JPH06176409A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH06176409A JPH06176409A JP4326639A JP32663992A JPH06176409A JP H06176409 A JPH06176409 A JP H06176409A JP 4326639 A JP4326639 A JP 4326639A JP 32663992 A JP32663992 A JP 32663992A JP H06176409 A JPH06176409 A JP H06176409A
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- Japan
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- light
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- deflector
- incident
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 温度ドリフトを低減させると共に、光軸の変
動を安価に低減させることが可能な光ディスク原盤露光
装置を提供する。 【構成】 露光用ビームＡを光量変調手段３に入射して
光量の変調を行い、光量変調された光を信号変調手段４
に入射して信号変調を行い、この信号変調された光をＡ
／Ｏ偏向器６を介してフォーカスサーボされた対物レン
ズに入射させることにより、光ディスク原盤上に露光を
行うことにより露光用ピットを作成する光ディスク原盤
露光装置において、光量変調手段３に入射した露光用ビ
ームＡを１次回折光Ａｘと０次光Ａｙとに分岐する光束
分岐手段を設け、この光束分岐手段により分岐され光量
変調手段３から出力された０次光ＡｙがＡ／Ｏ偏向器６
の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するようにそのＡ／Ｏ偏
向器６を配設した。
動を安価に低減させることが可能な光ディスク原盤露光
装置を提供する。 【構成】 露光用ビームＡを光量変調手段３に入射して
光量の変調を行い、光量変調された光を信号変調手段４
に入射して信号変調を行い、この信号変調された光をＡ
／Ｏ偏向器６を介してフォーカスサーボされた対物レン
ズに入射させることにより、光ディスク原盤上に露光を
行うことにより露光用ピットを作成する光ディスク原盤
露光装置において、光量変調手段３に入射した露光用ビ
ームＡを１次回折光Ａｘと０次光Ａｙとに分岐する光束
分岐手段を設け、この光束分岐手段により分岐され光量
変調手段３から出力された０次光ＡｙがＡ／Ｏ偏向器６
の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するようにそのＡ／Ｏ偏
向器６を配設した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ａ／Ｏ（Ａcousto−Ｏ
ptic）偏向器を用いた光ディスク原盤露光装置に関す
る。
ptic）偏向器を用いた光ディスク原盤露光装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ディスク原盤露光装置の露光光
学系においては、Ａ／Ｏ変調器やＥ／Ｏ（Ｅlectro−Ｏ
ptic）変調器を用いることによって、光量変調、信号変
調、光軸偏向等を行っている。この場合、特に、変調周
波数がそれほど高くなく、安価な点からＡ／Ｏ変調器が
多く用いられている。また、そのようなＡ／Ｏ変調器を
用いることに伴い、ウォブルする目的でＡ／Ｏ偏向器を
用いるが、このＡ／Ｏ偏向器に関するものとしては、特
開平１−３１５０３７号公報に開示されているように、
予めウォブルする量によって光量を所定に設定するよう
に駆動回路の制御等を行っているものがある。
学系においては、Ａ／Ｏ変調器やＥ／Ｏ（Ｅlectro−Ｏ
ptic）変調器を用いることによって、光量変調、信号変
調、光軸偏向等を行っている。この場合、特に、変調周
波数がそれほど高くなく、安価な点からＡ／Ｏ変調器が
多く用いられている。また、そのようなＡ／Ｏ変調器を
用いることに伴い、ウォブルする目的でＡ／Ｏ偏向器を
用いるが、このＡ／Ｏ偏向器に関するものとしては、特
開平１−３１５０３７号公報に開示されているように、
予めウォブルする量によって光量を所定に設定するよう
に駆動回路の制御等を行っているものがある。
【０００３】そこで、今、従来における光ディスク原盤
露光装置を、２ビーム露光光学系を例にとって図６に基
づいて説明する。レーザ光源としてのアルゴンレーザ１
からから発せられた光は、ビーム分岐手段としてのビー
ムスプリッタ２により反射又は透過してピット露光用ビ
ームＡとグルーブ露光用ビームＢとに分離される。ピッ
ト露光用ビームＡは、光量変調手段としてのピット露光
用光量変調器３に入射して光量の変調がなされ、この光
量変調された光は信号変調手段としての信号変調用Ａ／
Ｏ変調器４に入射して信号変調が行われ、この信号変調
されたピット露光用ビームＡは、ミラー５により反射さ
れ、Ａ／Ｏ偏向器６に入射してウォブル可能な光とな
り、波長板７を介して、偏光ビームスプリッタ（ＰＢ
Ｓ）８に入射する。一方、グルーブ露光用ビームＢは、
ミラー９により光路を変えた後、前者と同様にグルーブ
露光用光量変調器１０、信号変調用Ａ／Ｏ変調器１１を
順次通過してＰＢＳ８に入射する。そして、ピット露光
用ビームＡとグルーブ露光用ビームＢとは、そのＰＢＳ
８により合成され、ミラー１２を介して、対物レンズア
クチュエータ１３によりフォーカス制御された対物レン
ズ１４に入射して集光され、ターンテーブル１５上に搭
載された光ディスク原盤１６（レジスト塗布基板からな
る）の面上にそれぞれのスポット像を形成して潜像化
し、その後、現像を行うことにより、所望とする露光ピ
ットやグルーブの形成を行うことができる。
露光装置を、２ビーム露光光学系を例にとって図６に基
づいて説明する。レーザ光源としてのアルゴンレーザ１
からから発せられた光は、ビーム分岐手段としてのビー
ムスプリッタ２により反射又は透過してピット露光用ビ
ームＡとグルーブ露光用ビームＢとに分離される。ピッ
ト露光用ビームＡは、光量変調手段としてのピット露光
用光量変調器３に入射して光量の変調がなされ、この光
量変調された光は信号変調手段としての信号変調用Ａ／
Ｏ変調器４に入射して信号変調が行われ、この信号変調
されたピット露光用ビームＡは、ミラー５により反射さ
れ、Ａ／Ｏ偏向器６に入射してウォブル可能な光とな
り、波長板７を介して、偏光ビームスプリッタ（ＰＢ
Ｓ）８に入射する。一方、グルーブ露光用ビームＢは、
ミラー９により光路を変えた後、前者と同様にグルーブ
露光用光量変調器１０、信号変調用Ａ／Ｏ変調器１１を
順次通過してＰＢＳ８に入射する。そして、ピット露光
用ビームＡとグルーブ露光用ビームＢとは、そのＰＢＳ
８により合成され、ミラー１２を介して、対物レンズア
クチュエータ１３によりフォーカス制御された対物レン
ズ１４に入射して集光され、ターンテーブル１５上に搭
載された光ディスク原盤１６（レジスト塗布基板からな
る）の面上にそれぞれのスポット像を形成して潜像化
し、その後、現像を行うことにより、所望とする露光ピ
ットやグルーブの形成を行うことができる。
【０００４】通常、光ディスクのような原盤露光におい
ては、光量変調器により光量変調を行った後、ＯＮ、Ｏ
ＦＦ信号変調後にＡ／Ｏ偏向器によりある一定量だけウ
ォブルさせ、これにより所望とする溝やピット露光を行
っている。このようにＡ／Ｏ偏向器を光量変調を行った
後の後段に配置する理由は、もし、前段に配置すると他
のＡ／Ｏ変調器への入射角を変えることになり、光量が
一層不安定になるためである。また、前述したような露
光光学系で露光を行ってきたが、光量変化、例えば、Ｃ
ＡＶ（角速度一定）露光の場合、外周露光は内周露光よ
りも光量を増加する必要がある。
ては、光量変調器により光量変調を行った後、ＯＮ、Ｏ
ＦＦ信号変調後にＡ／Ｏ偏向器によりある一定量だけウ
ォブルさせ、これにより所望とする溝やピット露光を行
っている。このようにＡ／Ｏ偏向器を光量変調を行った
後の後段に配置する理由は、もし、前段に配置すると他
のＡ／Ｏ変調器への入射角を変えることになり、光量が
一層不安定になるためである。また、前述したような露
光光学系で露光を行ってきたが、光量変化、例えば、Ｃ
ＡＶ（角速度一定）露光の場合、外周露光は内周露光よ
りも光量を増加する必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】一般に、Ａ／Ｏ偏向器
を使用する場合、回折効率が周波数の両端部では低下す
るため（トランスジューサの周波数特性及び回折角のブ
ラッグ条件からのずれが原因）、従来から光量の補正を
行う必要がある。その一方で、Ａ／Ｏ変調器の特性とし
て、出力光ビームの角度ドリフトの現象があり、トラン
スジューサの発熱や媒体の超音波吸収の発熱による屈折
率変化が原因で、回折光角度のドリフトが生じる。
を使用する場合、回折効率が周波数の両端部では低下す
るため（トランスジューサの周波数特性及び回折角のブ
ラッグ条件からのずれが原因）、従来から光量の補正を
行う必要がある。その一方で、Ａ／Ｏ変調器の特性とし
て、出力光ビームの角度ドリフトの現象があり、トラン
スジューサの発熱や媒体の超音波吸収の発熱による屈折
率変化が原因で、回折光角度のドリフトが生じる。
【０００６】このようにＡ／Ｏ変調器は温度によりビー
ム角ドリフトが生じ、また、光量増加によるＡ／Ｏ偏向
器での出射角ドリフトが生じ、これにより露光時におい
て、グルーブとピットの間隔がずれたり、ピッチ間隔の
ドリフトが生じてしまい、その結果、再生された光ディ
スク信号に影響を与えることになってしまう。
ム角ドリフトが生じ、また、光量増加によるＡ／Ｏ偏向
器での出射角ドリフトが生じ、これにより露光時におい
て、グルーブとピットの間隔がずれたり、ピッチ間隔の
ドリフトが生じてしまい、その結果、再生された光ディ
スク信号に影響を与えることになってしまう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、レーザ光源から発せられた光をビーム分岐手段によ
りピット露光用ビームとグルーブ露光用ビームとに分岐
し、前記露光用ビームを光量変調手段に入射して光量の
変調を行い、光量変調された光を信号変調手段に入射し
て信号変調を行い、この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向
器を介してフォーカスサーボされた対物レンズに入射さ
せることにより、光ディスク原盤上に露光を行うことに
より露光用ピットを作成する光ディスク原盤露光装置に
おいて、前記光量変調手段に入射した前記露光用ビーム
を１次回折光と０次光とに分岐する光束分岐手段を設
け、この光束分岐手段により分岐され前記光量変調手段
から出力された前記０次光が前記Ａ／Ｏ偏向器の主光軸
以外の光軸に入射するようにそのＡ／Ｏ偏向器を配設し
た。
は、レーザ光源から発せられた光をビーム分岐手段によ
りピット露光用ビームとグルーブ露光用ビームとに分岐
し、前記露光用ビームを光量変調手段に入射して光量の
変調を行い、光量変調された光を信号変調手段に入射し
て信号変調を行い、この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向
器を介してフォーカスサーボされた対物レンズに入射さ
せることにより、光ディスク原盤上に露光を行うことに
より露光用ピットを作成する光ディスク原盤露光装置に
おいて、前記光量変調手段に入射した前記露光用ビーム
を１次回折光と０次光とに分岐する光束分岐手段を設
け、この光束分岐手段により分岐され前記光量変調手段
から出力された前記０次光が前記Ａ／Ｏ偏向器の主光軸
以外の光軸に入射するようにそのＡ／Ｏ偏向器を配設し
た。
【０００８】請求項２記載の発明では、レーザ光源から
発せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビー
ムとグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビー
ムを光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変
調された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、
この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカ
スサーボされた対物レンズに入射させることにより、光
ディスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを
作成する光ディスク原盤露光装置において、前記信号変
調手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次
光とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段
により分岐され前記信号変調手段から出力された０次光
がＡ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射するようにそ
のＡ／Ｏ偏向器を配設した。
発せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビー
ムとグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビー
ムを光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変
調された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、
この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカ
スサーボされた対物レンズに入射させることにより、光
ディスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを
作成する光ディスク原盤露光装置において、前記信号変
調手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次
光とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段
により分岐され前記信号変調手段から出力された０次光
がＡ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射するようにそ
のＡ／Ｏ偏向器を配設した。
【０００９】請求項３記載の発明では、請求項１又は２
記載の発明において、０次光の光路上にＡ／Ｏ偏向器の
主光軸の光量減衰分に合致した割合で０次光の出射光量
を調整する光量調整手段を配設した。
記載の発明において、０次光の光路上にＡ／Ｏ偏向器の
主光軸の光量減衰分に合致した割合で０次光の出射光量
を調整する光量調整手段を配設した。
【００１０】請求項４記載の発明では、請求項１又は２
記載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプ
リッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐され
た光路上に光軸移動をモニタする２分割受光素子を設け
た。
記載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプ
リッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐され
た光路上に光軸移動をモニタする２分割受光素子を設け
た。
【００１１】請求項５記載の発明では、請求項１又は２
記載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプ
リッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐され
た光路上にビームを２分割するナイフエッジプリズムを
設け、その２分割されたそれぞれのビームの光路中に光
軸に垂直方向に微調整を行う遮光板を配置させ、前記２
分割されたビームを各々受光する受光素子を設けた。
記載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプ
リッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐され
た光路上にビームを２分割するナイフエッジプリズムを
設け、その２分割されたそれぞれのビームの光路中に光
軸に垂直方向に微調整を行う遮光板を配置させ、前記２
分割されたビームを各々受光する受光素子を設けた。
【００１２】請求項６記載の発明では、請求項４又は５
記載の発明において、２分割されたビームから得られた
２つの差信号出力が０若しくはある一定の範囲内に抑え
られるように周波数変調を行う制御回路を設けた。
記載の発明において、２分割されたビームから得られた
２つの差信号出力が０若しくはある一定の範囲内に抑え
られるように周波数変調を行う制御回路を設けた。
【００１３】請求項７記載の発明では、請求項６記載の
発明において、制御回路は、露光ビームの中心軸と合致
するように同期してサンプリングし、かつ、そのサンプ
リング信号の一つ前の信号平均値でサーボするサンプリ
ングサーボ手段を備えるようにした。
発明において、制御回路は、露光ビームの中心軸と合致
するように同期してサンプリングし、かつ、そのサンプ
リング信号の一つ前の信号平均値でサーボするサンプリ
ングサーボ手段を備えるようにした。
【００１４】
【作用】請求項１記載の発明では、０次光が常にＡ／Ｏ
偏向器に入射しているため、素子にたいする温度変化が
少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑えるこ
とが可能となり、また、０次光の入射光軸をＡ／Ｏ偏向
器の主光軸と異ならせるため、露光光への影響を及ぼす
ようなことをなくすことが可能となる。
偏向器に入射しているため、素子にたいする温度変化が
少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑えるこ
とが可能となり、また、０次光の入射光軸をＡ／Ｏ偏向
器の主光軸と異ならせるため、露光光への影響を及ぼす
ようなことをなくすことが可能となる。
【００１５】請求項２記載の発明では、信号変調用Ａ／
Ｏ変調器の０次光をＡ／Ｏ偏向器に入射させることによ
り、信号がＯＦＦの場合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器
への入射光量はほぼ同じになり、温度ドリフトを一段と
少なくさせることが可能となる。
Ｏ変調器の０次光をＡ／Ｏ偏向器に入射させることによ
り、信号がＯＦＦの場合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器
への入射光量はほぼ同じになり、温度ドリフトを一段と
少なくさせることが可能となる。
【００１６】請求項３記載の発明では、露光光の変化に
対して０次光も変化し、これにより総光量が一定となる
ため露光時の温度ドリフトをより少なくさせることが可
能となる。
対して０次光も変化し、これにより総光量が一定となる
ため露光時の温度ドリフトをより少なくさせることが可
能となる。
【００１７】請求項４記載の発明では、２分割受光素子
により光軸移動をモニタすることによって、１次回折光
による温度以外での光軸の変化量を把握することが可能
となる。
により光軸移動をモニタすることによって、１次回折光
による温度以外での光軸の変化量を把握することが可能
となる。
【００１８】請求項５記載の発明では、遮光板を用いて
受光素子に入射する遮光量を調整できるため、サンプル
ホールド時間に対する調整が可能となる。
受光素子に入射する遮光量を調整できるため、サンプル
ホールド時間に対する調整が可能となる。
【００１９】請求項６記載の発明では、制御回路を用い
て、温度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終
段でフィードバックできるため、ピット位置やピッチ精
度の向上を図ることが可能となる。
て、温度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終
段でフィードバックできるため、ピット位置やピッチ精
度の向上を図ることが可能となる。
【００２０】請求項７記載の発明では、故意に光軸を振
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去し、ディスク信号変化を
抑えることが可能となる。
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去し、ディスク信号変化を
抑えることが可能となる。
【００２１】
【実施例】請求項１〜３記載の発明の一実施例を図１及
び図６に基づいて説明する。なお、光ディスク原盤露光
装置の全体構成については従来技術（図６参照）で述べ
たのでその同一部分についての説明は省略し、その同一
部分については同一符号を用いる。
び図６に基づいて説明する。なお、光ディスク原盤露光
装置の全体構成については従来技術（図６参照）で述べ
たのでその同一部分についての説明は省略し、その同一
部分については同一符号を用いる。
【００２２】図６に示したような光ディスク原盤露光装
置の露光光学系において、本実施例では、以下のような
構成要件とした。すなわち、図１の光学系において、ピ
ット露光用光量変調器３は、このピット露光用光量変調
器３に入射した露光用ビームＡを１次回折光Ａｘと０次
光Ａｙとに分岐する図示しない光束分岐手段を備えてい
る。この光束分岐手段により分岐された０次光Ａｙが、
Ａ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するよう
に、そのＡ／Ｏ偏向器６は配置されている。
置の露光光学系において、本実施例では、以下のような
構成要件とした。すなわち、図１の光学系において、ピ
ット露光用光量変調器３は、このピット露光用光量変調
器３に入射した露光用ビームＡを１次回折光Ａｘと０次
光Ａｙとに分岐する図示しない光束分岐手段を備えてい
る。この光束分岐手段により分岐された０次光Ａｙが、
Ａ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するよう
に、そのＡ／Ｏ偏向器６は配置されている。
【００２３】また、０次光Ａｙの光路上には、ミラー１
７と、λ／２板１８と、偏光板１９とが配置されてい
る。この場合、λ／２板１８と偏光板１９とは、光量調
整手段２０を構成している。この光量調整手段２０は、
Ａ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐの光量減衰分に合致した割合
で０次光Ａｙの出射光量を調整する。
７と、λ／２板１８と、偏光板１９とが配置されてい
る。この場合、λ／２板１８と偏光板１９とは、光量調
整手段２０を構成している。この光量調整手段２０は、
Ａ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐの光量減衰分に合致した割合
で０次光Ａｙの出射光量を調整する。
【００２４】一方、１次回折光Ａｘの光路上には、信号
変調用Ａ／Ｏ変調器４と、ミラー２１ａとが配置されて
いる。この１次回折光ＡｘはＡ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐ
に入射し、０次光Ａｙはその主光軸以外の他の光軸Ｑに
入射する。
変調用Ａ／Ｏ変調器４と、ミラー２１ａとが配置されて
いる。この１次回折光ＡｘはＡ／Ｏ偏向器６の主光軸Ｐ
に入射し、０次光Ａｙはその主光軸以外の他の光軸Ｑに
入射する。
【００２５】このような構成において、露光用ビームＡ
はピット露光用光量変調器３に入射することにより、１
次回折光Ａｘが主光軸として進行していき、信号変調用
Ａ／Ｏ変調器４に入射し、その後、ミラー２１ａを介し
てＡ／Ｏ偏向器６に入射し、これによりその１次回折光
Ａｘは主光軸Ｐとして露光用に供される。一方、ピット
露光用光量変調器３により分離された０次光Ａｙは、ミ
ラー１７を介して、主光軸Ｐとは異なる光軸ＱでＡ／Ｏ
偏向器６に入射し、これにより得られた回折された光は
主光軸Ｐとは一致しない回折光Ｒ，Ｓとなって出力す
る。
はピット露光用光量変調器３に入射することにより、１
次回折光Ａｘが主光軸として進行していき、信号変調用
Ａ／Ｏ変調器４に入射し、その後、ミラー２１ａを介し
てＡ／Ｏ偏向器６に入射し、これによりその１次回折光
Ａｘは主光軸Ｐとして露光用に供される。一方、ピット
露光用光量変調器３により分離された０次光Ａｙは、ミ
ラー１７を介して、主光軸Ｐとは異なる光軸ＱでＡ／Ｏ
偏向器６に入射し、これにより得られた回折された光は
主光軸Ｐとは一致しない回折光Ｒ，Ｓとなって出力す
る。
【００２６】従って、このようなことから０次光Ａｙは
常にＡ／Ｏ偏向器６に入射することになり、信号変調用
Ａ／Ｏ変調器４の出力が０の時でもＡ／Ｏ偏向器６には
光が入射された状態となっており、これにより素子温度
の急冷をなくすことができる。また、λ／２板１８と偏
光板１９とを０次光Ａｙの光路上に配置したことによ
り、０次光Ａｙの入射光量を調整することができ、ＣＡ
Ｖ動作時は、ピット露光用光量変調器３によって、例え
ば、外周露光するに従って１次回折光Ａｘは増加し０次
光Ａｙは減少するが、Ａ／Ｏ偏向器６に入力する１次回
折光Ａｘの光量減衰分と同一比率で０次光Ａｙを調整す
ることにより、１次回折光Ａｘの増加分と０次光Ａｙの
減少分とが同等となり、これによりＡ／Ｏ偏向器６の入
力総光量は略同一となり、温度ドリフトを少なくさせる
ことができる。
常にＡ／Ｏ偏向器６に入射することになり、信号変調用
Ａ／Ｏ変調器４の出力が０の時でもＡ／Ｏ偏向器６には
光が入射された状態となっており、これにより素子温度
の急冷をなくすことができる。また、λ／２板１８と偏
光板１９とを０次光Ａｙの光路上に配置したことによ
り、０次光Ａｙの入射光量を調整することができ、ＣＡ
Ｖ動作時は、ピット露光用光量変調器３によって、例え
ば、外周露光するに従って１次回折光Ａｘは増加し０次
光Ａｙは減少するが、Ａ／Ｏ偏向器６に入力する１次回
折光Ａｘの光量減衰分と同一比率で０次光Ａｙを調整す
ることにより、１次回折光Ａｘの増加分と０次光Ａｙの
減少分とが同等となり、これによりＡ／Ｏ偏向器６の入
力総光量は略同一となり、温度ドリフトを少なくさせる
ことができる。
【００２７】上述したように、０次光Ａｙが常にＡ／Ｏ
偏向器６に入射しているため、素子に対する温度変化が
少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑えるこ
とができる。また、０次光Ａｙの入射光軸ＱをＡ／Ｏ偏
向器６の主光軸Ｐと異ならせるため、露光光への影響を
及ぼすようなことをなくすことができる。さらに、余光
である０次光Ａｙを利用しているため、単にミラー等の
光学素子を付加するだけでよく安価な構成とすることが
できる。
偏向器６に入射しているため、素子に対する温度変化が
少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑えるこ
とができる。また、０次光Ａｙの入射光軸ＱをＡ／Ｏ偏
向器６の主光軸Ｐと異ならせるため、露光光への影響を
及ぼすようなことをなくすことができる。さらに、余光
である０次光Ａｙを利用しているため、単にミラー等の
光学素子を付加するだけでよく安価な構成とすることが
できる。
【００２８】また、露光光の変化に対して０次光Ａｙも
変化し、これにより総光量が一定となるため露光時の温
度ドリフトを一段と少なくさせることができる。また、
０次光Ａｙの入射光量を調整することが可能であり、そ
の露光時での最適条件の設定が可能である。
変化し、これにより総光量が一定となるため露光時の温
度ドリフトを一段と少なくさせることができる。また、
０次光Ａｙの入射光量を調整することが可能であり、そ
の露光時での最適条件の設定が可能である。
【００２９】次に、図１の他の構成例について述べる。
信号変調用Ａ／Ｏ変調器４に入射した露光用ビームＡを
１次回折光Ａｘと０次光Ａｙとに分岐する光束分岐手段
を設け、この光束分岐手段により分岐され信号変調用Ａ
／Ｏ変調器４から出力された０次光ＡｙがＡ／Ｏ偏向器
６の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するようにそのＡ／Ｏ
偏向器６を配設した構成としてもよい。従って、このよ
うに、信号変調用Ａ／Ｏ変調器４の０次光ＡｙをＡ／Ｏ
偏向器６に入射させることによって、信号がＯＦＦの場
合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器６への入射光量はほぼ
同じになり、これにより温度ドリフトを一段と少なくさ
せることができるようになる。
信号変調用Ａ／Ｏ変調器４に入射した露光用ビームＡを
１次回折光Ａｘと０次光Ａｙとに分岐する光束分岐手段
を設け、この光束分岐手段により分岐され信号変調用Ａ
／Ｏ変調器４から出力された０次光ＡｙがＡ／Ｏ偏向器
６の主光軸Ｐ以外の光軸Ｑに入射するようにそのＡ／Ｏ
偏向器６を配設した構成としてもよい。従って、このよ
うに、信号変調用Ａ／Ｏ変調器４の０次光ＡｙをＡ／Ｏ
偏向器６に入射させることによって、信号がＯＦＦの場
合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器６への入射光量はほぼ
同じになり、これにより温度ドリフトを一段と少なくさ
せることができるようになる。
【００３０】次に、請求項４，６，７記載の発明の一実
施例を図２及び図３に基づいて説明する。なお、前述し
た実施例（図１参照）と同一部分についての説明は省略
し、その同一部分については同一符号を用いる。
施例を図２及び図３に基づいて説明する。なお、前述し
た実施例（図１参照）と同一部分についての説明は省略
し、その同一部分については同一符号を用いる。
【００３１】ここでは、１次回折光Ａｘの光路上にビー
ムスプリッタ２１を配設し、このビームスプリッタ２１
により分岐された光路上に光軸移動をモニタする２分割
受光素子２２を設けた。また、その２分割受光素子２２
により２分割されたビームから得られた２つの差信号出
力が０若しくはある一定の範囲内に抑えられるように周
波数変調を行う制御回路２３を設けた。この制御回路２
３は、アンプ２４と、サーボ回路２５と、偏向用ドライ
バ２６とよりなっている。
ムスプリッタ２１を配設し、このビームスプリッタ２１
により分岐された光路上に光軸移動をモニタする２分割
受光素子２２を設けた。また、その２分割受光素子２２
により２分割されたビームから得られた２つの差信号出
力が０若しくはある一定の範囲内に抑えられるように周
波数変調を行う制御回路２３を設けた。この制御回路２
３は、アンプ２４と、サーボ回路２５と、偏向用ドライ
バ２６とよりなっている。
【００３２】この場合、制御回路２３は、露光ビームの
中心軸と合致するように同期してサンプリングし、か
つ、そのサンプリング信号の一つ前の信号平均値でサー
ボする、図示しないサンプリングサーボ手段を備えてい
る。
中心軸と合致するように同期してサンプリングし、か
つ、そのサンプリング信号の一つ前の信号平均値でサー
ボする、図示しないサンプリングサーボ手段を備えてい
る。
【００３３】このような構成において、動作について述
べる。Ａ／Ｏ偏向器６からの出力は、ビームスプリッタ
２１を介して２分割受光素子２２によりモニタすること
により、その他の原因でのドリフト、変動をとらえるこ
とができ、その２つの出力値の差分値をアンプ２４とサ
ーボ回路２５を介して、偏向用ドライバ２６を制御する
ことにより、光軸変動を抑えることができる。
べる。Ａ／Ｏ偏向器６からの出力は、ビームスプリッタ
２１を介して２分割受光素子２２によりモニタすること
により、その他の原因でのドリフト、変動をとらえるこ
とができ、その２つの出力値の差分値をアンプ２４とサ
ーボ回路２５を介して、偏向用ドライバ２６を制御する
ことにより、光軸変動を抑えることができる。
【００３４】また、露光自体をウォブルさせたような場
合、図３（ａ）のパルス状のウォブル信号の場合は、図
３（ｂ）のＶｏ（光軸中心）を基準として図示しないフ
ォーマット回路と同期させ、サンプルホールドを行い、
これにより常にＶｏになるように偏向用ドライバ２６を
駆動制御する。一方、図３（ｃ）（ｄ）に示すように、
正弦波状のウォブリングに対しては、フォーマット回路
に同期したウィンドを明けている間の光軸変化量（Ｖ1
＋Ｖ2）／２の演算を行い、その値をＶｏにするように
遅れて偏向用ドライバ２６を駆動制御することにより、
光軸が変化しても中心が基準から外れないように制御す
ることができる。
合、図３（ａ）のパルス状のウォブル信号の場合は、図
３（ｂ）のＶｏ（光軸中心）を基準として図示しないフ
ォーマット回路と同期させ、サンプルホールドを行い、
これにより常にＶｏになるように偏向用ドライバ２６を
駆動制御する。一方、図３（ｃ）（ｄ）に示すように、
正弦波状のウォブリングに対しては、フォーマット回路
に同期したウィンドを明けている間の光軸変化量（Ｖ1
＋Ｖ2）／２の演算を行い、その値をＶｏにするように
遅れて偏向用ドライバ２６を駆動制御することにより、
光軸が変化しても中心が基準から外れないように制御す
ることができる。
【００３５】上述したように、２分割受光素子２２によ
り光軸移動をモニタすることによって、１次回折光Ａｘ
による温度以外での光軸の変化量を把握することができ
る。また、制御回路２３を用いて駆動制御することによ
り、温度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終
段でフィードバックできるため、ピット位置やピッチ精
度の向上を図ることができる。さらに、故意に光軸を振
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去することができ、これに
よりディスク信号変化を抑えることができる。
り光軸移動をモニタすることによって、１次回折光Ａｘ
による温度以外での光軸の変化量を把握することができ
る。また、制御回路２３を用いて駆動制御することによ
り、温度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終
段でフィードバックできるため、ピット位置やピッチ精
度の向上を図ることができる。さらに、故意に光軸を振
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去することができ、これに
よりディスク信号変化を抑えることができる。
【００３６】次に、請求項５記載の発明の一実施例を図
４及び図５に基づいて説明する。なお、前述した２つの
実施例（図１，２参照）と同一部分についての説明は省
略し、その同一部分については同一符号を用いる。
４及び図５に基づいて説明する。なお、前述した２つの
実施例（図１，２参照）と同一部分についての説明は省
略し、その同一部分については同一符号を用いる。
【００３７】ここでは、図２の実施例の変形例を示すも
のである。すなわち、図４において、１次回折光Ａｘの
光路上にビームスプリッタ２１を配設し、このビームス
プリッタ２１により分岐された光路上にビームを２分割
するナイフエッジプリズム２７を設け、その２分割され
たそれぞれのビームの光路中に光軸に垂直方向に微調整
を行う遮光板２８ａ，２８ｂを配置させ、２分割された
ビームを各々受光する受光素子２９ａ，２９ｂを設けた
ものである。受光素子２９ａ，２９ｂ以後の制御回路及
びサンプリングサーボ手段は図２の場合と同様に構成す
ることができる。
のである。すなわち、図４において、１次回折光Ａｘの
光路上にビームスプリッタ２１を配設し、このビームス
プリッタ２１により分岐された光路上にビームを２分割
するナイフエッジプリズム２７を設け、その２分割され
たそれぞれのビームの光路中に光軸に垂直方向に微調整
を行う遮光板２８ａ，２８ｂを配置させ、２分割された
ビームを各々受光する受光素子２９ａ，２９ｂを設けた
ものである。受光素子２９ａ，２９ｂ以後の制御回路及
びサンプリングサーボ手段は図２の場合と同様に構成す
ることができる。
【００３８】このような構成において、１次回折光Ａｘ
をナイフエッジプリズム２７で２分割し、遮光板２８
ａ，２８ｂを介して、受光素子２９ａ，２９ｂに受光さ
せる場合、遮光板２８ａ，２８ｂを用いて適量に遮光す
ることにより、モニタの不感帯部を作ることができる。
図５において、（ａ）はウォブル信号、（ｂ）は差信
号、（ｃ）はウィンドウ信号をそれぞれ示すものであ
る。
をナイフエッジプリズム２７で２分割し、遮光板２８
ａ，２８ｂを介して、受光素子２９ａ，２９ｂに受光さ
せる場合、遮光板２８ａ，２８ｂを用いて適量に遮光す
ることにより、モニタの不感帯部を作ることができる。
図５において、（ａ）はウォブル信号、（ｂ）は差信
号、（ｃ）はウィンドウ信号をそれぞれ示すものであ
る。
【００３９】上述したように、遮光板２８ａ，２８ｂを
用いて受光素子２９ａ，２９ｂに入射する遮光量を調整
することにより、サンプルホールド時間に対する調整が
可能となり、これにより安価に駆動制御を行うことがで
きる。また、本実施例では、前述したような図２の演算
処理を行わなくても、サンプルホールドすることがで
き、変動が生じれば基準電圧値に戻すことができる。
用いて受光素子２９ａ，２９ｂに入射する遮光量を調整
することにより、サンプルホールド時間に対する調整が
可能となり、これにより安価に駆動制御を行うことがで
きる。また、本実施例では、前述したような図２の演算
処理を行わなくても、サンプルホールドすることがで
き、変動が生じれば基準電圧値に戻すことができる。
【００４０】
【発明の効果】請求項１記載の発明は、レーザ光源から
発せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビー
ムとグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビー
ムを光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変
調された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、
この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカ
スサーボされた対物レンズに入射させることにより、光
ディスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを
作成する光ディスク原盤露光装置において、前記光量変
調手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次
光とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段
により分岐され前記光量変調手段から出力された前記０
次光が前記Ａ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射する
ようにそのＡ／Ｏ偏向器を配設したので、０次光が常に
Ａ／Ｏ偏向器に入射しているため、素子に対する温度変
化が少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑え
ることが可能となり、また、０次光の入射光軸をＡ／Ｏ
偏向器の主光軸と異ならせるため、露光光への影響を及
ぼすようなことをなくすことができるものである。
発せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビー
ムとグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビー
ムを光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変
調された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、
この信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカ
スサーボされた対物レンズに入射させることにより、光
ディスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを
作成する光ディスク原盤露光装置において、前記光量変
調手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次
光とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段
により分岐され前記光量変調手段から出力された前記０
次光が前記Ａ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射する
ようにそのＡ／Ｏ偏向器を配設したので、０次光が常に
Ａ／Ｏ偏向器に入射しているため、素子に対する温度変
化が少なく、出力ビームの角度ドリフトを最小限に抑え
ることが可能となり、また、０次光の入射光軸をＡ／Ｏ
偏向器の主光軸と異ならせるため、露光光への影響を及
ぼすようなことをなくすことができるものである。
【００４１】請求項２記載の発明は、レーザ光源から発
せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビーム
とグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビーム
を光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変調
された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、こ
の信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカス
サーボされた対物レンズに入射させることにより、光デ
ィスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを作
成する光ディスク原盤露光装置において、前記信号変調
手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次光
とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段に
より分岐され前記信号変調手段から出力された０次光が
Ａ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射するようにその
Ａ／Ｏ偏向器を配設したので、信号変調用Ａ／Ｏ変調器
の０次光をＡ／Ｏ偏向器に入射させることにより、信号
がＯＦＦの場合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器への入射
光量はほぼ同じになり、温度ドリフトを一段と少なくさ
せることができるものである。
せられた光をビーム分岐手段によりピット露光用ビーム
とグルーブ露光用ビームとに分岐し、前記露光用ビーム
を光量変調手段に入射して光量の変調を行い、光量変調
された光を信号変調手段に入射して信号変調を行い、こ
の信号変調された光をＡ／Ｏ偏向器を介してフォーカス
サーボされた対物レンズに入射させることにより、光デ
ィスク原盤上に露光を行うことにより露光用ピットを作
成する光ディスク原盤露光装置において、前記信号変調
手段に入射した前記露光用ビームを１次回折光と０次光
とに分岐する光束分岐手段を設け、この光束分岐手段に
より分岐され前記信号変調手段から出力された０次光が
Ａ／Ｏ偏向器の主光軸以外の光軸に入射するようにその
Ａ／Ｏ偏向器を配設したので、信号変調用Ａ／Ｏ変調器
の０次光をＡ／Ｏ偏向器に入射させることにより、信号
がＯＦＦの場合とＯＮの場合とでＡ／Ｏ偏向器への入射
光量はほぼ同じになり、温度ドリフトを一段と少なくさ
せることができるものである。
【００４２】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の発明において、０次光の光路上にＡ／Ｏ偏向器の主
光軸の光量減衰分に合致した割合で０次光の出射光量を
調整する光量調整手段を配設したので、露光光の変化に
対して０次光も変化し、これにより総光量が一定となる
ため露光時の温度ドリフトをより少なくさせることがで
きるものである。
載の発明において、０次光の光路上にＡ／Ｏ偏向器の主
光軸の光量減衰分に合致した割合で０次光の出射光量を
調整する光量調整手段を配設したので、露光光の変化に
対して０次光も変化し、これにより総光量が一定となる
ため露光時の温度ドリフトをより少なくさせることがで
きるものである。
【００４３】請求項４記載の発明は、請求項１又は２記
載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプリ
ッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐された
光路上に光軸移動をモニタする２分割受光素子を設けた
ので、１次回折光による温度以外での光軸の変化量を把
握することができるものである。
載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプリ
ッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐された
光路上に光軸移動をモニタする２分割受光素子を設けた
ので、１次回折光による温度以外での光軸の変化量を把
握することができるものである。
【００４４】請求項５記載の発明は、請求項１又は２記
載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプリ
ッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐された
光路上にビームを２分割するナイフエッジプリズムを設
け、その２分割されたそれぞれのビームの光路中に光軸
に垂直方向に微調整を行う遮光板を配置させ、前記２分
割されたビームを各々受光する受光素子を設けたので、
遮光板を用いて受光素子に入射する遮光量を調整できる
ため、サンプルホールド時間に対する調整ができるもの
である。
載の発明において、１次回折光の光路上にビームスプリ
ッタを配設し、このビームスプリッタにより分岐された
光路上にビームを２分割するナイフエッジプリズムを設
け、その２分割されたそれぞれのビームの光路中に光軸
に垂直方向に微調整を行う遮光板を配置させ、前記２分
割されたビームを各々受光する受光素子を設けたので、
遮光板を用いて受光素子に入射する遮光量を調整できる
ため、サンプルホールド時間に対する調整ができるもの
である。
【００４５】請求項６記載の発明は、請求項４又は５記
載の発明において、２分割されたビームから得られた２
つの差信号出力が０若しくはある一定の範囲内に抑えら
れるように周波数変調を行う制御回路を設けたので、温
度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終段でフ
ィードバックでき、これによりピット位置やピッチ精度
の向上を図ることができるものである。
載の発明において、２分割されたビームから得られた２
つの差信号出力が０若しくはある一定の範囲内に抑えら
れるように周波数変調を行う制御回路を設けたので、温
度、ドリフト以外の原因による光軸変動でも最終段でフ
ィードバックでき、これによりピット位置やピッチ精度
の向上を図ることができるものである。
【００４６】請求項７記載の発明は、請求項６記載の発
明において、制御回路は、露光ビームの中心軸と合致す
るように同期してサンプリングし、かつ、そのサンプリ
ング信号の一つ前の信号平均値でサーボするサンプリン
グサーボ手段を備えるようにしたので、故意に光軸を振
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去し、ディスク信号変化を
抑えることができるものである。
明において、制御回路は、露光ビームの中心軸と合致す
るように同期してサンプリングし、かつ、そのサンプリ
ング信号の一つ前の信号平均値でサーボするサンプリン
グサーボ手段を備えるようにしたので、故意に光軸を振
って、ピット又はグルーブをウォブリングさせた場合の
温度ドリフトなどの変動を除去し、ディスク信号変化を
抑えることができるものである。
【図１】請求項１〜３記載の発明の一実施例である光デ
ィスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図である。
ィスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図である。
【図２】請求項４，６，７記載の発明の一実施例である
光ディスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図であ
る。
光ディスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図であ
る。
【図３】波形図である。
【図４】（ａ）は請求項５記載の発明の一実施例である
光ディスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図、
（ｂ）は受光素子の正面図である。
光ディスク原盤露光装置の露光光学系を示す構成図、
（ｂ）は受光素子の正面図である。
【図５】波形図である。
【図６】従来例である光ディスク原盤露光装置の露光光
学系を示す構成図である。
学系を示す構成図である。
１ レーザ光源 ２ ビーム分岐手段 ３ 光量変調手段 ４ 信号変調手段 ６ Ａ／Ｏ偏向器 １６ 光ディスク原盤 ２０ 光量調整手段 ２１ ビームスプリッタ ２２ ２分割受光素子 ２３ 制御回路 ２７ ナイフエッジプリズム ２８ａ，２８ｂ 遮光板 ２９ａ，２９ｂ 受光素子
Claims (7)
- 【請求項１】 レーザ光源から発せられた光をビーム分
岐手段によりピット露光用ビームとグルーブ露光用ビー
ムとに分岐し、前記露光用ビームを光量変調手段に入射
して光量の変調を行い、光量変調された光を信号変調手
段に入射して信号変調を行い、この信号変調された光を
Ａ／Ｏ偏向器を介してフォーカスサーボされた対物レン
ズに入射させることにより、光ディスク原盤上に露光を
行うことにより露光用ピットを作成する光ディスク原盤
露光装置において、前記光量変調手段に入射した前記露
光用ビームを１次回折光と０次光とに分岐する光束分岐
手段を設け、この光束分岐手段により分岐され前記光量
変調手段から出力された前記０次光が前記Ａ／Ｏ偏向器
の主光軸以外の光軸に入射するようにそのＡ／Ｏ偏向器
を配設したことを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 レーザ光源から発せられた光をビーム分
岐手段によりピット露光用ビームとグルーブ露光用ビー
ムとに分岐し、前記露光用ビームを光量変調手段に入射
して光量の変調を行い、光量変調された光を信号変調手
段に入射して信号変調を行い、この信号変調された光を
Ａ／Ｏ偏向器を介してフォーカスサーボされた対物レン
ズに入射させることにより、光ディスク原盤上に露光を
行うことにより露光用ピットを作成する光ディスク原盤
露光装置において、前記信号変調手段に入射した前記露
光用ビームを１次回折光と０次光とに分岐する光束分岐
手段を設け、この光束分岐手段により分岐され前記信号
変調手段から出力された０次光がＡ／Ｏ偏向器の主光軸
以外の光軸に入射するようにそのＡ／Ｏ偏向器を配設し
たことを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項３】 ０次光の光路上にＡ／Ｏ偏向器の主光軸
の光量減衰分に合致した割合で０次光の出射光量を調整
する光量調整手段を配設したことを特徴とする請求項１
又は２記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】 １次回折光の光路上にビームスプリッタ
を配設し、このビームスプリッタにより分岐された光路
上に光軸移動をモニタする２分割受光素子を設けたこと
を特徴とする請求項１又は２記載の光ディスク原盤露光
装置。 - 【請求項５】 １次回折光の光路上にビームスプリッタ
を配設し、このビームスプリッタにより分岐された光路
上にビームを２分割するナイフエッジプリズムを設け、
その２分割されたそれぞれのビームの光路中に光軸に垂
直方向に微調整を行う遮光板を配置させ、前記２分割さ
れたビームを各々受光する受光素子を設けたことを特徴
とする請求項１又は２記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項６】 ２分割されたビームから得られた２つの
差信号出力が０若しくはある一定の範囲内に抑えられる
ように周波数変調を行う制御回路を設けたことを特徴と
する請求項４又は５記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項７】 制御回路は、露光ビームの中心軸と合致
するように同期してサンプリングし、かつ、そのサンプ
リング信号の一つ前の信号平均値でサーボするサンプリ
ングサーボ手段を備えていることを特徴とする請求項６
記載の光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4326639A JPH06176409A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4326639A JPH06176409A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176409A true JPH06176409A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18190036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4326639A Pending JPH06176409A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06176409A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034745A3 (de) * | 1995-05-04 | 1996-12-19 | Hell Ag Linotype | Verfahren und vorrichtung zur belichtung |
| GB2438458A (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-28 | Univ Cambridge Tech | Blocking zero-order light in phase shift hologram generation |
-
1992
- 1992-12-07 JP JP4326639A patent/JPH06176409A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996034745A3 (de) * | 1995-05-04 | 1996-12-19 | Hell Ag Linotype | Verfahren und vorrichtung zur belichtung |
| GB2438458A (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-28 | Univ Cambridge Tech | Blocking zero-order light in phase shift hologram generation |
| US8159733B2 (en) | 2006-05-11 | 2012-04-17 | Cambridge Enterprise Limited | Method of forming an image and image projection device |
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