JPH0636359A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH0636359A JPH0636359A JP4191910A JP19191092A JPH0636359A JP H0636359 A JPH0636359 A JP H0636359A JP 4191910 A JP4191910 A JP 4191910A JP 19191092 A JP19191092 A JP 19191092A JP H0636359 A JPH0636359 A JP H0636359A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光量変動補正専用の別光源を用いて偏向変調
時に生じる光量補正を行うことにより、常に安定した露
光を行い品質の良好な光ディスク原盤を作製することが
可能な光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】 レーザ光源１から出射した露光ビームａを光
量変調器２により所定の光量となるように変調し、その
光量変調された露光ビームａをパルス変調器３によりパ
ルス変調を行い、このパルス化された露光ビームａを偏
向器６により偏向して対物レンズ１０により集光して光
ディスク原盤１１上に照射することによりピットの形成
を行う光ディスク原盤露光装置において、偏向器６の前
段の光路上に光量補正ビームｂを発する光量補正用光源
１８を配設し、その発せられた光量補正ビームｂを検出
し偏向変調時の光量変動を補正する光量変動補正手段２
３を設けた。
時に生じる光量補正を行うことにより、常に安定した露
光を行い品質の良好な光ディスク原盤を作製することが
可能な光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】 レーザ光源１から出射した露光ビームａを光
量変調器２により所定の光量となるように変調し、その
光量変調された露光ビームａをパルス変調器３によりパ
ルス変調を行い、このパルス化された露光ビームａを偏
向器６により偏向して対物レンズ１０により集光して光
ディスク原盤１１上に照射することによりピットの形成
を行う光ディスク原盤露光装置において、偏向器６の前
段の光路上に光量補正ビームｂを発する光量補正用光源
１８を配設し、その発せられた光量補正ビームｂを検出
し偏向変調時の光量変動を補正する光量変動補正手段２
３を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤露光装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは、光ディスク原盤露光装置
を用いて光ディスク原盤を作成した後、その原盤からの
レプリカをとることにより作ることができる。そこで、
今、光ディスク原盤を作成する具体例として、従来にお
ける光ディスク原盤露光装置の一例を図３に基づいて説
明する。レーザ光源としてのＡｒレーザ１により出射さ
れた露光ビームａは、光量変調器２により所定量の露光
量となるように変調され、パルス変調器３により露光す
るフォーマットパターンに応じたパルス変調を行いパル
ス光を得る。この光量変調されパルス化された露光ビー
ムａは、ミラー４，５を介した後、偏向器６により偏向
される。この偏向器６は、ホストコンピュータ７に接続
された高周波電源８により駆動制御される。そして、そ
の偏向された露光ビームａは、ミラー９を介して、対物
レンズ１０により集光され光ディスク原盤としてのフォ
トレジスト板１１上に照射されピット等の溝の形成がな
される。フォトレジスト板１１はホストコンピュータ７
に接続されたターンテーブルモータ１２により回転制御
される。
を用いて光ディスク原盤を作成した後、その原盤からの
レプリカをとることにより作ることができる。そこで、
今、光ディスク原盤を作成する具体例として、従来にお
ける光ディスク原盤露光装置の一例を図３に基づいて説
明する。レーザ光源としてのＡｒレーザ１により出射さ
れた露光ビームａは、光量変調器２により所定量の露光
量となるように変調され、パルス変調器３により露光す
るフォーマットパターンに応じたパルス変調を行いパル
ス光を得る。この光量変調されパルス化された露光ビー
ムａは、ミラー４，５を介した後、偏向器６により偏向
される。この偏向器６は、ホストコンピュータ７に接続
された高周波電源８により駆動制御される。そして、そ
の偏向された露光ビームａは、ミラー９を介して、対物
レンズ１０により集光され光ディスク原盤としてのフォ
トレジスト板１１上に照射されピット等の溝の形成がな
される。フォトレジスト板１１はホストコンピュータ７
に接続されたターンテーブルモータ１２により回転制御
される。
【０００３】この場合、露光時において、露光ビームａ
に光量変動が生じると、フォトレジスト板１１への露光
量が変動し、これにより形成される溝不良が生じ、所望
の溝形状を得ることができない。
に光量変動が生じると、フォトレジスト板１１への露光
量が変動し、これにより形成される溝不良が生じ、所望
の溝形状を得ることができない。
【０００４】また、ウォブル溝を露光する際、偏向器６
によって露光ビームａに偏向角を与えるが、この場合、
偏向器６の偏向角ｄθは、 ｄθ＝（λ・ｄｆ）／ｖ …（１） λ：波長 ｄｆ：駆動周波数 ｖ：結晶の媒体音速 により求められ、ｄｆの値を変えることにより行うこと
ができる。図４は、偏向器６に入射した露光ビームａが
偏向され１次回折光ｋが発生している状態を示すもので
ある。
によって露光ビームａに偏向角を与えるが、この場合、
偏向器６の偏向角ｄθは、 ｄθ＝（λ・ｄｆ）／ｖ …（１） λ：波長 ｄｆ：駆動周波数 ｖ：結晶の媒体音速 により求められ、ｄｆの値を変えることにより行うこと
ができる。図４は、偏向器６に入射した露光ビームａが
偏向され１次回折光ｋが発生している状態を示すもので
ある。
【０００５】しかし、偏向器６は、図５に示すように、
その特性上、ｆｏをピーク値としてｄｆの値を変えると
出射する光効率ηの値が変動してしまい、これによりど
うしても光量変動を生じる結果となる。
その特性上、ｆｏをピーク値としてｄｆの値を変えると
出射する光効率ηの値が変動してしまい、これによりど
うしても光量変動を生じる結果となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
従来においては、以下に述べるような各手段により光量
変動を低減する光量補正を行っている。すなわち、その
第一の手段として、図３（破線）に示すように、光量変
調器２の直後に分光ミラー１３を配置して露光ビームａ
の一部を分離し、その分離された露光ビームａを光量モ
ニタ１４により検出することによりその制御回路１５を
通じて光量変調器２の光量補正を行っているものがあ
る。また、その第二の手段として、図３（破線）に示す
ように、フォトレジスト板１１に露光している露光ビー
ムａの反射光を光量モニタ１６により検出してその制御
回路１７を通じて光量変調器２の光量補正を行っている
ものがある。
従来においては、以下に述べるような各手段により光量
変動を低減する光量補正を行っている。すなわち、その
第一の手段として、図３（破線）に示すように、光量変
調器２の直後に分光ミラー１３を配置して露光ビームａ
の一部を分離し、その分離された露光ビームａを光量モ
ニタ１４により検出することによりその制御回路１５を
通じて光量変調器２の光量補正を行っているものがあ
る。また、その第二の手段として、図３（破線）に示す
ように、フォトレジスト板１１に露光している露光ビー
ムａの反射光を光量モニタ１６により検出してその制御
回路１７を通じて光量変調器２の光量補正を行っている
ものがある。
【０００７】しかし、第一の手段の場合、偏向器２を作
動させないならば光量の補正は可能であるが、偏向器２
を作動させてウォブル溝を露光するような場合には、偏
向器２の特性上発生する光量変動は補正することができ
ない。また、予め偏向器２による変動分を見込んで補正
することもできるが、実際の露光時に見込んだ補正分が
合っているかどうかわからず、信頼性に欠ける。
動させないならば光量の補正は可能であるが、偏向器２
を作動させてウォブル溝を露光するような場合には、偏
向器２の特性上発生する光量変動は補正することができ
ない。また、予め偏向器２による変動分を見込んで補正
することもできるが、実際の露光時に見込んだ補正分が
合っているかどうかわからず、信頼性に欠ける。
【０００８】また、第二の手段の場合、パルス変調され
た露光ビームａで光量補正を行うには、数ＭＨｚの帯域
の制御回路１７や、超高速で立ち上がる光量モニタ１６
が必要となり、非常に高価なものとなる。しかも、フォ
トレジスト板１１からの反射光を利用するため、そのフ
ォトレジスト板１１上にゴミ等の欠陥があると、反射光
量が変動してフィードバック系の回路が誤検知されるこ
とになる。
た露光ビームａで光量補正を行うには、数ＭＨｚの帯域
の制御回路１７や、超高速で立ち上がる光量モニタ１６
が必要となり、非常に高価なものとなる。しかも、フォ
トレジスト板１１からの反射光を利用するため、そのフ
ォトレジスト板１１上にゴミ等の欠陥があると、反射光
量が変動してフィードバック系の回路が誤検知されるこ
とになる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、レーザ光源から出射した露光ビームを光量変調器に
より所定の光量となるように変調し、その光量変調され
た露光ビームをパルス変調器によりパルス変調を行い、
このパルス化された露光ビームを偏向器により偏向して
対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に照射する
ことによりピットの形成を行う光ディスク原盤露光装置
において、前記偏向器の前段の光路上に光量補正ビーム
を発する光量補正用光源を配設し、その発せられた光量
補正ビームを検出し偏向変調時の光量変動を補正する光
量変動補正手段を設けた。
は、レーザ光源から出射した露光ビームを光量変調器に
より所定の光量となるように変調し、その光量変調され
た露光ビームをパルス変調器によりパルス変調を行い、
このパルス化された露光ビームを偏向器により偏向して
対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に照射する
ことによりピットの形成を行う光ディスク原盤露光装置
において、前記偏向器の前段の光路上に光量補正ビーム
を発する光量補正用光源を配設し、その発せられた光量
補正ビームを検出し偏向変調時の光量変動を補正する光
量変動補正手段を設けた。
【００１０】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明において、光量補正用光源から発せられた光量補正
ビームは連続光とした。
発明において、光量補正用光源から発せられた光量補正
ビームは連続光とした。
【００１１】請求項３記載の発明では、請求項１又は２
記載の発明において、偏向器の前段の光路上に、レーザ
光源からの露光ビームと光量補正用光源からの光量補正
ビームとを同一光軸上に合成するビーム合成手段を設け
た。
記載の発明において、偏向器の前段の光路上に、レーザ
光源からの露光ビームと光量補正用光源からの光量補正
ビームとを同一光軸上に合成するビーム合成手段を設け
た。
【００１２】請求項４記載の発明では、請求項３記載の
発明において、ビーム合成手段により合成され偏向器を
通過した光路上に、露光ビームと光量補正ビームとを分
離するビーム分離手段を設けた。
発明において、ビーム合成手段により合成され偏向器を
通過した光路上に、露光ビームと光量補正ビームとを分
離するビーム分離手段を設けた。
【００１３】請求項５記載の発明では、請求項１，２，
３又は４記載の発明において、光量変動補正手段は、光
量補正モニタと、この光量補正モニタからの出力信号を
もとに生成された光量補正信号を光量変調器に送るフィ
ードバック回路とより構成した。
３又は４記載の発明において、光量変動補正手段は、光
量補正モニタと、この光量補正モニタからの出力信号を
もとに生成された光量補正信号を光量変調器に送るフィ
ードバック回路とより構成した。
【００１４】
【作用】請求項１記載の発明においては、光量変動補正
手段を用いてウォブル露光時でも偏向器の特性による光
量変動を補正することにより、常に安定した露光を行う
ことが可能となる。
手段を用いてウォブル露光時でも偏向器の特性による光
量変動を補正することにより、常に安定した露光を行う
ことが可能となる。
【００１５】請求項２記載の発明においては、光量補正
ビームを連続光としたことにより、記録用の露光ビーム
がパルス変調器によってパルス光となっていても、モニ
タへは連続光として検知させることが可能となる。
ビームを連続光としたことにより、記録用の露光ビーム
がパルス変調器によってパルス光となっていても、モニ
タへは連続光として検知させることが可能となる。
【００１６】請求項３記載の発明においては、ビーム合
成手段を用いて露光ビームと光量補正ビームとを同一光
軸上に合成することにより、偏向器への入射角調整を容
易に行うことが可能となる。
成手段を用いて露光ビームと光量補正ビームとを同一光
軸上に合成することにより、偏向器への入射角調整を容
易に行うことが可能となる。
【００１７】請求項４記載の発明においては、ビーム分
離手段を用いて合成されたビームを再び分離することに
より、光量補正ビームのみをモニタすることができ、こ
れにより露光ビームの影響を受けずに偏向器の特性であ
る光量変動を検知することが可能となる。
離手段を用いて合成されたビームを再び分離することに
より、光量補正ビームのみをモニタすることができ、こ
れにより露光ビームの影響を受けずに偏向器の特性であ
る光量変動を検知することが可能となる。
【００１８】請求項５記載の発明においては、光量補正
モニタに接続されたフィードバック回路は、偏向器によ
る光量変動を補正するように光量変調器へ光量補正信号
を送るため、常に安定した露光ビームを得ることが可能
となる。
モニタに接続されたフィードバック回路は、偏向器によ
る光量変動を補正するように光量変調器へ光量補正信号
を送るため、常に安定した露光ビームを得ることが可能
となる。
【００１９】
【実施例】本発明の一実施例を図１及び図２に基づいて
説明する。なお、従来技術で述べた光ディスク原盤露光
装置（図３参照）と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。
説明する。なお、従来技術で述べた光ディスク原盤露光
装置（図３参照）と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。
【００２０】図１に示す本装置において、偏向器６の前
段の光路上には、ミラー１８ａを介して、光量補正ビー
ムｂを発する光量補正用光源としてのＨｅ−Ｎｅレーザ
１８が配設されている。その光量補正ビームｂは、ここ
では連続光とされている。
段の光路上には、ミラー１８ａを介して、光量補正ビー
ムｂを発する光量補正用光源としてのＨｅ−Ｎｅレーザ
１８が配設されている。その光量補正ビームｂは、ここ
では連続光とされている。
【００２１】また、偏向器６の前段の光路上には、Ａｒ
レーザ１からの露光ビームａとＨｅ−Ｎｅレーザ１８か
らの光量補正ビームｂとを同一光軸上に合成するビーム
合成手段としてのダイクロイックミラー１９が配設され
ている。このダイクロイックミラー１９により合成さ
れ、偏向器６を通過した光路上には、露光ビームａと光
量補正ビームｂとを分離するビーム分離手段としてのダ
イクロイックミラー２０が配置されている。
レーザ１からの露光ビームａとＨｅ−Ｎｅレーザ１８か
らの光量補正ビームｂとを同一光軸上に合成するビーム
合成手段としてのダイクロイックミラー１９が配設され
ている。このダイクロイックミラー１９により合成さ
れ、偏向器６を通過した光路上には、露光ビームａと光
量補正ビームｂとを分離するビーム分離手段としてのダ
イクロイックミラー２０が配置されている。
【００２２】さらに、前記ダイクロイックミラー２０を
透過した光路上には、光量補正モニタ２１と、この光量
補正モニタ２１に接続されたフィードバック回路２２と
が接続されている。このフィードバック回路２２は、前
記光量補正モニタ２１からの出力信号をもとに生成され
た光量補正信号ｃを光量変調器２に送る。この場合、前
記光量補正モニタ２１と、前記フィードバック回路２２
とは、光量変動補正手段２３を構成している。従って、
ここでの光量変動補正手段２３は、光量補正ビームｂを
検出し、偏向変調時の光量変動を補正するものである。
透過した光路上には、光量補正モニタ２１と、この光量
補正モニタ２１に接続されたフィードバック回路２２と
が接続されている。このフィードバック回路２２は、前
記光量補正モニタ２１からの出力信号をもとに生成され
た光量補正信号ｃを光量変調器２に送る。この場合、前
記光量補正モニタ２１と、前記フィードバック回路２２
とは、光量変動補正手段２３を構成している。従って、
ここでの光量変動補正手段２３は、光量補正ビームｂを
検出し、偏向変調時の光量変動を補正するものである。
【００２３】このような構成において、Ａｒレーザ１よ
り出射された露光ビームａ（λ＝４５７．９ｎｍ）は、
光量変調器２により所定の露光量になるように変調さ
れ、パルス変調器３により露光するフォーマットパター
ンに応じたパルス変調を行いパルス光を作成する。この
段階での露光ビームａは光量変調されたパルス光であ
る。このパルス化された露光ビームａはＨｅ−Ｎｅレー
ザ（λ＝６３２．８ｎｍ）により発せられた光量補正ビ
ームｂと共にダイクロイックミラー１９に入射される。
この時、ダイクロイックミラー１９は、露光ビームａは
そのまま透過させ、光量補正ビームｂは反射させるた
め、これにより２つのビームａ，ｂは同一光軸上に重ね
合わされることになる。そして、このようにして重ね合
わされた２つのビームａ，ｂは偏向器６に入射し、これ
によりビームに偏向角が与えられる。このようにして偏
向角の付与された２つのビームａ，ｂはダイクロイック
ミラー２０に入射する。この時、ダイクロイックミラー
２０は、露光ビームａは反射させ、光量補正ビームｂを
そのまま透過させるるため、これにより２つのビーム
ａ，ｂは再び分離されることになる。
り出射された露光ビームａ（λ＝４５７．９ｎｍ）は、
光量変調器２により所定の露光量になるように変調さ
れ、パルス変調器３により露光するフォーマットパター
ンに応じたパルス変調を行いパルス光を作成する。この
段階での露光ビームａは光量変調されたパルス光であ
る。このパルス化された露光ビームａはＨｅ−Ｎｅレー
ザ（λ＝６３２．８ｎｍ）により発せられた光量補正ビ
ームｂと共にダイクロイックミラー１９に入射される。
この時、ダイクロイックミラー１９は、露光ビームａは
そのまま透過させ、光量補正ビームｂは反射させるた
め、これにより２つのビームａ，ｂは同一光軸上に重ね
合わされることになる。そして、このようにして重ね合
わされた２つのビームａ，ｂは偏向器６に入射し、これ
によりビームに偏向角が与えられる。このようにして偏
向角の付与された２つのビームａ，ｂはダイクロイック
ミラー２０に入射する。この時、ダイクロイックミラー
２０は、露光ビームａは反射させ、光量補正ビームｂを
そのまま透過させるるため、これにより２つのビーム
ａ，ｂは再び分離されることになる。
【００２４】そして、このように分離されたビームのう
ち、反射された露光ビームａは、対物レンズ１０に入射
することにより、ターンテーブルモータ１２によって回
転するフォトレジスト板１１上に集光されて露光が行わ
れ、これにより所望とするピット等の溝の作成が行われ
ることになる。一方、透過した光量補正ビームｂは、光
量補正モニタ２１に導かれることにより偏向変調による
光量変動をモニタした後、そのモニタされた信号をフィ
ードバック回路２２に送ることにより光量補正ビームｃ
を求める。この光量補正ビームｃは光量変調器２にフィ
ードバックされることにより、偏向変調時に生じた光量
変動を補正することができる。なお、このような全ての
駆動系の制御はホストコンピュータ７によって制御され
る。
ち、反射された露光ビームａは、対物レンズ１０に入射
することにより、ターンテーブルモータ１２によって回
転するフォトレジスト板１１上に集光されて露光が行わ
れ、これにより所望とするピット等の溝の作成が行われ
ることになる。一方、透過した光量補正ビームｂは、光
量補正モニタ２１に導かれることにより偏向変調による
光量変動をモニタした後、そのモニタされた信号をフィ
ードバック回路２２に送ることにより光量補正ビームｃ
を求める。この光量補正ビームｃは光量変調器２にフィ
ードバックされることにより、偏向変調時に生じた光量
変動を補正することができる。なお、このような全ての
駆動系の制御はホストコンピュータ７によって制御され
る。
【００２５】偏向器６による偏向角ｄθは前述した
（１）式により求められるため、その偏向角ｄθの値を
変えるには駆動周波数ｄｆの値を変化させればよい。し
かし、図５に示したように、偏向器６は駆動周波数を変
えると光効率ηが変化する特性があり、これにより露光
量に変動が生じてしまい、安定した露光を行うことがで
きない。そこで、本実施例のように、別光源であるＨｅ
−Ｎｅレーザ１８を用いて光量変動の補正を行うように
することにより、常に安定したウォブル露光を行うこと
が可能となり、これにより品質の良好な光ディスク原盤
を作製することができる。図２は、光量補正の有無によ
りフォトレジスト板１１上に形成される露光溝の形状を
従来例と比較して示したものである。この場合、図２
（ａ）は本実施例の装置により形成された露光溝２４の
形状を示し、図２（ｂ）は従来の装置により形成された
露光溝２５の形状を示すものである。これにより、別光
源を用いて光量補正した場合には溝幅は一定（ｄ1＝
ｄ2）となり安定しているのに対して、光量補正しない
場合には溝幅は場所によって異なる（ｄ3＜ｄ4）ことに
なることがわかる。
（１）式により求められるため、その偏向角ｄθの値を
変えるには駆動周波数ｄｆの値を変化させればよい。し
かし、図５に示したように、偏向器６は駆動周波数を変
えると光効率ηが変化する特性があり、これにより露光
量に変動が生じてしまい、安定した露光を行うことがで
きない。そこで、本実施例のように、別光源であるＨｅ
−Ｎｅレーザ１８を用いて光量変動の補正を行うように
することにより、常に安定したウォブル露光を行うこと
が可能となり、これにより品質の良好な光ディスク原盤
を作製することができる。図２は、光量補正の有無によ
りフォトレジスト板１１上に形成される露光溝の形状を
従来例と比較して示したものである。この場合、図２
（ａ）は本実施例の装置により形成された露光溝２４の
形状を示し、図２（ｂ）は従来の装置により形成された
露光溝２５の形状を示すものである。これにより、別光
源を用いて光量補正した場合には溝幅は一定（ｄ1＝
ｄ2）となり安定しているのに対して、光量補正しない
場合には溝幅は場所によって異なる（ｄ3＜ｄ4）ことに
なることがわかる。
【００２６】
【発明の効果】請求項１記載の発明は、レーザ光源から
出射した露光ビームを光量変調器により所定の光量とな
るように変調し、その光量変調された露光ビームをパル
ス変調器によりパルス変調を行い、このパルス化された
露光ビームを偏向器により偏向して対物レンズにより集
光して光ディスク原盤上に照射することによりピットの
形成を行う光ディスク原盤露光装置において、前記偏向
器の前段の光路上に光量補正ビームを発する光量補正用
光源を配設し、その発せられた光量補正ビームを検出し
偏向変調時の光量変動を補正する光量変動補正手段を設
けたので、ウォブル露光時でも偏向器の特性による光量
変動を補正して常に安定した露光を行うことが可能とな
り、これにより品質の良い光ディスク原盤を作製するこ
とができるものである。
出射した露光ビームを光量変調器により所定の光量とな
るように変調し、その光量変調された露光ビームをパル
ス変調器によりパルス変調を行い、このパルス化された
露光ビームを偏向器により偏向して対物レンズにより集
光して光ディスク原盤上に照射することによりピットの
形成を行う光ディスク原盤露光装置において、前記偏向
器の前段の光路上に光量補正ビームを発する光量補正用
光源を配設し、その発せられた光量補正ビームを検出し
偏向変調時の光量変動を補正する光量変動補正手段を設
けたので、ウォブル露光時でも偏向器の特性による光量
変動を補正して常に安定した露光を行うことが可能とな
り、これにより品質の良い光ディスク原盤を作製するこ
とができるものである。
【００２７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、光量補正用光源から発せられた光量補正ビ
ームは連続光としたので、記録用の露光ビームがパルス
変調器によってパルス光となっていてもモニタへは連続
光として検知させることが可能となり、これにより、従
来のような高帯域なフィードバック回路や超高速の光量
モニタを必要とせず、システムを小型化させ、安価な装
置を提供することができるものである。
明において、光量補正用光源から発せられた光量補正ビ
ームは連続光としたので、記録用の露光ビームがパルス
変調器によってパルス光となっていてもモニタへは連続
光として検知させることが可能となり、これにより、従
来のような高帯域なフィードバック回路や超高速の光量
モニタを必要とせず、システムを小型化させ、安価な装
置を提供することができるものである。
【００２８】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の発明において、偏向器の前段の光路上に、レーザ光
源からの露光ビームと光量補正用光源からの光量補正ビ
ームとを同一光軸上に合成するビーム合成手段を設けた
ので、露光ビームと光量補正ビームとを同一光軸上に合
成させ、偏向器への入射角調整を容易に行うことができ
るものである。
載の発明において、偏向器の前段の光路上に、レーザ光
源からの露光ビームと光量補正用光源からの光量補正ビ
ームとを同一光軸上に合成するビーム合成手段を設けた
ので、露光ビームと光量補正ビームとを同一光軸上に合
成させ、偏向器への入射角調整を容易に行うことができ
るものである。
【００２９】請求項４記載の発明は、請求項３記載の発
明において、ビーム合成手段により合成され偏向器を通
過した光路上に、露光ビームと光量補正ビームとを分離
するビーム分離手段を設けたので、合成されたビームを
再び分離することにより、光量補正ビームのみをモニタ
することができ、これにより、露光ビームの影響を受け
ずに偏向器の特性である光量変動を検知することができ
るものである。
明において、ビーム合成手段により合成され偏向器を通
過した光路上に、露光ビームと光量補正ビームとを分離
するビーム分離手段を設けたので、合成されたビームを
再び分離することにより、光量補正ビームのみをモニタ
することができ、これにより、露光ビームの影響を受け
ずに偏向器の特性である光量変動を検知することができ
るものである。
【００３０】請求項５記載の発明は、請求項１，２，３
又は４記載の発明において、光量変動補正手段は、光量
補正モニタと、この光量補正モニタからの出力信号をも
とに生成された光量補正信号を光量変調器に送るフィー
ドバック回路とより構成したので、フィードバック回路
から光量変調器へ光量補正信号を送り偏向器による光量
変動を補正することにより、常に安定した露光ビームを
得ることができるものである。
又は４記載の発明において、光量変動補正手段は、光量
補正モニタと、この光量補正モニタからの出力信号をも
とに生成された光量補正信号を光量変調器に送るフィー
ドバック回路とより構成したので、フィードバック回路
から光量変調器へ光量補正信号を送り偏向器による光量
変動を補正することにより、常に安定した露光ビームを
得ることができるものである。
【図１】本発明の一実施例である光ディスク原盤露光装
置の様子を示す構成図である。
置の様子を示す構成図である。
【図２】光量補正の有無により形成された露光溝の形状
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】従来例を示す光ディスク原盤露光装置の構成図
である。
である。
【図４】偏向器により偏向されるビーム状態を示す模式
図である。
図である。
【図５】駆動周波数と光効率との関係を示す特性図であ
る。
る。
１ レーザ光源 ２ 光量変調器 ３ パルス変調器 ６ 偏向器 １０ 対物レンズ １１ 光ディスク原盤 １８ 光量補正用光源 １９ ビーム合成手段 ２０ ビーム分離手段 ２１ 光量補正モニタ ２２ フィードバック回路 ２３ 光量変動補正手段 ａ 露光ビーム ｂ 光量補正ビーム ｃ 光量補正信号
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ光源から出射した露光ビームを光
量変調器により所定の光量となるように変調し、その光
量変調された露光ビームをパルス変調器によりパルス変
調を行い、このパルス化された露光ビームを偏向器によ
り偏向して対物レンズにより集光して光ディスク原盤上
に照射することによりピットの形成を行う光ディスク原
盤露光装置において、前記偏向器の前段の光路上に光量
補正ビームを発する光量補正用光源を配設し、その発せ
られた光量補正ビームを検出し偏向変調時の光量変動を
補正する光量変動補正手段を設けたことを特徴とする光
ディスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 光量補正用光源から発せられた光量補正
ビームは、連続光であることを特徴とする請求項１記載
の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項３】 偏向器の前段の光路上に、レーザ光源か
らの露光ビームと光量補正用光源からの光量補正ビーム
とを同一光軸上に合成するビーム合成手段を設けたこと
を特徴とする請求項１又は２記載の光ディスク原盤露光
装置。 - 【請求項４】 ビーム合成手段により合成され偏向器を
通過した光路上に、露光ビームと光量補正ビームとを分
離するビーム分離手段を設けたことを特徴とする請求項
３記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項５】 光量変動補正手段は、光量補正モニタ
と、この光量補正モニタからの出力信号をもとに生成さ
れた光量補正信号を光量変調器に送るフィードバック回
路とよりなることを特徴とする請求項１，２，３又は４
記載の光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4191910A JPH0636359A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4191910A JPH0636359A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636359A true JPH0636359A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16282486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4191910A Pending JPH0636359A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636359A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0881630A2 (en) * | 1997-05-28 | 1998-12-02 | Sony Corporation | Light exposure apparatus for master optical disc |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP4191910A patent/JPH0636359A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0881630A2 (en) * | 1997-05-28 | 1998-12-02 | Sony Corporation | Light exposure apparatus for master optical disc |
| EP0881630A3 (en) * | 1997-05-28 | 2001-02-07 | Sony Corporation | Light exposure apparatus for master optical disc |
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