JPS61219733A - 光フアイバ用母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ用母材の製造方法Info
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- JPS61219733A JPS61219733A JP5960085A JP5960085A JPS61219733A JP S61219733 A JPS61219733 A JP S61219733A JP 5960085 A JP5960085 A JP 5960085A JP 5960085 A JP5960085 A JP 5960085A JP S61219733 A JPS61219733 A JP S61219733A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
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- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
- C03B37/01248—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing by collapsing without drawing
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01853—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は低損失な元ファイバ用母材の製造方法に関する
。
。
元ファイバ用母材の製造方法の一つとして、クラッド材
となるガラス管の中にクラッド材よシも高屈折率なコア
用ガラスロンドを挿入し、加熱して中実化し光ファイバ
用母材を得るロンドインチューブ法は、代表的な製造方
法として知られている。
となるガラス管の中にクラッド材よシも高屈折率なコア
用ガラスロンドを挿入し、加熱して中実化し光ファイバ
用母材を得るロンドインチューブ法は、代表的な製造方
法として知られている。
しかしながらこのロンドインチューブ法は、コア材とク
ラッド材の界面に気泡、不純物等の欠陥が残フ易く、光
ファイバとした際に、光損失が大きくなるという欠点が
あった。
ラッド材の界面に気泡、不純物等の欠陥が残フ易く、光
ファイバとした際に、光損失が大きくなるという欠点が
あった。
これを解決する方法として、特公昭５９−６２６１、特
公昭５８−５２９５５各号公報において、コア材とクラ
ッド材との溶着・中実化前にロッドとの間隙に気相処理
剤として、Ｃ２Ｎ、０，８，１３ｅからなる群の中から
選ばれた少なくとも１種とハロゲンの少なくとも１Ｗｉ
とを含みかつ水素を含まない化合物あるいはノ・ロゲン
単独を流し、コア材が変形しない温度５００〜１６００
℃の範囲にて加熱前処理する方法が提案されている。
公昭５８−５２９５５各号公報において、コア材とクラ
ッド材との溶着・中実化前にロッドとの間隙に気相処理
剤として、Ｃ２Ｎ、０，８，１３ｅからなる群の中から
選ばれた少なくとも１種とハロゲンの少なくとも１Ｗｉ
とを含みかつ水素を含まない化合物あるいはノ・ロゲン
単独を流し、コア材が変形しない温度５００〜１６００
℃の範囲にて加熱前処理する方法が提案されている。
しかしながら上記の各号公報に記載された方法により、
元の波長１μｍ以上の領域にて使用される長波長用シン
グルモードファイバ（コアが純石英ガラス、クラッドが
弗素添加された石英ガラス）′ｔ−作製したところ、得
られたファイバはＯＨ基による吸収損失と構造不整と考
えられる散乱ロスが太き（，１，５μｍ以上の長波長帯
では１５ ｄＢ々以下の低損失な特性は到底得られない
という結果に終った。
元の波長１μｍ以上の領域にて使用される長波長用シン
グルモードファイバ（コアが純石英ガラス、クラッドが
弗素添加された石英ガラス）′ｔ−作製したところ、得
られたファイバはＯＨ基による吸収損失と構造不整と考
えられる散乱ロスが太き（，１，５μｍ以上の長波長帯
では１５ ｄＢ々以下の低損失な特性は到底得られない
という結果に終った。
本発明者らが、上記の各号公報に記載されている従来技
術を詳細に検討したところ、ＯＨ基の汚染源は、コア用
ロンド表面と、クラッド材の内部表面に拡散又は化学吸
着しているＯＨ基及び加熱中実化時のコア材とクラッド
との間隙の雰囲気に含まれる水分であって、元ファイバ
のコアとクラッド境界に高濃度の０ＩＩＩ！ｌｅを含有
する層が存在するということが判明した。
術を詳細に検討したところ、ＯＨ基の汚染源は、コア用
ロンド表面と、クラッド材の内部表面に拡散又は化学吸
着しているＯＨ基及び加熱中実化時のコア材とクラッド
との間隙の雰囲気に含まれる水分であって、元ファイバ
のコアとクラッド境界に高濃度の０ＩＩＩ！ｌｅを含有
する層が存在するということが判明した。
従来技術のプロセスに従い、中実化前に弗素を含むガス
を気相処理剤として加熱処理すると、弗素を含むガスの
エツチング作用によシ、コア用ロンド表面とクラッド材
の内部表面に吸着している０Ｈ２１ｊｉ：層を除去する
ことができるが、１９００℃以下の温度で加熱するとコ
アロッドとクラッド材の内表面が荒れ不透明となる。こ
のような表面状態のロッドを中実化すると光ファイバの
コアとクラッドの境界層に構造不整が残り、大きな散乱
ロスが生ずる結果となる。
を気相処理剤として加熱処理すると、弗素を含むガスの
エツチング作用によシ、コア用ロンド表面とクラッド材
の内部表面に吸着している０Ｈ２１ｊｉ：層を除去する
ことができるが、１９００℃以下の温度で加熱するとコ
アロッドとクラッド材の内表面が荒れ不透明となる。こ
のような表面状態のロッドを中実化すると光ファイバの
コアとクラッドの境界層に構造不整が残り、大きな散乱
ロスが生ずる結果となる。
また、中実化前の気相処理として、弗素以外のハロゲン
ガスを含む処理剤を用いるとエツチング作用がないため
、ＯＨ基による大きな吸収損失が生ずる。さらに、１．
５μｍ以上の長波長帯でＣＬ ５ ｄＢ／ｌａｎの低損
失値を得るには、α２ ａＢ／ｋｍ以下の散乱ロスであ
ることが要求されるが、弗素以外のハロゲンガスを含む
処理剤では、このような低散乱ロスを安定に得ることは
できなかった。
ガスを含む処理剤を用いるとエツチング作用がないため
、ＯＨ基による大きな吸収損失が生ずる。さらに、１．
５μｍ以上の長波長帯でＣＬ ５ ｄＢ／ｌａｎの低損
失値を得るには、α２ ａＢ／ｋｍ以下の散乱ロスであ
ることが要求されるが、弗素以外のハロゲンガスを含む
処理剤では、このような低散乱ロスを安定に得ることは
できなかった。
また、加熱中実化時のコア材とクラッド材の間隙の雰囲
気として、Ｎｌｅ Ｏｍｅ Ｈｅガス等のみを用いると
、配管系のリーク等によシ、安定に低露点に保つことは
困難であシ、長波長帯で低損失な低ＯＨ基の光ファイバ
を再現性良く、経済的に製造することは困難である。
気として、Ｎｌｅ Ｏｍｅ Ｈｅガス等のみを用いると
、配管系のリーク等によシ、安定に低露点に保つことは
困難であシ、長波長帯で低損失な低ＯＨ基の光ファイバ
を再現性良く、経済的に製造することは困難である。
本発明の目的は、上述した従来法の欠点を除去し、長波
長帯において低損失なシングルモードファイバｔ−ｇ造
しうる光ファイバ用母材の製造方法を提供することにあ
る。
長帯において低損失なシングルモードファイバｔ−ｇ造
しうる光ファイバ用母材の製造方法を提供することにあ
る。
本発明は石英ガラスロッドをコア材とし、該コア材ニジ
低屈折率を有するクラッド材の中に上記コア材を挿入し
て加熱することによシ、上記コア材と上記クラッド材と
の間隙を中実化して＄７アイパ用母材を製造する方法に
おいて、中実化以前に上記間隙に硅素とハロゲン原子の
化合物を含む雰囲気ガスｔｍして加熱処理し、次いで上
記間隙の雰囲気を弗素を含むガス雰囲気とし、温度１９
００℃以上に加熱して中実化することを特徴とする元フ
ァイバ用母材の製造方法である。
低屈折率を有するクラッド材の中に上記コア材を挿入し
て加熱することによシ、上記コア材と上記クラッド材と
の間隙を中実化して＄７アイパ用母材を製造する方法に
おいて、中実化以前に上記間隙に硅素とハロゲン原子の
化合物を含む雰囲気ガスｔｍして加熱処理し、次いで上
記間隙の雰囲気を弗素を含むガス雰囲気とし、温度１９
００℃以上に加熱して中実化することを特徴とする元フ
ァイバ用母材の製造方法である。
本発明の特に好ましい実施態様としては、硅素とハロゲ
ン原子との化合物として５ｉＰ４゜８１ＦｓＯｔ、 ｓ
ｔｙ、ｃｚ、 、 ８１ＦＣ４、８１２Ｐｍ又は５１ａ
ｌ、 ２用いる上記方法を挙げることができる。
ン原子との化合物として５ｉＰ４゜８１ＦｓＯｔ、 ｓ
ｔｙ、ｃｚ、 、 ８１ＦＣ４、８１２Ｐｍ又は５１ａ
ｌ、 ２用いる上記方法を挙げることができる。
本発明の方法においては、中実化前にコア材とクラッド
材との関＠Ｉ／Ｃ５硅素とハロゲン原子との化合物ガス
と酸素ガスを流し、温度５００〜１９００℃の範囲にて
加熱すること罠ニジ、ロッドの表面に物理的に付着して
いる水分・異物・ゴミ等の揮発性ハロゲンガスとして除
去する。
材との関＠Ｉ／Ｃ５硅素とハロゲン原子との化合物ガス
と酸素ガスを流し、温度５００〜１９００℃の範囲にて
加熱すること罠ニジ、ロッドの表面に物理的に付着して
いる水分・異物・ゴミ等の揮発性ハロゲンガスとして除
去する。
本発明に用いることのできる上記の硅素とハロゲン原子
との化合物としては、例えば５ｉ０４゜ＥｌｉＦ４ 、
８１１Ｆｇ 、 ８１２ＰＣ４、ＢＩＦ２Ｃ１２、８１
Ｆ３０ｔ、 ８１Ｂｒ４等を挙げることができる。
との化合物としては、例えば５ｉ０４゜ＥｌｉＦ４ 、
８１１Ｆｇ 、 ８１２ＰＣ４、ＢＩＦ２Ｃ１２、８１
Ｆ３０ｔ、 ８１Ｂｒ４等を挙げることができる。
また本発明において、中実化の際に用いる弗素を含むガ
スとしては、例えば”Ｉｓ ｍ ”３ ａ Ｆ′２ｅＣ
Ｃｔ！Ｆ、 、 ＣＦ４ 等が挙げられ、さらにこれら
の弗素を含むガスに塩素系ガス例えばａｔ！、 ＢＯＣ
ｔ、等を混合してもよい。
スとしては、例えば”Ｉｓ ｍ ”３ ａ Ｆ′２ｅＣ
Ｃｔ！Ｆ、 、 ＣＦ４ 等が挙げられ、さらにこれら
の弗素を含むガスに塩素系ガス例えばａｔ！、 ＢＯＣ
ｔ、等を混合してもよい。
特にコアガラスロッドを純石英ガラスとじたときに、上
記した中実化前のコア・クラッド間隙に流す処理剤とし
て、硅素のハロゲン化物を用いると、低い散乱ロスが安
定に再現性良く得られる。この点の詳細は未だ明らかで
はないが、例えば、０１に：含む場合、熱分解による炭
素の付着が考えられ、その分解除去が必要である。また
ハロゲンガスＣｔ３を用いた場合には％ ’４ガスによ
るガラス表面のアタックによシ分子レベルの欠陥が生ず
ることが考えられる。
記した中実化前のコア・クラッド間隙に流す処理剤とし
て、硅素のハロゲン化物を用いると、低い散乱ロスが安
定に再現性良く得られる。この点の詳細は未だ明らかで
はないが、例えば、０１に：含む場合、熱分解による炭
素の付着が考えられ、その分解除去が必要である。また
ハロゲンガスＣｔ３を用いた場合には％ ’４ガスによ
るガラス表面のアタックによシ分子レベルの欠陥が生ず
ることが考えられる。
また、硅素と弗素の化合物例えば８１Ｆ４ 、８１ｓ？
、。
、。
８１Ｆ（ｚｓ 、 ｓｌｙ、ａｔ、 、 ｓｉＦ′、ｃ
ｚ等虹、純石英ガラスに対するエツチング作用が小さい
ので、散乱ロスの原因となるような大きなロッド表面の
荒れを生”しない。
ｚ等虹、純石英ガラスに対するエツチング作用が小さい
ので、散乱ロスの原因となるような大きなロッド表面の
荒れを生”しない。
中実化前の上記硅素とハロゲン原子との化合物による加
熱前処理の後、ロッドとクラッド材の間隙をエツチング
作用のある弗素を含む・ガスの雰囲気とし、温度１９０
０℃以上に加熱して中実化する。該弗素を含むガスとし
ては例えば”８ ｅ ”Ｓ ＠ Ｆ２ ａ ｃｃ４Ｆ’
２９ ”４等が挙げられる。さらに、これらの弗素を含
むガスに塩素系ガス例えばａｚ、 、 ８００１２等を
混合してもよい。
熱前処理の後、ロッドとクラッド材の間隙をエツチング
作用のある弗素を含む・ガスの雰囲気とし、温度１９０
０℃以上に加熱して中実化する。該弗素を含むガスとし
ては例えば”８ ｅ ”Ｓ ＠ Ｆ２ ａ ｃｃ４Ｆ’
２９ ”４等が挙げられる。さらに、これらの弗素を含
むガスに塩素系ガス例えばａｚ、 、 ８００１２等を
混合してもよい。
温度１９００℃以上の高温で気相エツチングし九場合、
エツチングによる狭面凹凸はガラス異面の粘性流動によ
シ平滑化され、なめらかな表面が維持される。したがっ
て本発明の方法のように中実化時に、コア材とクラッド
材の間隙に”’＠ ＃ ＮＩＰｌ ＃ Ｆ２ ａ ｏｃ
ｔＩＩＦＩ ｍ ”４等會含む雰囲気にしておくと、コ
ア材表面・クラッド材内懺面に化学吸着している層をエ
ツチング除去しながら、中実化前の加熱前処理では除去
されずに残存した不純物・異物をも除去し得る。さらに
管内の雰囲気ガス中の水分ｉ、ＢＦ或いはＨＣｔとして
除去される。
エツチングによる狭面凹凸はガラス異面の粘性流動によ
シ平滑化され、なめらかな表面が維持される。したがっ
て本発明の方法のように中実化時に、コア材とクラッド
材の間隙に”’＠ ＃ ＮＩＰｌ ＃ Ｆ２ ａ ｏｃ
ｔＩＩＦＩ ｍ ”４等會含む雰囲気にしておくと、コ
ア材表面・クラッド材内懺面に化学吸着している層をエ
ツチング除去しながら、中実化前の加熱前処理では除去
されずに残存した不純物・異物をも除去し得る。さらに
管内の雰囲気ガス中の水分ｉ、ＢＦ或いはＨＣｔとして
除去される。
また、本発明者らの検討したところによれば、中実化前
の加熱前処理を省いて、弗素を含むガス雰囲気とし温度
１９００℃以上に加熱して中実化を行ったところ、得ら
れた母材からのファイバでは、散乱ロスを低減すること
ができなかった。
の加熱前処理を省いて、弗素を含むガス雰囲気とし温度
１９００℃以上に加熱して中実化を行ったところ、得ら
れた母材からのファイバでは、散乱ロスを低減すること
ができなかった。
以下に図を参照して本発明方法を具体的に説明する。
第１図（ａ）および（１））は本発明の１実施態様を説
明する図であって、図中１１はガラス旋盤、１２はクラ
ッド用管、１３はコア材、１４は支持材、１５はガス導
入ライン、１６は回転コネクター、１７はパルプ、１８
に加熱源、１９は廃ガス処理装置ｔ−あられす。
明する図であって、図中１１はガラス旋盤、１２はクラ
ッド用管、１３はコア材、１４は支持材、１５はガス導
入ライン、１６は回転コネクター、１７はパルプ、１８
に加熱源、１９は廃ガス処理装置ｔ−あられす。
まず、コアロッド挿入以前にクラッド用管１２の管内壁
狭面を平滑にし、該表面に付着している不純物を除去す
るために、クラッド重管１２内に弗素系ガス例えば’ｊ
”’６ ａ ＣＣｌ２Ｆ２ 、ＣＦ４ ＃ ＮＦ３ ｅ
Ｆ２ 等と酸素ガスをガスライン１５よシ導入し温度
１９００℃以上に加熱することにより、該管内面を気相
エツチングすることが好ましい。
狭面を平滑にし、該表面に付着している不純物を除去す
るために、クラッド重管１２内に弗素系ガス例えば’ｊ
”’６ ａ ＣＣｌ２Ｆ２ 、ＣＦ４ ＃ ＮＦ３ ｅ
Ｆ２ 等と酸素ガスをガスライン１５よシ導入し温度
１９００℃以上に加熱することにより、該管内面を気相
エツチングすることが好ましい。
特にガラス原料を火炎加水分解反応して得たスート材を
焼結したバルクロッドをドリル加ニジて得たクラッド材
の場合には、この処理を行うことが好ましい。
焼結したバルクロッドをドリル加ニジて得たクラッド材
の場合には、この処理を行うことが好ましい。
この際に弗素系ガスとしてＢＦ、 、 ＰＦ３を用いる
と、ガラス表面にＢ、ｏ、 ｔ Ｐ雪０＠として取シ込
ま紙長波長帯での吸収損失要因となるので好ましくない
。一方、弗素系ガスにＣｔｌ 、 ５ｏａｋ！等の塩素
系ガスを含有させておくと、ガス中に含まれる水分を除
去することに役立つ。
と、ガラス表面にＢ、ｏ、 ｔ Ｐ雪０＠として取シ込
ま紙長波長帯での吸収損失要因となるので好ましくない
。一方、弗素系ガスにＣｔｌ 、 ５ｏａｋ！等の塩素
系ガスを含有させておくと、ガス中に含まれる水分を除
去することに役立つ。
次にライン１５からクラッド重管１２内に導入されるガ
スを硅素とハロゲン原子の化合物例えば８１Ｃ４、８１
Ｆ４ 、 Ｓｉ＊Ｆｓ 、 Ｂ１１’０１＠ 、 Ｂ１
１０１＠ 。
スを硅素とハロゲン原子の化合物例えば８１Ｃ４、８１
Ｆ４ 、 Ｓｉ＊Ｆｓ 、 Ｂ１１’０１＠ 、 Ｂ１
１０１＠ 。
８１１’ｓｃｔ、 ８ｉＢｒａ 等と酸素ガスの混合
ガスに切換え、クラッド管１２内部にコア用ガラスロッ
ド（コア材）１５１に挿入する。
ガスに切換え、クラッド管１２内部にコア用ガラスロッ
ド（コア材）１５１に挿入する。
硅素のハロゲン化合物をクラッド用管１２とコア材１５
の間隙に流した状態で加熱源１８を用いて温度５００〜
１９００℃の範囲内にて、好ましくは温度１０００〜１
６００℃の範囲内にて前加熱処理する。クラッド管１２
は２０〜８０ ｒｐｍで回転させ、加熱源１８は５０〜
２５０慎／分で移動させることが好ましい。
の間隙に流した状態で加熱源１８を用いて温度５００〜
１９００℃の範囲内にて、好ましくは温度１０００〜１
６００℃の範囲内にて前加熱処理する。クラッド管１２
は２０〜８０ ｒｐｍで回転させ、加熱源１８は５０〜
２５０慎／分で移動させることが好ましい。
上記のような前加熱処理の後、クラッド重管１２内のガ
スを、弗素系ガス例えば８Ｆ′ｇ 、 ＣＣ１＊Ｆｚｅ
ＯＦ４． ＮＦ３． ？！等と酸素ガスの混合ガスに切
換え、クラッド管１２とコア材１３の間隙に流した状態
で管の１方の端を第１図（１））に示す如く、加熱源１
８にて加熱融着する。この際にバルブ１７を融着寸前に
開状態とし、クラッド市電１２内の圧力が上昇しないよ
うにする。
スを、弗素系ガス例えば８Ｆ′ｇ 、 ＣＣ１＊Ｆｚｅ
ＯＦ４． ＮＦ３． ？！等と酸素ガスの混合ガスに切
換え、クラッド管１２とコア材１３の間隙に流した状態
で管の１方の端を第１図（１））に示す如く、加熱源１
８にて加熱融着する。この際にバルブ１７を融着寸前に
開状態とし、クラッド市電１２内の圧力が上昇しないよ
うにする。
このようにクラッド管１２とコア材１３の間隙に弗素系
ガスを充填した状態で、回転する管１２に沿って加熱源
１８を移動させることにより、上記間隙を中実化してゆ
く。中実化時、廃ガス処理装置１９によって減圧し、管
１２内の圧力を減圧とすることも可能であるが、減圧す
る際に加熱温度１９００℃以下で中実化しないように圧
力範囲を設定することが必要である。
ガスを充填した状態で、回転する管１２に沿って加熱源
１８を移動させることにより、上記間隙を中実化してゆ
く。中実化時、廃ガス処理装置１９によって減圧し、管
１２内の圧力を減圧とすることも可能であるが、減圧す
る際に加熱温度１９００℃以下で中実化しないように圧
力範囲を設定することが必要である。
また中実化時の弗素系ガスに水分除去を目的として塩素
系ガスを含ませておいてもよい。
系ガスを含ませておいてもよい。
以上によりコア用ロッドとクラッド用管とを中実化して
得られたプリフォームは、そのままで元ファイバ用母材
として線引炉に送少線引きしてもよいが、場合よればク
ラッド／コア径比の調整のために、さらに石英管あるい
はドープされた石英管にてジャケットしたり或いは気相
外付法によりジャケット層を形成した後、光ファイバプ
リフォームとして線引炉に送られ光ファイバとすること
もよい。
得られたプリフォームは、そのままで元ファイバ用母材
として線引炉に送少線引きしてもよいが、場合よればク
ラッド／コア径比の調整のために、さらに石英管あるい
はドープされた石英管にてジャケットしたり或いは気相
外付法によりジャケット層を形成した後、光ファイバプ
リフォームとして線引炉に送られ光ファイバとすること
もよい。
実施例１
外径２６１ＩＩＩＩφ、長さ１２００ｍの市販石英管に
、内寸法ＧＣｊす、８１０１− Ｐ２Ｏ３−Ｆ 系カ
ラスｆ１５０回堆積させた。堆積したガラス膜の屈折率
ハ石英ガラスのそれよシΔ−＝α２９チ低かった。
、内寸法ＧＣｊす、８１０１− Ｐ２Ｏ３−Ｆ 系カ
ラスｆ１５０回堆積させた。堆積したガラス膜の屈折率
ハ石英ガラスのそれよシΔ−＝α２９チ低かった。
次に上記で得られた石英管内に８Ｆａ ２８０ｃｃ／分
ｅｏ３１００ ｃｃ／分を流しながら、８゜１７分の移
動速度にて移動する酸水素バーナを用いて、１８９０Ｃ
ＫＩ回加熱しく温度は石英管異面をバイクスコープにて
測定した。）、次に石英管内に導入するガスｔ−Ｂｉ、
０１ａ １５０ ｃｃ／分０ｓ５００ａｃ／分に切換え
た後、第１図（ａ）に示すように、外径１．５■φの純
石英ガラスコアロッドを挿入した。（なお該コアロッド
表面はあらかじめＨＦ洗浄、アルコール洗浄及び純水洗
浄の前処理を行っておいた。）この状態で酸水素バーナ
にて１５６０Ｃで５回移動加熱した。
ｅｏ３１００ ｃｃ／分を流しながら、８゜１７分の移
動速度にて移動する酸水素バーナを用いて、１８９０Ｃ
ＫＩ回加熱しく温度は石英管異面をバイクスコープにて
測定した。）、次に石英管内に導入するガスｔ−Ｂｉ、
０１ａ １５０ ｃｃ／分０ｓ５００ａｃ／分に切換え
た後、第１図（ａ）に示すように、外径１．５■φの純
石英ガラスコアロッドを挿入した。（なお該コアロッド
表面はあらかじめＨＦ洗浄、アルコール洗浄及び純水洗
浄の前処理を行っておいた。）この状態で酸水素バーナ
にて１５６０Ｃで５回移動加熱した。
その後石英管内に導入するガスｔ−８１Ｆ、２００ｃｃ
／分、５ＯＣｔ意４５ ｃｃ／分、０１５０００（３７
分に切換え、第１図（ｂ）のように石英管の一方の端を
酸水素バーナで密着封止し、石英管とコアロッドの間Ｉ
！１ＮをＳＦ、と５ｏｃｚ、と０２からなる雰囲気にて
充填した後、醒水素バーナで２０５０℃に加熱し、５ｗ
Ｒ／分の移動速度で中実化した。
／分、５ＯＣｔ意４５ ｃｃ／分、０１５０００（３７
分に切換え、第１図（ｂ）のように石英管の一方の端を
酸水素バーナで密着封止し、石英管とコアロッドの間Ｉ
！１ＮをＳＦ、と５ｏｃｚ、と０２からなる雰囲気にて
充填した後、醒水素バーナで２０５０℃に加熱し、５ｗ
Ｒ／分の移動速度で中実化した。
以上によシ得られたプリフォームを線引きし、伝送損失
を評価したところ、波長１．３μｍにおいてα４５ ｄ
Ｂ／ｋｍ 、波長１．５５μｍでα２９ ｄＢ／ｋｎ＋
の低損失な値が得られた。
を評価したところ、波長１．３μｍにおいてα４５ ｄ
Ｂ／ｋｍ 、波長１．５５μｍでα２９ ｄＢ／ｋｎ＋
の低損失な値が得られた。
実施例２
火炎加水分解法によｐ炸裂した弗素添加した石英からな
るバルクガラスロッドの中心に超音波ドリル加工して穴
をあけ、弗素添加された無水石英管を準備した。該石英
管は外径２０ｗ＋＋φ１長さ５５０ｍ、屈折率は純石英
のそれよシΔ−＝（１５１％低いものであった。
るバルクガラスロッドの中心に超音波ドリル加工して穴
をあけ、弗素添加された無水石英管を準備した。該石英
管は外径２０ｗ＋＋φ１長さ５５０ｍ、屈折率は純石英
のそれよシΔ−＝（１５１％低いものであった。
該弗素添加石英管内にＳＦｓ ２６０ ｃｃ／分、８０
０４ ４０００７分、０１１００ｃｃ／分を流し、５０
、．７分の移動速度にて移動する酸水素バーナで温度１
９８０℃に４回加熱した後、管内に導入するガスを８１
Ｆ４ ４００ ｃｃ／分、０１１００００／分に切換え
、次いで第１図（ａ）のように管内に、実施例１におけ
ると同様に前処理された外径２．４■φの純石英ガラス
ロッドを挿入した。次いで１４０■／分の移動速度で移
動する酸水素バーナにて温度１３８０℃に５回加熱した
後、核管内に導入するガスｆ ８１Ｐ＠ ２１０ ｃｃ
／分、５ｏｃｚ。
０４ ４０００７分、０１１００ｃｃ／分を流し、５０
、．７分の移動速度にて移動する酸水素バーナで温度１
９８０℃に４回加熱した後、管内に導入するガスを８１
Ｆ４ ４００ ｃｃ／分、０１１００００／分に切換え
、次いで第１図（ａ）のように管内に、実施例１におけ
ると同様に前処理された外径２．４■φの純石英ガラス
ロッドを挿入した。次いで１４０■／分の移動速度で移
動する酸水素バーナにて温度１３８０℃に５回加熱した
後、核管内に導入するガスｆ ８１Ｐ＠ ２１０ ｃｃ
／分、５ｏｃｚ。
４５ ｃｃ／分、０２５００ ｃｃ／分に切換え、＠１
図（１１）のように石英管の一方の端を酸水素バーナで
２０５０℃に加熱し、４ ｖｍ ７分の移動速度で中実
化した。
図（１１）のように石英管の一方の端を酸水素バーナで
２０５０℃に加熱し、４ ｖｍ ７分の移動速度で中実
化した。
以上により得られたロッドはさらに外スス付法により純
シリカのスートヲ堆積させ、その後弗素系ガスを含有す
る雰囲気中にて焼結することにより、ジャケットとなる
弗素添加のガラスＮｊｊ （Δ−＝ （Ｌ ｓ ｏ
％ ） ｔ−被ＮＬ、外径／”７径の比″ｔ−１２５／
８になるよう調整した後線引きしファイバ化した。得
られたシングルモードファイバの伝送損失は波長１．５
μｍにおいて１５６ｄＢ／ｋｍ＊波長１．５５μｍでα
１９ ｄＢ／ｌａｎという非常に低損失な値が得られた
。このような超低損失な値は従来のロッドインチューブ
法では得られなかったものである。
シリカのスートヲ堆積させ、その後弗素系ガスを含有す
る雰囲気中にて焼結することにより、ジャケットとなる
弗素添加のガラスＮｊｊ （Δ−＝ （Ｌ ｓ ｏ
％ ） ｔ−被ＮＬ、外径／”７径の比″ｔ−１２５／
８になるよう調整した後線引きしファイバ化した。得
られたシングルモードファイバの伝送損失は波長１．５
μｍにおいて１５６ｄＢ／ｋｍ＊波長１．５５μｍでα
１９ ｄＢ／ｌａｎという非常に低損失な値が得られた
。このような超低損失な値は従来のロッドインチューブ
法では得られなかったものである。
比較例１
比較のために、コアロッド挿入後の表面処理において８
１１Ｆ４に替えて８Ｆ’６４００ ｃｃ／分を用いた以
外は実施例１と同条件で作製したプリフォームから得ら
れた光ファイバの伝送損失は波長Ｌ３Ａｍで（１７２ｄ
１３７ｋｍ 、 １．５ Ｊｉｍで０５７ ｄＢ／ｋ
ｍと散乱損失が大きく、低損失なシングルモードファイ
バ金得ることはで１！なかった。
１１Ｆ４に替えて８Ｆ’６４００ ｃｃ／分を用いた以
外は実施例１と同条件で作製したプリフォームから得ら
れた光ファイバの伝送損失は波長Ｌ３Ａｍで（１７２ｄ
１３７ｋｍ 、 １．５ Ｊｉｍで０５７ ｄＢ／ｋ
ｍと散乱損失が大きく、低損失なシングルモードファイ
バ金得ることはで１！なかった。
比較例２
中実化時のコアとクラッドの間隙の雰囲気を０２ ガス
雰囲気とした以外は、実施例１及び２と同条件で作製し
たプリフォームから得られた元ファイバは、いずれもＯ
Ｈ基の吸収損失が波長１．２４μｍにおいて８ ｄＢ／
ｋＩ１１以上と大きく、波長１．３μｍで２ｄ１３／ｋ
ｍ以下の低損失値を得ることはできなかった。
雰囲気とした以外は、実施例１及び２と同条件で作製し
たプリフォームから得られた元ファイバは、いずれもＯ
Ｈ基の吸収損失が波長１．２４μｍにおいて８ ｄＢ／
ｋＩ１１以上と大きく、波長１．３μｍで２ｄ１３／ｋ
ｍ以下の低損失値を得ることはできなかった。
（発明の効果）
以上の説明及び実施例・比較例の結果から明らかなよう
に、本発明の元ファイバ用母材の製造方法は、低損失な
長波長帯用シングルモードファイバ金、ロッドインチュ
ーブ法においても製造可能とするに加え、製造コストも
低減できる産業上有利な方法である。
に、本発明の元ファイバ用母材の製造方法は、低損失な
長波長帯用シングルモードファイバ金、ロッドインチュ
ーブ法においても製造可能とするに加え、製造コストも
低減できる産業上有利な方法である。
第１図（ａ）及び（１））は、本発明の実施態様全概略
説明する図である。
説明する図である。
Claims (1)
- （１）石英ガラスロッドをコア材とし、該コア材より低
屈折率を有するクラッド材の中に上記コア材を挿入して
加熱することにより、上記コア材と上記クラッド材との
間隙を中実化して光ファイバ用母材を製造する方法にお
いて、中実化以前に上記間隙に硅素とハロゲン原子の化
合物を含む雰囲気ガスを流して加熱処理し、次いで上記
間隙の雰囲気を弗素を含むガス雰囲気とし、温度１９０
０℃以上に加熱して中実化することを特徴とする光ファ
イバ用母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5960085A JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5960085A JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219733A true JPS61219733A (ja) | 1986-09-30 |
| JPH0583492B2 JPH0583492B2 (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=13117902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5960085A Granted JPS61219733A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 光フアイバ用母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219733A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0193433A (ja) * | 1987-10-02 | 1989-04-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材及びその製造方法 |
| EP0716047A3 (en) * | 1994-12-02 | 1996-10-09 | Fibercore Inc | Method and apparatus for making an optical fiber preform |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5131240A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Sumitomo Electric Industries | Hikaridensoyogarasufuaibaa no seizohoho |
| JPS603019A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-09 | Canon Inc | 電子機器 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP5960085A patent/JPS61219733A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5131240A (ja) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Sumitomo Electric Industries | Hikaridensoyogarasufuaibaa no seizohoho |
| JPS603019A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-09 | Canon Inc | 電子機器 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0193433A (ja) * | 1987-10-02 | 1989-04-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用母材及びその製造方法 |
| EP0716047A3 (en) * | 1994-12-02 | 1996-10-09 | Fibercore Inc | Method and apparatus for making an optical fiber preform |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0583492B2 (ja) | 1993-11-26 |
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