JPH06314500A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH06314500A JPH06314500A JP5105667A JP10566793A JPH06314500A JP H06314500 A JPH06314500 A JP H06314500A JP 5105667 A JP5105667 A JP 5105667A JP 10566793 A JP10566793 A JP 10566793A JP H06314500 A JPH06314500 A JP H06314500A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding current
- holding
- memory
- memory cells
- semiconductor memory
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、半導体記憶装置特にECL型メモ
リセルで構成される半導体記憶装置に関し、製造バラツ
キにかかわらずにメモリセルの記憶保持能力を試験する
ことができる半導体記憶装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 ECL型メモリセル14〜14と、該メモリ
セル14〜14に保持電流23〜23を流す保持電流源
18〜18と、を含む半導体記憶装置において、保持電
流源18〜18を流れる保持電流23〜23を遮断する
ように構成する。
リセルで構成される半導体記憶装置に関し、製造バラツ
キにかかわらずにメモリセルの記憶保持能力を試験する
ことができる半導体記憶装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 ECL型メモリセル14〜14と、該メモリ
セル14〜14に保持電流23〜23を流す保持電流源
18〜18と、を含む半導体記憶装置において、保持電
流源18〜18を流れる保持電流23〜23を遮断する
ように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置特にE
CL型メモリセルで構成される半導体記憶装置に関す
る。
CL型メモリセルで構成される半導体記憶装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】メモリセルは、α線やその他のノイズに
よる反転し易いという特性がある。そこで、メモリセル
の出荷時に予め試験を行って不良なメモリセルを発見
し、信頼性の高いメモリセルを供給できるようにしてい
る。
よる反転し易いという特性がある。そこで、メモリセル
の出荷時に予め試験を行って不良なメモリセルを発見
し、信頼性の高いメモリセルを供給できるようにしてい
る。
【0003】上記メモリセルの出荷時の試験について説
明すると、メモリセルの電源電圧等を変化させることに
よりメモリセルの保持電流を減少させ、メモリセルが反
転し始めるときの電源電圧を求める。そして、このとき
の電源電圧がある規定を満たさない場合には、該メモリ
セルを不良品としていた。
明すると、メモリセルの電源電圧等を変化させることに
よりメモリセルの保持電流を減少させ、メモリセルが反
転し始めるときの電源電圧を求める。そして、このとき
の電源電圧がある規定を満たさない場合には、該メモリ
セルを不良品としていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】メモリセルが反転を始
めるときの電源電圧がそのままセルの記憶保持能力を表
しているとは限らない。すなわち、一般に、半導体記憶
装置では、これを構成する各素子に製造バラツキを持つ
ので、別々に製造された複数の記憶装置においては、同
一の電源条件に対して保持電流等のセルにかかる条件が
一定であるとは保証できない。一方、電源電圧を完全に
遮断すれば、製造バラツキによらず保持電流を遮断する
ことが可能であるが、現在、mS単位で電源をコントロ
ールできるICテスタは存在しない。
めるときの電源電圧がそのままセルの記憶保持能力を表
しているとは限らない。すなわち、一般に、半導体記憶
装置では、これを構成する各素子に製造バラツキを持つ
ので、別々に製造された複数の記憶装置においては、同
一の電源条件に対して保持電流等のセルにかかる条件が
一定であるとは保証できない。一方、電源電圧を完全に
遮断すれば、製造バラツキによらず保持電流を遮断する
ことが可能であるが、現在、mS単位で電源をコントロ
ールできるICテスタは存在しない。
【0005】そこで、本発明の目的は、製造バラツキに
かかわらずにメモリセルの記憶保持能力を試験すること
ができる半導体記憶装置を提供することにある。
かかわらずにメモリセルの記憶保持能力を試験すること
ができる半導体記憶装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、ECL型メモ
リセル14〜14と、該メモリセル14〜14に保持電
流23〜23を流す保持電流源18〜18と、を含む半
導体記憶装置において、前記保持電流源18〜18を流
れる保持電流23〜23を遮断する遮断回路24を設け
たことを特徴とする。
リセル14〜14と、該メモリセル14〜14に保持電
流23〜23を流す保持電流源18〜18と、を含む半
導体記憶装置において、前記保持電流源18〜18を流
れる保持電流23〜23を遮断する遮断回路24を設け
たことを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明において、外部入力信号により遮断回路
24が作動すると、該遮断回路24は保持電流源18〜
18を流れる保持電流を完全に遮断する。このとき、メ
モリセル14〜14の記憶保持時間を測定することによ
り、メモリセルの記憶保持能力を試験する。
24が作動すると、該遮断回路24は保持電流源18〜
18を流れる保持電流を完全に遮断する。このとき、メ
モリセル14〜14の記憶保持時間を測定することによ
り、メモリセルの記憶保持能力を試験する。
【0008】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例
を説明する。図1には、本発明の実施例による半導体記
憶装置の回路構成が示されており、図1(A)は、遮断
回路としてバイポーラトランジスタを用いた場合を示し
ている。
を説明する。図1には、本発明の実施例による半導体記
憶装置の回路構成が示されており、図1(A)は、遮断
回路としてバイポーラトランジスタを用いた場合を示し
ている。
【0009】図1(A)において、ワード線10〜10
とビット線12〜12とは、直交配置されており、メモ
リセル14〜14は、ワード線10〜10及びビット線
12〜12に接続されている。メモリセル14〜14か
らの保持線16は、保持電流源18内のトランジスタ2
0のコレクタに接続されており、該トランジスタ20の
ベースは、基準電位Vref に接続され、トランジスタ2
0のエミッタは、抵抗22を介して接地されている。そ
して、トランジスタ20がオン作動することにより、保
持線16を介してメモリセル14〜14に保持電流23
が流れ、これにより、メモリセル14〜14の記憶が保
持されることとなる。
とビット線12〜12とは、直交配置されており、メモ
リセル14〜14は、ワード線10〜10及びビット線
12〜12に接続されている。メモリセル14〜14か
らの保持線16は、保持電流源18内のトランジスタ2
0のコレクタに接続されており、該トランジスタ20の
ベースは、基準電位Vref に接続され、トランジスタ2
0のエミッタは、抵抗22を介して接地されている。そ
して、トランジスタ20がオン作動することにより、保
持線16を介してメモリセル14〜14に保持電流23
が流れ、これにより、メモリセル14〜14の記憶が保
持されることとなる。
【0010】上記保持電流源18を流れる保持電流23
を遮断するために、遮断回路24が設けられており、こ
の遮断回路24は、トランジスタ26〜26を含む。ト
ランジスタ26〜26のエミッタは、それぞれ保持電流
源18〜18内のトランジスタ20と抵抗22との結合
部に接続され、トランジスタ26〜26のコレクタは、
GNDに接続され、トランジスタ26〜26のベース
は、共通の外部入力端子28に接続されている。
を遮断するために、遮断回路24が設けられており、こ
の遮断回路24は、トランジスタ26〜26を含む。ト
ランジスタ26〜26のエミッタは、それぞれ保持電流
源18〜18内のトランジスタ20と抵抗22との結合
部に接続され、トランジスタ26〜26のコレクタは、
GNDに接続され、トランジスタ26〜26のベース
は、共通の外部入力端子28に接続されている。
【0011】次に、作用を説明する。 ステップi) 外部入力端子28の入力信号電位<V
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26はオフ状態で
あるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ20
〜20はオン状態であり、メモリセル14〜14には保
持電流23〜23が流れ、メモリセル14〜14は通常
に動作する。この状態で全てのメモリセル14〜14に
データを書き込む。 ステップii) 外部入力端子28の入力信号電位>V
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26はオン状態に
なるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ20
〜20はオフ状態になり、メモリセル14〜14への保
持電流23〜23は遮断される。この時点から、各メモ
リセル14〜14は固有の時定数で放電を始め、メモリ
セル14〜14では、記憶保持能力の小さいものから反
転の可能性が大きくなる。 ステップiii ) 外部入力端子28の入力信号電位<V
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26は再びオフ状
態になるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ
20〜20はオン状態になり、メモリセル14〜14に
は、再び保持電流23〜23が流れ、メモリセル14〜
14は保持状態に復帰する。ここで、全てのメモリセル
14〜14のデータを読み出し、メモリセル14〜14
が反転したか否かを調べる。そして、前記ステップii)
での保持電流遮断時間を変化させることにより、最も反
転し易いメモリセルを発見し、その記憶保持能力を判定
できる。
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26はオフ状態で
あるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ20
〜20はオン状態であり、メモリセル14〜14には保
持電流23〜23が流れ、メモリセル14〜14は通常
に動作する。この状態で全てのメモリセル14〜14に
データを書き込む。 ステップii) 外部入力端子28の入力信号電位>V
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26はオン状態に
なるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ20
〜20はオフ状態になり、メモリセル14〜14への保
持電流23〜23は遮断される。この時点から、各メモ
リセル14〜14は固有の時定数で放電を始め、メモリ
セル14〜14では、記憶保持能力の小さいものから反
転の可能性が大きくなる。 ステップiii ) 外部入力端子28の入力信号電位<V
ref の場合 遮断回路24内のトランジスタ26〜26は再びオフ状
態になるので、保持電流源18〜18内のトランジスタ
20〜20はオン状態になり、メモリセル14〜14に
は、再び保持電流23〜23が流れ、メモリセル14〜
14は保持状態に復帰する。ここで、全てのメモリセル
14〜14のデータを読み出し、メモリセル14〜14
が反転したか否かを調べる。そして、前記ステップii)
での保持電流遮断時間を変化させることにより、最も反
転し易いメモリセルを発見し、その記憶保持能力を判定
できる。
【0012】上記図1(A)では、遮断回路としてバイ
ポーラトランジスタを用いているが、遮断回路としてM
OSトランジスタを用いることもでき、このMOSトラ
ンジスタを用いた場合が図1(B)に示されている。
ポーラトランジスタを用いているが、遮断回路としてM
OSトランジスタを用いることもでき、このMOSトラ
ンジスタを用いた場合が図1(B)に示されている。
【0013】図1(B)において、保持電流源18は、
前記図1(A)と同様に、トランジスタ20及び抵抗2
2を含み、保持電流源18を流れる保持電流23を遮断
するために、遮断回路24が設けられており、この遮断
回路24は、MOSトランジスタ30を含む。MOSト
ランジスタ30は、そのソースが基準電位Vref に接続
され、そのゲートが外部入力端子28に接続されてお
り、MOSトランジスタ30のドレインは、保持電流源
18内のトランジスタ20のベースに接続されている。
前記図1(A)と同様に、トランジスタ20及び抵抗2
2を含み、保持電流源18を流れる保持電流23を遮断
するために、遮断回路24が設けられており、この遮断
回路24は、MOSトランジスタ30を含む。MOSト
ランジスタ30は、そのソースが基準電位Vref に接続
され、そのゲートが外部入力端子28に接続されてお
り、MOSトランジスタ30のドレインは、保持電流源
18内のトランジスタ20のベースに接続されている。
【0014】そして、外部入力端子28の入力信号電位
を変化させることによりMOSトランジスタ30をオン
オフ作動させ、トランジスタ20をオンオフ作動させる
ことができるので、前記図1(A)の場合と同様に、保
持電流源18は、保持電流23を流したり遮断したりす
ることが可能である。
を変化させることによりMOSトランジスタ30をオン
オフ作動させ、トランジスタ20をオンオフ作動させる
ことができるので、前記図1(A)の場合と同様に、保
持電流源18は、保持電流23を流したり遮断したりす
ることが可能である。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば保
持電流源を流れる保持電流を遮断する遮断回路を設けて
いるので、保持電流を完全に遮断することが可能であ
る。これにより、メモリセルの記憶保持時間を測定で
き、製造バラツキにかかわらず、メモリセルの記憶保持
能力を試験することが可能である。
持電流源を流れる保持電流を遮断する遮断回路を設けて
いるので、保持電流を完全に遮断することが可能であ
る。これにより、メモリセルの記憶保持時間を測定で
き、製造バラツキにかかわらず、メモリセルの記憶保持
能力を試験することが可能である。
【図1】本発明の実施例による半導体記憶装置の回路構
成を示し、(A),(B)は、それぞれ遮断回路として
バイポーラトランジスタを用いた場合、MOSトランジ
スタを用いた場合を示す。
成を示し、(A),(B)は、それぞれ遮断回路として
バイポーラトランジスタを用いた場合、MOSトランジ
スタを用いた場合を示す。
14〜14…メモリセル 18〜18…保持電流源 23〜23…保持電流 24…遮断回路
Claims (1)
- 【請求項1】 ECL型メモリセル(14〜14)と、
該メモリセル(14〜14)に保持電流(23〜23)
を流す保持電流源(18〜18)と、を含む半導体記憶
装置において、 前記保持電流源(18〜18)を流れる保持電流(23
〜23)を遮断する遮断回路(24)を設けたことを特
徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5105667A JPH06314500A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-06 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5105667A JPH06314500A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-06 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06314500A true JPH06314500A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14413797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5105667A Withdrawn JPH06314500A (ja) | 1993-05-06 | 1993-05-06 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06314500A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008059725A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
-
1993
- 1993-05-06 JP JP5105667A patent/JPH06314500A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008059725A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
US7805643B2 (en) | 2006-09-01 | 2010-09-28 | Fujitsu Semiconductor Limited | Non-volatile semiconductor memory device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000801 |