JPH06321851A - 腐食抑制剤としての、ケトカルボン酸のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体 - Google Patents
腐食抑制剤としての、ケトカルボン酸のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体Info
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- JPH06321851A JPH06321851A JP6093699A JP9369994A JPH06321851A JP H06321851 A JPH06321851 A JP H06321851A JP 6093699 A JP6093699 A JP 6093699A JP 9369994 A JP9369994 A JP 9369994A JP H06321851 A JPH06321851 A JP H06321851A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】金属表面を保護するための塗料中の腐食抑制剤
を提供する。 【構成】式Ｉ（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5
は、互いに独立して、例えば、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 又は炭素原子数１ない
し１５のアルキル基を表し、但し、Ｒ1 ないしＲ5 の少
なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数
１ないし１５のアルキル基を表すものとし；ｎは１ない
し１０の範囲内の整数を表す。）の化合物のアルカリ土
類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体。この化合物
は、金属表面を保護するための塗料中の腐食抑制剤とし
て優れており、またその塗料と金属の接着によい影響を
与える。
を提供する。 【構成】式Ｉ（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5
は、互いに独立して、例えば、水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 又は炭素原子数１ない
し１５のアルキル基を表し、但し、Ｒ1 ないしＲ5 の少
なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数
１ないし１５のアルキル基を表すものとし；ｎは１ない
し１０の範囲内の整数を表す。）の化合物のアルカリ土
類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体。この化合物
は、金属表面を保護するための塗料中の腐食抑制剤とし
て優れており、またその塗料と金属の接着によい影響を
与える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規の、ケトカルボン
酸のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体；有機フィルム−形成結合剤とそれらを含有する塗料
組成物好ましくは液体塗料、そして新規の腐食抑制剤、
そして金属表面を保護するための塗料組成物中にそれら
新規の腐食抑制剤を使用する方法に関する。
酸のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体；有機フィルム−形成結合剤とそれらを含有する塗料
組成物好ましくは液体塗料、そして新規の腐食抑制剤、
そして金属表面を保護するための塗料組成物中にそれら
新規の腐食抑制剤を使用する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】水系中の腐食抑制剤としてケトカルボン
酸のアルカリ金属、アンモニウム及びアミン塩を使用す
ることは、既知であり、例えば米国特許第４９０９９８
７号、欧州特許公開公報（ＥＰ−Ａ−）第４１２９３３
号又は欧州特許公開公報（ＥＰ−Ａ−）第４９６５５５
号に記載されている。
酸のアルカリ金属、アンモニウム及びアミン塩を使用す
ることは、既知であり、例えば米国特許第４９０９９８
７号、欧州特許公開公報（ＥＰ−Ａ−）第４１２９３３
号又は欧州特許公開公報（ＥＰ−Ａ−）第４９６５５５
号に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ケトカルボン酸のアル
カリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、金属
表面を保護するための塗料組成物中の腐食抑制剤として
使用するのに特に適していることが今や見出された。
カリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、金属
表面を保護するための塗料組成物中の腐食抑制剤として
使用するのに特に適していることが今や見出された。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、式
Ｉ：
Ｉ：
【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は、互いに独
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
された炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
た炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の又はアリール基上が炭素原子数１ないし４のアルキル
基の１ないし３個により置換された炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6
又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し、但し、Ｒ1 ない
しＲ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は
炭素原子数１ないし１５のアルキル基を表すものとし；
更に、置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又
はＲ4 とＲ5 は、それらが結合している炭素原子と一緒
になって、ベンゾ又はシクロヘキセニル環を形成し；Ｒ
6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原子、
硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により中断されている炭
素原子数２ないし２０のアルキル基；未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基の１ないし３個によりア
リール基上が置換されている炭素原子数７ないし１２の
アリールアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 は、互いに独
立して、水素原子、炭素原子数１ないし２４のアルキル
基又は酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により
中断されている炭素原子数２ないし２４のアルキル基を
表し；Ｒ9 は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアル
キル基を表し；そしてｎは１ないし１０の範囲内の整数
を表す。）の化合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩
及び遷移金属錯体を提供する。
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
された炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
た炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の又はアリール基上が炭素原子数１ないし４のアルキル
基の１ないし３個により置換された炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6
又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し、但し、Ｒ1 ない
しＲ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は
炭素原子数１ないし１５のアルキル基を表すものとし；
更に、置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又
はＲ4 とＲ5 は、それらが結合している炭素原子と一緒
になって、ベンゾ又はシクロヘキセニル環を形成し；Ｒ
6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原子、
硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により中断されている炭
素原子数２ないし２０のアルキル基；未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基の１ないし３個によりア
リール基上が置換されている炭素原子数７ないし１２の
アリールアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 は、互いに独
立して、水素原子、炭素原子数１ないし２４のアルキル
基又は酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により
中断されている炭素原子数２ないし２４のアルキル基を
表し；Ｒ9 は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアル
キル基を表し；そしてｎは１ないし１０の範囲内の整数
を表す。）の化合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩
及び遷移金属錯体を提供する。
【０００５】ハロゲン原子は、例えばフッ素原子、塩素
原子、臭素原子又は沃素原子である。好ましくはフッ素
原子、塩素原子又は臭素原子、特に好ましくは塩素原子
又は臭素原子である。
原子、臭素原子又は沃素原子である。好ましくはフッ素
原子、塩素原子又は臭素原子、特に好ましくは塩素原子
又は臭素原子である。
【０００６】炭素原子数２４までのアルキル基は分枝又
は直鎖状の基であって、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペン
チル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル
基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチ
ルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル
基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘ
キシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデ
シル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基又はドコシル基である。
は直鎖状の基であって、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペン
チル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、
１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル
基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチ
ルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル
基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘ
キシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデ
シル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オク
タデシル基、エイコシル基又はドコシル基である。
【０００７】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基は、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基が好ま
しい。
基は、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
又はシクロドデシル基である。シクロヘキシル基が好ま
しい。
【０００８】炭素原子数２ないし１５のアルケニル基
は、分枝又は直鎖状の基であって、例えば、ビニル基、
２−プロペニル基（アリル基）、２−ブテニル基、３−
ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエ
ニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテ
ニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソ−ドデセニル基
である。
は、分枝又は直鎖状の基であって、例えば、ビニル基、
２−プロペニル基（アリル基）、２−ブテニル基、３−
ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエ
ニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテ
ニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソ−ドデセニル基
である。
【０００９】炭素原子数１２までのハロアルキル基は、
分枝又は直鎖状の基であって、例えば、クロロメチル
基、ブロモメチル基、フルオロプロピル基、クロロペン
チル基、クロロヘキシル基、クロロオクチル基、クロロ
デシル基又はクロロドデシル基である。
分枝又は直鎖状の基であって、例えば、クロロメチル
基、ブロモメチル基、フルオロプロピル基、クロロペン
チル基、クロロヘキシル基、クロロオクチル基、クロロ
デシル基又はクロロドデシル基である。
【００１０】炭素原子数１２までのアルコキシ基は、分
枝又は直鎖状の基であって、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基又はデ
シルオキシ基である。
枝又は直鎖状の基であって、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基又はデ
シルオキシ基である。
【００１１】炭素原子数１２までのアルキルチオ基は、
分枝又は直鎖状の基であって、例えば、メチルチオ基、
エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、
ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ
基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチ
オ基、オクチルチオ基、デシルチオ基又はドデシルチオ
基である。
分枝又は直鎖状の基であって、例えば、メチルチオ基、
エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、
ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ
基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチ
オ基、オクチルチオ基、デシルチオ基又はドデシルチオ
基である。
【００１２】未置換の又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換されていて、好ましくは１ないし３個
の、特に好ましくは１ないし２個のアルキル基を持つ、
炭素原子数６ない１０のアリール基は、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチルフェニル
基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフ
ェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメ
チルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５
−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、
２−メチル−６−エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル基、２−エチルフェニル基、２，６−ジエ
チルフェニル基、２−メチルナフチル基、１−メチルナ
フチル基、４−メチルナフチル基、２−エチルナフチル
基又は２，６−ジエチルナフチル基である。
キル基により置換されていて、好ましくは１ないし３個
の、特に好ましくは１ないし２個のアルキル基を持つ、
炭素原子数６ない１０のアリール基は、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチルフェニル
基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフ
ェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメ
チルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５
−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、
２−メチル−６−エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル基、２−エチルフェニル基、２，６−ジエ
チルフェニル基、２−メチルナフチル基、１−メチルナ
フチル基、４−メチルナフチル基、２−エチルナフチル
基又は２，６−ジエチルナフチル基である。
【００１３】未置換の又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換されていて、好ましくは１ないし３個
の、特に好ましくは１ないし２個のアルキル基を持つ、
炭素原子数６ない１０のアリールオキシ基は、例えば、
フェノキシ基、ナフトキシ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチ
ルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，
４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキ
シ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチ
ルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２−
メチル−６−エチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノキシ基、２−エチルフェノキシ基、２，６−ジ
エチルフェノキシ基、２−メチルナフトキシ基、１−メ
チルナフトキシ基、４−メチルナフトキシ基、２−エチ
ルナフトキシ基又は２，６−ジエチルナフトキシ基であ
る。
キル基により置換されていて、好ましくは１ないし３個
の、特に好ましくは１ないし２個のアルキル基を持つ、
炭素原子数６ない１０のアリールオキシ基は、例えば、
フェノキシ基、ナフトキシ基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチ
ルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，
４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキ
シ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチ
ルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２−
メチル−６−エチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノキシ基、２−エチルフェノキシ基、２，６−ジ
エチルフェノキシ基、２−メチルナフトキシ基、１−メ
チルナフトキシ基、４−メチルナフトキシ基、２−エチ
ルナフトキシ基又は２，６−ジエチルナフトキシ基であ
る。
【００１４】未置換の又はアリール基上が炭素原子数１
ないし４のアルキル基の１ないし３個により置換されて
いる炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基は、
例えば、フェニル−炭素原子数１ないし６のアルキル基
又はナフチル−炭素原子数１ないし２のアルキル基、例
えばベンジル基、４−メチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ
−ブチルベンジル基、２，４−ジメチルベンジル基、α
−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、２
−フェニルエチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフ
チルメチル基、１−ナフチルエチル基又は２−ナフチル
エチル基である。ベンジル基が好ましい。
ないし４のアルキル基の１ないし３個により置換されて
いる炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基は、
例えば、フェニル−炭素原子数１ないし６のアルキル基
又はナフチル−炭素原子数１ないし２のアルキル基、例
えばベンジル基、４−メチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ
−ブチルベンジル基、２，４−ジメチルベンジル基、α
−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、２
−フェニルエチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフ
チルメチル基、１−ナフチルエチル基又は２−ナフチル
エチル基である。ベンジル基が好ましい。
【００１５】酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−
により中断されている炭素原子数２ないし２４のアルキ
ル基は、例えば、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｓ−
ＣＨ2 −、ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ
3 ）−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）2 Ｏ−ＣＨ
2−、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）3 Ｏ−ＣＨ2 −
又はＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 −で
ある。
により中断されている炭素原子数２ないし２４のアルキ
ル基は、例えば、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｓ−
ＣＨ2 −、ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ
3 ）−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）2 Ｏ−ＣＨ
2−、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）3 Ｏ−ＣＨ2 −
又はＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 −で
ある。
【００１６】アルカリ土類金属は、例えば、マグネシウ
ム、カルシウム、ストロンチウム又はバリウムである。
カルシウムが好ましい。
ム、カルシウム、ストロンチウム又はバリウムである。
カルシウムが好ましい。
【００１７】遷移金属は、周期表の元素２１ないし３０
番、３９ないし４８番そして５７ないし８０番の元素で
ある。好ましいものは、チタン、マンガン、鉄、コバル
ト、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ランタン又は
セリウムである。特に好ましいものは、ジルコニウムで
ある。
番、３９ないし４８番そして５７ないし８０番の元素で
ある。好ましいものは、チタン、マンガン、鉄、コバル
ト、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ランタン又は
セリウムである。特に好ましいものは、ジルコニウムで
ある。
【００１８】好ましい化合物は、式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 、Ｒ4 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１
ないし１５のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、炭素原子数２ないし１５のアルケニル
基、炭素原子数１ないし１２のハロアルキル基、炭素原
子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１ないし
１２のアルキルチオ基、炭素原子数６ないし１０のアリ
ール基、炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基、
炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基、−ＣＯ
2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表
し；但し、置換基Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも一つは水
素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし１５のア
ルキル基を表すものとし；更に置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2
とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ5 は、それらが結合
している炭素原子と一緒になって、ベンゾ又はシクロヘ
キセニル環を形成し；そしてＲ6 は炭素原子数１ないし
２０のアルキル基、酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ
9 ）−により中断されている炭素原子数２ないし２０の
アルキル基；又は炭素原子数７ないし１２のアリールア
ルキル基を表す式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩
及び遷移金属錯体である。
3 、Ｒ4 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１
ないし１５のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、炭素原子数２ないし１５のアルケニル
基、炭素原子数１ないし１２のハロアルキル基、炭素原
子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１ないし
１２のアルキルチオ基、炭素原子数６ないし１０のアリ
ール基、炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基、
炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基、−ＣＯ
2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表
し；但し、置換基Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも一つは水
素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１ないし１５のア
ルキル基を表すものとし；更に置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2
とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ5 は、それらが結合
している炭素原子と一緒になって、ベンゾ又はシクロヘ
キセニル環を形成し；そしてＲ6 は炭素原子数１ないし
２０のアルキル基、酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ
9 ）−により中断されている炭素原子数２ないし２０の
アルキル基；又は炭素原子数７ないし１２のアリールア
ルキル基を表す式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩
及び遷移金属錯体である。
【００１９】置換基Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも二つ、
特に三つが水素原子である式Ｉのアルカリ土類金属塩、
遷移金属塩及び遷移金属錯体は同様に好ましい。
特に三つが水素原子である式Ｉのアルカリ土類金属塩、
遷移金属塩及び遷移金属錯体は同様に好ましい。
【００２０】式中、金属がカルシウム、チタン、マンガ
ン、鉄、コバルト、亜鉛、イットリウム、ジルコニウ
ム、ランタン又はセリウムである式Ｉのアルカリ土類金
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も好ましい。
ン、鉄、コバルト、亜鉛、イットリウム、ジルコニウ
ム、ランタン又はセリウムである式Ｉのアルカリ土類金
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も好ましい。
【００２１】金属がジルコニウムである式Ｉの化合物の
アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も同
様に好ましい。
アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も同
様に好ましい。
【００２２】式Ｉ中のｎは、好ましくは１ないし５、特
に２である。
に２である。
【００２３】式中、Ｒ1 が水素原子を表し；Ｒ2 、
Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩
素原子、臭素原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素
原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７
のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子
数１ないし８のアルキルチオ基、フェニル基、フェニル
オキシ基、ベンジル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は
−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、酸素原子により中断されてい
る炭素原子数２ないし１２のアルキル基；又はベンジル
基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又は酸素原子に
より中断されている炭素原子数２ないし１２のアルキル
基を表し；そしてｎが１ないし５の範囲内の整数を表す
式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体は特に好ましい。
Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩
素原子、臭素原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素
原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７
のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子
数１ないし８のアルキルチオ基、フェニル基、フェニル
オキシ基、ベンジル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は
−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、酸素原子により中断されてい
る炭素原子数２ないし１２のアルキル基；又はベンジル
基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又は酸素原子に
より中断されている炭素原子数２ないし１２のアルキル
基を表し；そしてｎが１ないし５の範囲内の整数を表す
式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体は特に好ましい。
【００２４】式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ4 が水素原子を表
し；Ｒ3 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩素
原子、臭素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のア
ルコキシ基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ
7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、
水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
し、そしてｎが２ないし４の範囲内の整数を表す式Ｉの
アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も同
様に好ましい。
し；Ｒ3 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩素
原子、臭素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のア
ルコキシ基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ
7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、
水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
し、そしてｎが２ないし４の範囲内の整数を表す式Ｉの
アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体も同
様に好ましい。
【００２５】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原
子を表しそしてｎが２を表す式Ｉのアルカリ土類金属
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は特に重要である。
子を表しそしてｎが２を表す式Ｉのアルカリ土類金属
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は特に重要である。
【００２６】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原
子を表し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のア
ルキル基又は塩素原子を表し；ｎが２を表し；そして金
属がカルシウム、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜
鉛、イットリウム、ジルコニウム、ランタン又はセリウ
ムを表す式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷
移金属錯体も、特に重要である。
子を表し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のア
ルキル基又は塩素原子を表し；ｎが２を表し；そして金
属がカルシウム、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜
鉛、イットリウム、ジルコニウム、ランタン又はセリウ
ムを表す式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷
移金属錯体も、特に重要である。
【００２７】非常に特別に重要な化合物は、３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸と３−（４−クロロベ
ンゾイル）プロピオン酸のアルカリ土類金属塩、遷移金
属塩及び遷移金属錯体である。
メチルベンゾイル）プロピオン酸と３−（４−クロロベ
ンゾイル）プロピオン酸のアルカリ土類金属塩、遷移金
属塩及び遷移金属錯体である。
【００２８】本発明の式Ｉの化合物のアルカリ土類金属
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、既知の方法により
製造できる。
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、既知の方法により
製造できる。
【００２９】本発明は、式Ｉのケトカルボン酸又はその
アルカリ金属塩をアルカリ土類金属又は遷移金属化合物
と反応させることからなる、式Ｉの化合物のアルカリ土
類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体を製造するため
の方法も提供する。
アルカリ金属塩をアルカリ土類金属又は遷移金属化合物
と反応させることからなる、式Ｉの化合物のアルカリ土
類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体を製造するため
の方法も提供する。
【００３０】好ましい方法では、使用されるアルカリ土
類金属又は遷移金属化合物は塩、有機金属化合物又は無
機金属塩基である。
類金属又は遷移金属化合物は塩、有機金属化合物又は無
機金属塩基である。
【００３１】本発明の遷移金属錯体、例えばジルコニウ
ム錯体の製造においては、式Ｉの化合物と炭酸ジルコニ
ウムから出発して、反応は高温、特に５０ないし１００
℃の温度で、水酸化ナトリウム溶液なしに水中で実施さ
れる。７０ないし９５℃の温度範囲が特に好ましい。
ム錯体の製造においては、式Ｉの化合物と炭酸ジルコニ
ウムから出発して、反応は高温、特に５０ないし１００
℃の温度で、水酸化ナトリウム溶液なしに水中で実施さ
れる。７０ないし９５℃の温度範囲が特に好ましい。
【００３２】しかし、反応は有機溶媒例えばトルエン中
で、僅かに高い温度でも実施できる。この方法は、アル
カリ土類金属と遷移金属化合物が有機化合物である場合
は、特に好ましい。反応は、２０ないし７０℃、特に４
０ないし６０℃の温度範囲で実施するのが好ましい。
で、僅かに高い温度でも実施できる。この方法は、アル
カリ土類金属と遷移金属化合物が有機化合物である場合
は、特に好ましい。反応は、２０ないし７０℃、特に４
０ないし６０℃の温度範囲で実施するのが好ましい。
【００３３】式Ｉの化合物（遊離酸）は、アルカリ土類
金属と遷移金属化合物と等モル量で使用するのが好まし
い。本発明の式Ｉの化合物のアルカリ土類金属塩、遷移
金属塩及び遷移金属錯体は、例えば一般式II：
金属と遷移金属化合物と等モル量で使用するのが好まし
い。本発明の式Ｉの化合物のアルカリ土類金属塩、遷移
金属塩及び遷移金属錯体は、例えば一般式II：
【化３】 （式中、Ｍはアルカリ土類金属又は遷移金属を表しそし
てｍは２，３又は４を表す。）を持つことができる。
てｍは２，３又は４を表す。）を持つことができる。
【００３４】遷移金属塩と遷移金属錯体である場合、特
に金属がジルコニウムとチタンである場合は、特に反応
が等モル反応でない場合、最終の化合物も式IIからはず
れた構造を持つこともできる。それらの例はジルコニウ
ム錯体について下記する。
に金属がジルコニウムとチタンである場合は、特に反応
が等モル反応でない場合、最終の化合物も式IIからはず
れた構造を持つこともできる。それらの例はジルコニウ
ム錯体について下記する。
【００３５】本発明の遷移金属錯体の場合、特にジルコ
ニウムとチタン錯体の場合、式Ｉの化合物（遊離酸）
は、使用されるジルコニウム又はチタン化合物に関して
過剰、、等モル又は等モル以下の量で使用できる。式Ｉ
のケトカルボン酸の遷移金属化合物に対するモル比は、
２０：１から１：１０であり得る。１０：１ないし１：
３が好ましい。
ニウムとチタン錯体の場合、式Ｉの化合物（遊離酸）
は、使用されるジルコニウム又はチタン化合物に関して
過剰、、等モル又は等モル以下の量で使用できる。式Ｉ
のケトカルボン酸の遷移金属化合物に対するモル比は、
２０：１から１：１０であり得る。１０：１ないし１：
３が好ましい。
【００３６】従って本発明は、遷移金属化合物に対する
式Ｉのケトカルボン酸のモル比が１：２０ないし１０：
１である、本発明の化合物を製造するための方法も提供
する。
式Ｉのケトカルボン酸のモル比が１：２０ないし１０：
１である、本発明の化合物を製造するための方法も提供
する。
【００３７】本発明の化合物を製造するための特に好ま
しい方法においては、遷移金属化合物がジルコニウム又
はチタン化合物である。
しい方法においては、遷移金属化合物がジルコニウム又
はチタン化合物である。
【００３８】本発明の式Ｉの化合物のアルカリ土類金属
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、反応媒体中に存在
する（式Ｉの）遊離酸、水又はヒドロキシドのような他
の陰イオンによっても更に錯化され得る。金属酢酸塩又
は金属アルコキシドの場合は、アセテート又はアルコキ
シドイオンが本発明の式Ｉの化合物中に存在し得る。
塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、反応媒体中に存在
する（式Ｉの）遊離酸、水又はヒドロキシドのような他
の陰イオンによっても更に錯化され得る。金属酢酸塩又
は金属アルコキシドの場合は、アセテート又はアルコキ
シドイオンが本発明の式Ｉの化合物中に存在し得る。
【００３９】上述の観察に基づいて、本発明の式Ｉの化
合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体の金属の含有量％はいろいろに変わり得る。かくし
て、本発明の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の特に好ましいジルコニウム錯体は、５ないし５０重
量％、好ましくは１０ないし４０重量％のジルコニウム
含有量を持つことができる。
合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯
体の金属の含有量％はいろいろに変わり得る。かくし
て、本発明の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の特に好ましいジルコニウム錯体は、５ないし５０重
量％、好ましくは１０ないし４０重量％のジルコニウム
含有量を持つことができる。
【００４０】本発明のジルコニウム錯体の構造は、明ら
かになっていない。本発明の３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（Ｒ＝３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオネート）を、例記する（実
施例２ないし１４を参照）：ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 Ｃ
Ｒ）・６．６ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）
・２．９ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・
０．３ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・０．
７ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ)0.8 (アセテ
ート)0.2；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ)0.5 (アセテー
ト)0.5；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・０．３ＨＯ2 Ｃ
Ｒ；ＺｒＯ2 ・ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）；Ｚｒ（Ｏ
Ｃ3 Ｈ7 ）3 （Ｏ2 ＣＲ）；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 Ｃ
Ｒ）・０．４８ＨＯ2 ＣＲ；Ｚｒ（ＯＣ3 Ｈ7 ）2 （Ｏ
2 ＣＲ）2 ；Ｚｒ（ＯＣ4 Ｈ9 ）3 （Ｏ2ＣＲ）又はＺ
ｒ（ＯＣ3 Ｈ7 ）3 （Ｏ2 ＣＲ）。
かになっていない。本発明の３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（Ｒ＝３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオネート）を、例記する（実
施例２ないし１４を参照）：ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 Ｃ
Ｒ）・６．６ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）
・２．９ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・
０．３ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・０．
７ＨＯ2 ＣＲ；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ)0.8 (アセテ
ート)0.2；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ)0.5 (アセテー
ト)0.5；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）・０．３ＨＯ2 Ｃ
Ｒ；ＺｒＯ2 ・ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 ＣＲ）；Ｚｒ（Ｏ
Ｃ3 Ｈ7 ）3 （Ｏ2 ＣＲ）；ＺｒＯ（ＯＨ）（Ｏ2 Ｃ
Ｒ）・０．４８ＨＯ2 ＣＲ；Ｚｒ（ＯＣ3 Ｈ7 ）2 （Ｏ
2 ＣＲ）2 ；Ｚｒ（ＯＣ4 Ｈ9 ）3 （Ｏ2ＣＲ）又はＺ
ｒ（ＯＣ3 Ｈ7 ）3 （Ｏ2 ＣＲ）。
【００４１】従って本発明は、式Ｉの化合物又はそのア
ルカリ金属塩を、アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び
遷移金属錯体又は遷移金属化合物と反応させることによ
り得られる生成物も提供する。
ルカリ金属塩を、アルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び
遷移金属錯体又は遷移金属化合物と反応させることによ
り得られる生成物も提供する。
【００４２】式Ｉの化合物を塩基、例えばアルカリ金属
水酸化物の水溶液の少なくとも１当量と共に溶解し、次
いでそれをアルカリ土類金属又は遷移金属化合物の水溶
液と共に処理するのが特に好ましい。本発明の式Ｉのア
ルカリ土類金属塩、遷移金属塩又は遷移金属錯体を、ろ
過するか又は有機溶媒例えば酢酸エチル又はジクロロメ
タンを使用して反応媒体から抽出する。
水酸化物の水溶液の少なくとも１当量と共に溶解し、次
いでそれをアルカリ土類金属又は遷移金属化合物の水溶
液と共に処理するのが特に好ましい。本発明の式Ｉのア
ルカリ土類金属塩、遷移金属塩又は遷移金属錯体を、ろ
過するか又は有機溶媒例えば酢酸エチル又はジクロロメ
タンを使用して反応媒体から抽出する。
【００４３】（遊離酸であるが、本発明の塩と錯体でな
い）式Ｉの化合物は既知でありそしてその多くは市販品
であるか又はホウベン−ヴァイル、有機化学の方法（Ho
uben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie) ，第８
巻，３８１−３８２頁（１９５２年）とＥ５巻，３９８
−３９９頁（１９８５年）に記載されている通りにして
製造できる。かくして、例えば、置換芳香族化合物（ベ
ンゼンとナフタレン誘導体）の環状酸無水物によるフリ
ーデル−クラフト反応は式Ｉの化合物を高収率で与え
る。
い）式Ｉの化合物は既知でありそしてその多くは市販品
であるか又はホウベン−ヴァイル、有機化学の方法（Ho
uben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie) ，第８
巻，３８１−３８２頁（１９５２年）とＥ５巻，３９８
−３９９頁（１９８５年）に記載されている通りにして
製造できる。かくして、例えば、置換芳香族化合物（ベ
ンゼンとナフタレン誘導体）の環状酸無水物によるフリ
ーデル−クラフト反応は式Ｉの化合物を高収率で与え
る。
【００４４】使用されるアルカリ土類金属又は遷移金属
化合物は、例えば、塩、有機金属化合物又は無機金属塩
基又はそれらの混合物である。
化合物は、例えば、塩、有機金属化合物又は無機金属塩
基又はそれらの混合物である。
【００４５】塩の例は、塩基性の塩であってもよい、ハ
ロゲン化物（特に塩化物）、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩で
あって、例えば、塩化ランタン、塩化イットリウム、塩
化鉄、四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化カルシウム、塩化
マグネシウム、塩化コバルト、塩化セリウム、硝酸亜
鉛、硝酸マンガン、硝酸コバルト、硝酸セリウム、硝酸
鉄、硝酸カルシウム、硝酸ランタン、硝酸イットリウ
ム、硫酸ジルコニウム、硫酸鉄、硫酸マンガン、硫酸コ
バルト、硫酸セリウム、オキシ塩化ジルコニウム(zirco
nium oxide chloride)、オキシ塩化チタン(titanium ox
ide chloride) 、酢酸ジルコニウム、酢酸亜鉛、酢酸マ
ンガン、酢酸コバルト、酢酸ランタン、酢酸カルシウ
ム、炭酸ジルコニウム、炭酸亜鉛、炭酸マンガン、炭酸
コバルト及び炭酸カルシウムである。
ロゲン化物（特に塩化物）、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩で
あって、例えば、塩化ランタン、塩化イットリウム、塩
化鉄、四塩化チタン、塩化亜鉛、塩化カルシウム、塩化
マグネシウム、塩化コバルト、塩化セリウム、硝酸亜
鉛、硝酸マンガン、硝酸コバルト、硝酸セリウム、硝酸
鉄、硝酸カルシウム、硝酸ランタン、硝酸イットリウ
ム、硫酸ジルコニウム、硫酸鉄、硫酸マンガン、硫酸コ
バルト、硫酸セリウム、オキシ塩化ジルコニウム(zirco
nium oxide chloride)、オキシ塩化チタン(titanium ox
ide chloride) 、酢酸ジルコニウム、酢酸亜鉛、酢酸マ
ンガン、酢酸コバルト、酢酸ランタン、酢酸カルシウ
ム、炭酸ジルコニウム、炭酸亜鉛、炭酸マンガン、炭酸
コバルト及び炭酸カルシウムである。
【００４６】有機金属化合物の例は特にアルコキシドで
あって、例えばジルコニウムｎ−プロポキシド、ジルコ
ニウムイソプロポキシド、ジルコニウムｎ−ブトキシ
ド、チタニウムｎ−プロポキシド、チタニウムイソプロ
ポキシド、チタニウムエトキシド及びチタニウムｎ−ブ
トキシドである。
あって、例えばジルコニウムｎ−プロポキシド、ジルコ
ニウムイソプロポキシド、ジルコニウムｎ−ブトキシ
ド、チタニウムｎ−プロポキシド、チタニウムイソプロ
ポキシド、チタニウムエトキシド及びチタニウムｎ−ブ
トキシドである。
【００４７】無機金属塩基の例は、水酸化物、酸化物及
びアミドであって、例えば水酸化カルシウム、酸化カル
シウム及びカルシウムアミドである。
びアミドであって、例えば水酸化カルシウム、酸化カル
シウム及びカルシウムアミドである。
【００４８】使用されるアルカリ金属水酸化物は、水酸
化カリウム又は水酸化ナトリウム水溶液であって、好ま
しくは水酸化ナトリウム水溶液である。
化カリウム又は水酸化ナトリウム水溶液であって、好ま
しくは水酸化ナトリウム水溶液である。
【００４９】本発明の、式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷
移金属塩及び遷移金属錯体の沈澱は、室温で実施するの
が好ましい。
移金属塩及び遷移金属錯体の沈澱は、室温で実施するの
が好ましい。
【００５０】本発明の、式Ｉのアルカリ土類金属塩、遷
移金属塩及び遷移金属錯体は、金属表面を保護するため
のそして金属支持体を前処理するための塗料組成物中の
腐食抑制剤として使用するのに適している。
移金属塩及び遷移金属錯体は、金属表面を保護するため
のそして金属支持体を前処理するための塗料組成物中の
腐食抑制剤として使用するのに適している。
【００５１】従って、ａ）有機フィルム−形成結合剤
及び ｂ）腐食抑制剤としての式Ｉの化合物のアルカリ土類金
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の少なくとも一種か
らなる塗料組成物も提供する。
及び ｂ）腐食抑制剤としての式Ｉの化合物のアルカリ土類金
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の少なくとも一種か
らなる塗料組成物も提供する。
【００５２】塗料組成物は、好ましくは液体である。水
を基材とする液体が特に好ましい。
を基材とする液体が特に好ましい。
【００５３】液体組成物は、例えば、ラッカー、ペイン
ト又はワニスである。これらは常に有機フィルム−形成
結合剤並びに他の所望の成分を含有する。
ト又はワニスである。これらは常に有機フィルム−形成
結合剤並びに他の所望の成分を含有する。
【００５４】好ましい有機フィルム−形成結合剤は、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂とそ
れらのコポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェノール樹
脂、アルキド樹脂又はそのような樹脂の混合物である。
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂とそ
れらのコポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェノール樹
脂、アルキド樹脂又はそのような樹脂の混合物である。
【００５５】塗料組成物のための適当な有機フィルム−
形成結合剤は、溶媒を含有するが特に水を基材とする、
ペイント組成物のための常用のフィルム形成剤である。
そのようなフィルム形成剤は、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、アミノ樹脂又はそのような樹脂の混合物；塩
基性の水溶性分散剤又は酸樹脂の溶液である。
形成結合剤は、溶媒を含有するが特に水を基材とする、
ペイント組成物のための常用のフィルム形成剤である。
そのようなフィルム形成剤は、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂、アミノ樹脂又はそのような樹脂の混合物；塩
基性の水溶性分散剤又は酸樹脂の溶液である。
【００５６】特に重要なものは、水を基材とする塗料組
成物のための有機フィルム−形成結合剤であって、例え
ばアルキド樹脂；アクリル樹脂；２成分エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂；通常は飽和化されているポリエステ
ル樹脂；水溶性フェノール樹脂又はそれから誘導された
分散液；水溶性尿素樹脂；ビニル／アクリル−コポリマ
ーを基材にした樹脂である。
成物のための有機フィルム−形成結合剤であって、例え
ばアルキド樹脂；アクリル樹脂；２成分エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂；通常は飽和化されているポリエステ
ル樹脂；水溶性フェノール樹脂又はそれから誘導された
分散液；水溶性尿素樹脂；ビニル／アクリル−コポリマ
ーを基材にした樹脂である。
【００５７】更に特定して観ると、アルキド樹脂は、風
乾形式又は焼付システムの形式で使用できる、水溶性の
アルキド樹脂システムであってよく、所望により水溶性
メラミン樹脂と組み合わせて使用できるものである；ア
ルキド樹脂は酸化的乾燥、風乾又は焼付のできるもので
もあり、それらは、所望により、アクリル樹脂又はそれ
らのコポリマーを基材とする水性分散液と組み合わせ
て、酢酸ビニル等と共に使用できる。
乾形式又は焼付システムの形式で使用できる、水溶性の
アルキド樹脂システムであってよく、所望により水溶性
メラミン樹脂と組み合わせて使用できるものである；ア
ルキド樹脂は酸化的乾燥、風乾又は焼付のできるもので
もあり、それらは、所望により、アクリル樹脂又はそれ
らのコポリマーを基材とする水性分散液と組み合わせ
て、酢酸ビニル等と共に使用できる。
【００５８】アクリル樹脂は、純粋なアクリル樹脂、ビ
ニル樹脂と組み合わせたアクリルエステルコポリマー又
はビニルモノマー例えば酢酸ビニル、スチレン又はブタ
ジエンと組み合わせたアクリルエステルコポリマーであ
る。これらのシステムは、風乾システム又は焼付システ
ムであってよい。
ニル樹脂と組み合わせたアクリルエステルコポリマー又
はビニルモノマー例えば酢酸ビニル、スチレン又はブタ
ジエンと組み合わせたアクリルエステルコポリマーであ
る。これらのシステムは、風乾システム又は焼付システ
ムであってよい。
【００５９】適当なポリアミン架橋剤と組み合わせた水
溶性のエポキシ樹脂は、優れた機械強度と化学抵抗性を
持つ。液状エポキシ樹脂を使用する場合、水系への有機
溶媒の添加は不要である。固形樹脂又は固形樹脂分散液
を使用する場合は、通常、フィルム形成を改善するため
に少量の溶媒を添加することが要求される。
溶性のエポキシ樹脂は、優れた機械強度と化学抵抗性を
持つ。液状エポキシ樹脂を使用する場合、水系への有機
溶媒の添加は不要である。固形樹脂又は固形樹脂分散液
を使用する場合は、通常、フィルム形成を改善するため
に少量の溶媒を添加することが要求される。
【００６０】好ましいエポキシ樹脂は、芳香族ポリオー
ルを基材にしたそれら、特にビスフェノールを基材にし
たそれらである。エポキシ樹脂は架橋剤と組み合わせて
使用できる。後者は、特に、アミノ−又はヒドロキシ官
能化合物、酸、酸無水物又はルイス酸である。これらの
例は、ポリアミン、ポリアミノアミド、ポリスルフィド
を基材にしたポリマー、ポリフェノール、フッ化ホウ素
とその錯化合物、ポリカルボン酸、１，２−ジカルボン
酸無水物又はピロメリット酸無水物である。
ルを基材にしたそれら、特にビスフェノールを基材にし
たそれらである。エポキシ樹脂は架橋剤と組み合わせて
使用できる。後者は、特に、アミノ−又はヒドロキシ官
能化合物、酸、酸無水物又はルイス酸である。これらの
例は、ポリアミン、ポリアミノアミド、ポリスルフィド
を基材にしたポリマー、ポリフェノール、フッ化ホウ素
とその錯化合物、ポリカルボン酸、１，２−ジカルボン
酸無水物又はピロメリット酸無水物である。
【００６１】ポリウレタン樹脂は、一方では、末端にヒ
ドロキシル基を持つ、ポリエーテル、ポリエステルとポ
リブタジエンから、他方では、脂肪族又は芳香族ポリイ
ソシアナートから誘導される。
ドロキシル基を持つ、ポリエーテル、ポリエステルとポ
リブタジエンから、他方では、脂肪族又は芳香族ポリイ
ソシアナートから誘導される。
【００６２】適当なポリビニル樹脂は、例えば、ポリビ
ニルブチラール、ポリ酢酸ビニル又はそれらのコポリマ
ーである。
ニルブチラール、ポリ酢酸ビニル又はそれらのコポリマ
ーである。
【００６３】適当なフェノール樹脂は、フェノールが主
成分である構造の合成樹脂であり、かくして特に、フェ
ノール−、クレゾール−、キシレノール−及びレゾルシ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール樹
脂、及びフェノールとアセトアルデヒド、フルフラー
ル、アクロレイン又は他のアルデヒドとの縮合生成物も
である。改質フェノール樹脂も重要である。
成分である構造の合成樹脂であり、かくして特に、フェ
ノール−、クレゾール−、キシレノール−及びレゾルシ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール樹
脂、及びフェノールとアセトアルデヒド、フルフラー
ル、アクロレイン又は他のアルデヒドとの縮合生成物も
である。改質フェノール樹脂も重要である。
【００６４】塗料組成物は、顔料、染料、充填剤、流れ
調整剤、分散剤、チキソトロープ剤、接着促進剤、抗酸
化剤、光安定剤又は硬化触媒から選択された１種又はそ
れより多い成分を追加して含有することができる。それ
らは他の既知の腐食保護組成物、例えば腐食保護顔料、
例えばホスヘート又はボレートを含有する顔料又は金属
酸化物顔料、又は他の有機又は無機腐食抑制剤、例えば
ニトロイソフタル酸、リン酸エステル、工業アミン又は
置換ベンゾトリアゾールも含有してもよい。
調整剤、分散剤、チキソトロープ剤、接着促進剤、抗酸
化剤、光安定剤又は硬化触媒から選択された１種又はそ
れより多い成分を追加して含有することができる。それ
らは他の既知の腐食保護組成物、例えば腐食保護顔料、
例えばホスヘート又はボレートを含有する顔料又は金属
酸化物顔料、又は他の有機又は無機腐食抑制剤、例えば
ニトロイソフタル酸、リン酸エステル、工業アミン又は
置換ベンゾトリアゾールも含有してもよい。
【００６５】顔料は、例えば、酸化チタン、酸化鉄、ア
ルミニウム青銅又はフタロシアニン青である。
ルミニウム青銅又はフタロシアニン青である。
【００６６】充填剤の例は、タルク、酸化アルミニウ
ム、アルミニウムシリケート、バライト、雲母又は二酸
化ケイ素である。本発明の腐食抑制剤は担体にも適用で
きる。粉末状の充填剤又は顔料はこの目的のために特に
適している。
ム、アルミニウムシリケート、バライト、雲母又は二酸
化ケイ素である。本発明の腐食抑制剤は担体にも適用で
きる。粉末状の充填剤又は顔料はこの目的のために特に
適している。
【００６７】流れ調整剤とチキソトロープ剤は、改質ベ
ントナイトを基材にしている。
ントナイトを基材にしている。
【００６８】接着促進剤は、改質シランを基材にしてい
る。
る。
【００６９】或る種の結合系では腐食抑制剤に対して相
乗効果を持つ、塩基性充填剤又は顔料の添加も有利であ
る。そのような塩基性充填剤と顔料の例は、炭酸カルシ
ウム又はマグネシウム、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、リン酸亜
鉛、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、リン酸アル
ミニウム又はそれらの混合物である。塩基性の有機顔料
の例はアミノアントラキノンを母体にしたそれらであ
る。
乗効果を持つ、塩基性充填剤又は顔料の添加も有利であ
る。そのような塩基性充填剤と顔料の例は、炭酸カルシ
ウム又はマグネシウム、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、リン酸亜
鉛、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、リン酸アル
ミニウム又はそれらの混合物である。塩基性の有機顔料
の例はアミノアントラキノンを母体にしたそれらであ
る。
【００７０】本発明の腐食抑制剤は、塗料の製造の間、
例えば混練による顔料分散の間に塗料に添加できるか、
又は抑制剤は溶媒に溶解されそして次に塗料組成物中へ
攪拌して添加される。本発明の腐食抑制剤も金属表面の
前処理のために同様に使用できる。
例えば混練による顔料分散の間に塗料に添加できるか、
又は抑制剤は溶媒に溶解されそして次に塗料組成物中へ
攪拌して添加される。本発明の腐食抑制剤も金属表面の
前処理のために同様に使用できる。
【００７１】本発明の、式Ｉの化合物のアルカリ土類金
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、塗料組成物の全
重量を基準にして０．０１ないし２０重量％、好ましく
は０．０５ないし５重量％の量で使用されると有利であ
る。
属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体は、塗料組成物の全
重量を基準にして０．０１ないし２０重量％、好ましく
は０．０５ないし５重量％の量で使用されると有利であ
る。
【００７２】塗料は、常法により、例えば散布、浸漬、
ペインティング又は電着により、支持体へ適用できる。
腐食抑制剤は、最初にそして大部分がプライマー（下塗
り）へ適用される。というのは、それらが金属／ペイン
トの界面において作用するからである。しかし、それら
は、中塗り又は上塗りにも追加的に適用できる。結合剤
が、物理的、化学的に又は酸化的に乾燥する樹脂、又は
熱もしくは照射硬化樹脂であるかによって、塗膜の硬化
は室温で実施されるか又は加熱（焼付）により又は照射
により実施できる。
ペインティング又は電着により、支持体へ適用できる。
腐食抑制剤は、最初にそして大部分がプライマー（下塗
り）へ適用される。というのは、それらが金属／ペイン
トの界面において作用するからである。しかし、それら
は、中塗り又は上塗りにも追加的に適用できる。結合剤
が、物理的、化学的に又は酸化的に乾燥する樹脂、又は
熱もしくは照射硬化樹脂であるかによって、塗膜の硬化
は室温で実施されるか又は加熱（焼付）により又は照射
により実施できる。
【００７３】好ましくは塗料は、金属支持体、例えば
鉄、鋼鉄、銅、亜鉛又はアルミニウム、及びそれらの合
金のためのプライマーである。
鉄、鋼鉄、銅、亜鉛又はアルミニウム、及びそれらの合
金のためのプライマーである。
【００７４】耐蝕作用に加えて、本発明の式Ｉの化合物
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体
は、ペイント／金属接着に良い影響を与えそして本発明
の塗料組成物に貯蔵寿命に負の影響を与えないという利
点がある。
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体
は、ペイント／金属接着に良い影響を与えそして本発明
の塗料組成物に貯蔵寿命に負の影響を与えないという利
点がある。
【００７５】従って、本発明の好ましい実施態様は、金
属表面のための塗料組成物中の腐食抑制剤としての、式
Ｉの化合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移
金属錯体の使用方法を提供する。
属表面のための塗料組成物中の腐食抑制剤としての、式
Ｉの化合物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移
金属錯体の使用方法を提供する。
【００７６】本発明は、腐食性金属支持体を保護するた
めの方法を提供するものであって、その方法は上記支持
体に、 ａ）有機フィルム−形成結合剤 及び ｂ）腐食抑制剤としての請求項１に記載の式Ｉの化合物
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の
少なくとも一種からなる塗料組成物を適用し、そして次
いでその塗膜を乾燥及び／又は硬化することからなる方
法に関する。
めの方法を提供するものであって、その方法は上記支持
体に、 ａ）有機フィルム−形成結合剤 及び ｂ）腐食抑制剤としての請求項１に記載の式Ｉの化合物
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の
少なくとも一種からなる塗料組成物を適用し、そして次
いでその塗膜を乾燥及び／又は硬化することからなる方
法に関する。
【００７７】
【実施例】下記の実施例は、本発明を説明するためのも
のである。部と％（百分率）は重量による。
のである。部と％（百分率）は重量による。
【００７８】実施例１：３−（４−メチルベンゾイル）
プロピオン酸の亜鉛塩（化合物（１０１）第１表を参
照）。 水２００ｍｌ中の５９．５ｇ（０．２０モル）の硝酸亜
鉛六水塩[Zn(NO3)26H2O]の溶液を、２００ｍｌの１．０
Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の３８．４ｇ（０．２０モ
ル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶
液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸亜鉛
塩、ｍｐ．〜２２０℃（化合物（１０１）、第１表参
照）を得る。
プロピオン酸の亜鉛塩（化合物（１０１）第１表を参
照）。 水２００ｍｌ中の５９．５ｇ（０．２０モル）の硝酸亜
鉛六水塩[Zn(NO3)26H2O]の溶液を、２００ｍｌの１．０
Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の３８．４ｇ（０．２０モ
ル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶
液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸亜鉛
塩、ｍｐ．〜２２０℃（化合物（１０１）、第１表参
照）を得る。
【００７９】硝酸マンガン、硝酸コバルト、硝酸セリウ
ム、硝酸鉄、塩化ランタン、塩化イットリウムと塩化カ
ルシウムを３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
と共に使用して、実施例１に記載した方法を繰り返して
化合物（１０２）ないし（１０８）（第１表を参照）を
製造する。
ム、硝酸鉄、塩化ランタン、塩化イットリウムと塩化カ
ルシウムを３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
と共に使用して、実施例１に記載した方法を繰り返して
化合物（１０２）ないし（１０８）（第１表を参照）を
製造する。
【００８０】
【表１】 第１表中のＲの定義は、実施例２ないし１４と１６にも
適用される。
適用される。
【００８１】実施例２：硫酸ジルコニウムを使用する３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニウ
ム錯体（化合物（１０９））の製造 水４０ｍｌ中の１８．３ｇ（０．０５モル）の硫酸ジル
コニウム（ジルコニウム２２．８％）の溶液を、１００
ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の１９．２ｇ
（０．１０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物
をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾
燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１０９））を得
る。 ZrO(OH)(O2CR) ・6.6HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 5.8%; C 63.4%; H 5.8%; HO2CR 80.1%. 分析値：Zr 7.4%; C 58.6%; H 5.6%; H2O 2.3%; HO2CR
79.8%.
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニウ
ム錯体（化合物（１０９））の製造 水４０ｍｌ中の１８．３ｇ（０．０５モル）の硫酸ジル
コニウム（ジルコニウム２２．８％）の溶液を、１００
ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の１９．２ｇ
（０．１０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物
をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾
燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１０９））を得
る。 ZrO(OH)(O2CR) ・6.6HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 5.8%; C 63.4%; H 5.8%; HO2CR 80.1%. 分析値：Zr 7.4%; C 58.6%; H 5.6%; H2O 2.3%; HO2CR
79.8%.
【００８２】実施例３：硫酸ジルコニウムを使用する３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニウ
ム錯体（化合物（１１０））の製造 水７０ｍｌ中の３５．５ｇ（０．０８９モル）の硫酸ジ
ルコニウム（ジルコニウム２２．８％）の溶液を、４０
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の７６．９
ｇ（０．４０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１０））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・2.9HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 10.4%; C 59.0%; H 5.4%; HO2CR 63.8%. 分析値：Zr 9.4%; C 58.3%; H 5.4%; H2O 2.0%; HO2CR
64.2%.
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニウ
ム錯体（化合物（１１０））の製造 水７０ｍｌ中の３５．５ｇ（０．０８９モル）の硫酸ジ
ルコニウム（ジルコニウム２２．８％）の溶液を、４０
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の７６．９
ｇ（０．４０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１０））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・2.9HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 10.4%; C 59.0%; H 5.4%; HO2CR 63.8%. 分析値：Zr 9.4%; C 58.3%; H 5.4%; H2O 2.0%; HO2CR
64.2%.
【００８３】実施例４：オキソ塩化ジルコニウム(zirco
nium oxide chloride)を使用する３−（４−メチルベン
ゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１
１１））の製造 水５５ｍｌ中の２８．１ｇ（０．１１５モル）のオキソ
塩化ジルコニウム(zirconium oxide chloride)（ジルコ
ニウム３７．２％）の溶液を、３００ｍｌの１．０Ｎの
水酸化ナトリウム溶液中の５７．７ｇ（０．３０モル）
の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液
に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジ
ルコニウム錯体（化合物（１１１））を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.3HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 24.5%; C 46.0%; H 4.2%; HO2CR 15.5%. 分析値：Zr 25.2%; C 48.8%; H 4.6%; H2O 3.2%; HO2CR
8.7%.
nium oxide chloride)を使用する３−（４−メチルベン
ゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１
１１））の製造 水５５ｍｌ中の２８．１ｇ（０．１１５モル）のオキソ
塩化ジルコニウム(zirconium oxide chloride)（ジルコ
ニウム３７．２％）の溶液を、３００ｍｌの１．０Ｎの
水酸化ナトリウム溶液中の５７．７ｇ（０．３０モル）
の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液
に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジ
ルコニウム錯体（化合物（１１１））を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.3HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 24.5%; C 46.0%; H 4.2%; HO2CR 15.5%. 分析値：Zr 25.2%; C 48.8%; H 4.6%; H2O 3.2%; HO2CR
8.7%.
【００８４】実施例５： オキソ塩化ジルコニウム(zir
conium oxide chloride)を使用する３−（４−メチルベ
ンゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物
（１１２））の製造 水３０ｍｌ中の１４．３ｇ（０．０５８モル）のオキソ
塩化ジルコニウム(zirconium oxide chloride)（ジルコ
ニウム３７．２％）の溶液を、１００ｍｌの１．０Ｎの
水酸化ナトリウム溶液中の１９．２ｇ（０．１０モル）
の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液
に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジ
ルコニウム錯体（化合物（１１２））を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.7HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 20.3%; C 49.9%; H 4.6%; HO2CR 29.9%. 分析値：Zr 19.2%; C 48.3%; H 4.7%; H2O 5.5%; HO2CR
40.0%.
conium oxide chloride)を使用する３−（４−メチルベ
ンゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物
（１１２））の製造 水３０ｍｌ中の１４．３ｇ（０．０５８モル）のオキソ
塩化ジルコニウム(zirconium oxide chloride)（ジルコ
ニウム３７．２％）の溶液を、１００ｍｌの１．０Ｎの
水酸化ナトリウム溶液中の１９．２ｇ（０．１０モル）
の３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液
に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱物をろ過して取
り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空乾燥器中で乾燥
する。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジ
ルコニウム錯体（化合物（１１２））を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.7HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 20.3%; C 49.9%; H 4.6%; HO2CR 29.9%. 分析値：Zr 19.2%; C 48.3%; H 4.7%; H2O 5.5%; HO2CR
40.0%.
【００８５】実施例６： 酢酸ジルコニウムを使用する
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１３））の製造 水６０ｍｌ中の３７．２ｇ（０．０７５モル）の酢酸ジ
ルコニウム（ジルコニウム１８．４％）の溶液を、１０
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の１９．２
ｇ（０．１０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１３））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR)0.8 (アセテート)0.2としての元素分析
値、 計算値：Zr 31.6%; C 38.2%;H 3.6%; アセテート 4.1%. 分析値：Zr 32.6%; C 38.6%;H 4.1%; H2O 2.5%; アセテ
ート 5.7%.
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１３））の製造 水６０ｍｌ中の３７．２ｇ（０．０７５モル）の酢酸ジ
ルコニウム（ジルコニウム１８．４％）の溶液を、１０
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の１９．２
ｇ（０．１０モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１３））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR)0.8 (アセテート)0.2としての元素分析
値、 計算値：Zr 31.6%; C 38.2%;H 3.6%; アセテート 4.1%. 分析値：Zr 32.6%; C 38.6%;H 4.1%; H2O 2.5%; アセテ
ート 5.7%.
【００８６】実施例７： 酢酸ジルコニウムを使用する
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１４））の製造 水１００ｍｌ中の１４８．８ｇ（０．３０モル）の酢酸
ジルコニウム（ジルコニウム１８．４％）の溶液を、５
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の９．６０
ｇ（０．０５モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１４））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR)0.5 (アセテート)0.5としての元素分析
値、 計算値：Zr 36.6%; C 31.3%;H 3.2%; アセテート11.8%. 分析値：Zr 34.9%; C 29.7%;H 3.8%; H2O 3.2%; アセテ
ート12.8%.
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１４））の製造 水１００ｍｌ中の１４８．８ｇ（０．３０モル）の酢酸
ジルコニウム（ジルコニウム１８．４％）の溶液を、５
０ｍｌの１．０Ｎの水酸化ナトリウム溶液中の９．６０
ｇ（０．０５モル）の３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸の溶液に、よく攪拌しながら滴下する。沈澱
物をろ過して取り、水で数回洗浄しそして５０℃で真空
乾燥器中で乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）プ
ロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１４））を
得る。 ZrO(OH)(O2CR)0.5 (アセテート)0.5としての元素分析
値、 計算値：Zr 36.6%; C 31.3%;H 3.2%; アセテート11.8%. 分析値：Zr 34.9%; C 29.7%;H 3.8%; H2O 3.2%; アセテ
ート12.8%.
【００８７】実施例８： 炭酸ジルコニウムを使用する
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１５））の製造 水１５０ｍｌ中の１５．０ｇ（５６．０ミリモル）の炭
酸ジルコニウム（ジルコニウム３４％）と１５．０ｇ
（７８．０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）
プロピオン酸のけん濁液を強く攪拌しながら９０℃で２
時間にわたり加熱する。次いで反応混合物を冷却し、水
を傾斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出する。
溶媒をロータリエバポレータ上で留去し、残留分を５０
℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）
プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１５））
を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.3HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 24.5%; C 46.0%; H 4.2%; HO2CR 15.5%. 分析値：Zr 21.0%; C 48.1%; H 4.6%; H2O 0.4%; HO2CR
16.5%.
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１５））の製造 水１５０ｍｌ中の１５．０ｇ（５６．０ミリモル）の炭
酸ジルコニウム（ジルコニウム３４％）と１５．０ｇ
（７８．０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）
プロピオン酸のけん濁液を強く攪拌しながら９０℃で２
時間にわたり加熱する。次いで反応混合物を冷却し、水
を傾斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出する。
溶媒をロータリエバポレータ上で留去し、残留分を５０
℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイル）
プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１５））
を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.3HO2CRとしての元素分析値、 計算値：Zr 24.5%; C 46.0%; H 4.2%; HO2CR 15.5%. 分析値：Zr 21.0%; C 48.1%; H 4.6%; H2O 0.4%; HO2CR
16.5%.
【００８８】実施例９： 炭酸ジルコニウムを使用する
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１６））の製造 水１５０ｍｌ中の４５．０ｇ（１６８ミリモル）の炭酸
ジルコニウム（ジルコニウム３４％）と１５．０ｇ（７
８．０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸のけん濁液を強く攪拌しながら９０℃で２時間
にわたり加熱する。次いで反応混合物を冷却し、水を傾
斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出する。残留
分を５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベン
ゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１
１６））を得る。 ZrO2・ZrO(OH)(O2CR) としての元素分析値、 計算値：Zr 41.6%; C 30.1%; H 4.6%. 分析値：Zr 37.7%; C 26.8%; H 3.7%; H2O 2.7%.
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１６））の製造 水１５０ｍｌ中の４５．０ｇ（１６８ミリモル）の炭酸
ジルコニウム（ジルコニウム３４％）と１５．０ｇ（７
８．０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸のけん濁液を強く攪拌しながら９０℃で２時間
にわたり加熱する。次いで反応混合物を冷却し、水を傾
斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出する。残留
分を５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベン
ゾイル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１
１６））を得る。 ZrO2・ZrO(OH)(O2CR) としての元素分析値、 計算値：Zr 41.6%; C 30.1%; H 4.6%. 分析値：Zr 37.7%; C 26.8%; H 3.7%; H2O 2.7%.
【００８９】実施例１０：ジルコニウムｎ−プロポキシ
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１１７））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４４．３ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−プロポキシド（ジルコニウム２
０．６％）と１９．２ｇ（０．１０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１
７））を得る。 Zr(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 19.8%; C 52.2%; H 7.03%. 分析値：Zr 20.0%; C 52.4%; H 6.75%.
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１１７））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４４．３ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−プロポキシド（ジルコニウム２
０．６％）と１９．２ｇ（０．１０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１
７））を得る。 Zr(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 19.8%; C 52.2%; H 7.03%. 分析値：Zr 20.0%; C 52.4%; H 6.75%.
【００９０】実施例１１：炭酸ジルコニウムを使用する
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１８））の製造 水５００ｍｌとトルエン５００ｍｌ中の５０ｇ（０．１
８モル）の炭酸ジルコニウム（ジルコニウム３２．８
％）のけん濁液を、強く攪拌しながら８３℃で３０分間
にわたり加熱する。次いで、反応混合物を８３℃で４５
分間にわたり加熱する。温かい内に有機相を分離しそし
て残留容積２００ｍｌまでロータリエバポレータ上で蒸
発する。次いで２，０００ｍｌの石油スピリットを強く
攪拌しながら溶液に添加する。形成した沈澱物をろ過し
て取りそして５０℃で高真空下乾燥する。３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸（化合物（１１８））の
ジルコニウム錯体を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.48HO2CR としての元素分析値、 計算値：Zr 22.4%; C 47.9%; H 4.4%; HO2CR 22.6%. 分析値：Zr 22.2%; C 47.7%; H 4.8%; H2O 0.75%; HO2C
R 20.0%.
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１１８））の製造 水５００ｍｌとトルエン５００ｍｌ中の５０ｇ（０．１
８モル）の炭酸ジルコニウム（ジルコニウム３２．８
％）のけん濁液を、強く攪拌しながら８３℃で３０分間
にわたり加熱する。次いで、反応混合物を８３℃で４５
分間にわたり加熱する。温かい内に有機相を分離しそし
て残留容積２００ｍｌまでロータリエバポレータ上で蒸
発する。次いで２，０００ｍｌの石油スピリットを強く
攪拌しながら溶液に添加する。形成した沈澱物をろ過し
て取りそして５０℃で高真空下乾燥する。３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸（化合物（１１８））の
ジルコニウム錯体を得る。 ZrO(OH)(O2CR) ・0.48HO2CR としての元素分析値、 計算値：Zr 22.4%; C 47.9%; H 4.4%; HO2CR 22.6%. 分析値：Zr 22.2%; C 47.7%; H 4.8%; H2O 0.75%; HO2C
R 20.0%.
【００９１】実施例１２：ジルコニウムｎ−プロポキシ
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１１９））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４４．３ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−プロポキシド（ジルコニウム２
０．６％）と３８．４ｇ（０．２０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１
９））を得る。 Zr(OC3H7)2(O2CR)2 としての元素分析値、 計算値：Zr 15.4%; C 56.8%; H 6.1%. 分析値：Zr 15.1%; C 56.7%; H 6.2%.
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１１９））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４４．３ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−プロポキシド（ジルコニウム２
０．６％）と３８．４ｇ（０．２０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１１
９））を得る。 Zr(OC3H7)2(O2CR)2 としての元素分析値、 計算値：Zr 15.4%; C 56.8%; H 6.1%. 分析値：Zr 15.1%; C 56.7%; H 6.2%.
【００９２】実施例１３：ジルコニウムｎ−ブトキシド
を使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
のジルコニウム錯体（化合物（１２０））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４３．２ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−ブトキシド（ジルコニウム２
１．１％）と１９．２ｇ（０．１０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１２
０））を得る。 Zr(OC4H9)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 18.2%; C 55.0%; H 7.6%. 分析値：Zr 19.3%; C 54.2%; H 7.0%.
を使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
のジルコニウム錯体（化合物（１２０））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の４３．２ｇ（０．１０モ
ル）のジルコニウムｎ−ブトキシド（ジルコニウム２
１．１％）と１９．２ｇ（０．１０モル）の３−（４−
メチルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下
５０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物
を冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を
５０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１２
０））を得る。 Zr(OC4H9)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 18.2%; C 55.0%; H 7.6%. 分析値：Zr 19.3%; C 54.2%; H 7.0%.
【００９３】実施例１４：ジルコニウムｉ−プロポキシ
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１２１））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の１７．３ｇ（０．０５モ
ル）のジルコニウムｉ−プロポキシド（ジルコニウム２
６．４％）と９．６ｇ（０．０５モル）の３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下５
０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物を
冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を５
０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１２
１））を得る。 Zr(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 19.8%; C 52.2%; H 7.0%. 分析値：Zr 23.8%; C 47.4%; H 5.8%.
ドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のジルコニウム錯体（化合物（１２１））の製造 乾燥トルエン２００ｍｌ中の１７．３ｇ（０．０５モ
ル）のジルコニウムｉ−プロポキシド（ジルコニウム２
６．４％）と９．６ｇ（０．０５モル）の３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸の溶液を窒素雰囲気下５
０℃で１２時間にわたり攪拌する。次いで反応混合物を
冷却し、ロータリエバポレータ上で蒸発し、残留分を５
０℃で高減圧下乾燥する。３−（４−メチルベンゾイ
ル）プロピオン酸のジルコニウム錯体（化合物（１２
１））を得る。 Zr(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Zr 19.8%; C 52.2%; H 7.0%. 分析値：Zr 23.8%; C 47.4%; H 5.8%.
【００９４】実施例１５：炭酸ジルコニウムを使用する
３−（４−クロロベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１２２））の製造 水３００ｍｌ中の３０ｇ（０．１０８モル）の炭酸ジル
コニウム（ジルコニウム３２．８％）を、強く攪拌しな
がら９０℃で３０分間にわたり加熱する。次いで、反応
混合物を９０℃で４５分間にわたり加熱する。熱いうち
に水を傾斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出す
る。溶媒をロータリエバポレータ上で蒸発しそして残留
物を５０℃で高真空下乾燥する。３−（４−クロロベン
ゾイル）プロピオン酸（化合物（１２２））のジルコニ
ウム錯体を得る。 ZrO(OH)(O2CR')・0.47HO2CR'としての元素分析値、 計算値：Zr 20.9%; C 40.5%; H 3.1%; Cl 12.0%;HO2CR'
22.9%. 分析値：Zr 20.7%; C 40.1%; H 3.3%; Cl 11.6%;H2O 0.
6%; HO2CR'29.7%. 上記説明中、Ｒ' は下記の式：
３−（４−クロロベンゾイル）プロピオン酸のジルコニ
ウム錯体（化合物（１２２））の製造 水３００ｍｌ中の３０ｇ（０．１０８モル）の炭酸ジル
コニウム（ジルコニウム３２．８％）を、強く攪拌しな
がら９０℃で３０分間にわたり加熱する。次いで、反応
混合物を９０℃で４５分間にわたり加熱する。熱いうち
に水を傾斜して除きそして残留物を酢酸エチルで抽出す
る。溶媒をロータリエバポレータ上で蒸発しそして残留
物を５０℃で高真空下乾燥する。３−（４−クロロベン
ゾイル）プロピオン酸（化合物（１２２））のジルコニ
ウム錯体を得る。 ZrO(OH)(O2CR')・0.47HO2CR'としての元素分析値、 計算値：Zr 20.9%; C 40.5%; H 3.1%; Cl 12.0%;HO2CR'
22.9%. 分析値：Zr 20.7%; C 40.1%; H 3.3%; Cl 11.6%;H2O 0.
6%; HO2CR'29.7%. 上記説明中、Ｒ' は下記の式：
【化４】 を表す。
【００９５】実施例１６：チタニウム(IV)ｎ−プロポキ
シドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオ
ン酸のチタニウム錯体（化合物（１２３））の製造 乾燥トルエン１００ｍｌ中の１４．２ｇ（５０ミリモ
ル）のチタニウム(IV)ｎ−プロポキシドと９．６１ｇ
（５０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸の溶液を窒素雰囲気下５０℃で１２時間にわた
り攪拌する。次いで反応混合物を冷却し、ロータリエバ
ポレータ上で蒸発し、残留分を５０℃で高減圧下乾燥す
る。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のチタ
ニウム錯体（化合物（１２３））を得る。 Ti(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Ti 11.5%; C 57.7%; H 7.8%. 分析値：Ti 11.5%; C 56.5%; H 7.6%.
シドを使用する３−（４−メチルベンゾイル）プロピオ
ン酸のチタニウム錯体（化合物（１２３））の製造 乾燥トルエン１００ｍｌ中の１４．２ｇ（５０ミリモ
ル）のチタニウム(IV)ｎ−プロポキシドと９．６１ｇ
（５０ミリモル）の３−（４−メチルベンゾイル）プロ
ピオン酸の溶液を窒素雰囲気下５０℃で１２時間にわた
り攪拌する。次いで反応混合物を冷却し、ロータリエバ
ポレータ上で蒸発し、残留分を５０℃で高減圧下乾燥す
る。３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のチタ
ニウム錯体（化合物（１２３））を得る。 Ti(OC3H7)3(O2CR)としての元素分析値、 計算値：Ti 11.5%; C 57.7%; H 7.8%. 分析値：Ti 11.5%; C 56.5%; H 7.6%.
【００９６】実施例１７：メインコート(Maincote)HG-5
4 を基材にしたアクリル分散液中の腐食抑制剤として
の、３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のアル
カリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の試験
4 を基材にしたアクリル分散液中の腐食抑制剤として
の、３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸のアル
カリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の試験
【００９７】メインコート(Maincote)HG-54 を基材にし
たアクリル分散液を製造するために、成分１ないし８
（添加物を含まない製剤）又は成分１ないし９（添加物
を含む製剤）を示した処方（第２表を参照）に従って添
加する。
たアクリル分散液を製造するために、成分１ないし８
（添加物を含まない製剤）又は成分１ないし９（添加物
を含む製剤）を示した処方（第２表を参照）に従って添
加する。
【００９８】
【表２】
【００９９】全固形分：４７％；ｐＨ：８ないし８．
５：ａ）メチルカルビトール（登録商標）：ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル（ユニオンカーバイ
ド）；ｂ）オロトン１６５（登録商標）：分散剤（ロー
ムアンドハース）；ｃ）トリトンＣＦ１０：非イオン性
湿潤剤（ロームアンドハース）；ｄ）ドルー プラス
ＴＳ４３８０（登録商標）：消泡剤（ドルーケミカルコ
ーポレーション(Drew Chem.Corp)) ；ｅ）アクリゾール
ＲＭ８（登録商標）：非イオン性増粘剤（ロームアンド
ハース）；ｆ）バイフェロックス１３０Ｍ（登録商
標）：赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）ミリカルブ
（登録商標）：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｈ）
メインコートＨＧ−５４（登録商標）：アクリル分散
液，脱イオン水中４１．５％（ロームアンドハース）；
ｉ）テキサノール（登録商標）：合体剤（Ｅａｓｔｍａ
ｎ Ｃｈｅｍ．Ｐｒｏｄ．，Ｉｎｃ．）；ｋ）フタル酸
ジブチル：可塑剤（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍ．Ｐｒｏ
ｄ．，Ｉｎｃ．）；ｌ）亜硝酸ナトリウム：銹膜抑制剤
（フルカ）；ｍ）ドルーＴ４３１０（登録商標）：非イ
オン消泡剤（Ｄｒｅｗ Ｃｈｅｍ．Ｃｏｒｐ．）．
５：ａ）メチルカルビトール（登録商標）：ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル（ユニオンカーバイ
ド）；ｂ）オロトン１６５（登録商標）：分散剤（ロー
ムアンドハース）；ｃ）トリトンＣＦ１０：非イオン性
湿潤剤（ロームアンドハース）；ｄ）ドルー プラス
ＴＳ４３８０（登録商標）：消泡剤（ドルーケミカルコ
ーポレーション(Drew Chem.Corp)) ；ｅ）アクリゾール
ＲＭ８（登録商標）：非イオン性増粘剤（ロームアンド
ハース）；ｆ）バイフェロックス１３０Ｍ（登録商
標）：赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）ミリカルブ
（登録商標）：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｈ）
メインコートＨＧ−５４（登録商標）：アクリル分散
液，脱イオン水中４１．５％（ロームアンドハース）；
ｉ）テキサノール（登録商標）：合体剤（Ｅａｓｔｍａ
ｎ Ｃｈｅｍ．Ｐｒｏｄ．，Ｉｎｃ．）；ｋ）フタル酸
ジブチル：可塑剤（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍ．Ｐｒｏ
ｄ．，Ｉｎｃ．）；ｌ）亜硝酸ナトリウム：銹膜抑制剤
（フルカ）；ｍ）ドルーＴ４３１０（登録商標）：非イ
オン消泡剤（Ｄｒｅｗ Ｃｈｅｍ．Ｃｏｒｐ．）．
【０１００】３，０００ｒｐｍで高速攪拌機を使用し
て、成分を＜１５μｍの破砕微粉末又は粉砕粒に分散す
る。かくして得られた顔料ペーストの分散物を、グライ
ンドメータ値（ＩＳＯ １５２４）の測定により評価す
る。本発明の腐食抑制剤の使用量は、添加物のない製剤
の全固形分（全固形分：４７％）を基準にする。従っ
て、例えば、分散液１００ｇ中の腐食抑制剤１％の添加
は０．４７ｇに相当する。塗料組成物を仕上げるため
に、第２表に記載の成分１０ないし１６を、示した処方
に従って、減速した攪拌速度（１，０００ｒｐｍ）で添
加する。次いで、製剤のｐＨをモニターして、必要があ
れば、使用前にアンモニア溶液（２５％）でｐＨ８ない
し８．５の値に調節する。
て、成分を＜１５μｍの破砕微粉末又は粉砕粒に分散す
る。かくして得られた顔料ペーストの分散物を、グライ
ンドメータ値（ＩＳＯ １５２４）の測定により評価す
る。本発明の腐食抑制剤の使用量は、添加物のない製剤
の全固形分（全固形分：４７％）を基準にする。従っ
て、例えば、分散液１００ｇ中の腐食抑制剤１％の添加
は０．４７ｇに相当する。塗料組成物を仕上げるため
に、第２表に記載の成分１０ないし１６を、示した処方
に従って、減速した攪拌速度（１，０００ｒｐｍ）で添
加する。次いで、製剤のｐＨをモニターして、必要があ
れば、使用前にアンモニア溶液（２５％）でｐＨ８ない
し８．５の値に調節する。
【０１０１】塗料組成物は、希釈しないで無気散布によ
り又は希釈の後ペインティング、ロール塗り又は通常の
散布により適用できる。通常の散布のために、製剤は，
散布粘度２２ないし２３秒（second) （フォードカップ
４；ＤＩＮ５３２１１）にまで希釈される。希釈剤：ブ
チルグリコール／脱イオン水＝１：１（ｇ／ｇ）。
り又は希釈の後ペインティング、ロール塗り又は通常の
散布により適用できる。通常の散布のために、製剤は，
散布粘度２２ないし２３秒（second) （フォードカップ
４；ＤＩＮ５３２１１）にまで希釈される。希釈剤：ブ
チルグリコール／脱イオン水＝１：１（ｇ／ｇ）。
【０１０２】製剤は、Ｑ−パネルＲ型の鉄鋼シート（１
０倍して１５ｃｍ）（冷間圧延し、未処理のもの：米
国、クリーブランド在、Ｑ−パネル・カンパニイから）
に、乾燥後５０μｍである厚みで適用される（乾燥条
件：室温で１０日間）。
０倍して１５ｃｍ）（冷間圧延し、未処理のもの：米
国、クリーブランド在、Ｑ−パネル・カンパニイから）
に、乾燥後５０μｍである厚みで適用される（乾燥条
件：室温で１０日間）。
【０１０３】暴露試験の前に、ボンダー(Bonder)評点装
置〔ドイツ国、へメル（Ｈｅｍｅｒ）５８７０在、ラウ
（Ｌａｕ）からの２０５型〕を使用して、平行な（即
ち、シートの長辺に対して平行な）切り傷の形式で塗膜
に限定損傷（０．５ｍｍ×７０）を与える。シートの端
は、端部プロテクター〔スイス国、ヴィンテルツール(W
interthur)在、イナートル(Inertol) ＡＧからのイコジ
ト(Icosit)２５５（登録商標）〕を使用して保護する。
置〔ドイツ国、へメル（Ｈｅｍｅｒ）５８７０在、ラウ
（Ｌａｕ）からの２０５型〕を使用して、平行な（即
ち、シートの長辺に対して平行な）切り傷の形式で塗膜
に限定損傷（０．５ｍｍ×７０）を与える。シートの端
は、端部プロテクター〔スイス国、ヴィンテルツール(W
interthur)在、イナートル(Inertol) ＡＧからのイコジ
ト(Icosit)２５５（登録商標）〕を使用して保護する。
【０１０４】試料を次いで１６８時間にわたる塩散布試
験(DIN 50 021 SS) と３３０時間にわたる凝縮試験(con
densation test)(ASTM D 4585-87) の促進暴露試験に処
する。結果を第３ないし第６表に纏める。結果は、防蝕
ファクター（ＣＰＦ）を得ることによる評価鍵に該当す
る適用できるＤＩＮ基準に基づいて評価される。ＣＰＦ
は、塗膜の評価と鉄鋼の評価を加算することにより（最
大値は１２点である。）得られる。塗膜と鉄鋼の最大値
は各々６点である。評点の多い程、防蝕性は優れてい
る。
験(DIN 50 021 SS) と３３０時間にわたる凝縮試験(con
densation test)(ASTM D 4585-87) の促進暴露試験に処
する。結果を第３ないし第６表に纏める。結果は、防蝕
ファクター（ＣＰＦ）を得ることによる評価鍵に該当す
る適用できるＤＩＮ基準に基づいて評価される。ＣＰＦ
は、塗膜の評価と鉄鋼の評価を加算することにより（最
大値は１２点である。）得られる。塗膜と鉄鋼の最大値
は各々６点である。評点の多い程、防蝕性は優れてい
る。
【０１０５】
【表３】
【０１０６】
【表４】
【０１０７】
【表５】
【０１０８】
【表６】
【０１０９】実施例１８：バイヒュドロール(Bayhydro
l)B 130 Hを基材にしたアルキド樹脂系中の腐食抑制剤
としての、３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の
試験 バイハイドロル B 130 Hを基材にした塗料組成物を製造
するために、成分１ないし６（添加物を含まない製剤）
又は成分１ないし７（添加物を含む製剤）を示した処方
（第７表を参照）に従って添加することにより実施例１
７に記載した手順を繰り返す。
l)B 130 Hを基材にしたアルキド樹脂系中の腐食抑制剤
としての、３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸
のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体の
試験 バイハイドロル B 130 Hを基材にした塗料組成物を製造
するために、成分１ないし６（添加物を含まない製剤）
又は成分１ないし７（添加物を含む製剤）を示した処方
（第７表を参照）に従って添加することにより実施例１
７に記載した手順を繰り返す。
【０１１０】
【表７】
【０１１１】全固形分：５６．１％；ａ）バイハイドロ
ール B 130 H（登録商標）：脱イオン水中３０％の，ア
ルキド樹脂，可水希釈性（バイエルＡＧ）；ｂ）サーヴ
ォシン WEB(8%)（登録商標）：コバルト系乾燥剤（金属
８％）（サーボデルデン(Servo delden)B.V.) ；ｃ）ア
スシニンＲ（登録商標）：オキシムを基材にしたスキン
インヒビター(skin inhbitor) （バイエルＡＧ）；ｄ）
バイフェロックス 130M（登録商標）：赤色酸化鉄（バ
イエルＡＧ）；ｅ）ヘラドール10（登録商標）：炭酸カ
ルシウム（ランゲ(Lange))；f)マイクロトルク AT Extr
a （登録商標）：微粉砕したタルク（ノルヴェギアン(N
orwegian) ；ｇ）エロジル 300（登録商標）：増粘剤と
チキソトロープ剤、化学的に純粋なシリカ（デグッサ(D
egussa))。
ール B 130 H（登録商標）：脱イオン水中３０％の，ア
ルキド樹脂，可水希釈性（バイエルＡＧ）；ｂ）サーヴ
ォシン WEB(8%)（登録商標）：コバルト系乾燥剤（金属
８％）（サーボデルデン(Servo delden)B.V.) ；ｃ）ア
スシニンＲ（登録商標）：オキシムを基材にしたスキン
インヒビター(skin inhbitor) （バイエルＡＧ）；ｄ）
バイフェロックス 130M（登録商標）：赤色酸化鉄（バ
イエルＡＧ）；ｅ）ヘラドール10（登録商標）：炭酸カ
ルシウム（ランゲ(Lange))；f)マイクロトルク AT Extr
a （登録商標）：微粉砕したタルク（ノルヴェギアン(N
orwegian) ；ｇ）エロジル 300（登録商標）：増粘剤と
チキソトロープ剤、化学的に純粋なシリカ（デグッサ(D
egussa))。
【０１１２】成分を３，０００ｒｐｍで高速攪拌機を使
用するか又は例えば水平ボールミルを使用して、成分を
＜１５μｍの破砕微粉末又は粉砕粒に分散する。かくし
て得られた顔料ペーストの分散物を、グラインドメータ
値（ＩＳＯ １５２４）の測定により評価する。本発明
の腐食抑制剤の使用量は、添加物のない製剤の全固形分
（全固形分：５６．１％）を基準にする。従って、例え
ば、分散液１００ｇ中の腐食抑制剤１％の添加は０．５
６ｇに相当する。塗料組成物を仕上げるために、第７表
に記載の成分８ないし１２を、示した処方に従って減速
した攪拌速度（１，０００ｒｐｍ）で添加する。
用するか又は例えば水平ボールミルを使用して、成分を
＜１５μｍの破砕微粉末又は粉砕粒に分散する。かくし
て得られた顔料ペーストの分散物を、グラインドメータ
値（ＩＳＯ １５２４）の測定により評価する。本発明
の腐食抑制剤の使用量は、添加物のない製剤の全固形分
（全固形分：５６．１％）を基準にする。従って、例え
ば、分散液１００ｇ中の腐食抑制剤１％の添加は０．５
６ｇに相当する。塗料組成物を仕上げるために、第７表
に記載の成分８ないし１２を、示した処方に従って減速
した攪拌速度（１，０００ｒｐｍ）で添加する。
【０１１３】Ｑ−パネルＲ型の鉄鋼シートへの製剤の適
用、塩散布試験（１６８時間）と防蝕ファクターＣＰＥ
の測定は、実施例１７に記載したようにして実施され
る。結果を第８表に纏める。評点の大きい程、防蝕性能
は優れている。
用、塩散布試験（１６８時間）と防蝕ファクターＣＰＥ
の測定は、実施例１７に記載したようにして実施され
る。結果を第８表に纏める。評点の大きい程、防蝕性能
は優れている。
【０１１４】
【表８】
【０１１５】実施例１９：アクリル酸エステル／スチレ
ンコポリマー（アクロナール(Acronal)S 760) を基材に
した水性分散液中の腐食抑制剤としての、３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸のアルカリ土類金属塩、
遷移金属塩及び遷移金属錯体の試験 アクロナール(Acronal)S 760を基材にした塗料組成物を
製造するために、成分１ないし５を初めに予備混合し、
次いで成分７と８（腐食抑制剤のない製剤）又は６ない
し８（腐食抑制剤、実施例８の化合物（１１５）のある
製剤）を示した処方（第９表を参照）に従って添加す
る。
ンコポリマー（アクロナール(Acronal)S 760) を基材に
した水性分散液中の腐食抑制剤としての、３−（４−メ
チルベンゾイル）プロピオン酸のアルカリ土類金属塩、
遷移金属塩及び遷移金属錯体の試験 アクロナール(Acronal)S 760を基材にした塗料組成物を
製造するために、成分１ないし５を初めに予備混合し、
次いで成分７と８（腐食抑制剤のない製剤）又は６ない
し８（腐食抑制剤、実施例８の化合物（１１５）のある
製剤）を示した処方（第９表を参照）に従って添加す
る。
【０１１６】
【表９】
【０１１７】全固形分：５７％；ａ）ピグメントフェル
タイレル (Pigmentverteiler)NL （登録商標）：分散剤
（バスフＡＧ）；ｂ）アクロナール(Acronal)S 760（登
録商標）：アクリル酸エステル／スチレン・コポリマー
（水性分散液、バスフＡＧ）；ｃ）シェルゾル(Shellso
l) D 60 （登録商標）：ホワイトスピリット（脂肪族溶
媒，シェル）；ｄ）アジタン 280（登録商標）：脱ガス
剤と消泡剤の組成物(ミュンツィング ヒェミー Gmb
H)；ｅ）ミリカルブ(Millicarb) （登録商標）：炭酸カ
ルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｆ）バイフェロックス(Bay
ferrox) 130 M（登録商標）：酸化鉄（バイエルＡ
Ｇ）；コラクラル(Collacral PU 85) ：増粘剤（バスフ
ＡＧ）。
タイレル (Pigmentverteiler)NL （登録商標）：分散剤
（バスフＡＧ）；ｂ）アクロナール(Acronal)S 760（登
録商標）：アクリル酸エステル／スチレン・コポリマー
（水性分散液、バスフＡＧ）；ｃ）シェルゾル(Shellso
l) D 60 （登録商標）：ホワイトスピリット（脂肪族溶
媒，シェル）；ｄ）アジタン 280（登録商標）：脱ガス
剤と消泡剤の組成物(ミュンツィング ヒェミー Gmb
H)；ｅ）ミリカルブ(Millicarb) （登録商標）：炭酸カ
ルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｆ）バイフェロックス(Bay
ferrox) 130 M（登録商標）：酸化鉄（バイエルＡ
Ｇ）；コラクラル(Collacral PU 85) ：増粘剤（バスフ
ＡＧ）。
【０１１８】得られた顔料ペーストを水平ボールミル又
は同様のもので粒径＜１５μｍにまで分散する。粒径の
粉末度はグラインドメータ値（ＩＳＯ １５２４）によ
り評価する。
は同様のもので粒径＜１５μｍにまで分散する。粒径の
粉末度はグラインドメータ値（ＩＳＯ １５２４）によ
り評価する。
【０１１９】次いで、塗料を仕上げるために、成分９な
いし１２を示した処方で添加する（第９表を参照）。適
用は常法の散布による。所望する粘度によっては、仕上
げた塗料をブチルジグリコール／脱イオン水（１：１
ｇ／ｇ）の添加により希釈させることができる。
いし１２を示した処方で添加する（第９表を参照）。適
用は常法の散布による。所望する粘度によっては、仕上
げた塗料をブチルジグリコール／脱イオン水（１：１
ｇ／ｇ）の添加により希釈させることができる。
【０１２０】塗料は、実施例１７に記載したようにし
て、ボンダー(Bonder)型の鋼鉄シート（冷間圧延と脱脂
をした鋼鉄、メイン、フランクフルト在、ヒェメタル(C
hemetall,Frankfurt am Main) から）に、乾燥後（乾燥
条件：室温で１４日間）１００μｍの厚みになるように
適用する。
て、ボンダー(Bonder)型の鋼鉄シート（冷間圧延と脱脂
をした鋼鉄、メイン、フランクフルト在、ヒェメタル(C
hemetall,Frankfurt am Main) から）に、乾燥後（乾燥
条件：室温で１４日間）１００μｍの厚みになるように
適用する。
【０１２１】塩散布試験（１６８時間）と防蝕ファクタ
ーＣＰＦの測定は、実施例１７に記載したようにして実
施される。結果を表１０に纏める。数値の大きい程、防
蝕性能は高い。
ーＣＰＦの測定は、実施例１７に記載したようにして実
施される。結果を表１０に纏める。数値の大きい程、防
蝕性能は高い。
【０１２２】
フロントページの続き (72)発明者 アダルベルト ブレイク ドイツ連邦共和国，79589 ビンツェン, バーゼルシュトラーセ 20 (72)発明者 マークス フレイ スイス国，1723 マーリ，ルート ド サ ーンツル 19 (72)発明者 アンドレアス クラメル スイス国，3186 ジュージンゲン，ブンツ テルス ３
Claims (20)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は、互いに独
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
された炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
た炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の又はアリール基上が炭素原子数１ないし４のアルキル
基の１ないし３個により置換された炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6
又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し、 但し、Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも一つは水素原子、ハ
ロゲン原子又は炭素原子数１ないし１５のアルキル基を
表すものとし；更に、置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、
Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ5 は、それらが結合している
炭素原子と一緒になって、ベンゾ又はシクロヘキセニル
環を形成し；Ｒ6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル
基、酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により中
断されている炭素原子数２ないし２０のアルキル基；未
置換の又はアリール基上が炭素原子数１ないし４のアル
キル基の１ないし３個により置換されている炭素原子数
７ないし１２のアリールアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ
8 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし
２４のアルキル基又は酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（−
Ｒ9 ）−により中断されている炭素原子数２ないし２４
のアルキル基を表し；Ｒ9 は水素原子又は炭素原子数１
ないし８のアルキル基を表し；そしてｎは１ないし１０
の範囲内の整数を表す。）の化合物のアルカリ土類金属
塩、遷移金属塩又は遷移金属錯体。 - 【請求項２】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 が、互い
に独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子
数２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１
２のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコ
キシ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、炭
素原子数６ないし１０のアリール基、炭素原子数６ない
し１０のアリールオキシ基、炭素原子数７ないし１２の
アリールアルキル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−
Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；但し、置換基Ｒ1 ない
しＲ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は
炭素原子数１ないし１５のアルキル基を表すものとし；
更に置換基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又は
Ｒ4 とＲ5 は、それらが結合している炭素原子と一緒に
なって、ベンゾ又はシクロヘキセニル環を形成し；そし
てＲ6 は炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原
子、硫黄原子又は−Ｎ（−Ｒ9 ）−により中断されてい
る炭素原子数２ないし２０のアルキル基；又は炭素原子
数７ないし１２のアリールアルキル基を表す請求項１記
載の化合物。 - 【請求項３】置換基Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも二つが
水素原子である請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】金属がカルシウム、チタン、マンガン、
鉄、コバルト、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ラ
ンタン又はセリウムである請求項１記載の化合物。 - 【請求項５】金属がジルコニウムである請求項１記載の
化合物。 - 【請求項６】Ｒ1 が水素原子を表し；Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4
及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩素原子、臭
素原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１な
いし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基、炭素
原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし
８のアルキルチオ基、フェニル基、フェニルオキシ基、
ベンジル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ
7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、酸素原子により中断されている炭素原子
数２ないし１２のアルキル基；又はベンジル基を表し；
Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、水素原子、炭素原子
数１ないし８のアルキル基又は酸素原子により中断され
ている炭素原子数２ないし１２のアルキル基を表し；そ
してｎが１ないし５の範囲内の整数を表す請求項１記載
の化合物。 - 【請求項７】Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ4 が水素原子を表し；Ｒ
3 及びＲ5 が、互いに独立して、水素原子、塩素原子、
臭素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のアルコ
キシ基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）
（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし８のアル
キル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が、互いに独立して、水素
原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そ
してｎが２ないし４の範囲内の整数を表す請求項１記載
の化合物。 - 【請求項８】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表
しそしてｎが２を表す請求項１記載の化合物。 - 【請求項９】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表
し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル
基又は塩素原子を表し；ｎが２を表し；そして金属がカ
ルシウム、チタン、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、イ
ットリウム、ジルコニウム、ランタン又はセリウムであ
る請求項１記載の化合物。 - 【請求項１０】ａ）有機フィルム−形成結合剤 及び ｂ）腐食抑制剤としての請求項１に記載の式Ｉの化合物
の少なくとも一種からなる塗料組成物。 - 【請求項１１】塗料組成物が液体である請求項１０記載
の塗料組成物。 - 【請求項１２】塗料組成物が水を基材とする液体である
請求項１０記載の塗料組成物。 - 【請求項１３】成分ａ）が、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリルコ
ポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェノール樹脂、アル
キド樹脂又はそのような樹脂の混合物である請求項１０
記載の塗料組成物。 - 【請求項１４】顔料、染料、充填剤、流れ調整剤、分散
剤、チキソトロープ剤、接着促進剤、抗酸化剤、光安定
剤又は硬化触媒から選択された１種又はそれより多い成
分を追加してなる請求項１０記載の塗料組成物。 - 【請求項１５】成分ｂ）が、塗料組成物の全重量を基準
にして０．０１ないし２０％の量で存在する請求項１０
記載の塗料組成物。 - 【請求項１６】式Ｉの化合物のケトカルボン酸又はその
アルカリ金属塩をアルカリ土類金属又は遷移金属化合物
と反応させることからなる、請求項１記載の式Ｉの化合
物のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩又は遷移金属錯体
を製造するための方法。 - 【請求項１７】使用されるアルカリ土類金属又は遷移金
属化合物が、塩、有機金属化合物又は無機金属塩基であ
る請求項１６記載の方法。 - 【請求項１８】式Ｉのケトカルボン酸の遷移金属化合物
に対するモル比が２０：１ないし１：１０である請求項
１６記載の方法。 - 【請求項１９】遷移金属化合物がジルコニウム又はチタ
ン化合物である請求項１６記載の方法。 - 【請求項２０】式Ｉの化合物又はそのアルカリ金属塩
を、アルカリ土類金属又は遷移金属化合物と反応させる
ことにより得られる生成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH105993 | 1993-04-07 | ||
| CH1059/93-0 | 1993-04-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06321851A true JPH06321851A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=4201489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6093699A Withdrawn JPH06321851A (ja) | 1993-04-07 | 1994-04-07 | 腐食抑制剤としての、ケトカルボン酸のアルカリ土類金属塩、遷移金属塩及び遷移金属錯体 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5458678A (ja) |
| EP (1) | EP0619290B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06321851A (ja) |
| KR (1) | KR100300553B1 (ja) |
| CN (1) | CN1050119C (ja) |
| AT (1) | ATE143936T1 (ja) |
| AU (1) | AU670359B2 (ja) |
| BR (1) | BR9401407A (ja) |
| CA (1) | CA2120589A1 (ja) |
| DE (1) | DE59400788D1 (ja) |
| ES (1) | ES2095143T3 (ja) |
| HK (1) | HK1004751A1 (ja) |
| RU (1) | RU2130010C1 (ja) |
| SG (1) | SG49903A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA942301B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2002543234A (ja) * | 1999-04-22 | 2002-12-17 | ピーピージー インダストリーズ オハイオ， インコーポレイテッド | イットリウムを含有する電着浴 |
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