JPH06275760A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 熱放散性に優れた樹脂封止型の半導体装置を
提供する。 【構成】 多層リードフレームから構成される半導体装
置であって、該多層リードフレームのリードが半導体チ
ップ1とほぼ同一平面にある部分と該半導体チップの直
前で曲がり該半導体チップの上面または下面と重なる部
分10bとからなることを特徴とする。
提供する。 【構成】 多層リードフレームから構成される半導体装
置であって、該多層リードフレームのリードが半導体チ
ップ1とほぼ同一平面にある部分と該半導体チップの直
前で曲がり該半導体チップの上面または下面と重なる部
分10bとからなることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止型の半導体装
置に関する。更に詳しくは、半導体装置用多層リードフ
レームを用いた樹脂封止型の半導体装置に関する。
置に関する。更に詳しくは、半導体装置用多層リードフ
レームを用いた樹脂封止型の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、樹脂封止型の半導体装置は、ダイ
パッドの無い平板状で金属製の一層リードフレームに電
気的絶縁性を有するフィルムをインナーリードと金属板
の間に介在させ接合することによって得られる、いわゆ
る多層リードフレーム、半導体チップおよび封止樹脂な
どから構成されている。図3に樹脂封止型の半導体装置
の一般例を示す。図3において、リードフレームには多
層リードフレームを用いて、インナーリード4、金属板
8はそれぞれ平板状金属である。半導体チップ1は、金
属板8に銀エポキシ等の接着剤2を用いて接合され、半
導体チップ1と該インナーリード4はボンディングワイ
ヤー3を用いて接合されている。このリードフレームは
樹脂で封止され、アウターリード9が回路基板6に接合
される。半導体チップの高密度化に伴い半導体チップの
発熱量が増大している。半導体装置の放熱が十分でない
と熱サイクルによる信頼性の低下(寿命の低下や誤動作
の発生など)や特性劣化(動作速度の低下など)などが
生ずる。そのため、半導体装置は自然空冷、強制空冷ま
たは水冷などの冷却方法が用いられる。また、その効果
を更に向上させるために半導体装置の外部に放熱フィン
等を取付けて冷却する場合もある。
パッドの無い平板状で金属製の一層リードフレームに電
気的絶縁性を有するフィルムをインナーリードと金属板
の間に介在させ接合することによって得られる、いわゆ
る多層リードフレーム、半導体チップおよび封止樹脂な
どから構成されている。図3に樹脂封止型の半導体装置
の一般例を示す。図3において、リードフレームには多
層リードフレームを用いて、インナーリード4、金属板
8はそれぞれ平板状金属である。半導体チップ1は、金
属板8に銀エポキシ等の接着剤2を用いて接合され、半
導体チップ1と該インナーリード4はボンディングワイ
ヤー3を用いて接合されている。このリードフレームは
樹脂で封止され、アウターリード9が回路基板6に接合
される。半導体チップの高密度化に伴い半導体チップの
発熱量が増大している。半導体装置の放熱が十分でない
と熱サイクルによる信頼性の低下(寿命の低下や誤動作
の発生など)や特性劣化(動作速度の低下など)などが
生ずる。そのため、半導体装置は自然空冷、強制空冷ま
たは水冷などの冷却方法が用いられる。また、その効果
を更に向上させるために半導体装置の外部に放熱フィン
等を取付けて冷却する場合もある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】半導体装置を動作させ
る場合、上記の冷却方法において半導体チップから発生
する熱は、図4中の矢印で示すような経路で半導体装置
の外部に放熱される。すなわち、一つは半導体装置中の
樹脂を介して外部へ放熱される経路(経路A)、もう一
つは金属板からポリイミド等の電気絶縁性を有するフィ
ルムを介し、リードフレームのリードから回路基板へ放
熱される経路(経路B)である。しかしながら、従来の
構成では十分な放熱効果が得られず、更に放熱効果を得
るためには大きな冷却装置や外部へ大きな放熱フィン等
の取付けなどが必要となり、未だ十分とはいえない。本
発明の目的は、上述の問題点を解消し、熱放散性に優れ
た樹脂封止型の半導体装置を提供することにある。
る場合、上記の冷却方法において半導体チップから発生
する熱は、図4中の矢印で示すような経路で半導体装置
の外部に放熱される。すなわち、一つは半導体装置中の
樹脂を介して外部へ放熱される経路(経路A)、もう一
つは金属板からポリイミド等の電気絶縁性を有するフィ
ルムを介し、リードフレームのリードから回路基板へ放
熱される経路(経路B)である。しかしながら、従来の
構成では十分な放熱効果が得られず、更に放熱効果を得
るためには大きな冷却装置や外部へ大きな放熱フィン等
の取付けなどが必要となり、未だ十分とはいえない。本
発明の目的は、上述の問題点を解消し、熱放散性に優れ
た樹脂封止型の半導体装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために次の構成を備える。すなわち、多層リー
ドフレームから構成される半導体装置であって、該多層
リードフレームのリードが半導体チップとほぼ同一平面
内にある部分と該半導体チップの直前で曲がり該半導体
チップの上面又は下面と重なる部分とからなることを特
徴とする。
達成するために次の構成を備える。すなわち、多層リー
ドフレームから構成される半導体装置であって、該多層
リードフレームのリードが半導体チップとほぼ同一平面
内にある部分と該半導体チップの直前で曲がり該半導体
チップの上面又は下面と重なる部分とからなることを特
徴とする。
【0005】
【作用】本発明に係る半導体装置用多層リードフレーム
を図1、及び図2を用いて説明する。多層リードフレー
ムから構成される半導体装置であって、多層リードフレ
ームのリードが半導体チップ1とほぼ同一平面内にある
部分4と半導体チップ1の直前で曲がり半導体チップ1
の上面または下面と重なる部分10とからなる。図1で
は半導体チップ1は、半導体装置のほぼ中心に位置し、
リードフレームのリード10上面に電気的絶縁性を有す
るフィルム7を介して接合し、その反対側のリード部に
放熱板を接合される。そして、その反対側のリード部
(下面)に放熱板8を接合し、多層リードレフームが形
成されている。この多層リードフレームが樹脂11で封
止され、半導体装置になる。図1は、リードを半導体チ
ップ1の直前で下に曲げ、半導体チップ1と重ねた場合
である。図2は、リードを半導体チップ1の直前で上に
曲げ半導体チップ1と重ねた場合である。
を図1、及び図2を用いて説明する。多層リードフレー
ムから構成される半導体装置であって、多層リードフレ
ームのリードが半導体チップ1とほぼ同一平面内にある
部分4と半導体チップ1の直前で曲がり半導体チップ1
の上面または下面と重なる部分10とからなる。図1で
は半導体チップ1は、半導体装置のほぼ中心に位置し、
リードフレームのリード10上面に電気的絶縁性を有す
るフィルム7を介して接合し、その反対側のリード部に
放熱板を接合される。そして、その反対側のリード部
(下面)に放熱板8を接合し、多層リードレフームが形
成されている。この多層リードフレームが樹脂11で封
止され、半導体装置になる。図1は、リードを半導体チ
ップ1の直前で下に曲げ、半導体チップ1と重ねた場合
である。図2は、リードを半導体チップ1の直前で上に
曲げ半導体チップ1と重ねた場合である。
【0006】この半導体装置における放熱構造は、次の
ようになる。半導体チップ1からリードフレームのリー
ドへの放熱経路は、二つある。一つは半導体チップ1の
下面から半導体チップ1の直前で曲がり半導体チップと
重なっているリード10へ伝わり、一つは半導体チップ
の側面からインナーリード4へ伝わる。従って、リード
フレームを通して放熱される熱量が増える。よって、熱
放散性を向上させることが出来る。また、放熱板を取り
付けることによって本発明の半導体装置の熱放散性を一
層向上させることが出来る。リードを半導体チップ1の
直前で下に曲げ半導体チップ1と重ねる場合は、放熱板
8と半導体チップ1の間にリード10を配置する方が、
半導体装置の熱放散性が向上する。
ようになる。半導体チップ1からリードフレームのリー
ドへの放熱経路は、二つある。一つは半導体チップ1の
下面から半導体チップ1の直前で曲がり半導体チップと
重なっているリード10へ伝わり、一つは半導体チップ
の側面からインナーリード4へ伝わる。従って、リード
フレームを通して放熱される熱量が増える。よって、熱
放散性を向上させることが出来る。また、放熱板を取り
付けることによって本発明の半導体装置の熱放散性を一
層向上させることが出来る。リードを半導体チップ1の
直前で下に曲げ半導体チップ1と重ねる場合は、放熱板
8と半導体チップ1の間にリード10を配置する方が、
半導体装置の熱放散性が向上する。
【0007】
【実施例】以下、より詳細に本発明の好的な実施例を図
1、図2を用いて説明する。図2の多層リードフレーム
を用いて半導体装置は、リードの大きさが9mm角、厚
さ0.4mmの半導体チップ1とほぼ同一平面内にある
部分と半導体チップ1直前で曲がり半導体チップ1の下
面と重なる部分とからなる。この半導体チップ1の直前
で曲がり半導体チップ下面と重なっているリードをポリ
イミド系の電気的絶縁性を有する厚さ0.050mmの
フィルム7を介して半導体チップ1を接合し、このリー
ドの反対側の面にやはりポリイミド系の電気的絶縁性を
有する厚さ0.050mmのフィルム7を介して放熱板
8を接合した。まず、厚さ0.15mmのCu合金を用
いたリードフレーム及び放熱板をエッチングで形成す
る。リードフレームは、アウター・リードピッチ0.3
mm、インナー・リードピッチ0.2mmのクワッド・
フラット・パッケージ・タイプの160ピンである。次
に厚さ0.050mmで両面にエポキシ系の接着剤が付
いた電気的絶縁性を有するポリイミド系のフィルム7を
リードフレームの上記の曲がっている部分の上面及び放
熱板に熱圧着し、多層リードフレームを作成した。かか
る多層リードフレームに9mm角で、厚さ0.4mmの
半導体チップ1を搭載し、半導体チップ1の信号端子と
リードフレームのインナーリードを直径0.025mm
の金製のボンディング・ワイヤーでボンディングし、樹
脂封止してパッケージサイズ28mm角で厚さ3.7m
mの半導体装置を作成した。
1、図2を用いて説明する。図2の多層リードフレーム
を用いて半導体装置は、リードの大きさが9mm角、厚
さ0.4mmの半導体チップ1とほぼ同一平面内にある
部分と半導体チップ1直前で曲がり半導体チップ1の下
面と重なる部分とからなる。この半導体チップ1の直前
で曲がり半導体チップ下面と重なっているリードをポリ
イミド系の電気的絶縁性を有する厚さ0.050mmの
フィルム7を介して半導体チップ1を接合し、このリー
ドの反対側の面にやはりポリイミド系の電気的絶縁性を
有する厚さ0.050mmのフィルム7を介して放熱板
8を接合した。まず、厚さ0.15mmのCu合金を用
いたリードフレーム及び放熱板をエッチングで形成す
る。リードフレームは、アウター・リードピッチ0.3
mm、インナー・リードピッチ0.2mmのクワッド・
フラット・パッケージ・タイプの160ピンである。次
に厚さ0.050mmで両面にエポキシ系の接着剤が付
いた電気的絶縁性を有するポリイミド系のフィルム7を
リードフレームの上記の曲がっている部分の上面及び放
熱板に熱圧着し、多層リードフレームを作成した。かか
る多層リードフレームに9mm角で、厚さ0.4mmの
半導体チップ1を搭載し、半導体チップ1の信号端子と
リードフレームのインナーリードを直径0.025mm
の金製のボンディング・ワイヤーでボンディングし、樹
脂封止してパッケージサイズ28mm角で厚さ3.7m
mの半導体装置を作成した。
【0008】比較例として、図3に示す一般的な多層リ
ードフレームを用いた半導体装置(比較例)を作成し
た。これらの半導体装置にも、9mm角で、厚さ0.4
mmの半導体チップ1を搭載した。これらの半導体装置
をそれぞれ大きさ56mm角、厚さ1mmのガラスエポ
キシ製の回路基板6に実装し、半導体チップ1を動作さ
せ、自然空冷時の半導体チップの最高温度を測定した。
その結果、本発明例の半導体チップの最高温度は76.
8℃であった。比較例の半導体チップの最高温度は8
6.7℃であった。これらの結果からわかるように本発
明例による多層リードフレームを用いた半導体装置の自
然空冷時の半導体チップの最高温度が比較例と比べて格
段に低減されている。
ードフレームを用いた半導体装置(比較例)を作成し
た。これらの半導体装置にも、9mm角で、厚さ0.4
mmの半導体チップ1を搭載した。これらの半導体装置
をそれぞれ大きさ56mm角、厚さ1mmのガラスエポ
キシ製の回路基板6に実装し、半導体チップ1を動作さ
せ、自然空冷時の半導体チップの最高温度を測定した。
その結果、本発明例の半導体チップの最高温度は76.
8℃であった。比較例の半導体チップの最高温度は8
6.7℃であった。これらの結果からわかるように本発
明例による多層リードフレームを用いた半導体装置の自
然空冷時の半導体チップの最高温度が比較例と比べて格
段に低減されている。
【0009】
【発明の効果】以上のような詳細な説明から理解される
ように、本発明の半導体装置用多層リードフレームの熱
放散性が大幅に向上するという効果がある。
ように、本発明の半導体装置用多層リードフレームの熱
放散性が大幅に向上するという効果がある。
【図1】図1は、本発明に係る多層リードフレームを用
いた半導体装置の例を示す説明図である。
いた半導体装置の例を示す説明図である。
【図2】図2は、本発明に係る多層リードフレームを用
いた半導体装置の例を示す説明図である。
いた半導体装置の例を示す説明図である。
【図3】図3は、従来の多層リードフレームを用いた半
導体装置の例を示す説明図である。
導体装置の例を示す説明図である。
【図4】図4は、半導体装置の放熱状態を示す図であ
る。
る。
1 半導体チップ 2 半導体チップとダイパッドを接着する接着剤 3 ボンディングワイヤー 4 インナーリード 5 ダイパッド 6 回路基板 7 電気絶縁性接着剤付きフィルム 8 放熱板 9 アウターリード 10 半導体チップ直前で曲がり半導体チップと重な
っているリード部 11 封止樹脂
っているリード部 11 封止樹脂
Claims (1)
- 【請求項1】 多層リードフレームから構成される半導
体装置であって、該多層リードフレームのリードが半導
体チップとほぼ同一平面にある部分と該半導体チップの
直前で曲がり該半導体チップの上面又は下面と重なる部
分とからなることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8380593A JPH06275760A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8380593A JPH06275760A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06275760A true JPH06275760A (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=13812886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8380593A Pending JPH06275760A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06275760A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009610A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
1993
- 1993-03-19 JP JP8380593A patent/JPH06275760A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009610A (ja) * | 2010-06-24 | 2012-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
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