JPH06322193A - 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 - Google Patents

耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物

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JPH06322193A
JPH06322193A JP6040228A JP4022894A JPH06322193A JP H06322193 A JPH06322193 A JP H06322193A JP 6040228 A JP6040228 A JP 6040228A JP 4022894 A JP4022894 A JP 4022894A JP H06322193 A JPH06322193 A JP H06322193A
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polypropylene
weight
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carbon atoms
radiation
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JP6040228A
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Yong-Deuk Yoo
ヨンデュク ヨー
Sang-Hee Jung
サンヘエ ジュン
Jae-Yoon Seo
ジャエヨーン セオ
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YUKON Ltd
Yukong Ltd
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YUKON Ltd
Yukong Ltd
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08L23/00Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/10Homopolymers or copolymers of propene
    • C08L23/12Polypropene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 放射線をポリプロピレンに照射する時に物性
低下が起こらなく、変色が小さく、物性が均一なポリプ
ロピレン樹脂組成物を提供することである。 【構成】 ポリプロピレン95.0〜99.6重量%、
燐系酸化防止剤0.01〜0.1重量%、フェノール系
酸化防止剤0.01〜2.0重量%、アミン系光安定剤
0.01〜2.0重量%で必須的に構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は耐放射線ポリプロピレン
樹脂組成物に関するもので、詳しくは放射線の照射によ
り劣化しにくいアイソタクチック構造を有するポリプロ
ピレンが含有された耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ポリプロピレンは代表的な立体規則性高
分子で、その性質は分子量、分子量分布及び立体規則性
により影響を受ける。立体規則性はアタクチック、シン
ジオクタチック及びアイソタクチックの三種があるが、
商業的に使用されるものはアイソタクチックポリマーで
ある。アイソタクチックポリプロピレンはメチル基が主
鎖側を包含する平面に対して上下一方に配列されている
ので、結晶性と溶融点が大変高く、機械的性質及び耐熱
性が優れるため、商業的に使用可能なポリプロピレンは
全てこの種類である。しかし、ポリプロピレンの場合、
アイソタクチックポリマーにアタクチックポリマーが一
部包含されているので物性に大きい影響を及ぼすアイソ
タクチックの比率が重要であり、アイソタクチック比率
が高くなるほど結晶性が大きくなり、硬度が向上し、溶
融点が高くなる。商業的に製造されるポリプロピレンの
アイソタクッチック指数は90〜99%の範囲を有す
る。
【0003】ポリプロピレンの商業的製造は、1953
年ドイツのチーグラ博士がチーグラ触媒〔Al(C2H4)3
TiCl4 〕を用いてポリプロピレンの製造に成功したが、
これは立体規則性が全然ないゴム状の物質で、商業的価
値が低いアタクチック形態のポリプロピレンであった。
1955年イタリアのナッタ博士がチーグラ触媒を改良
したチーグラ−ナッタ触媒〔Al(C2H4)3 +TiCl3 〕を用
いて結晶性、耐熱性、機械的性質の優秀なアイソタクチ
ックポリプロピレンスラリー重合工程を世界最初に開発
し、商業化に成功した。米国のハーキュリーズ社、英国
のアイシーアイ、日本の三井東圧等の世界有数の化学工
業会社がこの工程を導入した。以後、多くの会社は触媒
を開発し、スラリー重合工程、無溶媒スラリー法及び気
相重合法等を開発した。
【0004】このような方法により製造されたポリプロ
ピレンは多くの結晶体の含有により色々の用途で使用さ
れる。例えば、ポリプロピレンは一般に透明で、変形性
が小さく、耐薬品性があるため、食品容器、包装用フィ
ルム、家電部品を製造するのに使用され、特に注射器輸
血/輸液セット等の多くの医療用具を製造するのに使用
される。
【0005】このような医療用具は安全に使用するため
に必ず滅菌しなければならなく、滅菌するのにはエチレ
ンオキシドガスが度々使用されるが、エチレンオキシド
は気体形状で消毒中に漏出されると危険であり、消毒後
に成形物の凸凹部分等に残留する場合人体に致命的害を
加える。それで、他の方法としてコバルト60から得る
高エネルギーの放射線を用いて滅菌させると、残留物が
残らなく、放射線照射時に直ぐ消毒されるので消毒速度
が速く効果も大きい利点があるが、放射線、特にガンマ
線をポリプロピレンに照射すると、ポリマーが損傷され
て砕けやすく、変色し、引張伸率が減少する等の活性が
低下する問題点がある。
【0006】このような問題点を解決するために米国、
エルパソ社の米国特許第4,666,959号ではポリプロピレ
ンに特定のアミン系化合物とフォスファート系化合物と
フェノール系酸化防止剤を使用した。又、米国、ハイモ
ント社の米国特許第4,888,369 号では色々のアミン化合
物とフェノール及びフォスフォロス化合物を添加してポ
リプロピレン組成物を製造し、米国、ハーキュリーズ社
の米国特許第5,041,483 号ではガンマ線の照射時に匂い
の発生を防止し得るポリプロピレン組成物を記載してい
る。又、日本、テルモ社の米国特許第4,569,736 号では
低分子量のアミン系化合物及び酸化防止剤を用いたポリ
プロピレン樹脂組成物を記載している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記米
国特許第4,666,959 号では、フォスファート系酸化防止
剤としてWeston619 を使用する場合、加工中の加水分解
反応が起こって製品の物性に悪影響を及ぼし、ガンマ線
の照射前後の変色程度が酷くて商業的使用が不可能であ
り、溶融指数を高めるためにペルオキシドを使用するた
めにその残留物が残って人体に有害な影響を及ぼす心配
がある。又、その以外の前記特許では、ガンマ線を照射
した時のポリプロピレンの物性低下が酷い問題点があっ
た。従って、本発明は前述したような問題点を解決する
ためになされたもので、放射線をポリプロピレンに照射
する時に物性低下が起こらなく、変色が小さく、物性が
均一なポリプロピレン樹脂組成物を提供することをその
目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明の組成物は、ポリプロピレン95.0〜
99.6重量%、燐系酸化防止剤0.01〜1.0重量
%、フェノール系酸化防止剤0.01〜2.0重量%、
アミン系光安定剤0.01〜2.0重量%で必須的に構
成される。以下、本発明の構成をより具体的に説明す
る。
【0009】本発明に用いられるアイソタクチックポリ
プロピレンを製造する方法としてはチーグラ−ナッタ触
媒を用いて製造する方法が普遍化されて使用されてきた
が、本発明に使用したポリプロピレンは高活性のマグネ
シウムクロライド担持形高活性触媒を使用するため、1
次に約8〜12℃、望ましくは約10℃で、少量のプロ
ピレンモノマー、マグネシウムクロライド担持形高活性
触媒、トリエチルアルミニウム助触媒及びシクロヘキシ
ルメチルメトキシシランドナーを投入して予備重合す
る。その後、約70℃で前記触媒及びドナーを前記予備
重合物に投入し、分子内の足りない水素供給のために水
素を添加しループ反応機のなかでポリプロピレンを製造
する。
【0010】本発明のポリプロピレンはアイソタクチッ
ク指数値が92〜98%であるものが望ましいが、アイ
ソタクチック指数値が前記範囲を外れると溶融点が低い
だけでなく機械的性質等の全般的物性が悪くて商業的使
用に問題点がある。ポリプロピレンはプロピレンモノマ
ーのみで合成されたホモポリプロピレンとエチレンモノ
マーとプロピレンモノマーを共重合して分子の主鎖に二
つのモノマーが不規則に配列されたランダム(random)
ポリプロピレンを使用する。ランダムポリプロピレンの
エチレン含量はポリプロピレンに対して0.5〜8.0
重量%、望ましくは1〜6重量%である。又、本発明で
は、ホモポリプロピレン及びランダムポリプロピレンに
炭素数4以上のα−オレフィン共重合体を30重量%以
下、望ましくは20重量%以下で添加したポリマー混合
物が物性補強面において望ましい。炭素数4以上のα−
オレフィン共重合体を製造するのに使用されるコモノマ
ーは、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキサン−1、ヘプ
テン−1、オクテン−1とこれらの混合物であるブテン
−1/オクテン−1又はブテン−1/ヘキセン−1が使
用される。
【0011】本発明では、放射線照射により物性低下が
起こらなくするために、特定の燐系及びフェノール系酸
化防止剤とアミン系光安定剤を添加し、これらの添加に
より放射線照射時の物性低下及び加工時の熱による物性
低下を防止し得る。前記酸化防止剤及び光安定剤は多く
のものが商品化されているが、本発明で使用された酸化
防止剤及び光安定剤は次のようである。
【0012】(A)アミン系光安定剤:この光安定剤の
添加量は全体組成物に対して0.01〜2.0重量%を
添加し、その一般的な分子構造は下記式〔I〕又は〔I
I〕のようである。
【0013】
【化5】
【0014】ここで、R1 、R2 は炭素数1〜4のアル
キル基、aとbは2〜5の定数、nは5〜20の定数、
3 は炭素数1〜5のアルキル基、cは1〜10の定数
である。
【0015】(B)フェノール系酸化防止剤:この酸化
防止剤の添加量は全体組成物に対して0.01〜2.0
重量%を添加し、その一般的な分子構造は下記式〔III
〕のようである。
【0016】
【化6】
【0017】ここで、R4 は炭素数1〜5のアルキル
基、R5 は炭素数2〜5のアルキル基、dは2〜4の定
数である。
【0018】(C)燐系酸化防止剤:この酸化防止剤の
添加量は全体組成物に対して0.01〜1.0重量%を
添加し、その一般的な分子構造は下記式〔IV〕のようで
ある。
【0019】
【化7】
【0020】ここで、R8 は炭素数1〜5のアルキル基
である。
【0021】本発明に使用された望ましいアミン系光安
定剤のR1 はメチル基、aとbは二つとも2、nは5〜
20、R3 はt−ブチル基、cは8である場合である。
この化合物は商業的に販売されている。前記アミン系光
安定剤はポリマーに0.1〜0.5重量%の濃度で添加
されることが望ましい。
【0022】本発明に使用された望ましいフェノール系
酸化防止剤のR4 はt−ブチル基、R5 はエチル基、d
は1であり、望ましい濃度は0.03〜0.5重量%で
ある。
【0023】本発明に使用された望ましい燐件酸化防止
剤のR8 はt−ブチル基であり、望ましい濃度はポリマ
ーに対して0.05〜0.3重量%である。前記三種の
必須添加剤の以外に他の添加剤が本発明の効果のために
包含し得る。
【0024】ポリマーの合成時に使用されてポリマー内
に残留される酸性系触媒残留物を中和させるために、カ
ルシウムステアレート又はアルミニウムマグネシウムヒ
ドロキシカーボネートをポリマーに対して0.02〜
0.2重量%使用する。又、一回用医療器等では、製品
の色相も明るいし、透明でなければならないので、ポリ
マーに対して0.05〜1.0重量%、望ましくは0.
05〜0.5重量%の核剤を添加し、前記核剤の一般的
な分子構造は下記式〔V〕のようである。
【0025】
【化8】
【0026】ここで、R9 は炭素数1〜9のアルキル基
又はハロゲン族の分子である。
【0027】本発明の樹脂組成物を製造する方法は特別
な制限がないが、通常に使用する方法として前記添加剤
及びその他の添加物をポリプロピレンに混合して製造し
得る。混合としては、ヘンセルミキサー又はタンブラミ
キサー等の混合機を使用してポリプロピレンの融点以下
で単純混合し、シングル又はツインコンパウンダーを使
用して溶融混合し、ペレット化する方法と、コンパウン
ディングの前に混合機を使用しなく色々の添加剤が溶か
せるヘキサン等の溶媒に溶解させた後、補助供給機でコ
ンパウンダーに直接投入し、主供給機でポリプロピレン
樹脂を投入してペレットを製造する方法により製造し得
る。このような樹脂の混合物はモールドを使用して加工
する技術であるブローモールディング及び射出で加工す
る。又、圧出によってもパイプ形態の連続的加工品を得
る。この配合を特別に一回用注射器、医療用瓶、軟膏
蓋、手術道具等のように消毒して医療用として使用する
色々の容器に適用する。又、前記配合はレトルト包装等
のように微生物と、人体に有害な菌の成長を特性するた
めに使用される食品容器、フィルム包装紙、薬品容器等
に使用する。
【0028】他の放射線としては、X−線又は電子線等
が使用され、これらを消毒するためには最大約5メガラ
ドが照射され、通常消毒目的用として注射器のようなも
のは2.5メガラドのガンマ線放射線が使用される。以
下、実施例に基づいて本発明の効果をより具体的に説明
するが、下記例に本発明が限定されない。
【0029】
【実施例】
実施例1〜7 下記表1に記載された成分と量で混合した後、これらの
混合物をヘンセルミキサーに全て投入し、ポリプロピレ
ンの融点以下の約50℃で10分間混合し、ツインスク
リューコンパウンダーを用いてペレットを製造した。下
記表1に記載された各々の成分は次のようである。
【0030】(A)ポリプロピレンとしてホモポリプロ
ピレン(ユプレン(YUPLENE) H380FFlake,(株)油公)
及びランダムポリプロピレン(ユプレン R375Y Flake,
(株)油公)を使用し、ここでランダムポリプロピレン
にはエチレンが約2.4重量%含有されている。炭素数
4以上のα−オレフィン共重合体として線形低密度ポリ
プロピレン(LLDPE,ユクレア(YUCLAIR) FU149M, (株)
油公)を使用した。
【0031】(B)カルシウムステアレート(Witco) は
酸性触媒残留物の中和剤として使用された。
【0032】(C)Tinuvin 622LD, Tinuvin 770DF (Ci
ba-Geigy) が光安定剤として使用された。
【0033】(D)Irganox B501W (Ciba-Geigy)が燐系
及びフェノール系酸化防止剤として使用された。
【0034】(E)NC-4 (Mistui Toatsu Fine Chemica
l)が最終製品の透明性を向上させるための核剤として使
用された。
【0035】実施例1〜2のポリマーのコンパウンディ
ング前の溶融指数は KS M 3070熱可塑性プラスチックの
溶融流動性試験方法により230℃で2.16kgの荷
重を加えて測定した時に25g/10min であり、実施
例3〜7のうち実施例7は溶融指数が6g/10min 、
残りの実施例は18g/10min である。引張特性を測
定するための試片は KS M 3066プラスチックの引張性測
定方法により製作して、ガンマ線を照射する前に測定
し、放射線による影響を知るために2.5メガラドのガ
ンマ線を照射した後、物性を測定して下記表1に記載し
た。
【0036】又、変色度を KS M 3026プラスチックの黄
色度及び黄変度試験方法により1mmのシートを製作し
てガンマ線を照射する前と後にそれぞれ測定して下記の
表1に記載した。そして、濁度はASTM D 1003 透明プラ
スチックの透過濁度及び透明度試験方法により1mmの
シートを製作し、ガンマ線を照射する前と後に測定して
下記表1に記載した。
【0037】
【表1】
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のポリプロ
ピレン樹脂組成物は放射線を照射した後にも引張伸率等
の物性低下が起こらなく、変色が小さく、透明度が高
く、砕けない特性を有する。
フロントページの続き (72)発明者 セオ ジャエヨーン 大韓民国、インチョン、ナンドング、ガン セオ−4−ドン、ウーセオン・アパート 9−1102

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリプロピレン95.0〜99.6重
    量%、下記式〔I〕又は〔II〕で表示されるアミン系光
    安定剤0.01〜2.0重量%、下記式〔III 〕で表示
    されるフェノール系酸化防止剤0.01〜2.0重量
    %、下記式〔IV〕で表示される燐系酸化防止剤0.01
    〜1.0重量%により必須的に構成されることを特徴と
    する耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物。 【化1】 前記式〔I〕と〔II〕で、R1 、R2 は炭素数1〜4の
    アルキル基、aとbは2〜5の定数、nは5〜20の定
    数、R3 は炭素数1〜5のアルキル基、cは1〜10の
    定数である。 【化2】 前記式〔III 〕で、R4 は炭素数1〜5のアルキル基、
    5 は炭素数2〜5のアルキル基、dは2〜4の定数で
    ある。 【化3】 前記式〔IV〕で、R8 は炭素数1〜5のアルキル基であ
    る。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記ポリプロピレンはホモポリプロピレン又はエチレン
    モノマーとプロピレンモノマーを共重合させたランダム
    ポリプロピレンであることを特徴とする耐放射線ポリプ
    ロピレン樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 請求項2において、 前記ランダムポリプロピレンに0.5〜8.0重量%の
    エチレンが含有されることを特徴とする耐放射線ポリプ
    ロピレン樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 請求項2において、 前記ホモポリプロピレン又はランダムポリプロピレンに
    炭素数4以上のα−オレフィン共重合体が30重量%以
    下で含有されることを特徴とする耐放射線ポリプロピレ
    ン樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 請求項1において、 下記式〔V〕で表示される核剤が全体組成物に対して
    0.05〜1.0重量%でさらに含有されることを特徴
    とする耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物。 【化4】 前記式〔V〕で、R9 は炭素数1〜5のアルキル基又は
    ハロゲン族の分子である。
JP6040228A 1993-03-12 1994-03-11 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 Pending JPH06322193A (ja)

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