JPH0636273A - 磁気ディスク媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 磁気ディスク基板の半径方向における表
面粗さが、基準長さ２５０μｍの間において、Ｐｃ（＋
１００Ａ）≧３０（但し、Ｐｃ（＋１００Ａ）とは、粗
さ曲線の中心線に対し上側に１００オングストロームの
位置に、中心線に対して平行な１本のピークカウントレ
ベルを設けたとき、中心線と粗さ曲線が交差する２点間
において、ピークカウントレベルと粗さ曲線が交差する
点が１回以上存在する場合一山とし、基準長さにおいて
の山の合計数を表す）である磁気ディスク媒体 【効果】 耐久性に優れた磁気ディスク媒体が得ら
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
に用いられる磁気ディスクに関し、特に表面にテクスチ
ャリング加工を施した磁気ディスク媒体に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】一般に磁気ディスクは、アルミニウム合
金などからなる非磁性の表面をアルマイト処理、または
ニッケル−リン無電解メッキ処理等により硬化し、その
表面を所定の粗さに研磨した後、磁性層の特性を向上さ
せるための下地層、次いで磁性層、保護層を連続して形
成し、さらに潤滑剤層を設けて作製される。

【０００３】磁気ディスク装置においては、磁気ヘッド
と磁気ディスク間の微小な空隙を安定に維持するため
に、磁気ディスク停止時には磁気ヘッドが磁気ディスク
上に接触して停止しており、回転起動時にその面上を摺
動し浮上走行するいわゆるコンタクト・スタート・スト
ップ（Ｃ．Ｓ．Ｓ．）方式が採用されている。このＣ．
Ｓ．Ｓ．方式では、磁気ディスク装置の起動と停止時に
発生する磁気ディスクと磁気ヘッド間の、摺動摩擦係数
を十分小さく維持しうる耐久性が必要とされる。このた
め、基板上の非磁性の表面層に微小な凹凸を形成し、磁
気ディスクと磁気ヘッド間の摩擦係数を低下させるテク
スチャリング加工を施すことが従来から行われてきた。
このような加工による表面形状の制御法としては、主に
表面粗さの代表的な値として、中心線平均粗さＲａの値
により規定する方法が採用されてきた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような方法を用いて中心線平均粗さＲａにより表面形状
を規定した磁気ディスクにおいては、同じＲａの値のデ
ィスクであっても、耐久性試験を行ったときの結果に大
きなばらつきがあり、安定した耐久性を備えた磁気ディ
スクを提供することが困難であった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、磁気ディスク
基板の半径方向における表面粗さが、基準長さ２５０μ
ｍの間において、 Ｐｃ（＋１００Ａ）≧３０ （但し、Ｐｃ（＋１００Ａ）とは、粗さ曲線の中心線に
対し上側に１００オングストロームの位置に、中心線に
対して平行な１本のピークカウントレベルを設けたと
き、中心線と粗さ曲線が交差する２点間において、ピー
クカウントレベルと粗さ曲線が交差する点が１回以上存
在する場合一山とし、基準長さにおいての山の合計数を
表す）に制御することにより、従来の技術に比べ、安定
した耐久性を備えた磁気ディスクを提供できることを見
出し、本発明を完成するに至った。

【０００６】以下、本発明を図面に基づいて説明する。

【０００７】図１は、本発明による磁気記録媒体の断面
図を示す一例である。同図においては、アルミニウム基
板１上にニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）メッキ２が施され
ており、次いで例えばクロム等からなる下地層３、次い
でコバルト−１２クロム−２タンタル（Ｃｏ−１２Ｃｒ
−２Ｔａ）等からなる磁性層４、その上にカーボン等か
らなる保護層５が、スパッタリング法等の成膜法を用い
て、順次積層されている。更に保護層の上には弗素系の
液体潤滑剤６が塗布された構造になっている。

【０００８】本発明においては、表面粗さのパラメータ
ーとして、基準長さ２５０μｍの間において、粗さ曲線
の中心線に対して上側に１００オングストロームの高さ
の位置に、中心線に対し平行なピークカウントレベルを
設け、中心線と粗さ曲線が交差する２点間において、ピ
ークカウントレベルと粗さ曲線が交差する点が一回以上
存在する場合一山とし、基準長さにおいての山の合計数
（以下Ｐｃ（＋１００Ａ）と称す）を用い、このＰｃ
（＋１００Ａ）が３０以上とするよう磁気ディスクを制
御することにより、安定した耐久性が得られる。

【０００９】図２は、Ｐｃ（＋１００Ａ）を説明するた
めの磁気ディスク表面の一部断面図である。同図におい
て、ａは基準長さを示し、ｂは粗さ曲線の中心線、ｃは
上側ピークカウントレベルをそれぞれ示し、同図で一山
として示される山の合計数がこのピークカウントレベル
における山数として計算され、即ちＰｃ（＋１００Ａ）
を意味する。

【００１０】表面の粗さを制御するための装置として
は、一般に用いられているものが使用でき、その一例を
図３に示す。７は本発明のテクスチャリングが施される
磁気ディスク基板を示す。テクスチャリングを２段階で
行う場合、第１段めは、研削液を吐出口９より吐出しな
がら固定砥粒である研磨テープ８で、第２段めは、砥粒
が研削液に混合分散された遊離砥粒をスラリー吐出口９
´より吐出しながらバフテープ８´でそれぞれ行うこと
が好ましい。１０は研磨テープまたはバフテープを基板
表面に圧着接触させるための加圧用ゴムローラを示す。
なお、このテクスチャリング加工において、上述のＰｃ
（＋１００Ａ）による規定のほかに、磁気ディスク基板
の半径方向における表面粗さが、中心線平均粗さで５０
〜９０オングストロームにあるとより好ましい結果が得
られる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明を実施例をもって更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００１２】実施例１ 直径３．５インチのアルミニウム合金の表面に、ニッケ
ル−リン合金の無電解メッキ処理を施こした後、表面層
の中心線平均粗さＲａが２０〜２５オングストロームに
なるように鏡面研磨加工を施した。

【００１３】次にこの基板のニッケル−リン合金表面層
に対して、図３に示した装置を用いて、平均粒径３μｍ
のアルミナ砥粒がテープに固着された研磨テープ８（マ
イポックス社製、商品名「ＴＯＹ−＃４０００」）を用
い、該テープを加圧用ゴムローラ１０にてディスク基板
７に押し当て、純水により５容量％に薄めた研削液（マ
イポックス社製、商品名「スーパールブＮｏ．６５
Ｙ」）を吐出口９から滴下させつつ，該テープを送りな
がらディスクを回転させて研削加工を施した。

【００１４】続いて、このディスク基板の同一表面に、
平均粒径１．０μｍの酸化アルミニウムパウダー（バイ
コウスキージャパン社製、商品名「バイカロックス
１．０ＣＲ」）を研削液（マイポックス社製、商品名
「スーパールブＮｏ．６５Ｙ」）に０．４ｇ／ｌの濃度
で混合攪拌したスラリー液を、２０ｍｌ／ｍｉｎの滴下
量で吐出口９´から滴下しながら、植毛布からなるバフ
テープ８´（千代田株式会社製、商品名「ＳＰＤ ２５
０１−ＥＧ」）を用いて前段と同様に研削加工を施し
た。

【００１５】このディスク基板上にスパッタリング法で
クロム下地層２０００オングストローム、コバルト−ク
ロム−タンタル（クロム：１２原子％，タンタル：２原
子％，残部がコバルト）磁性層５００オングストロー
ム、カーボン保護層２００オングストロームを順次積層
した。このとき、磁気ディスク基板の中心から２１ｍｍ
の位置の半径方向の表面粗さは、Ｐｃ（＋１００Ａ）で
３０以上に調整した。さらにパーフルオロポリエーテル
系の液体潤滑剤を、ディッピング法により２０オングス
トロームの厚さで塗布して磁気ディスクを作製した。

【００１６】実施例２ 実施例１と同様な装置を用い、平均粒径２μｍの研磨テ
ープ（マイポックス社製、商品名「ＦＯＹ−＃６００
０」）を用い、テープ一段の研削を行った。さらに実施
例１と同様な方法により下地層、磁性層、保護層を順次
積層した。このときの磁気ディスク基板の中心から２１
ｍｍの位置の半径方向の表面粗さは、Ｐｃ（＋１００
Ａ）が３０以上に調整した。続いて潤滑剤層を形成し、
磁気ディスクを作製した。

【００１７】比較例１ 実施例１と同様に、平均粒径３μｍの研磨テープを用
い、前段の研削を行った後、続いてこのディスク基板の
同一表面に、実施例１と同様な装置を用い平均粒径０．
５μｍのダイヤモンドパウダー（東名ダイヤモンド社
製、商品名「ＩＲＭ．０／１」）が混合攪拌されたダイ
ヤモンドスラリー液を用いて後段研削加工を行い、更に
下地層、磁性層、保護層を積層し、磁気ディスク基板の
中心から２１ｍｍの位置の半径方向の表面粗さＰｃ（＋
１００Ａ）が３０未満の磁気ディスクを３種類作製し
た。最後に潤滑剤層を実施例１と同様に形成した。

【００１８】比較例２ 平均粒径２μｍの研磨テープ（マイポックス社製、商品
名「ＦＥＹ−＃６０００」）を用い、純水により３容量
％に薄めた研削液（マイポックス社製、商品名「スーパ
ールブＮｏ．５５Ｇ」）を用いて前段の研削を行った。
続いてこのディスク基板の同一表面に、比較例１と同様
に平均粒径０．５μｍのダイヤモンドパウダーが混合攪
拌されたダイヤモンドスラリー液を用いて後段研削加工
を行い、更に下地層、磁性層、保護層を積層し、磁気デ
ィスク基板の中心から２１ｍｍの位置の半径方向の表面
粗さは、Ｐｃ（＋１００Ａ）が３０未満の磁気ディスク
を２種類作製した。最後に潤滑剤層を実施例１と同様に
形成した。

【００１９】前述のようにして加工した各種表面形状の
ディスク基板を用いて、実施例及び比較例の磁気ディス
クについて、表面粗さ（Ｒａ，Ｐｃ（＋１００Ａ）），
連続摺動摩擦特性を調べた。

【００２０】表面粗さは、（株）小坂研究所製の微細形
状測定器モデルＥＴ−３０ＨＫを用い、ダイヤモンド触
針方式でスタイラス半径０．５μｍの条件で測定を行っ
た。

【００２１】連続摺動摩擦特性は、クボタコンプス社
製、ウェアーテスターを用い、垂直荷重９．０ｇ、磁気
ディスク基板の中心から２１ｍｍの位置で磁気ヘッドを
ディスク表面に接触させた状態で回転数１００ｒｐｍで
回転させ、３時間連続摺動試験を行った後の動摩擦係数
を０．２ｒｐｍで測定した。これらの測定結果を表１に
示す。

【００２２】

【００２３】また、Ｐｃ（＋１００Ａ）と３時間連続摺
動試験を行った後の動摩擦係数との関係を図４に，また
Ｒａと３時間連続摺動試験を行った後の動摩擦係数との
関係を図５にそれぞれ示す。

【００２４】図４に示されるように、Ｐｃ（＋１００
Ａ）と動摩擦係数の間には強い相間性が認められ、Ｐｃ
（＋１００Ａ）の個数の増加に従って動摩擦係数の減少
傾向がある。しかもその動摩擦係数は、Ｐｃ（＋１００
Ａ）が３０以上になると０．５以下になっており、実用
上の使用に十分耐えられるものであることが分かる。

【００２５】一方、図５に示されるようにＲａと動摩擦
係数の間には、明確な相間性は認められず、ディスク基
板の表面粗さをＲａで制御した場合には、安定した耐久
性を備えた磁気ディスクを得ることは困難であることが
分かる。

【００２６】

【発明の効果】以上述べた通り本発明によれば、磁気デ
ィスク基板の半径方向における表面粗さを、基準長さ２
５０μｍの間において、Ｐｃ（＋１００Ａ）≧３０と制
御することにより、安定した耐久性を備えた磁気ディス
ク媒体を提供することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】 磁気ディスク媒体の構造の一例を示す図であ
る。

【図２】 Ｐｃ（＋１００Ａ）を説明するための磁気デ
ィスク基板表面の一部断面図を示す。

【図３】 本発明を実施し得る装置の一例を示す模式図
である。

【図４】 本発明の実施例と比較例における磁気ディス
ク媒体の、Ｐｃ（＋１００Ａ）の個数と、３時間連続摺
動試験を行った後の動摩擦係数との関係を示す図であ
る。

【図５】 本発明の実施例と比較例における磁気ディス
ク媒体の、中心線平均粗さＲａと、３時間連続摺動試験
を行った後の動摩擦係数との関係を示す図である。

【符号の説明】

１ …アルミニウム基板 ２ …ニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）メッキ層 ３ …下地層 ４ …磁性層 ５ …保護層 ６ …液体潤滑剤層 ７ …ディスク基板 ８ …研磨テープ ８´…バフテープ ９ …研削液吐出口 ９´…スラリー液吐出口 １０…加圧用ゴムローラ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板の表面にテクスチャリング加
   工を施し、さらに磁性層を積層してなる磁気ディスクに
   おいて、磁気ディスク基板の半径方向における表面粗さ
   が、基準長さ２５０μｍの間において、 Ｐｃ（＋１００Ａ）≧３０ （但し、Ｐｃ（＋１００Ａ）とは、粗さ曲線の中心線に
   対し上側に１００オングストロームの位置に、中心線に
   対して平行な１本のピークカウントレベルを設けたと
   き、中心線と粗さ曲線が交差する２点間において、ピー
   クカウントレベルと粗さ曲線が交差する点が１回以上存
   在する場合一山とし、基準長さにおいての山の合計数を
   表す）であることを特徴とする磁気ディスク媒体。