JPH06290424A - 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH06290424A JPH06290424A JP7320393A JP7320393A JPH06290424A JP H06290424 A JPH06290424 A JP H06290424A JP 7320393 A JP7320393 A JP 7320393A JP 7320393 A JP7320393 A JP 7320393A JP H06290424 A JPH06290424 A JP H06290424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- insulating layer
- layer
- head
- magnetoresistive effect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気抵抗効果型磁気ヘッドを構成しているそ
れぞれの層、膜の寿命特性を向上させ、信頼性を向上さ
せる。 【構成】 １６はＭＲヘッドを構成する多結晶フェライ
ト基板であり、この多結晶フェライト基板１６の面１７
は研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられ、この多結
晶フェライト基板１６の面１７に形成された非磁性体絶
縁層である。この非磁性体絶縁層２０を矢印２１に示す
上面側からの研磨加工によって点線２２に示す所定の位
置を平滑に鏡面にした面２３にする。
れぞれの層、膜の寿命特性を向上させ、信頼性を向上さ
せる。 【構成】 １６はＭＲヘッドを構成する多結晶フェライ
ト基板であり、この多結晶フェライト基板１６の面１７
は研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられ、この多結
晶フェライト基板１６の面１７に形成された非磁性体絶
縁層である。この非磁性体絶縁層２０を矢印２１に示す
上面側からの研磨加工によって点線２２に示す所定の位
置を平滑に鏡面にした面２３にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク装置等の磁
気記録装置に用いられる磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
気記録装置に用いられる磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体として高保磁力、高
残留磁束密度、低ノイズの特徴を有する金属薄膜ディス
クが開発され、磁気ヘッドとしてメタルインギャップヘ
ッドや薄膜ヘッド、さらに、金属磁性膜を積層した積層
型磁気ヘッド等が開発されてきている。しかし、これ等
の磁気ヘッドは全て電磁誘導現象を利用したものであ
り、その再生出力は磁気ヘッドと磁気ディスクとの相対
速度に比例する。磁気ディスクの径が小さくなると、十
分な再生出力を得ることができなくなってくる。そのた
め、磁気抵抗効果を利用して磁気ディスクからの磁束を
感磁する磁気抵抗効果型磁気ヘッド（以下ＭＲヘッド）
が使用されている。
残留磁束密度、低ノイズの特徴を有する金属薄膜ディス
クが開発され、磁気ヘッドとしてメタルインギャップヘ
ッドや薄膜ヘッド、さらに、金属磁性膜を積層した積層
型磁気ヘッド等が開発されてきている。しかし、これ等
の磁気ヘッドは全て電磁誘導現象を利用したものであ
り、その再生出力は磁気ヘッドと磁気ディスクとの相対
速度に比例する。磁気ディスクの径が小さくなると、十
分な再生出力を得ることができなくなってくる。そのた
め、磁気抵抗効果を利用して磁気ディスクからの磁束を
感磁する磁気抵抗効果型磁気ヘッド（以下ＭＲヘッド）
が使用されている。
【０００３】以下、従来のＭＲヘッドの製造方法につい
て図を参照しながら説明する。図３はＭＲヘッドを示す
斜視図である。図４は図３のＭＲヘッドの断面図を示
す。図において、１はＭｎＺｎフェライト等の多結晶フ
ェライト基板であり、この多結晶フェライト基板１の面
２が研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられている。
多結晶フェライト基板１の面２の上にＳｉＯ2 ，Ａｌ2
Ｏ3 等をスパッタリング等で非磁性体絶縁層３を形成す
る。この非磁性体絶縁層３の上にスパッタリング等でバ
イアス磁界を発生させる軟磁性膜４が形成される。
て図を参照しながら説明する。図３はＭＲヘッドを示す
斜視図である。図４は図３のＭＲヘッドの断面図を示
す。図において、１はＭｎＺｎフェライト等の多結晶フ
ェライト基板であり、この多結晶フェライト基板１の面
２が研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられている。
多結晶フェライト基板１の面２の上にＳｉＯ2 ，Ａｌ2
Ｏ3 等をスパッタリング等で非磁性体絶縁層３を形成す
る。この非磁性体絶縁層３の上にスパッタリング等でバ
イアス磁界を発生させる軟磁性膜４が形成される。
【０００４】さらに軟磁性膜４を磁気的に分離するよう
にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で中間層
５を形成する。この中間層５の上にＮｉＦｅ合金等から
なる磁気抵抗効果素子（以下ＭＲ素子と略す）６をスパ
ッタリング等で形成させる。さらにＭＲ素子６の両端に
ＦｅＭｎ等からなる反強磁性膜７を設ける。この反強磁
性膜７の上に重ねてＭＲ素子６に電流を流すリード部８
をスパッタリング等で形成させる。リード部８およびリ
ード部８との間のＭＲ素子６の中央部の上にＳｉＯ2 ，
Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で酸化物絶縁層９を形
成する。
にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で中間層
５を形成する。この中間層５の上にＮｉＦｅ合金等から
なる磁気抵抗効果素子（以下ＭＲ素子と略す）６をスパ
ッタリング等で形成させる。さらにＭＲ素子６の両端に
ＦｅＭｎ等からなる反強磁性膜７を設ける。この反強磁
性膜７の上に重ねてＭＲ素子６に電流を流すリード部８
をスパッタリング等で形成させる。リード部８およびリ
ード部８との間のＭＲ素子６の中央部の上にＳｉＯ2 ，
Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で酸化物絶縁層９を形
成する。
【０００５】さらに酸化物絶縁層９の上にＮｉＦｅ合金
等からなる下部磁性層１０をスパッタリング等で形成す
る。この下部磁性層１０の上にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等
をスパッタリング等で書き込み用の磁気ギャップ１１が
形成される。又、下部磁性層１０の上に書き込み用の電
流を流す為の銅膜からなるコイル１２を設ける。このコ
イル１２を絶縁する絶縁層１３が形成される。さらに磁
気ギャップ１１とコイル１２を絶縁している絶縁層１３
を覆うようにＮｉＦｅ合金等からなる上部磁性層１４を
スパッタリング等で形成する。この様にして下部磁性層
１０を上部磁性層１４との間に磁気ギャップ１１とコイ
ル１２を有した書き込み用の磁気回路が形成される。
等からなる下部磁性層１０をスパッタリング等で形成す
る。この下部磁性層１０の上にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等
をスパッタリング等で書き込み用の磁気ギャップ１１が
形成される。又、下部磁性層１０の上に書き込み用の電
流を流す為の銅膜からなるコイル１２を設ける。このコ
イル１２を絶縁する絶縁層１３が形成される。さらに磁
気ギャップ１１とコイル１２を絶縁している絶縁層１３
を覆うようにＮｉＦｅ合金等からなる上部磁性層１４を
スパッタリング等で形成する。この様にして下部磁性層
１０を上部磁性層１４との間に磁気ギャップ１１とコイ
ル１２を有した書き込み用の磁気回路が形成される。
【０００６】このように構成したＭＲヘッドの動作を説
明する。まず、書き込みについて説明する。回転してい
る磁気記録媒体と磁気ヘッドを浮上させた状態で、書き
込み用のコイル１２に信号電流を流すことによって磁気
ギャップ１１の近傍に信号電流に比例した磁界を発生さ
せて、記録された信号を消去すると共に磁気記録媒体の
磁性層を磁化させて磁気記録する。
明する。まず、書き込みについて説明する。回転してい
る磁気記録媒体と磁気ヘッドを浮上させた状態で、書き
込み用のコイル１２に信号電流を流すことによって磁気
ギャップ１１の近傍に信号電流に比例した磁界を発生さ
せて、記録された信号を消去すると共に磁気記録媒体の
磁性層を磁化させて磁気記録する。
【０００７】次に再生について説明する。回転している
磁気記録媒体と磁気ヘッドを浮上させて、一方のリード
部８よりセンス電流は反強磁性膜７を介してＭＲ素子６
に供給され他方のリード部８へと流れる。この時、ＭＲ
素子６に流れるセンス電流はＭＲ素子６と軟磁性膜４と
中間層５との抵抗比により、ＭＲ素子６と軟磁性膜４と
中間層５とに分流することになる。通常、軟磁性膜４と
中間層５はＭＲ素子６に比べて比抵抗の大きな材料を選
択するためセンス電流は略ＭＲ素子６に流れることにな
る。
磁気記録媒体と磁気ヘッドを浮上させて、一方のリード
部８よりセンス電流は反強磁性膜７を介してＭＲ素子６
に供給され他方のリード部８へと流れる。この時、ＭＲ
素子６に流れるセンス電流はＭＲ素子６と軟磁性膜４と
中間層５との抵抗比により、ＭＲ素子６と軟磁性膜４と
中間層５とに分流することになる。通常、軟磁性膜４と
中間層５はＭＲ素子６に比べて比抵抗の大きな材料を選
択するためセンス電流は略ＭＲ素子６に流れることにな
る。
【０００８】ＭＲ素子６の端部と端部の間の再生部６ａ
の図中矢印１５方向の磁化容易軸方向にセンス電流を流
し、このセンス電流により中間層５を介して配置された
軟磁性膜４が磁化される。そして磁化された軟磁性膜４
から発生する磁界によりＭＲ素子６にバイアス磁界が印
加される。一方、ＭＲ素子６の再生部６ａの磁化容易軸
方向に垂直な膜面内磁化困難軸方向に、磁気記録媒体に
記録された磁束の信号磁界を流入させると、流入した磁
束によってＭＲ素子６の抵抗が変化する。この抵抗変化
を再生出力電圧として検出する。
の図中矢印１５方向の磁化容易軸方向にセンス電流を流
し、このセンス電流により中間層５を介して配置された
軟磁性膜４が磁化される。そして磁化された軟磁性膜４
から発生する磁界によりＭＲ素子６にバイアス磁界が印
加される。一方、ＭＲ素子６の再生部６ａの磁化容易軸
方向に垂直な膜面内磁化困難軸方向に、磁気記録媒体に
記録された磁束の信号磁界を流入させると、流入した磁
束によってＭＲ素子６の抵抗が変化する。この抵抗変化
を再生出力電圧として検出する。
【０００９】このように磁気記録媒体から発生する磁束
を電圧として検出するときに相対速度に依存せずに再生
出力電圧を得ることができる。
を電圧として検出するときに相対速度に依存せずに再生
出力電圧を得ることができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の製造方法
では、図３に示すように多結晶フェライト基板１の面２
を研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられているが、
多結晶体であるために加工中の結晶粒の脱粒によって面
２にポアや結晶粒の脱粒に伴うスクラッチが残り、その
面２に次の工程のＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリ
ング等で非磁性体絶縁層３を形成するが、その際、非磁
性体絶縁層３を形成した面に、面２のポアやスクラッチ
がＲａ＝１５０Å程度の表面荒さが残る。この表面荒さ
によってＭＲヘッドを構成する各種の膜の寿命特性が劣
化し、信頼性が低下するという問題点を有していた。
では、図３に示すように多結晶フェライト基板１の面２
を研磨加工によって平滑で鏡面に仕上げられているが、
多結晶体であるために加工中の結晶粒の脱粒によって面
２にポアや結晶粒の脱粒に伴うスクラッチが残り、その
面２に次の工程のＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリ
ング等で非磁性体絶縁層３を形成するが、その際、非磁
性体絶縁層３を形成した面に、面２のポアやスクラッチ
がＲａ＝１５０Å程度の表面荒さが残る。この表面荒さ
によってＭＲヘッドを構成する各種の膜の寿命特性が劣
化し、信頼性が低下するという問題点を有していた。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のＭＲヘッドの製造方法は、多結晶フェライト
基板に非磁性体絶縁層を形成した後に、非磁性体絶縁層
を研磨加工をして形成した構成を有している。
に本発明のＭＲヘッドの製造方法は、多結晶フェライト
基板に非磁性体絶縁層を形成した後に、非磁性体絶縁層
を研磨加工をして形成した構成を有している。
【００１２】
【作用】この構成によって、残存していたポアやスクラ
ッチを無くした非磁性体絶縁層の面に他の層、膜を形成
したので他の層、膜の寿命特性が向上し、信頼性を向上
させたＭＲヘッドを得ることができる。
ッチを無くした非磁性体絶縁層の面に他の層、膜を形成
したので他の層、膜の寿命特性が向上し、信頼性を向上
させたＭＲヘッドを得ることができる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の一実施例について図を参照しな
がら説明する。図１において、１６はＭＲヘッドを構成
するＭｎＺｎからなる多結晶フェライト基板であり、こ
の多結晶フェライト基板１６の面１７は研磨加工によっ
て平滑で鏡面に仕上げられている。１８は面１７に研磨
加工中に結晶粒の脱粒から生じたポア、１９は研磨加工
中に脱粒した結晶粒が起因して生じたスクラッチであ
る。
がら説明する。図１において、１６はＭＲヘッドを構成
するＭｎＺｎからなる多結晶フェライト基板であり、こ
の多結晶フェライト基板１６の面１７は研磨加工によっ
て平滑で鏡面に仕上げられている。１８は面１７に研磨
加工中に結晶粒の脱粒から生じたポア、１９は研磨加工
中に脱粒した結晶粒が起因して生じたスクラッチであ
る。
【００１４】図２において、２０は多結晶フェライト基
板１６の面１７にＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3 等をスパッタリ
ング等で形成された非磁性体絶縁層である。この非磁性
体絶縁層２０の上面２１に非磁性体絶縁層２０が点線２
２に示す厚さになるまで、研磨加工を施して、図２
（ｂ）に示す様に非磁性体絶縁層２０の面２３を鏡面に
加工する。
板１６の面１７にＳｉＯ2 ，Ａｌ2Ｏ3 等をスパッタリ
ング等で形成された非磁性体絶縁層である。この非磁性
体絶縁層２０の上面２１に非磁性体絶縁層２０が点線２
２に示す厚さになるまで、研磨加工を施して、図２
（ｂ）に示す様に非磁性体絶縁層２０の面２３を鏡面に
加工する。
【００１５】次に鏡面にした面２３に従来技術の工程に
従って他の層、膜を形成してＭＲヘッドを形成するので
説明は省略する。
従って他の層、膜を形成してＭＲヘッドを形成するので
説明は省略する。
【００１６】この様に本発明の実施例によれば、従来は
多結晶フェライト基板を研磨加工した面の表面荒さがＲ
ａ＝１５０Åという状態でＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をス
パッタリング等で非磁性体絶縁層２０を形成し、更に、
それぞれの他の層、膜を形成してＭＲヘッドを構成して
いたので、ＭＲヘッドを構成する膜の寿命特性が劣化さ
れ易かったが、多結晶フェライト基板１６の面１７にＳ
ｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で非磁性体絶
縁層２０を形成し、形成した際非磁性体絶縁層２０に残
存した多結晶フェライト基板１６の面１７からのポア１
８やスクラッチ１９を研磨加工することによって面２３
には残存したポアやスクラッチが無くなる。この様な面
２３に従来技術の工程に従って他の層、膜を形成すると
他の層、膜の寿命特性が向上し、ＭＲヘッドの信頼性を
向上させる。
多結晶フェライト基板を研磨加工した面の表面荒さがＲ
ａ＝１５０Åという状態でＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をス
パッタリング等で非磁性体絶縁層２０を形成し、更に、
それぞれの他の層、膜を形成してＭＲヘッドを構成して
いたので、ＭＲヘッドを構成する膜の寿命特性が劣化さ
れ易かったが、多結晶フェライト基板１６の面１７にＳ
ｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等をスパッタリング等で非磁性体絶
縁層２０を形成し、形成した際非磁性体絶縁層２０に残
存した多結晶フェライト基板１６の面１７からのポア１
８やスクラッチ１９を研磨加工することによって面２３
には残存したポアやスクラッチが無くなる。この様な面
２３に従来技術の工程に従って他の層、膜を形成すると
他の層、膜の寿命特性が向上し、ＭＲヘッドの信頼性を
向上させる。
【００１７】尚、本発明の実施例では書き込み用の磁気
ヘッドとＭＲヘッドとを一体にしたＭＲヘッドについて
説明したが、読みだし（再生）専用のＭＲヘッドについ
ても、形成した際非磁性体絶縁層に残存した多結晶フェ
ライト基板の面からのポアやスクラッチは、非磁性体絶
縁層を研磨加工すれば残存したポアやスクラッチを無く
すことができるので同じ効果が得られる。
ヘッドとＭＲヘッドとを一体にしたＭＲヘッドについて
説明したが、読みだし（再生）専用のＭＲヘッドについ
ても、形成した際非磁性体絶縁層に残存した多結晶フェ
ライト基板の面からのポアやスクラッチは、非磁性体絶
縁層を研磨加工すれば残存したポアやスクラッチを無く
すことができるので同じ効果が得られる。
【００１８】図５，図６はそれぞれ本実施例と従来例と
のＭＲ素子の磁気抵抗特性を示すグラフである。
のＭＲ素子の磁気抵抗特性を示すグラフである。
【００１９】図５，図６から判る様に、本実施例では従
来例に比べて抵抗値変化ａが大きくなり、又Ｈk が小さ
くなっている事がわかる。
来例に比べて抵抗値変化ａが大きくなり、又Ｈk が小さ
くなっている事がわかる。
【００２０】これは本実施例ではＭＲ素子の下地にポア
やスクラッチがないためにＭＲ素子の一軸異方性が強化
され分散が小さくなったからだと考えられる。
やスクラッチがないためにＭＲ素子の一軸異方性が強化
され分散が小さくなったからだと考えられる。
【００２１】この様に本実施例では、再生出力が高くな
り、バイアス特性が改善される。
り、バイアス特性が改善される。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明は、非磁性体絶縁層
に残存した多結晶フェライト基板の面からのポアやスク
ラッチは、非磁性体絶縁層を研磨加工することによって
残存していたポアやスクラッチを無くしたので、研磨加
工した非磁性体絶縁層の面に従来技術の工程に従って他
の層、膜を形成したので他の層、膜の寿命特性が向上
し、信頼性を向上させたＭＲヘッドの提供が可能とな
る。
に残存した多結晶フェライト基板の面からのポアやスク
ラッチは、非磁性体絶縁層を研磨加工することによって
残存していたポアやスクラッチを無くしたので、研磨加
工した非磁性体絶縁層の面に従来技術の工程に従って他
の層、膜を形成したので他の層、膜の寿命特性が向上
し、信頼性を向上させたＭＲヘッドの提供が可能とな
る。
【図１】本発明の実施例における磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドの製造方法を示す斜視図
ッドの製造方法を示す斜視図
【図２】本発明の実施例における磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドの製造方法を示す斜視図
ッドの製造方法を示す斜視図
【図３】従来の磁気抵抗効果型磁気ヘッドの斜視図
【図４】従来の磁気抵抗効果型磁気ヘッドの断面図
【図５】本実施例のＭＲ素子の磁気抵抗特性を示すグラ
フ
フ
【図６】従来例のＭＲ素子の磁気抵抗特性を示すグラフ
１６ 多結晶フェライト基板 １７ 面 １８ ポア １９ スクラッチ ２０ 非磁性体絶縁層 ２１ 上面 ２２ 点線 ２３ 面
Claims (1)
- 【請求項１】多結晶フェライト基板の上に非磁性体絶縁
層を設け、前記非磁性体絶縁層の表面を研磨加工した後
に、この面にバイアス磁界を発生させる軟磁性膜を形成
し、前記軟磁性膜の上に磁気的に分離する中間層を設
け、前記中間層に磁気抵抗効果素子を形成し、前記磁気
抵抗効果素子の両端に反強磁性膜を設けると共に、前記
反強磁性膜に重ねて前記磁気抵抗効果素子へ電流を流す
リード部を設け、前記リード部と前記リード部との間の
前記磁気抵抗効果素子の中央部の上にそれぞれ酸化物絶
縁層を形成すると共に、前記酸化物絶縁層の上に下部磁
性層を形成し、前記下部磁性層に書き込み用の磁気ギャ
ップとなる磁気ギャップ部を設けると共に、書き込み用
の電流を流す銅膜からなるコイル部を設け、前記コイル
部を絶縁する絶縁層を設け、前記磁気ギャップを介して
前記コイル部の絶縁層を覆うように上部磁性層を形成し
たことを特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320393A JPH06290424A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7320393A JPH06290424A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06290424A true JPH06290424A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13511361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7320393A Pending JPH06290424A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06290424A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002063641A1 (fr) | 2001-02-07 | 2002-08-15 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Aimant permanent et procede de production dudit aimant |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP7320393A patent/JPH06290424A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002063641A1 (fr) | 2001-02-07 | 2002-08-15 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Aimant permanent et procede de production dudit aimant |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0790600B1 (en) | Magnetoresistive effect head | |
| US6530141B2 (en) | Method of forming thin film magnetic recording head with narrow track width performing high density recording at high driving frequency | |
| JP2817501B2 (ja) | 磁気ディスク装置及びそれに用いる磁気ヘッド | |
| US6710982B2 (en) | Domain control in shields of a magnetic transducer | |
| JPH05303724A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| US20050237675A1 (en) | Magnetic tunnel effect type magnetic head, and recorder/player | |
| JP3294742B2 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| US6545847B2 (en) | Magnetoresistive effect head | |
| JPH06290424A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3475868B2 (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JP2821586B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2001110017A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド及び回転型磁気ヘッド装置 | |
| JP2755186B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| JP2003006818A (ja) | 反平行に結合した２枚の強磁性膜を用いた磁気抵抗再生ヘッド | |
| JPH10334422A (ja) | 磁気記録装置 | |
| JPH09251616A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH07320235A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド及びその製造方法 | |
| JP3083090B2 (ja) | 磁気抵抗センサ | |
| JPH0798822A (ja) | 磁気抵抗効果型再生ヘッドおよび記録再生分離型ヘッドおよび磁気記録再生装置 | |
| JPH09231525A (ja) | 磁性積層体とそれを用いた磁気センサ及び磁気記録再生装置 | |
| JP2001126216A (ja) | 磁気記録ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH07153022A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH08153313A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
| JP2002026427A (ja) | 磁気抵抗効果素子の製造方法及び磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH08147634A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド及び磁気ディスク装置 |