JPH0639335B2 - 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ用ガラス母材の製造方法Info
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- JPH0639335B2 JPH0639335B2 JP60219090A JP21909085A JPH0639335B2 JP H0639335 B2 JPH0639335 B2 JP H0639335B2 JP 60219090 A JP60219090 A JP 60219090A JP 21909085 A JP21909085 A JP 21909085A JP H0639335 B2 JPH0639335 B2 JP H0639335B2
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- sif
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/10—Non-chemical treatment
- C03B37/12—Non-chemical treatment of fibres or filaments during winding up
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/01453—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering for doping the preform with flourine
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- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス微粒子集合体を用いた光フアイバ用ガラ
ス母材の製造方法に関するもので、特にガラス微粒子集
合体を焼結する際に屈折率調整剤としての弗素を該ガラ
ス微粒子集合体中に添加する光フアイバ用ガラス母材の
製造方法に関するものである。
ス母材の製造方法に関するもので、特にガラス微粒子集
合体を焼結する際に屈折率調整剤としての弗素を該ガラ
ス微粒子集合体中に添加する光フアイバ用ガラス母材の
製造方法に関するものである。
従来、光フアイバはＶＡＤ法、OVPO法など様々な製法で
製造されているが、生産性・品質などの点で注目されて
いる。これらの方法は、まず火炎加水分解反応により、
ガラス微粒子を生成し、回転する出発材上に次々と堆積
させ、棒状の多孔質プリフオームを作る。次にプリフオ
ームを様々なガス雰囲気中で加熱処理し、脱水・溶融ガ
ラス化し、光フアイバ母材を得る。さらにこの母材を紡
糸して光フアイバを得るという方法である。
製造されているが、生産性・品質などの点で注目されて
いる。これらの方法は、まず火炎加水分解反応により、
ガラス微粒子を生成し、回転する出発材上に次々と堆積
させ、棒状の多孔質プリフオームを作る。次にプリフオ
ームを様々なガス雰囲気中で加熱処理し、脱水・溶融ガ
ラス化し、光フアイバ母材を得る。さらにこの母材を紡
糸して光フアイバを得るという方法である。
光フアイバは、主として光の伝搬されるコア部と、その
周囲のクラツド部から構成されており、コア部の屈折率
をn1、クラツド部の屈折率をn2とすると、N.A（開口
数）は （n1＞n2）で定義される（n1,n2は平均値）。シリカ(Si
O2)をベースとする光フアイバでは、(i)コアに屈折率を
上げる添加剤をドープする方式、(ii)クラツドに屈折率
を下げる添加剤をドープする方式、(iii)(i)と(ii)の方
式の合体方式、のいずれかの方式が用いられる。言うま
でもなく、(i)ではクラツド部が(ii)ではコア部がシリ
カである。
周囲のクラツド部から構成されており、コア部の屈折率
をn1、クラツド部の屈折率をn2とすると、N.A（開口
数）は （n1＞n2）で定義される（n1,n2は平均値）。シリカ(Si
O2)をベースとする光フアイバでは、(i)コアに屈折率を
上げる添加剤をドープする方式、(ii)クラツドに屈折率
を下げる添加剤をドープする方式、(iii)(i)と(ii)の方
式の合体方式、のいずれかの方式が用いられる。言うま
でもなく、(i)ではクラツド部が(ii)ではコア部がシリ
カである。
通常よく用いられる添加剤としては、GeO2,P2O5,A
2O3,TiO2（以上屈折率上昇用）、またB2O3，Ｆ（以上屈
折率下降用）等が挙げられる。第２図に波長0.59μｍに
おける石英系ガラスの屈折率を示す。横軸はシリカ中の
酸化物重量％を、縦軸は屈折率（ｎα）および屈折率差
Δｎ％をあらわす。〔出典：熊丸．黒崎：“光伝送用材
料”工業材料２７（１９７９）、Ｐ３９〕 これらの添加剤のうち、フツ素は最近になつて注目され
だした添加剤であつて、ＶＡＤ法や他の製法においても
ドープする方法が検討、開発されている。
2O3,TiO2（以上屈折率上昇用）、またB2O3，Ｆ（以上屈
折率下降用）等が挙げられる。第２図に波長0.59μｍに
おける石英系ガラスの屈折率を示す。横軸はシリカ中の
酸化物重量％を、縦軸は屈折率（ｎα）および屈折率差
Δｎ％をあらわす。〔出典：熊丸．黒崎：“光伝送用材
料”工業材料２７（１９７９）、Ｐ３９〕 これらの添加剤のうち、フツ素は最近になつて注目され
だした添加剤であつて、ＶＡＤ法や他の製法においても
ドープする方法が検討、開発されている。
コア・クラツド間で同じ屈折率差を得たい場合に、一般
的にクラツドで屈折率を下げた、前述の(ii)および(ii
i)の方式は、コア部にドープする添加剤量が全く無い
か、あるいは(i)の方式によるよりも少なくてすむ、と
いう利点を有している。このことは、高ＮＡ光フアイバ
にとつて、コア部の添加剤による吸収損失が低減される
という意味で有利である。また、放射線照射下での伝送
損失に優れた純シリカコア光フアイバは(ii)の方式でし
か作成できない。
的にクラツドで屈折率を下げた、前述の(ii)および(ii
i)の方式は、コア部にドープする添加剤量が全く無い
か、あるいは(i)の方式によるよりも少なくてすむ、と
いう利点を有している。このことは、高ＮＡ光フアイバ
にとつて、コア部の添加剤による吸収損失が低減される
という意味で有利である。また、放射線照射下での伝送
損失に優れた純シリカコア光フアイバは(ii)の方式でし
か作成できない。
このように、クラツド部の屈折率を下げる方式は有利な
特性をもつ。
特性をもつ。
特に、ＶＡＤ法の焼結工程において、フツ素を添加する
ことの利点は、 均一にドープでき、平坦な屈折率分布を与えることが
できる。
ことの利点は、 均一にドープでき、平坦な屈折率分布を与えることが
できる。
処理速度が速い。すなわち数１００〜１kg程度の多孔
質プリフオームを数時間以内で処理・ガラス化できる。
質プリフオームを数時間以内で処理・ガラス化できる。
の２点において特に他方式よりすぐれている。
しかしながら、従来技術においては、常圧下でフツ素系
ガス１００％雰囲気で、又は不活性ガスで希釈した雰囲
気で多孔質プリフオームを加熱処理することによりフツ
素を添加していたが、この方法では得られたガラス母材
中に気泡が残るという欠点があつた。特にＶＡＤ法では
フツ素を屈折率差で−0.5％以上添加しようとした場
合、得られたガラス母材中に殊に気泡を残存せしめ、フ
ツ素の添加量を多くすればするほど、この傾向は大きく
なる、という問題があつた。
ガス１００％雰囲気で、又は不活性ガスで希釈した雰囲
気で多孔質プリフオームを加熱処理することによりフツ
素を添加していたが、この方法では得られたガラス母材
中に気泡が残るという欠点があつた。特にＶＡＤ法では
フツ素を屈折率差で−0.5％以上添加しようとした場
合、得られたガラス母材中に殊に気泡を残存せしめ、フ
ツ素の添加量を多くすればするほど、この傾向は大きく
なる、という問題があつた。
さらに、不活性ガスを希釈ガスとして使用する場合、He
以外の例えばN2,Ar,O2等では、確実に得られたガラス母
材中に気泡を残さしめた。またHeガスの存在下でも同様
のことが起きた。また、Heは希釈ガスとしては好ましい
ガスであるが高価であり、ガラス母材を安価に供給する
ためにはコストの面で問題がありその使用は好ましくな
かつた。
以外の例えばN2,Ar,O2等では、確実に得られたガラス母
材中に気泡を残さしめた。またHeガスの存在下でも同様
のことが起きた。また、Heは希釈ガスとしては好ましい
ガスであるが高価であり、ガラス母材を安価に供給する
ためにはコストの面で問題がありその使用は好ましくな
かつた。
本発明は、上述の従来技術の欠点を解消すること、すな
わち、気泡を残すことなくガラス微粒子集合体へのフツ
素のドープ量を向上すること、またフツ素ドープを高速
で行えるようにすること、さらには安価なガラス母材を
提供すること、を目的とするものである。
わち、気泡を残すことなくガラス微粒子集合体へのフツ
素のドープ量を向上すること、またフツ素ドープを高速
で行えるようにすること、さらには安価なガラス母材を
提供すること、を目的とするものである。
本発明はＶＡＤ法またはＯＶＰＯ法により製造されたガ
ラス微粒子集合体を透明化するにあたり、少なくとも１
時期、減圧した雰囲気でかつ実質的にSiF4ガスからなる
雰囲気でガス中に充分に弗素が添加されるまで加熱処理
することを特徴とする光フアイバ用ガラス母材の製造方
法である。
ラス微粒子集合体を透明化するにあたり、少なくとも１
時期、減圧した雰囲気でかつ実質的にSiF4ガスからなる
雰囲気でガス中に充分に弗素が添加されるまで加熱処理
することを特徴とする光フアイバ用ガラス母材の製造方
法である。
また本発明は上記においてSiF4ガスを吹き流しつつ加熱
処理するフツ素を含んだ光フアイバ用ガラス母材の製造
方法を提供するものであり、SiF4の圧力としては0.01〜
0.5気圧が好ましい。
処理するフツ素を含んだ光フアイバ用ガラス母材の製造
方法を提供するものであり、SiF4の圧力としては0.01〜
0.5気圧が好ましい。
ガラス微粒子集合体（多孔質プリフオーム）を熱処理す
る工程において、減圧下で処理することで、反応効率を
高めうることは容易に類推可能である。しかし、単に密
閉した圧力容器を用い、内部にプリフオームとフツ素系
ガスを導入した減圧状態で熱処理を施しても良好なガラ
ス体を得ることは困難である。その理由は、１つは圧力
容器（炉心管）からの重金属汚染であり、もう１つは雰
囲気ガス自体の熱分解による反応効率の低下である。
る工程において、減圧下で処理することで、反応効率を
高めうることは容易に類推可能である。しかし、単に密
閉した圧力容器を用い、内部にプリフオームとフツ素系
ガスを導入した減圧状態で熱処理を施しても良好なガラ
ス体を得ることは困難である。その理由は、１つは圧力
容器（炉心管）からの重金属汚染であり、もう１つは雰
囲気ガス自体の熱分解による反応効率の低下である。
さらにはフツ素系ガス中のフツ素以外の成分、例えばCF
4中のＣ（カーボン）、SF6中のＳ（カーボン）がガラス
中に残り、気泡の原因となることである。この点につい
ては、本発明を得る過程において、CF4を使用してガラ
ス中にフツ素を添加せしめた場合、発生した気泡中の成
分がCO2,COからなつていた事実を確認できた。また不活
性ガス（He,Ar,N2,O2等）の存在も確認できた。
4中のＣ（カーボン）、SF6中のＳ（カーボン）がガラス
中に残り、気泡の原因となることである。この点につい
ては、本発明を得る過程において、CF4を使用してガラ
ス中にフツ素を添加せしめた場合、発生した気泡中の成
分がCO2,COからなつていた事実を確認できた。また不活
性ガス（He,Ar,N2,O2等）の存在も確認できた。
このたび本発明者らが新たに得た上記の知見に基き、本
発明はフツ素化のためにSiF4を用るので、石英ガラスと
の反応は下記(1)の反応式 3SiO2(s)＋SiF4(g)→4SiO1.5F(s)……(1) ただし ｓ：固体 ｇ：気体 のとおりであつて、従来のCF4やC2F6を用いる場合とは
異なり、CO2,CO等の余分なガスを発生しない。
発明はフツ素化のためにSiF4を用るので、石英ガラスと
の反応は下記(1)の反応式 3SiO2(s)＋SiF4(g)→4SiO1.5F(s)……(1) ただし ｓ：固体 ｇ：気体 のとおりであつて、従来のCF4やC2F6を用いる場合とは
異なり、CO2,CO等の余分なガスを発生しない。
さらに、SiF4を減圧下で吹き流すことによりSiF4ガスの
圧力を調整できると同時に、発熱炉からの汚染物質がガ
ラス微粒子集合体に達することなく運び去られるので、
ガラス微粒子集合体の清浄を保ち得るに加えて、ガラス
微粒子集合体中の揮発性の余剰物質を効率良く除去でき
る。
圧力を調整できると同時に、発熱炉からの汚染物質がガ
ラス微粒子集合体に達することなく運び去られるので、
ガラス微粒子集合体の清浄を保ち得るに加えて、ガラス
微粒子集合体中の揮発性の余剰物質を効率良く除去でき
る。
また常に新鮮なガスを供給することにより、最高の反応
効率が維持できることが判明した。これは下記(2)の反
応式 SiF4(g)→SiF2(g)＋F2(g)……(2) で表される解離反応を抑える効果があるためと考えられ
る。
効率が維持できることが判明した。これは下記(2)の反
応式 SiF4(g)→SiF2(g)＋F2(g)……(2) で表される解離反応を抑える効果があるためと考えられ
る。
ＶＡＤ法で得られた多孔質プリフオームの減圧下加熱処
理雰囲気（処理温度１２００℃、時間３時間）における
SiF4ガスの分圧Ｐと、得られたガラス母材のシリカに対
する屈折率差Δｎの関係を、第３図に示す。これによ
り、減圧雰囲気下ではフツ素はより効果的にドープさ
れ、屈折率を下げることが判る。
理雰囲気（処理温度１２００℃、時間３時間）における
SiF4ガスの分圧Ｐと、得られたガラス母材のシリカに対
する屈折率差Δｎの関係を、第３図に示す。これによ
り、減圧雰囲気下ではフツ素はより効果的にドープさ
れ、屈折率を下げることが判る。
また、第４図に同プロセスの処理温度Ｔ（℃）と屈折率
差Δｎの関係を示す。フツ素分圧が高く、処理温度が高
温であればあるほど屈折率差は大きくなる。但し、実際
問題としては、圧力が0.5気圧を越えるか、処理温度が
１４００℃を越えると透明化後のガラス体に気泡が残り
やすい。従つてSiF4の圧力は0.01〜0.5気圧が好まし
い。また、温度が低すぎると反応が100％起こらず非効
率的なので、処理温度としては８００℃以上が望まし
い。さらに弗素添加を実施する前に予め脱水を行うこと
は好ましい。なぜならば予め脱水することで、脱水され
た弗素添加母材を効率的に得ることができるからであ
る。本発明方法に用いる加熱処理装置の例を第１図に示
す。第１図において、１は支持棒、２は多孔質プリフオ
ーム、３は圧力容器、４は加熱部、５および７は加熱装
置、６はシール、８はガス配管を示し、この装置はさら
に９の圧力計、１０のガス配管（流出部）、１１のバル
ブ１２の減圧系を備えている。ただし、これらはあくま
でも例示にすぎず、この構成に限定されるものではな
い。
差Δｎの関係を示す。フツ素分圧が高く、処理温度が高
温であればあるほど屈折率差は大きくなる。但し、実際
問題としては、圧力が0.5気圧を越えるか、処理温度が
１４００℃を越えると透明化後のガラス体に気泡が残り
やすい。従つてSiF4の圧力は0.01〜0.5気圧が好まし
い。また、温度が低すぎると反応が100％起こらず非効
率的なので、処理温度としては８００℃以上が望まし
い。さらに弗素添加を実施する前に予め脱水を行うこと
は好ましい。なぜならば予め脱水することで、脱水され
た弗素添加母材を効率的に得ることができるからであ
る。本発明方法に用いる加熱処理装置の例を第１図に示
す。第１図において、１は支持棒、２は多孔質プリフオ
ーム、３は圧力容器、４は加熱部、５および７は加熱装
置、６はシール、８はガス配管を示し、この装置はさら
に９の圧力計、１０のガス配管（流出部）、１１のバル
ブ１２の減圧系を備えている。ただし、これらはあくま
でも例示にすぎず、この構成に限定されるものではな
い。
実施例１ 第１図に示すような熱処理装置を用い、純石英ガラス微
粒子集合体を、SiF4ガス１００％雰囲気で圧力が0.2気
圧の状態にて温度１２００℃において２時間加熱処理し
た。次いで、SiF4の添加を止め真空雰囲気にて該ガラス
微粒子集合体が溶融ガラス化するまで昇温加熱（１６０
０℃）し、透明ガラス母材を得た。
粒子集合体を、SiF4ガス１００％雰囲気で圧力が0.2気
圧の状態にて温度１２００℃において２時間加熱処理し
た。次いで、SiF4の添加を止め真空雰囲気にて該ガラス
微粒子集合体が溶融ガラス化するまで昇温加熱（１６０
０℃）し、透明ガラス母材を得た。
得られたガラスの負の屈折率は−0.5％であつた。この
母材を石英管に加工し、該石英管中にコア／クラツドを
有するプリフオームを挿入し、コラツプスし中実化し、
次いでフアイバ化したところ低損失なフアイバが得られ
た。このフアイバのコア径は５μｍ、フアイバ径は125
μｍで、コア／クラツド間の屈折率差は0.5％であり、
その損失特性は波長1.55μｍにおいて0.2dB/kmと優れた
ものであつた。
母材を石英管に加工し、該石英管中にコア／クラツドを
有するプリフオームを挿入し、コラツプスし中実化し、
次いでフアイバ化したところ低損失なフアイバが得られ
た。このフアイバのコア径は５μｍ、フアイバ径は125
μｍで、コア／クラツド間の屈折率差は0.5％であり、
その損失特性は波長1.55μｍにおいて0.2dB/kmと優れた
ものであつた。
実施例２ 第１図の装置を用い、ＶＡＤ法にて作成した純石英スー
トをまず温度９００℃に保持した該装置内にて充分脱水
しておいた。次にSiF4１００％であつて、0.05気圧の雰
囲気とし、温度８００℃より１６００℃まで、3.5℃／
分の割合で昇温し該スートを透明ガラス化した。
トをまず温度９００℃に保持した該装置内にて充分脱水
しておいた。次にSiF4１００％であつて、0.05気圧の雰
囲気とし、温度８００℃より１６００℃まで、3.5℃／
分の割合で昇温し該スートを透明ガラス化した。
得られたガラス母材の比屈折率差は−0.35％であり、残
留水分も0.1ppm以下であつた。
留水分も0.1ppm以下であつた。
実施例３ 実施例１におけるSiF4圧力のみを表１に示すように変化
させ、他は同条件にてガラス母材を作成した。得られた
ガラス母材の比屈折率差をも合せて表１に示す。
させ、他は同条件にてガラス母材を作成した。得られた
ガラス母材の比屈折率差をも合せて表１に示す。
実施例４ 実施例２と同様にSiF4の圧力を表２に示す条件とし、ガ
ラス母材を各１０本ずつ作製した。得られたガラス母材
の比屈折率差と気泡の有無についても表２にまとめて示
す。
ラス母材を各１０本ずつ作製した。得られたガラス母材
の比屈折率差と気泡の有無についても表２にまとめて示
す。
この結果、減圧にすることで気泡の残存を少なくするこ
とができると判る。
とができると判る。
実施例５ 第１図に示した装置を用いて、Δｎ＝２％のGeドープさ
れた高N.Aガラスの周囲にシリカヌートを付着させたプ
リフオームを処理した。条件は温度１２５０℃、圧力0.
5気圧を維持してSiF4を１５０cc／分の流量として１時
間保持し、次いで温度１７００℃のHeガス雰囲気0.2気
圧の条件下で透明化し、クラツド部でΔｎ＝−0.63％を
持つた。Δｎ2.6％の高いNA母材を得た。
れた高N.Aガラスの周囲にシリカヌートを付着させたプ
リフオームを処理した。条件は温度１２５０℃、圧力0.
5気圧を維持してSiF4を１５０cc／分の流量として１時
間保持し、次いで温度１７００℃のHeガス雰囲気0.2気
圧の条件下で透明化し、クラツド部でΔｎ＝−0.63％を
持つた。Δｎ2.6％の高いNA母材を得た。
本発明方法は下記のような効果を奏する。
１）SiF4ガスを減圧下で流しながら熱処理することによ
り、フツ素の反応効率を落すことなく、得られたガラス
母材中に気泡を残すことなく、添加することが可能とな
った。
り、フツ素の反応効率を落すことなく、得られたガラス
母材中に気泡を残すことなく、添加することが可能とな
った。
２）高速でフツ素添加が可能となった。
３）クラツドのΔｎを低くした形の、高NA光フアイバー
用母材、純シリカコア光フアイバー用母材の作成が容易
になつた。
用母材、純シリカコア光フアイバー用母材の作成が容易
になつた。
４）高価なHeを使用せずに、気泡のない、またＯＨ基の
ないガラス母材が得られた。
ないガラス母材が得られた。
さらに従来技術におけると同時、ＶＡＤ法の焼結工程で
フツ素を添加する利点、すなわち平坦な屈折率分布およ
び処理速度における利点を有することは、言うまでもな
い。
フツ素を添加する利点、すなわち平坦な屈折率分布およ
び処理速度における利点を有することは、言うまでもな
い。
第１図は、本発明に用いる加熱処理装置を説明する図、
第２図は、石英系ガラスにおける、シリカ中の酸化物
（重量％）と屈折率（ｎα）および屈折率差（Δｎ）の
関係を示すグラフ、 第３図はSiF4ガス分圧と屈折率差｜Δｎ｜の関係を示す
グラフ、 第４図は屈折率差Δｎの処理温度依存性を示すグラフで
ある。
第２図は、石英系ガラスにおける、シリカ中の酸化物
（重量％）と屈折率（ｎα）および屈折率差（Δｎ）の
関係を示すグラフ、 第３図はSiF4ガス分圧と屈折率差｜Δｎ｜の関係を示す
グラフ、 第４図は屈折率差Δｎの処理温度依存性を示すグラフで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−81033（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−152238（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−255638（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−215224（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】ＶＡＤ法またはＯＶＰＯ法により製造され
たガラス微粒子集合体を透明化するにあたり、少なくと
も１時期減圧した雰囲気でかつ実質的にSiF4ガスからな
る雰囲気でガラス中に充分に弗素が添加されるまで加熱
処理することを特徴とする光フアイバ用ガラス母材の製
造方法。 - 【請求項２】弗素の添加と同時に透明ガラス化する特許
請求の範囲第(1)項に記載の光フアイバ用ガラス母材の
製造方法。 - 【請求項３】SiF4ガス圧が0.01〜0.5気圧である特許請
求の範囲第(1)項に記載の光フアイバ用ガラス母材の製
造方法。 - 【請求項４】ガラス微粒子集合体があらかじめ常圧下で
脱水されたものである特許請求の範囲第(1)項に記載の
光フアイバ用ガラス母材の製造方法。 - 【請求項５】ガラス微粒子集合体が高純度ガラスブロツ
ク上にガラス微粒子を堆積せしめたものである特許請求
の範囲第(1)項又は第(2)項に記載される光フアイバ用ガ
ラス母材の製造方法。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60219090A JPH0639335B2 (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
| CA000503875A CA1290942C (en) | 1985-03-18 | 1986-03-12 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| AU54743/86A AU579454B2 (en) | 1985-03-18 | 1986-03-14 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| DE8686103629T DE3675411D1 (de) | 1985-03-18 | 1986-03-18 | Verfahren zur herstellung einer vorform aus glas fuer optische fasern. |
| EP86103629A EP0195407B1 (en) | 1985-03-18 | 1986-03-18 | Method for producing glass preform for optical fiber |
| CN86101686A CN1020190C (zh) | 1985-03-18 | 1986-03-18 | 光导纤维用玻璃预制件的生产方法 |
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