンがアルキル化される 。
本生成物は好ましくは水中で単離し、そして真空蒸留によって精製する。フェニ ルピペラジンか出発原料である場合は、同じ反応条件下でアルキル化される。1 −フェニル−4−ピペリシノール構造物は、先ずN−3−ブテニル−N−メチル アニリンを作製し、次いでこれをトリフルオル酢酸水溶液で処理することによっ て合成される。N−3−ブテニル−N−メチルアニリンは、N−メチルアニリン を4−プロモー1−ブテンでアルキル化することによって得られる。1−フェニ ル−3−ピロリジノールは、アニリンと1.4−ジブロモ−2−ブタノールとの 反応によって合成される。
上記反応図式中の−Aで示されている電子求引基に関して、4−シソアノビニル アニリンは、4−アミノベンズアルデヒドとマロニトリルとの縮合反応によって 合成される。4−ジンアノビニルアニリンは、シアン化水素を加えることによっ て、そして酸化鉛(n’)を使用して酸化することによって4−トリシアノビニ ルアニリンに転化される。
アニリンのトリフロン誘導体(triflone derivative)は、 ルイス酸(例えば三塩化アルミニウム)の存在下にて、保護処理されたアニリン をトリフルオロメタンスルホン酸無水物でスルホニル化することによって得られ る。
−A置換基がベンズオキサゾール基又はベンズチアゾール基であるような構造体 を得るには、適切な出発原料を使用して型側の合成手+[fに従えばよい。−A t!!換基置換アノ基又はニトロ基であるような構造体の場合は、それぞれ市販 の4−アミノベンゾニトリル及び4−ニトロアニリンか8発原料として使用され る。
B、モノマーとコポリマー 置換基R1はC5〜CIアルキル基である。
本発明の側鎖コポリマー(side chain copolymer)は、物 理的特性と光学的特性のユニークな組み合わせを有する。アゾスチルベンはその 電子構造において、電子供与性基及び電子求引性基と共役関係になっており、例 外的な非線形光学感受率を示す。例えば、アゾスチルベン含有ペンダント状側鎖 は通常、相半する電子供与性置換基及び電子求引性置換基と共役関係にある密接 に関連したスチルベン含有構造体より高いレベルのβレスポンスを示す。アゾブ リッジは、強い電子求引基として機能することによって、分子の非線形光学感受 率を高めるのに寄与する。スチルベン構造体においては、二重結合は、電子供与 基と電子求引基との間の電子流れに対する比較的パッシブな管路(relati vely 声5ive conduit)である。
さらなる利点として、アゾスチルベン構造体は対応するスチルベン構造体より合 成が容易であり、またアゾスチルベン部分は、優れた熱安定性、光化学的安定性 、及び加水分解安定性を有する。
分子非線形光学感受率のさらなるアップは、指環式構造体中に含まれている電子 供与性アミノ基によってもたらされる。指環式アミノ基は、その立体的因子のた め、共役電子系にある対応した非環式アミノ基に比べて、分子非線形光学感受率 を増大させる上でより優れた電子供与性基である、ということが貝いだされてい る。
本発明の側鎖コポリマーにおいて示されている種々のシクロアミン構遺体の中で は、テトラヒドロキノリン構造体が特に好ましい。
テトラヒドロキノリン含有ペンダント状側鎖をもったコポリマーは、望ましい特 性の優れた組み合わせ〔例えば、非線形光学感受率のアップ、ボールド分子安定 性(poped +aolecular 5tability)の増大、有機溶 媒に対する溶解性の増大、及びより低いガラス転移温度(例えば80〜120℃ )(ガラス転移温度が低くなると、加工性が向上し、処理手順が容易となる)〕 を示す。
導波媒体(vaveguiding @edium)の形の本発明の側鎖コポリ マーは、液晶質側鎖ポリマー媒体と比べて特別な利点を有する。本発明の光学媒 体は特に優れた光学的透明性を示し、−万、液晶質媒体は理想的な結晶整列から の逸脱のために光散乱効果を示す。光学導波管における光伝送の効率は、光の散 乱によって低下する。
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明する。構成成分や特定の成分 は代表的なものとして与えられており、上記の開示内容を考察すれば、本発明の 節回内において種々の変形や改良形を得ることができる。
実施例1 本実施例では、本発明に従った等方性コポリマー(50150)の作製について 説明機械的撹拌機と冷却器を取り付けたフラスコに、1.2.3.4−テトラヒ ドロキノリン(0,5モル)、2−ブロモ−1−エタノール(2,5モル)、2 50〜500m1のメタノール、及び炭酸ナトリウム(0,25モル)を加える 。本混合物を80℃で16時間加温した後、室温に冷却し、次いで濾過して固形 物を除去する。濾液をエーテルで抽出し、ロータリーエバポレーターによってエ ーテルを除去する。残留物を真空蒸留し、2つのフラクシヨンに分ける。第1の フラクシヨンは過剰のブロモエタノール(56〜57℃、20mHg)である。
第2のフラクシヨンが1−(2−ヒドロキシエチル)−1,2,3,4−テトラ ヒドロキノリン(110−120℃、0.4u−)であり、収率は60%である 。
水浴中で0℃に冷却された塩酸水溶液(10% v/v)に4−ニトロアニリン (0,25モル)を加える。4−ニトロアニリンの溶解性を高めるために、酢酸 (300ml)を加える。温度を10℃以下に保持しながら、このアニリン溶液 に1当量の亜硝酸ナトリウムを加える。
1−(2−ヒドロキシエチル) −1,2,3,4−テトラヒドロキノリン(0 25モル)をジアゾニウム塩溶液に直接加え、10℃以下に保つ。酢酸ナトリウ ムを加えることによって、pHを4に調節する。水浴を取り除き、本混合物を室 温で3時間撹拌する。1−(2−ヒドロキシエチル)−6−(4°−ニトロフェ ニルアゾ)−1、2,3,4−テトラヒドロキノリンを水中に沈殿させ、単離し 、水で洗浄する。収率は60%である。
滴下ロート、窒素バブラー、及び機械的撹拌機を取り付けた乾燥フラスコに、1 −(2−ヒドロキシエチル’I −6−(4’−ニトロフェニルアゾ) −1, 2,3,4−テトラヒドロキノリン生成物(0,15モル)、ジメチルアミノピ リジン(003モル)、及びトルエンを加える。本混合物を、サーモスタットで 調温された油浴中で、窒素雰囲気下にて75℃に加温する。あらかじめ蒸留され たアクリル酸無水物(0,38モル)を滴下ロートを介して徐々に加える。本溶 液を75℃で16時間保持する。次いで本溶液を室温に冷却し、水素化ナトリウ ム水溶液(aqueous sodium hydride)で洗浄する。この トルエン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥する。ヘキサンを加えることによってモ ノマーを沈澱させる(収率60%)。
500m1の乾燥・精製したジメチルスルホキシド中で、1モル%のアゾビス( イソブチロニトリル) (A、IBM)を使用して窒素雰囲気下にて、NLO− 活性モノマ−(O−1モル、 39.44g)とメチルメタクリレート(0,1 モル)とを共重合させる。セプタム(septum)で覆った丸底フラスコに、 モノマー、溶媒、及びAIBIJ開始剤を加え、窒素を15分間バブリングする ことによって脱気する。窒素をバブリングから気流状態に変え、フラスコを75 ℃に加温し、フラスコ中の窒素圧力を加圧状態に保持する。モノマーを75℃で 12時間重合させる。コポリマー生成物をメタノール中に沈殿させ、濾過により 単離する(転化率90%)。
コポリマーは約112°CのT、を有し、約180X10”’esuのβを示す (1,34μmの励起波長にて測定)。
実施例■ 本実施例は、本発明に従った等方性コポリマー(75/25)の作製について説 明すN−メチルアニリン(0,75モル)、4−ブロモ−1−ブテン(1,0モ ル)、炭酸ナトリウム(0,6モル)、エタノール(300厘1)、及び水(3 0寵1)を含んだ混合物を、20時間加熱還流することによって、N−3−ブテ ニル−N−メチルアニリンを作製する。ロータリーエバポレーターによって溶媒 を除去し、残留物を水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にする。N−3−ブテニル −N−メチルアニリン生成物を塩化メチレンで抽出し、これを蒸留して(114 ℃、 12mdg)65%の収率の生成物を得た。
この生成物をトリフロオロ酢酸で処理すると、1−フェニル−4−ピペリジツー ルが得られる(収率、50%)。
4−アミノベンズアルデヒド(0,3モル)、マロニトリル(0,3モル)、4 リツトルのエタノール、及びピペリジン(0,075モル)触媒を含んだ混合物 を、氷水浴で冷却したフラスコ中で1時間撹拌する。水浴を取り除き、室温でさ らに12時間撹拌を続ける。本反応混合物を3リツトルの水中に加え、固体を濾 過する。4−ジシアノビニルアニリン粗製物をエタノール中に溶解し、熱濾過す る。高温の濾液中に水を加えると、冷却されて生成物が結晶化し、これを濾過に より単離する。反応収率は78%である(a+p 214−215℃)。
丸底フラスコ中の250m1のジメチルホルムアミド中に4−ジシアノビニルア ニリン(0,1モル)を溶解する。30%過剰の4Mシアン化ナトリウムを、撹 拌しながら滴下する。酢酸(300ml)と酸化鉛(0,1モル)を順次加える と、色がオレンジ色から赤色に変化する。本混合物を3時間撹拌し、撹拌しなが ら氷水中に注ぎ込む。
沈澱した粗製物を濾過し、酢酸から再結晶し、濾過により単離し、そして乾燥す る。収率は92%である(mp 199−202℃)。
4−トリシアノビニルアニリンは、実施例Iに記載のジアゾ化とWi個の手順で ジアゾ化される。
水浴中にて0℃に冷却された塩酸水溶液(10%v/v)に4−トリシアノビニ ルアニリンを加える。4−トリシアノビニルアニリンの溶解性を、高めるために 、酢酸(300@l)を加える。温度を5℃以下に保ちながら、1当量亜硝駿ナ トリウムを加える。
4−トリシアノビニルベンゼンジアゾニウム塩が、実施例工に記載のカップリン グ反応と類似の態様で1−フェニル−4−ピペリジツールとカップリング反応さ れる。1−フェニル−4−ピペリジツールを希釈酢酸と混合し、水浴中で0℃に 冷却し、そしてジアゾニウム塩溶液を加える。酢酸ナトリウム飽和水溶液を使用 して、pHを4に:A節する。水浴を取り除き、混合物を室温で16時間撹拌す る。
4−(4−ヒドロキシ−1−ピペリジニル)−4’−(2−(LL、2−トリシ アノ)−エテノ)アゾベンゼン生成物を水中に沈殿させ、単離し、そして水で洗 浄する。
滴下ロート、窒素バブラー、fAI計、及び機械的撹拌機を取り付けた乾燥フラ スコに、アゾスチルベン生成物(0,15モル)、ジメチルアミノピリジン(0 ,03モル)、及び3001、の乾燥・蒸留ピリジンを加える。サーモスタット で調温した油浴中で、本混合物を窒素雰囲気下にて75℃に加温する。あらかじ め蒸留されたメタクリル酸無水物(0,38モル)を、滴下ロートを介して徐々 に加える。本溶液を75℃で16時間保持する。本溶液を室温に冷却し、1リツ トルの蒸留水中に注ぎ込む。沈殿したモノマーを濾過によりILlilL、さに ら1リツトルの水で洗浄する。このff1Sモノマーをヘキサンで洗浄し、テト ラヒドロフランからの再結晶により精製する。
丸底フラスコにNLO−活性モノマ−(33,71g、 0.075モル)、エ チルアクリレート(0,025モル)、400■1の1.2−ジクロロエタン、 及び1モル%のアゾビス(イソブチロニトリル)を加え、セプタムで覆う。実施 例Iと類似の仕方で共重合を行う。
コポリマー生成物をメタノール中に沈殿させ、濾過によって単離する(転化率9 0%)。
コポリマーは約110℃のT、を有し、1.34μ■の励起波長での測定にて約 165×10 ′30’ esuのβを示す。
比〇−活性モノマーのアブスチルベン側鎖における電子求引基か、トリシアノビ ニル4−置換体の代わりにベンズチアゾール4°−置換体もしくはベンズオキサ ゾール4°−置換体であること以外は、類似の手順に従って、同じタイプのコポ リマー構造をもったコポリマー(75/25)が得られる。
実施例■ 本実施例では、本発明に従った等方性コポリマー(25/75)の作製について 説明−する。
機械的撹拌機、冷却器、滴下ロート、及び温度計を取り付けたフラスコ中で、ア ニリン(2モル)を加熱還流する。1.4−ジブロモ−2−ブタノール(4モル )を滴下し、滴下が完了した後に本混合物を2時間還流する。夏応混合物を冷却 し、500社の水を加える1本溶液を塩酸で酸性にし、冷却し、そしてエーテル で抽圧する。水相を水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、炭酸カリウムで飽和 し、そしてクロロホルムで抽8する。クロロホルムを蒸発除去し、1−7二二ル ー3〜ピロリジノール生成物を蒸留して(200℃、 10++dg) 68% の収率で得る。
アセトアニリド(34g、 0.25モル)とジクロロメタンとの混合物を含ん だフラスコ(水浴中で冷却)に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(0,3 モル)を徐々に加える。フラスコに、撹拌機、冷却器、及びアルゴン導入口を取 り付ける。本混合物を室温に加温し、24時間撹拌する。少量の水を加えて、未 反応のトリフルオロメタンスルホン酸無水物を除去する。追加の塩化メチレンを 加え、混合物を水、塩基水溶液、そして最後に水で洗浄する。塩化メチレンをロ ータリーエバポレーターで除去し、4−トリフリルアニリン(4−trifly Laniline)生成物をメタノールから再結晶する(収率30%)。
水浴中で冷却した硫酸水溶液(10%V/V)に4−トリフロオロメタンスルホ ニルアニリン(0,1モル)を加える。温度を5℃以下に保持しながら、このア ニリン溶液に1当量の亜硝酸ナトリウムを加える。水酸化ナトリウム飽和水溶液 を加えてpHを2から4に調節し、4−トリフロオロメタンスルホニルーベンゼ ンジアゾニウム硫駿水素塩を沈殿させる。この生成物混合物は冷却状態にしてお く。
実施例■に記載の手順に従って、4−トリフロオロメタンスルホニルーベンゼン ジアゾニウム硫酸水素塩と1−フェニル−3−ピロリジノールとのカップリング 反応を行う、、1−フェニル−3−ピロリジノール(0,1モル)を希釈酢酸中 に溶解し、水浴中で0℃に冷却する。ジアゾニウム塩溶液を加え、水酸化ナトリ ウム飽和水溶液でpHを4に調節する。水浴を取り除き、本混合物を16時間撹 拌する。
アゾスチルベン生成物を水中に沈殿させ、単離し、そして水で洗浄する(収率6 5%)。
実施例Iに記載の手順に従って、前記アゾスチルベン化合物をメタクリル酸無水 物でエステル化して比ト活性モノマーを得る6滴下ロート、窒素バブラー、温度 計、及び機械的撹拌機を取り付けた乾燥フラスコに、前記アブスチルベン(0, L5モル)、ジメチルアミノピリジンco、 (13モル)、及び300m1の 乾燥・蒸留ピリジンを加える。本混合物を、サーモスタットで調温された油浴中 で、窒素雰囲気下にて75℃に加温する。滴下ロートを介して、メタクリル酸無 水物を徐々に加える。本溶液を75℃で16時間保持する。次いで溶液を室温に 冷却し、1す/トルの蒸留水中に注ぎ込む。沈殿したモノマーを濾過によって単 離し、さらに1リンドルの水で洗浄する。この粗製モノマーをヘキサンで洗浄し 、テトラヒドロフランから再結晶することによって精製する(収率78%)。
丸底フラスコに、肚〇−活性モノマー(0,1モル)、精製したブチルメタクリ レート(0,3モル) 、400m1の1.2−ジクロロエタン、及び1モル% のアゾビス(イソブチロニトリル)を加え、セプタムで覆う。実施例■に記載の 手順に従って共重合を行う。メタノール中にコポリマーを沈澱させ、濾過によっ て単離する(収率90%)。
本コポリマーは約60℃のTgを有し、1.34μmの励起波長での測定にて約 155×10”esuのβを示す。
衷應烈■ 本実施例は、本発明に従った光学的な周波数変換用導波管モジュールの組み立て と操作について説明する。
格子電極(grating electrode)@えた二酸化ケイ素被覆シリ コンウニノーは、以下のような製造手順によって組み立てる。
市販の二酸化ケイ素被覆シリコンウニ/1を、パリアン電子ビーム真空蒸着シス テム中に配置する。99.999%純度アルミニウムの0.LQm層がウエノ\ 上に付着される。
ソリチック(Solitec)モデル5100コーターを使用して、アルミニウ ム被覆ウェハ上にAZ−1518ポジテイブフオトレジスト(ヘキスト)をスピ ンコーティングする。5000rpmで30秒スピンさせることによって、1. 5μ口のフォトレジスト被膜が得られる。減圧オーブン中にて90℃で30分、 フォトレジスト被膜を乾燥する。
カールサス−モデル(hrl 5uss model) MJB3Tスク・アラ イナ−(msk aligner)中にて、ウェハを所望の形状をもったマスク と接触状態にして配!し、このマスクした被膜に405μmの放射線(7hJ/ cm2)を照射することによって、フォトレジスト被膜にパターン付けを行う。
マスクを取り除き、パターン付けされたフォトレジストの表面上にシリコンの薄 片(law X 2cm)を保護シールドとして!き、この組み合わせ物に40 5μmの放射線(70mJ/cm2)を照射する。dデベロッパーに水を加えた もの(1・1)を使用して、パターン付はフォトレジストを60秒間にわたって 現像し、脱イオン水で洗浄することによづて現像サイクルを終了させた。
ウェハのフォトレジスト被膜を、減圧オーブン中にて120℃で45分ベーキン グする。照射されたアルミニウムパターンを、タイプAエツチング剤(Tran seneCorp−)により50℃で20秒間エツチングし、エツチングされた 表面を脱イオン水ですすぎ洗いする。
次いで、水中20%ポリビニルアルコール(75%加水分解)を5000rpm で30秒間スピンコーティングすることにより、ウェハのアルミニウム格子電極 表面を1,5μmのクラッド層で被覆し、クラッド層を減圧オーブン中にて11 0℃で2時間乾燥する。
1.65μm厚さの非線形光学活性層を、3000rpmにて前記クラッド層上 にスピンコーティングする。このスピンコーティング媒体は、実施例Iのコポリ マー(側鎖モノマー/エチルメタクリレート50150)のトリクロロプロパン 中20%溶液である。この有機層を、減圧オーブン中において160℃で1時間 乾燥する。
ポリシロキサン(GR−651−L 0vens−IILinois Incl 、ブタノール中25%ソリッド)媒体を3500rp−で30秒間スピンコーテ ィングすることによって、1.5μm厚さの上部クラッド層が加えられる。この クラッド層を、減圧オーブン中にて100℃で35分乾燥する。この上部クラッ ド層の上に、0.055μmのアルミニウム被膜が電極層として付着される。
製造された導波管をメトラー・ホットステージ(Mettler hot st age)中に配置し、ユニットの温度を1℃/分の割合で90℃に上昇させる。
電極によって、導波有機層の前後に70v/μsのDC!場が加えられる。この 電場を保持しながら、導波管サンプルを1℃/分の割合で室温に冷却する。本導 波媒体のx”非線形光学レスポンスは、1.34μmの励起波長での測定にて3  X 10−’esuである。
導波管構造物は相対した端部が切り裂かれていて、導波有機層に入ってくる光と 出ていく光とをカップリングさせるための2つの鋭い面を形成している。
1.34放射1! (0−01mJ、 10nsecワイドパルス)をS束して 導波管中にカップリングさせるために、円筒状レンズが使用される。導波管を回 転ステージに配置し、周期性が位相整合に対する値を満足させるまで導波管を回 転すると、位相整合された別の調波発生が観察される。前記の操作条件下におい ては、基本的ビームの0.5〜1%の量が、観察された別のハーモニック・ラジ エーシッン(har+uonicradiation)に変換される。
要 約 書 本発明は、非線形の光学レスポンスを示し、あらゆる光学的及び電子光学的な光 スイツチデバイスや光変調器デバイスにおける透明な光学部品として有用な、新 規の便鎖コポリマーを提供する。
本発明の倒鎖コポリマーは下記のような構造を有する。
国際調査報告 AM”、 K’r/+3591100543PCT/じS91100543

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C5アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;nは 約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2 ,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化学式、表等があり ます▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このときXは−H.−C N,−NO2,又は一CF3である〕で示される反復モノマー単位を有すること を特徴とする等方性アクリルコポリマー。
  2. 2.約5000〜200,000の範囲の重量平均分子量を有する、請求の範囲 第1項に記載のアクリルコポリマー。
  3. 3.約40〜150℃の範囲のガラス転移温度を有する、請求の範囲第1項に記 載のアクリルコポリマー。
  4. 4.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R 1はC1〜C6アルキル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10とな る整数あり;nは約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−C H=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化 学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このと きXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示される反復モノマー 単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明皮膜からなる非 線形光学媒体。
  5. 5.整列したポリマー側が外部場によって配向を引き起こされることを特徴とし 、二次の非線形光学感受率X(2)を示す、請求の範囲第4項に記載の非線形光 学媒体。
  6. 6.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R 1はC1〜C6ルキル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる 整数あり;nは約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH =C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化学 式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このとき Xは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示される 反復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明固 体媒体を含むポリマー非線形光学部品を含んでいることを改良点とする、光学的 な光スイッチデバイス又は光変調器デバイス。
  7. 7.前記ポリマー媒体が三次の非線形光学感受率Xに(3)を示す、請求の範囲 第6項に記載の光学デバイス。
  8. 8.前記ポリマー媒体が、外部場により引き起こされるポリマー側鎖整列の安定 な配向を有し、そして前記ポリマー媒体が二次の非線形光学感受率X(2)を示 す、請求の範囲第6項に記載の光学デバイス。
  9. 9.前記ポリマー非線形光学部品が、伝送された入射光に関して約10%未満の 散乱を示す、請求の範囲第6項に記載の光学デバイス。
  10. 10.入射レーザービームの周波数を2倍にするようつくられた、請求の範囲第 6項に記載の光学デバイス。
  11. 11.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;そし てAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2 ,−SO2CF3, ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であ り、このときXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示される反 復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマー。
  12. 12.約5000〜200,000の範囲の重量平均分子量を有する、請求の範 囲第11項に記載のアクリルコポリマー。
  13. 13.約40〜150℃の範囲のガラス転移温度を有する、請求の範囲第11項 に記載のアクリルコポリマー。
  14. 14.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;そし てAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2 ,−SO2CF3, ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であ り、このときXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示される反 復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明皮膜 からなる非線形光学媒体。
  15. 15.整列したポリマー側鎖が外部場によって配向を引き起こされることを特徴 とし、二次の非線形光学感受率X(2)を示す、請求の範囲第ぬ4項に記載の非 線形光学媒体。
  16. 16.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C5アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;そし てAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2 ,−SO2CF3, ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であ り、このときXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示される反 復モノマー単位を有することを特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明固体 媒体を含むポリマー非線形光学部品を含んでいることを改良点とする、光学的な 光スイッチデバイス又は光変調器デバイス。
  17. 17.記ポリマー媒体が三次の非線形光学感受率X(3)を示す、請求の範囲第 16項に記載の光学デバイス。
  18. 18.前記ポリマー媒体が、外部場により引き起こされるポリマー側鎖整列の安 定な配向を有し、そして前記ポリマー媒体が二次の非線形光学感受率X(2)を 示す、請求の範囲第16項に記載の光学デバイス。
  19. 19.前記ポリマー非線形光学部品が、伝送された入射光に関して約10%未満 の散乱を示す、請求の範囲第16項に記載の光学デバイス。
  20. 20.入射レーザービームの周波数を2倍にするようつくられた、請求の範囲第 16項に記載の光学デバイス。
  21. 21.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C5アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;nは 約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2 ,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化学式、表等があり ます▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このときXは−H,−C N,−NO2,又は−CF3である)で示される反復モノマー単位を有すること を特徴とする等方性アクリルコポリマー。
  22. 22.約5000〜200,000の範囲の重量平均分子量を有する、請求の範 囲第21項に記載のアクリルコポリマー。
  23. 23.約40〜150℃の範囲のガラス転移温度を有する、請求の範囲第21項 に記載のアクリルコポリマー。
  24. 24.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;nは 約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2 ,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化学式、表等があり ます▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このときXは−H,−C N,−NO2,又は−CF3である)で示される反復モノマー単位を有すること を特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明皮膜からなる非線形光学媒体。
  25. 25.整列したポリマー側鎖が外部場によって配向を引き起こされることを特徴 とし、二次の非線形光学感受率X(2)を示す、請求の範囲第24項に記載の非 線形光学媒体。
  26. 26.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;mとm1は合計して少なくとも10となる整数であり;nは 約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2 ,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数式、化学式、表等があり ます▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、このときXは−H,−C N,−NO2,又は−CF3である)で示される反復モノマー単位を有すること を特徴とする等方性アクリルコポリマーの透明固体媒体を含むポリマー非線形光 学部品を含んでいることを改良点とする、光学的な光スイッチデバイス又は光変 調器デバイス。
  27. 27.前記ポリマー媒体が三次の非線形光学感受率X(3)を示す、請求の範囲 第26項に記載の光学デバイス。
  28. 28.前記ポリマー媒体が、外部場により引き起こされるポリマー側鎖整列の安 定な配向を有し、そして前記ポリマー媒体が二次の非線形光学感受率X(2)を 示す、請求の範囲第26項に記載の光学デバイス。
  29. 29.前記ポリマー非線形光学部品が、伝送された入射光に関して約10%未満 の散乱を示す、請求の範囲第26項に記載の光学デバイス。
  30. 30.入射レーザービームの周波数を2倍にするようつくられた、請求の範囲第 26項に記載の光学デバイス。
  31. 31.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;nは約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2 ,−CH=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数 式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、 このときXは−H,−CN,−NO2.又は−CF3である)で示されるアクリ ルモノマー。
  32. 32.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;そしてAは−CN,−NO2,−CH=C(CN)2,−C (CN)=C(CN)2, −SO2CF3, ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であ り、このときXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示されるア クリルモノマー。
  33. 33.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素又はC1〜C4アルキル置換基であり;R1はC1〜C6アル キル置換基であり;nは約1〜20の整数であり;そしてAは−CN,−NO2 ,−CH=C(CN)2,−C(CN)=C(CN)2,−SO2CF3,▲数 式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼であり、 このときXは−H,−CN,−NO2,又は−CF3である)で示されるアクリ ルモノマー。
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