JPH0583492B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0583492B2 JPH0583492B2 JP60059600A JP5960085A JPH0583492B2 JP H0583492 B2 JPH0583492 B2 JP H0583492B2 JP 60059600 A JP60059600 A JP 60059600A JP 5960085 A JP5960085 A JP 5960085A JP H0583492 B2 JPH0583492 B2 JP H0583492B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cladding
- core
- fluorine
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 39
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 28
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 17
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 17
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 15
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 10
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 2
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
- C03B37/01248—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing by collapsing without drawing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01853—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は低損失な光フアイバ用母材の製造方法
に関する。
に関する。
光フアイバ用母材の製造方法の一つとして、ク
ラツド材となるガラス管の中にクラツド材よりも
高屈折率なコア用ガラスロツドを挿入し、加熱し
て中実化し光フアイバ用母材を得るロツドインチ
ユーブ法は、代表的な製造方法として知られてい
る。
ラツド材となるガラス管の中にクラツド材よりも
高屈折率なコア用ガラスロツドを挿入し、加熱し
て中実化し光フアイバ用母材を得るロツドインチ
ユーブ法は、代表的な製造方法として知られてい
る。
しかしながらこのロツドインチユーブ法は、コ
ア材とクラツド材の界面に気泡、不純物等の欠陥
が残り易く、光フアイバとした際に、光損失が大
きくなるという欠点があつた。
ア材とクラツド材の界面に気泡、不純物等の欠陥
が残り易く、光フアイバとした際に、光損失が大
きくなるという欠点があつた。
これを解決する方法として、特公昭59−6261、
特公昭58−52935各号公報において、コア材とク
ラツド材との溶着・中実化前にロツドとの間隙に
気相処理剤として、Ｃ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，Seからな
る群の中から選ばれた少なくとも１種とハロゲン
の少なくとも１種とを含みかつ水素を含まない化
合物あるいはハロゲン単独を流し、コア材が変形
しない温度500〜1600℃の範囲にて加熱前処理す
る方法が提案されている。
特公昭58−52935各号公報において、コア材とク
ラツド材との溶着・中実化前にロツドとの間隙に
気相処理剤として、Ｃ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，Seからな
る群の中から選ばれた少なくとも１種とハロゲン
の少なくとも１種とを含みかつ水素を含まない化
合物あるいはハロゲン単独を流し、コア材が変形
しない温度500〜1600℃の範囲にて加熱前処理す
る方法が提案されている。
しかしながら上記の各号公報に記載された方法
により、光の波長1μm以上の領域にて使用される
長波長用シングルモードフアイバ（コアが純石英
ガラス、クラツドが弗素添加された石英ガラス）
を作製したところ、得られたフアイバはOH基に
よる吸収損失と構造不整と考えられる散乱ロスが
大きく、1.3μm以上の長波長帯では0.5dB／Km以
下の低損失な特性は到底得られないという結果に
終つた。
により、光の波長1μm以上の領域にて使用される
長波長用シングルモードフアイバ（コアが純石英
ガラス、クラツドが弗素添加された石英ガラス）
を作製したところ、得られたフアイバはOH基に
よる吸収損失と構造不整と考えられる散乱ロスが
大きく、1.3μm以上の長波長帯では0.5dB／Km以
下の低損失な特性は到底得られないという結果に
終つた。
本発明者らが、上記の各号公報に記載されてい
る従来技術を詳細に検討したところ、OH基の汚
染源は、コア用ロツド表面と、クラツド材の内部
表面に拡散又は化学吸着しているOH基及び加熱
中実化時のコア材とクラツドとの間隙の雰囲気に
含まれる水分であつて、光フアイバのコアとクラ
ツド境界に高濃度のOH基を含有する層が存在す
るということが判明した。
る従来技術を詳細に検討したところ、OH基の汚
染源は、コア用ロツド表面と、クラツド材の内部
表面に拡散又は化学吸着しているOH基及び加熱
中実化時のコア材とクラツドとの間隙の雰囲気に
含まれる水分であつて、光フアイバのコアとクラ
ツド境界に高濃度のOH基を含有する層が存在す
るということが判明した。
従来技術のプロセスに従い、中実化前に弗素を
含むガスを気相処理剤として加熱処理すると、弗
素を含むガスのエツチング作用により、コア用ロ
ツド表面とクラツド材の内部表面に吸着している
OH基層を除去することができるが、1900℃以下
の温度で加熱するとコアロツドとクラツド材の内
表面が荒れ不透明となる。このような表面状態の
ロツドを中実化すると光フアイバのコアとクラツ
ドの境界層に構造不整が残り、大きな散乱ロスが
生ずる結果となる。
含むガスを気相処理剤として加熱処理すると、弗
素を含むガスのエツチング作用により、コア用ロ
ツド表面とクラツド材の内部表面に吸着している
OH基層を除去することができるが、1900℃以下
の温度で加熱するとコアロツドとクラツド材の内
表面が荒れ不透明となる。このような表面状態の
ロツドを中実化すると光フアイバのコアとクラツ
ドの境界層に構造不整が残り、大きな散乱ロスが
生ずる結果となる。
また、中実化前の気相処理として、弗素以外の
ハロゲンガスを含む処理剤を用いるとエツチング
作用がないため、OH基による大きな吸収損失が
生ずる。さらに、1.3μm以上の長波長帯で
0.5dB／Kmの低損失値を得るには、0.2dB／Km以
下の散乱ロスであることが要求されるが、弗素以
外のハロゲンガスを含む処理剤では、このような
低散乱ロスを安定に得ることはできなかつた。
ハロゲンガスを含む処理剤を用いるとエツチング
作用がないため、OH基による大きな吸収損失が
生ずる。さらに、1.3μm以上の長波長帯で
0.5dB／Kmの低損失値を得るには、0.2dB／Km以
下の散乱ロスであることが要求されるが、弗素以
外のハロゲンガスを含む処理剤では、このような
低散乱ロスを安定に得ることはできなかつた。
また、加熱中実化時のコア材とクラツド材の間
隙の雰囲気として、N2，O2，Heガス等のみを用
いると、配管系のリーク等により、安定に低露点
に保つことは困難であり、長波長帯で低損失な低
OH基の光フアイバを再現性良く、経済的に製造
することは困難である。
隙の雰囲気として、N2，O2，Heガス等のみを用
いると、配管系のリーク等により、安定に低露点
に保つことは困難であり、長波長帯で低損失な低
OH基の光フアイバを再現性良く、経済的に製造
することは困難である。
本発明の目的は、上述した従来法の欠点を除去
し、長波長帯において低損失なシングルモードフ
アイバを製造しうる光フアイバ用母材の製造方法
を提供することにある。
し、長波長帯において低損失なシングルモードフ
アイバを製造しうる光フアイバ用母材の製造方法
を提供することにある。
本発明は石英ガラスロツドをコア材とし、該コ
ア材より低屈折率を有するクラツド材の中に上記
コア材を挿入して加熱することにより、上記コア
材と上記クラツド材との間隙を中実化して光フア
イバ用母材を製造する方法において、中実化以前
に上記間隙にSiF4ガスと酸素ガスとを流して加熱
処理し、次いで上記間隙の雰囲気を弗素を含むガ
ス雰囲気とし、温度1900℃以上に加熱して中実化
することを特徴とする光フアイバ用母材の製造方
法である。
ア材より低屈折率を有するクラツド材の中に上記
コア材を挿入して加熱することにより、上記コア
材と上記クラツド材との間隙を中実化して光フア
イバ用母材を製造する方法において、中実化以前
に上記間隙にSiF4ガスと酸素ガスとを流して加熱
処理し、次いで上記間隙の雰囲気を弗素を含むガ
ス雰囲気とし、温度1900℃以上に加熱して中実化
することを特徴とする光フアイバ用母材の製造方
法である。
本発明の方法においては、中実化前にコア材と
クラツド材との間隙に、SiF4ガスと酸素ガスを流
し、温度500〜1900℃の範囲にて加熱することに
より、ロツドの表面に物理的に付着している水
分・異物・ゴミ等を揮発性ハロゲン化物として除
去する。
クラツド材との間隙に、SiF4ガスと酸素ガスを流
し、温度500〜1900℃の範囲にて加熱することに
より、ロツドの表面に物理的に付着している水
分・異物・ゴミ等を揮発性ハロゲン化物として除
去する。
特にコアガラスロツドを純石英ガラスとしたと
きに、上記した中実化前のコア・クラツド間隙に
流す処理剤として、SiF4を用いると、低い散乱ロ
スが安定に再現性良く得られる。この点の詳細は
未だ明らかではないが、例えば、Ｃを含む場合、
熱分解による炭素の付着が考えられ、その分解除
去が必要である。またハロゲンガスCl2を用いた
場合には、Cl2ガスによるガラス表面のアタツク
により分子レベルの欠陥が生ずることが考えられ
る。
きに、上記した中実化前のコア・クラツド間隙に
流す処理剤として、SiF4を用いると、低い散乱ロ
スが安定に再現性良く得られる。この点の詳細は
未だ明らかではないが、例えば、Ｃを含む場合、
熱分解による炭素の付着が考えられ、その分解除
去が必要である。またハロゲンガスCl2を用いた
場合には、Cl2ガスによるガラス表面のアタツク
により分子レベルの欠陥が生ずることが考えられ
る。
また、SiF4は、純石英ガラスに対するエツチン
グ作用が小さいので、散乱ロスの原因となるよう
な大きなロツド表面の荒れを生じない。
グ作用が小さいので、散乱ロスの原因となるよう
な大きなロツド表面の荒れを生じない。
中実化前の上記硅素とハロゲン原子との化合物
による加熱前処理の後、ロツドとクラツド材の間
隙をエツチング作用のある弗素を含むガスの雰囲
気とし、温度1900℃以上に加熱して中実化する。
該弗素を含むガスとしては例えばSF6，NF3，
F2，CCl2F2，CF4等が挙げられる。さらに、これ
らの弗素を含むガスに塩素系ガス例えばCl2，
SOCl2等を混合してもよい。
による加熱前処理の後、ロツドとクラツド材の間
隙をエツチング作用のある弗素を含むガスの雰囲
気とし、温度1900℃以上に加熱して中実化する。
該弗素を含むガスとしては例えばSF6，NF3，
F2，CCl2F2，CF4等が挙げられる。さらに、これ
らの弗素を含むガスに塩素系ガス例えばCl2，
SOCl2等を混合してもよい。
温度1900℃以上の高温で気相エツチングした場
合、エツチングによる表面凹凸はガラス表面の粘
性流動により平滑化され、なめらかな表面が維持
される。したがつて本発明の方法のように中実化
時に、コア材とクラツド材の間隙にSF6，NF3，
F2，CCl2F2，CF4等を含む雰囲気にしておくと、
コア材表面・クラツド材内表面に化学吸着してい
る層をエツチング除去しながら、中実化前の加熱
前処理では除去されずに残存した不純物・異物を
も除去し得る。さらに管内の雰囲気ガス中の水分
は、HF或いはHClとして除去される。
合、エツチングによる表面凹凸はガラス表面の粘
性流動により平滑化され、なめらかな表面が維持
される。したがつて本発明の方法のように中実化
時に、コア材とクラツド材の間隙にSF6，NF3，
F2，CCl2F2，CF4等を含む雰囲気にしておくと、
コア材表面・クラツド材内表面に化学吸着してい
る層をエツチング除去しながら、中実化前の加熱
前処理では除去されずに残存した不純物・異物を
も除去し得る。さらに管内の雰囲気ガス中の水分
は、HF或いはHClとして除去される。
また、本発明者らの検討したところによれば、
中実化前の加熱前処理を省いて、弗素を含むガス
雰囲気とし温度1900℃以上に加熱して中実化を行
つたところ、得られた母材からのフアイバでは、
散乱ロスを低減することができなかつた。
中実化前の加熱前処理を省いて、弗素を含むガス
雰囲気とし温度1900℃以上に加熱して中実化を行
つたところ、得られた母材からのフアイバでは、
散乱ロスを低減することができなかつた。
以下に図を参照して本発明方法を具体的に説明
する。
する。
第１図ａおよびｂは本発明の１実施態様を説明
する図であつて、図中１１はガラス旋盤、１２は
クラツド用管、１３はコア材、１４は支持材、１
５はガス導入ライン、１６は回転コネクター、１
７はバルブ、１８は加熱源、１９は廃ガス処理装
置をあらわす。
する図であつて、図中１１はガラス旋盤、１２は
クラツド用管、１３はコア材、１４は支持材、１
５はガス導入ライン、１６は回転コネクター、１
７はバルブ、１８は加熱源、１９は廃ガス処理装
置をあらわす。
まず、コアロツド挿入以前にクラツド用管１２
の管内壁表面を平滑にし、該表面に付着している
不純物を除去するために、クラツド用管１２内に
弗素系ガス例えばSF6，CCl2F2，CF4，NF3，F2
等と酸素ガスをガスライン１５より導入し、温度
1900℃以上に加熱することにより、該管内面を気
相エツチングすることが好ましい。特にガラス原
料を火炎加水分解反応して得たスート材を焼結し
たバルクロツドをドリル加工して得たクラツド材
の場合には、この処理を行うことが好ましい。
の管内壁表面を平滑にし、該表面に付着している
不純物を除去するために、クラツド用管１２内に
弗素系ガス例えばSF6，CCl2F2，CF4，NF3，F2
等と酸素ガスをガスライン１５より導入し、温度
1900℃以上に加熱することにより、該管内面を気
相エツチングすることが好ましい。特にガラス原
料を火炎加水分解反応して得たスート材を焼結し
たバルクロツドをドリル加工して得たクラツド材
の場合には、この処理を行うことが好ましい。
この際に弗素系ガスとしてBF3，PF3を用いる
と、ガラス表面にB2O3，P2O5として取り込まれ、
長波長帯での吸収損失要因となるので好ましくな
い。一方、弗素系ガスにCl2，SOCl2等の塩素系
ガスを含有させておくと、ガス中に含まれる水分
を除去することに役立つ。
と、ガラス表面にB2O3，P2O5として取り込まれ、
長波長帯での吸収損失要因となるので好ましくな
い。一方、弗素系ガスにCl2，SOCl2等の塩素系
ガスを含有させておくと、ガス中に含まれる水分
を除去することに役立つ。
次にライン１５からクラツド用管１２内に導入
されるガスをSiF4と酸素ガスの混合ガスに切換
え、クラツド管１２内部にコア用ガラスロツド
（コア材）１３を挿入する。
されるガスをSiF4と酸素ガスの混合ガスに切換
え、クラツド管１２内部にコア用ガラスロツド
（コア材）１３を挿入する。
SiF4ガスと酸素ガスとをクラツド用管１２とコ
ア材１３の間隙に流した状態で加熱源１８を用い
て温度500〜1900℃の範囲内にて、好ましくは温
度1000〜1600℃の範囲内にて前加熱処理する。ク
ラツド管１２は20〜80rpmで回転させ、加熱源１
８は50〜250mm／分で移動させることが好ましい。
ア材１３の間隙に流した状態で加熱源１８を用い
て温度500〜1900℃の範囲内にて、好ましくは温
度1000〜1600℃の範囲内にて前加熱処理する。ク
ラツド管１２は20〜80rpmで回転させ、加熱源１
８は50〜250mm／分で移動させることが好ましい。
上記のような前加熱処理の後、クラツド用管１
２内のガスを、弗素系ガス例えばSF6，CCl2F2，
CF4，NF3，F2等と酸素ガスの混合ガスに切換
え、クラツド管１２とコア材１３の間隙に流した
状態で管の１方の端を第１図ｂに示す如く、加熱
源１８にて加熱融着する。この際にバルブ１７を
融着寸前に開状態とし、クラツド用管１２内の圧
力が上昇しないようにする。
２内のガスを、弗素系ガス例えばSF6，CCl2F2，
CF4，NF3，F2等と酸素ガスの混合ガスに切換
え、クラツド管１２とコア材１３の間隙に流した
状態で管の１方の端を第１図ｂに示す如く、加熱
源１８にて加熱融着する。この際にバルブ１７を
融着寸前に開状態とし、クラツド用管１２内の圧
力が上昇しないようにする。
このようにクラツド管１２とコア材１３の間隙
に弗素系ガスを充填した状態で、回転する管１２
に沿つて加熱源１８を移動させることにより、上
記間隙を中実化してゆく。中実化時、廃ガス処理
装置１９によつて減圧し、管１２内の圧力を減圧
とすることも可能であるが、減圧する際に加熱温
度1900℃以下で中実化しないように圧力範囲を設
定することが必要である。また中実化時の弗素系
ガスに水分除去を目的として塩素系ガスを含ませ
ておいてもよい。
に弗素系ガスを充填した状態で、回転する管１２
に沿つて加熱源１８を移動させることにより、上
記間隙を中実化してゆく。中実化時、廃ガス処理
装置１９によつて減圧し、管１２内の圧力を減圧
とすることも可能であるが、減圧する際に加熱温
度1900℃以下で中実化しないように圧力範囲を設
定することが必要である。また中実化時の弗素系
ガスに水分除去を目的として塩素系ガスを含ませ
ておいてもよい。
以上によりコア用ロツドとクラツド用管とを中
実化して得られたプリフオームは、そのままで光
フアイバ用母材として線引炉に送り線引きしても
よいが、場合よればクラツド／コア径比の調整の
ために、さらに石英管あるいはドープされた石英
管にてジヤケツトしたり或いは気相外付法により
ジヤケツト層を形成した後、光フアイバプリフオ
ームとして線引炉に送られ光フアイバとすること
もよい。
実化して得られたプリフオームは、そのままで光
フアイバ用母材として線引炉に送り線引きしても
よいが、場合よればクラツド／コア径比の調整の
ために、さらに石英管あるいはドープされた石英
管にてジヤケツトしたり或いは気相外付法により
ジヤケツト層を形成した後、光フアイバプリフオ
ームとして線引炉に送られ光フアイバとすること
もよい。
実施例 １
火炎加水分解法により作製した弗素添加した石
英からなるバルクガラスロツドの中心に超音波ド
リル加工して穴をあけ、弗素添加された無水石英
管を準備した。該石英管は外径20mmφ、長さ350
mm、屈折率は純石英のそれより△-＝0.31％低い
ものであつた。
英からなるバルクガラスロツドの中心に超音波ド
リル加工して穴をあけ、弗素添加された無水石英
管を準備した。該石英管は外径20mmφ、長さ350
mm、屈折率は純石英のそれより△-＝0.31％低い
ものであつた。
該弗素添加石英管内にSF6260c.c.／分、SOCl240
c.c.／分、O2100c.c.／分を流し、50mm／分の移動速
度にて移動する酸水素バーナで温度1980℃に４回
加熱した後、管内に導入するガスをSiF4400c.c.／
分、O2100c.c.／分に切換え、次いで第１図ａのよ
うに管内に、外径2.4mmφの純石英ガラスロツド
を挿入した。（なお該コアロツド表面はあらかじ
めHF洗浄、アルコール洗浄および純水洗浄の前
処理を行つておいた。）次いで140mm／分の移動速
度で移動する酸水素バーナにて温度1380℃に５回
加熱した後、該管内に導入するガスをSF6210
c.c.／分、SOCl245cc／分、O2300cc／分に切換え、
第１図ｂのように石英管の一方の端を酸水素バー
ナで2050℃に加熱し、４mm／分の移動速度で中実
化した。
c.c.／分、O2100c.c.／分を流し、50mm／分の移動速
度にて移動する酸水素バーナで温度1980℃に４回
加熱した後、管内に導入するガスをSiF4400c.c.／
分、O2100c.c.／分に切換え、次いで第１図ａのよ
うに管内に、外径2.4mmφの純石英ガラスロツド
を挿入した。（なお該コアロツド表面はあらかじ
めHF洗浄、アルコール洗浄および純水洗浄の前
処理を行つておいた。）次いで140mm／分の移動速
度で移動する酸水素バーナにて温度1380℃に５回
加熱した後、該管内に導入するガスをSF6210
c.c.／分、SOCl245cc／分、O2300cc／分に切換え、
第１図ｂのように石英管の一方の端を酸水素バー
ナで2050℃に加熱し、４mm／分の移動速度で中実
化した。
以上により得られたロツドはさらに外スス付法
により純シリカのスートを堆積させ、その後弗素
系ガスを含有する雰囲気中にて焼結することによ
り、ジヤケツトとなる弗素添加のガラス層（△-
＝0.30％）を被覆し、外径／コア径の比を125／
８になるよう調整した後線引きしフアイバ化し
た。得られたシングルモードフアイバの伝送損失
は波長1.3μmにおいて0.36dB／Km、波長1.55μmで
0.19dB／Kmという非常に低損失な値が得られた。
このような超低損失な値は従来のロツドインチユ
ーブ法では得られなかつたものである。
により純シリカのスートを堆積させ、その後弗素
系ガスを含有する雰囲気中にて焼結することによ
り、ジヤケツトとなる弗素添加のガラス層（△-
＝0.30％）を被覆し、外径／コア径の比を125／
８になるよう調整した後線引きしフアイバ化し
た。得られたシングルモードフアイバの伝送損失
は波長1.3μmにおいて0.36dB／Km、波長1.55μmで
0.19dB／Kmという非常に低損失な値が得られた。
このような超低損失な値は従来のロツドインチユ
ーブ法では得られなかつたものである。
比較例 １
比較のために、コアロツド挿入後の表面処理に
おいてSiF4に替えてSF6400c.c.／分を用いた以外
は実施例１と同条件で作製したプリフオームから
得られた光フアイバの伝送損失は波長1.3μmで
0.72dB／Km、1.5μmで0.57dB／Kmと散乱損失が大
きく、低損失なシングルモードフアイバを得るこ
とはできなかつた。
おいてSiF4に替えてSF6400c.c.／分を用いた以外
は実施例１と同条件で作製したプリフオームから
得られた光フアイバの伝送損失は波長1.3μmで
0.72dB／Km、1.5μmで0.57dB／Kmと散乱損失が大
きく、低損失なシングルモードフアイバを得るこ
とはできなかつた。
比較例 ２
中実化時のコアとクラツドの間隙の雰囲気を
O2ガス雰囲気とした以外は、実施例１及び２と
同条件で作製したプリフオームから得られた光フ
アイバは、いずれもOH基の吸収損失が波長
1.24μmにおいて8dB／Km以上と大きく、波長
1.3μmで2dB／Km以下の低損失値を得ることはで
きなかつた。
O2ガス雰囲気とした以外は、実施例１及び２と
同条件で作製したプリフオームから得られた光フ
アイバは、いずれもOH基の吸収損失が波長
1.24μmにおいて8dB／Km以上と大きく、波長
1.3μmで2dB／Km以下の低損失値を得ることはで
きなかつた。
（発明の効果）
以上の説明及び実施例・比較例の結果から明ら
かなように、本発明の光フアイバ用母材の製造方
法は、低損失な長波長帯用シングルモードフアイ
バを、ロツドインチユーブ法においても製造可能
とするに加え、製造コストも低減できる産業上有
利な方法である。
かなように、本発明の光フアイバ用母材の製造方
法は、低損失な長波長帯用シングルモードフアイ
バを、ロツドインチユーブ法においても製造可能
とするに加え、製造コストも低減できる産業上有
利な方法である。
第１図ａ及びｂは、本発明の実施態様を概略説
明する図である。
明する図である。
Claims (1)
- １ 石英ガラスロツドをコア材とし、該コア材よ
り低屈折率を有するクラツド材の中に上記コア材
を挿入して加熱することにより、上記コア材と上
記クラツド材との間隙を中実化して光フアイバ用
母材を製造する方法において、中実化以前に上記
間隙にSiF4ガスと酸素ガスとを流して加熱処理
し、次いで上記間隙の雰囲気を弗素を含むガス雰
囲気とし、温度1900℃以上に加熱して中実化する
ことを特徴とする光フアイバ用母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5960085A JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5960085A JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219733A JPS61219733A (ja) | 1986-09-30 |
| JPH0583492B2 true JPH0583492B2 (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=13117902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5960085A Granted JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219733A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2645709B2 (ja) * | 1987-10-02 | 1997-08-25 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用母材及びその製造方法 |
| EP0716047A3 (en) * | 1994-12-02 | 1996-10-09 | Fibercore Inc | Method and apparatus for making an optical fiber preform |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5131240A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Sumitomo Electric Industries | Hikaridensoyogarasufuaibaa no seizohoho |
| JPS603019A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-09 | Canon Inc | 電子機器 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP5960085A patent/JPS61219733A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5131240A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Sumitomo Electric Industries | Hikaridensoyogarasufuaibaa no seizohoho |
| JPS603019A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-09 | Canon Inc | 電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61219733A (ja) | 1986-09-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR900002263B1 (ko) | 광파이버용 모재의 제조방법 | |
| JPH0134938B2 (ja) | ||
| Schultz | Fabrication of optical waveguides by the outside vapor deposition process | |
| EP0915064B1 (en) | Method of making segmented core optical waveguide preforms | |
| US4675040A (en) | Method for producing glass preform for single mode optical fiber | |
| JPS61155225A (ja) | 光導波管製造方法 | |
| US6776012B2 (en) | Method of making an optical fiber using preform dehydration in an environment of chlorine-containing gas, fluorine-containing gases and carbon monoxide | |
| US4880452A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber containing fluorine in cladding | |
| EP0201937B1 (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| JPH051221B2 (ja) | ||
| EP1270522B1 (en) | Method for fabricating optical fiber from preforms, using control of the partial pressure of oxygen during preform dehydration | |
| JPH0583492B2 (ja) | ||
| JPS6259545A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| KR910008934B1 (ko) | 광파이버용 유리모재의 제조방법 | |
| US20230286851A1 (en) | Method for manufacturing optical fiber preform | |
| JPS632900B2 (ja) | ||
| JPH089487B2 (ja) | 光フアイバ−用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS63256545A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS632902B2 (ja) | ||
| JPH0471018B2 (ja) |