JPH06287753A

JPH06287753A - コーティング装置又はエッチング装置の真空チャンバ内で扁平の円板状サブストレートを保持する装置

Info

Publication number: JPH06287753A
Application number: JP6028058A
Authority: JP
Inventors: Peter Mahler; マーラーペーター
Original assignee: Leybold AG
Current assignee: Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date: 1993-02-25
Filing date: 1994-02-25
Publication date: 1994-10-11
Also published as: DE4305749A1; US5350455A; CH687925A5

Abstract

(57)【要約】【目的】サブストレートを垂直姿勢に保持するさい、
滑り落ちないようにし、かつまた、たわみの生じること
のないように保持可能にする。【構成】サブストレート支持体３の両側に、かつまた
支持体３の長手両側面と平行に支持体３の上側５に部分
的にかぶせられるクランプジョー４，４′が備えられ、
支持体３の上側５に載せられるクランプジョー脚部６，
６′が弓形切欠７，７′を有し、これら脚部の切欠が、
支持体３上側５上のサブストレート２，２′・・・を少
なくとも部分的に取囲み、定心的に保持し、更に、双方
のクランプジョー４，４′がクランプ条片１１，１１′
により保持され、これらクランプ条片がピン１０，１
０′ないし１２，１２′・・・を介して支持体３と固定
結合可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コーティング装置又は
エッチング装置の真空チャンバ内で扁平な円板状サブス
トレートを保持する装置、それも、特に、旋回装置に取
付けるための有利には長方形底面を有する形式のものに
関する。

【０００２】

【従来の技術】破損しやすい材料、たとえばいわゆるウ
ェファ製の薄層サブストレートを、サブストレート保持
体が、たとえば、コーティング工程でサブストレートを
垂直姿勢に保持する必要上、別の姿勢へと旋回せしめら
れる場合、サブストレートを保持体から滑り落ちないよ
うに配置することは、実際には厄介な問題である。更
に、サブストレートが薄層であるため、ごく僅かの挟み
付け力で既にサブストレートのたわみが生じる結果、た
とえば水冷式のサブストレート支持体上に全面を平らに
載置できなくなり、サブストレートの十分な冷却が達成
され難くなることも欠点である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の根底とする課
題は、前記の諸欠点が除去された、プレート状サブスト
レート支持体ないしサブストレート保持装置を製作する
ことにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、この課
題は次のようにすることにより解決された。すなわち、
特に、旋回装置に取付けるための有利には長方形の底面
を有するサブストレート支持体が、Ｌ字形横断面のクラ
ンプジョーを備え、これらクランプジョーが、サブスト
レート支持体の両側に支持体の両長手側面と平行に備え
られ、サブストレート支持体の上側に部分的にかぶさる
ようにされており、これらクランプジョーの互いに向い
合った、サブストレート支持体上側へ部分的に載せられ
る脚部が弓形の切欠を有し、この切欠によりサブストレ
ート支持体の上側に置かれたサブストレートが部分的に
取囲まれており、更に、双方のクランプジョーが、その
短辺端面のところにそれぞれ１つの孔を有し、この孔
が、クランプ条片対の対応クランプ条片のところに固定
配置されたピン又はボルトとそれぞれ対応しており、更
にまた、双方のクランプ条片が、それぞれ第１ピン対と
平行な別のピンを備え、これらのピンがサブストレート
支持体の端面の孔と協働するようにしたのである。

【０００５】有利には、プレート状のサブストレート支
持体は、その上側に前後に配置された円板状の多数の保
持ディスクを有している。これらの保持ディスクは、そ
の下側がサブストレート支持体と固定結合され、その直
径が、それぞれサブストレートの直径と合致している。
この場合、サブストレート支持体の上側に載せられるク
ランプジョー脚部の弓形切欠が、保持ディスクの縁形状
に適合せしめられており、かつまたそれぞれ僅かに保持
ディスクの上方周縁部から突出し、それぞれ、サブスト
レートの縁部分と直接接触している。

【０００６】サブストレートの下側と配属保持ディスク
の上側との間には、それぞれ、これら双方の部分間の熱
伝達を助成する接触媒体、たとえばインジウム・ガリウ
ム調合剤が施されている。

【０００７】このほかの特徴及び詳細は特許請求の範囲
に記載され、特徴づけられている。

【０００８】

【実施例】本発明には極めて種々の実施例が可能であ
り、そのうちの１実施例を添付図面につき説明する。

【０００９】図示されているように、本発明の装置は平
行６面体形状のプレート状サブストレート支持体３と、
２個のクランプジョー４，４′と、２個のクランプ条片
１１，１１′とから成っている。支持体３の上側には合
計４個の保持ディスク１５，１５′・・・が、たとえば
ろう接によって固定配置され、クランプジョー４，４′
の、保持ディスク１５，１５′・・・側の狭幅側面には
弓形の切欠７，７′・・・が形成されている。これらの
切欠は、保持ディスク１５，１５′・・・の丸味に合致
している。更に、前記クランプ条片１１，１１′の、支
持体３の端面とクランプジョー４，４′とに向いた側に
は、それぞれ２個のピン又はボルト１０，１０′・・・
ないし１２，１２′・・・が備えられている。これらの
ピンは、クランプジョー４，４′の端側と支持体３の端
側とに設けられた相応の孔と対応している。

【００１０】サブストレート支持体３は、加えて、その
縁区域にみぞ１８を有している。これらのみぞは、一緒
にエンドレスの周縁みぞを形成し、過剰な接触媒体を受
容する。この過剰の接触媒体は、サブストレート２，
２′・・・が保持ディスク１５，１５′・・・上に載せ
られるさいに、ディスク１５，１５′・・・の上側に施
された層から流れ出るものである。図２は、図１に示さ
れた個別部材３，４，４′，１１，１１′から形成され
たサブストレート支持体である。保持ディスク１５，１
５′・・・上に載置された個々のサブストレート２，
２′・・・は、両側から弓形切欠７，７′・・・により
取囲まれている。この場合、クランプジョー４，４′の
脚部６，６′はサブストレート２，２′・・・の上縁部
から僅かに突出しており、それによりサブストレートが
保持ディスク１５，１５′・・・から横滑りすることが
防止されている。ピン又はボルト１０，１０′・・・な
いし１２，１２′・・・を介して孔９，９′・・・ない
し１３，１３′・・・内に固定されているクランプ条片
１１，１１′は、クランプジョー４，４′をプレート状
サブストレート支持体３に正確かつ不動に保持してい
る。クランプジョー４，４′は、切欠７，７′・・・が
保持ディスク１５，１５′・・・の円筒形側面に不動に
密着しながら、サブストレート２，２′・・・の周縁部
に大きな締付力を加えることのないように寸法づけされ
ている。

【図面の簡単な説明】

【図１】保持装置の個々の部品の平面図と、Ｃ−Ｄ線に
沿って切断した部分断面図。

【図２】組立完了状態で示した図１の装置の平面図と、
Ａ−Ｂ線に沿った断面図。

【符号の説明】

２，２′・・・サブストレート３プレート状サブストレート支持体４，４′ クランプジョー５上側６，６′ 脚部７，７′・・・弓形切欠８，８′・・・クランプジョーの狭幅端面９，９′・・・孔１０，１０′・・・ボルト又はピン１１，１１′ クランプ条片１２，１２′・・・ボルト又はピン１３，１３′・・・孔１４，１４′ サブストレート支持体の端面１５，１５′・・・保持ディスク１６，１６′ サブストレート支持体の側面１７サブストレート支持体の裏面１８周囲のみぞ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】コーティング装置又はエッチング装置の
真空チャンバ内で扁平の円板状サブストレート（２，
２′・・・）を保持する装置であって、プレート状のサ
ブストレート支持体を有する形式のものにおいて、この
サブストレート支持体（３）が、特に旋回装置を取付け
るための、有利には長方形の底面を有し、更にサブスト
レート支持体（３）の両側に支持体（３）の両長手側面
と平行に、横断面がＬ字形のクランプジョー（４，
４′）が備えられ、このクランプジョーが支持体（３）
の上側（５）に部分的にかぶさっており、またこのクラ
ンプジョーの互いに向い合った、支持体（３）の上側
（５）に載せられる脚部（６，６′）が弓形の切欠
（７，７′）を有し、支持体（３）の上側（５）に載せ
られるサブストレート（２，２′・・・）を脚部の切欠
（７，７′）が部分的に取囲んでおり、更にまた、双方
のクランプジョー（４，４′）が短辺側の端面（８，
８′・・・）のところに各１個の孔（９，９′・・・）
を有し、これらの孔が、クランプ条片対（１１，１
１′）の相応のクランプ条片に固定配置されたピン又は
ボルト（１０，１０′・・・）にそれぞれ対応してお
り、更に、双方のクランプ条片（１１，１１′）が、そ
れぞれ第１のピン対（１０，１０′・・・）と平行なピ
ン（１２，１２′・・・）を備え、これらのピン（１
２，１２′・・・）がサブストレート支持体（３）の端
面の孔（１３，１３′・・・）と協働することを特徴と
する、コーティング装置又はエッチング装置の真空チャ
ンバ内で扁平な円板状サブストレートを保持する装置。
【請求項２】プレート状のサブストレート支持体
（３）が、その上側（５）に前後に配置された円板状の
多数の保持ディスク（１５，１５′・・・）を有し、こ
れらの保持ディスクの下側がサブストレート支持体
（３）と固定結合され、これらディスク（１５，１５′
・・・）の直径がサブストレート（２，２′，２″・・
・）の直径とそれぞれ合致しており、しかも、支持体
（３）の上側（５）に載置されているクランプジョー
（４，４′）脚部（６，６′）の弓形切欠（７，７′・
・・）が、保持ディスク（１５，１５′・・・）の縁部
形状と適合せしめられ、かつまた保持ディスク（１５，
１５′・・・）の上方周縁部から、それぞれ僅かに突出
しており、それぞれサブストレート（２，２′・・・）
の縁部分と接触していることを特徴とする、請求項１記
載の装置。
【請求項３】サブストレート（２，２′・・・）の下
側と、配属されている保持ディスク（１５，１５′・・
・）の上側との間に、それぞれ接触媒体、たとえばイン
ジウム・ガリウム調合剤が施され、双方の部分間の熱伝
達が助長されることを特徴とする、請求項１又は２に記
載の装置。
【請求項４】サブストレート支持体（３）の互いに向
い合った短辺の両端側（１４，１４′）に、それぞれ２
個の孔（１３，１３′・・・）が設けられ、これらの孔
が支持体（３）の両端面（１６，１６′）と平行に延
び、かつこれらの孔（１３，１３′・・・）にはそれぞ
れピン（１２，１２′・・・）が差込まれ、これらのピ
ンが双方のクランプ条片（１１，１１′）に対をなして
固定的に取付けられており、しかも支持体（３）の側面
（１６，１６′）から突出しているクランプ条片（１
１，１１′）の両自由端部にそれぞれ別のピン（１０，
１０′・・・）が備えられ、これらのピンが、クランプ
ジョー（４，４′）の短辺の端面（８，８′・・・）に
設けられている孔（９，９′・・・）にそれぞれ係合し
ており、更に、サブストレート支持体（３）の裏側（１
７）が、コーティング装置又はエッチング装置の真空チ
ャンバ内に支承されている旋回装置上に固定配置され、
旋回装置により保持されていることを特徴とする、請求
項１記載の装置。
【請求項５】サブストレート支持体（３）の上側が、
その縁区域を取囲むエンドレスのみぞ（１８）を有して
おり、このみぞ（１８）が、エッジと平行に延び、かつ
保持ディスク（１５，１５′・・・）とサブストレート
（２，２′・・・）との間から流出する余剰接触媒体を
受容することを特徴とする、請求項１から４までのいず
れか１項に記載の装置。