JPH06272075A - ガス発生装置 - Google Patents
ガス発生装置Info
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- JPH06272075A JPH06272075A JP6037499A JP3749994A JPH06272075A JP H06272075 A JPH06272075 A JP H06272075A JP 6037499 A JP6037499 A JP 6037499A JP 3749994 A JP3749994 A JP 3749994A JP H06272075 A JPH06272075 A JP H06272075A
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- electrolyte
- membrane
- electrode
- generating electrode
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0006—Calibrating gas analysers
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- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 ガス発生電極２及び対向電極３を有しており
かつこれらの間に電解液９を介在させた電気化学セルを
備えたガス発生装置である。これら電極間を通る電流に
よりガス発生電極においてガスが発生される。ガス発生
電極２に充分近接して位置しガスに対して透過性である
が電解液に対してはほぼ不透過性の第１の膜２４が設け
られている。ガス発生電極によって生成されたガスは、
電解液内に気泡をほとんど形成することなくかつ装置の
設置方向に係りなくガス濃度勾配効果によって電解液を
通り第１の膜２４を通って外部に拡散される。 【効果】 ９７％〜１０２％のファラデー効率が常に得
られる。
かつこれらの間に電解液９を介在させた電気化学セルを
備えたガス発生装置である。これら電極間を通る電流に
よりガス発生電極においてガスが発生される。ガス発生
電極２に充分近接して位置しガスに対して透過性である
が電解液に対してはほぼ不透過性の第１の膜２４が設け
られている。ガス発生電極によって生成されたガスは、
電解液内に気泡をほとんど形成することなくかつ装置の
設置方向に係りなくガス濃度勾配効果によって電解液を
通り第１の膜２４を通って外部に拡散される。 【効果】 ９７％〜１０２％のファラデー効率が常に得
られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス発生電極及び対向
電極を有しておりかつそれらの間に電解液体を介在さ
せ、電極間を通る電流によりガス発生電極においてガス
を発生させるようにした電気化学セルを備えたガス発生
装置に関する。以降、このような装置を「既述の種類の
装置」と称する。
電極を有しておりかつそれらの間に電解液体を介在さ
せ、電極間を通る電流によりガス発生電極においてガス
を発生させるようにした電気化学セルを備えたガス発生
装置に関する。以降、このような装置を「既述の種類の
装置」と称する。
【０００２】
【従来の技術】既述の種類のガス発生装置は、校正ガス
発生器において特定的に使用されることがある。これら
校正ガス発生器は、校正ガス検出器で使用するための浄
化ガス中における例えば塩素等のガスの濃度を精密に制
御するのに用いられる。その典型的な例が米国特許第４
４６０４４８号公報に記載されている。
発生器において特定的に使用されることがある。これら
校正ガス発生器は、校正ガス検出器で使用するための浄
化ガス中における例えば塩素等のガスの濃度を精密に制
御するのに用いられる。その典型的な例が米国特許第４
４６０４４８号公報に記載されている。
【０００３】他の典型的な電気化学校正ガス発生器は、
モデルＥＣ３としてベドフォント・テクニカル・インス
ツルメント・リミテッド（Ｂｅｄｆｏｎｔ Ｔｅｃｈｎ
ｉｃａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｉｍｉｔｅｄ）
によって製造されている。この発生器において、塩素ガ
スは、塩化カリウムの酸性電解溶液中に浸漬された発生
電極で生成される。浄化ガスは電解液室で気泡化され、
塩素ガスの気泡と混合され、装置の頂部を介して排出さ
れる。水素ガスは、電解液室の第２の腕部内の対向電極
で生成され、これも装置の頂部を介して排出される。
モデルＥＣ３としてベドフォント・テクニカル・インス
ツルメント・リミテッド（Ｂｅｄｆｏｎｔ Ｔｅｃｈｎ
ｉｃａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｉｍｉｔｅｄ）
によって製造されている。この発生器において、塩素ガ
スは、塩化カリウムの酸性電解溶液中に浸漬された発生
電極で生成される。浄化ガスは電解液室で気泡化され、
塩素ガスの気泡と混合され、装置の頂部を介して排出さ
れる。水素ガスは、電解液室の第２の腕部内の対向電極
で生成され、これも装置の頂部を介して排出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このタイプの装置の問
題点は、ガスが一方向にのみ排出可能であるため、１つ
の向きでしか作動できないことにある。また、装置が倒
立させられたか又はその通常の動作位置から傾けられた
場合に、電解液が漏れ出てしまう。この理由から、従来
の発生器は特に携帯不能であった。独国特許３０１３７
１１号公開公報には、不注意で倒立させられた際にも電
解液があふれ出ないように設計された発生器が記載され
ているが、この設計は、作動中には必ず生成される気泡
を管理するための対策が施されていないので、いかなる
向きについてもセルを動作可能とするものではない。
題点は、ガスが一方向にのみ排出可能であるため、１つ
の向きでしか作動できないことにある。また、装置が倒
立させられたか又はその通常の動作位置から傾けられた
場合に、電解液が漏れ出てしまう。この理由から、従来
の発生器は特に携帯不能であった。独国特許３０１３７
１１号公開公報には、不注意で倒立させられた際にも電
解液があふれ出ないように設計された発生器が記載され
ているが、この設計は、作動中には必ず生成される気泡
を管理するための対策が施されていないので、いかなる
向きについてもセルを動作可能とするものではない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ガス発
生装置は、ガス発生電極に充分近接して位置しガスに対
して透過性であるが電解液に対してはほぼ不透過性の第
１の膜を備えている。ガス発生電極によって生成された
ガスが、電解液内に気泡をほとんど形成することなくか
つ装置の設置方向に係りなくガス濃度勾配効果によって
電解液を通り第１の膜を通って外部に拡散される。電気
化学セルはほぼＵ字状の電解液室を規定しており、対向
電極はこのＵ字状電解液室の腕部の一方に伸長してお
り、ガス発生電極はこのＵ字状電解液室の基部に位置し
ている。
生装置は、ガス発生電極に充分近接して位置しガスに対
して透過性であるが電解液に対してはほぼ不透過性の第
１の膜を備えている。ガス発生電極によって生成された
ガスが、電解液内に気泡をほとんど形成することなくか
つ装置の設置方向に係りなくガス濃度勾配効果によって
電解液を通り第１の膜を通って外部に拡散される。電気
化学セルはほぼＵ字状の電解液室を規定しており、対向
電極はこのＵ字状電解液室の腕部の一方に伸長してお
り、ガス発生電極はこのＵ字状電解液室の基部に位置し
ている。
【０００６】このように本発明によれば、対向電極によ
って生成されるいかなる気泡も装置の全ての設置方向で
２つの電極と電解液との接触を妨げることがないので、
装置の設置方向に係りなくガス供給を可能としたガス発
生器が提供される。
って生成されるいかなる気泡も装置の全ての設置方向で
２つの電極と電解液との接触を妨げることがないので、
装置の設置方向に係りなくガス供給を可能としたガス発
生器が提供される。
【０００７】いくつかの例においては、生成されるいか
なる気泡も通常は閉じているポートを開くことにより周
期的に排出可能となる。好ましくは、電解液を保持する
室を規定する装置の壁は、対向電極によって生成された
ガスを装置のその壁を介して排出できるように配置され
ておりガスに対して透過性であるが電解液に対してはほ
ぼ不透過性の第２の膜で少なくとも一部が形成されてい
る。通常、第２の膜のサイズは、対向電極で生成された
あらゆるガス気泡が常に膜に接触しておりこれによりそ
の気泡が常に周囲の大気中に排出されるような大きさで
ある。
なる気泡も通常は閉じているポートを開くことにより周
期的に排出可能となる。好ましくは、電解液を保持する
室を規定する装置の壁は、対向電極によって生成された
ガスを装置のその壁を介して排出できるように配置され
ておりガスに対して透過性であるが電解液に対してはほ
ぼ不透過性の第２の膜で少なくとも一部が形成されてい
る。通常、第２の膜のサイズは、対向電極で生成された
あらゆるガス気泡が常に膜に接触しておりこれによりそ
の気泡が常に周囲の大気中に排出されるような大きさで
ある。
【０００８】第１の膜は、好ましくは、比較的高度の多
孔性支持部材によって支持されている。この支持部材
は、支持構造体のウェブからなっており、このウェブは
これを通って伸長する複数の開口を有しているか、又は
Ｖｙｏｎ又は網状ガラス質カーボン等の比較的堅い多孔
性部材によって構成されている。
孔性支持部材によって支持されている。この支持部材
は、支持構造体のウェブからなっており、このウェブは
これを通って伸長する複数の開口を有しているか、又は
Ｖｙｏｎ又は網状ガラス質カーボン等の比較的堅い多孔
性部材によって構成されている。
【０００９】対向電極を含むＵ字状電解液室の腕部を規
定する内壁は、装置が傾けられた際に他方の腕部へのガ
スの通過を助長するためにこのＵ字状電解液室の基部に
向かって角度を持っていることが好ましい。
定する内壁は、装置が傾けられた際に他方の腕部へのガ
スの通過を助長するためにこのＵ字状電解液室の基部に
向かって角度を持っていることが好ましい。
【００１０】第１の膜とガス発生電極との距離は、気泡
の生成がないように充分小さくかつファラデー効率を維
持するために充分大きくする必要がある。典型的な最小
間隙値は、７０μｍであり、好ましくは、７６μｍであ
る。
の生成がないように充分小さくかつファラデー効率を維
持するために充分大きくする必要がある。典型的な最小
間隙値は、７０μｍであり、好ましくは、７６μｍであ
る。
【００１１】このガス発生装置は、ガス発生電極からの
第１の膜を通ったガスが浄化ガスの通る浄化ガス室に印
加される校正ガス発生システムに用いて特に有利であ
る。この構成は、浄化ガスが電解液中を通る従来の構成
とは異なるものである。この新しいアプローチによれ
ば、浄化ガス室におけるガス混合効率が上昇し、ガス濃
度の制御がより優れたものとなる。
第１の膜を通ったガスが浄化ガスの通る浄化ガス室に印
加される校正ガス発生システムに用いて特に有利であ
る。この構成は、浄化ガスが電解液中を通る従来の構成
とは異なるものである。この新しいアプローチによれ
ば、浄化ガス室におけるガス混合効率が上昇し、ガス濃
度の制御がより優れたものとなる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明による校正ガス発生システムの
実施例について、添付図面を参照して説明する。
実施例について、添付図面を参照して説明する。
【００１３】図１は本発明による校正ガス発生システム
の一実施例の側立面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った
断面図、図３は図２の一部の拡大図、図４は図１のＡ−
Ａ線に垂直の断面図をそれぞれ示している。
の一実施例の側立面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った
断面図、図３は図２の一部の拡大図、図４は図１のＡ−
Ａ線に垂直の断面図をそれぞれ示している。
【００１４】図２に示すように、ガス発生器は、発生電
極２を保持するための開口部を有する樹脂ハウジング１
と、対向電極３とを備えている。図２に示す発生電極２
は電極支持部材４内に固定されている。この支持部材４
は、樹脂クランプ板１２によって固定されており、かつ
Ｏリング５及びＰＴＦＥによる密封ガスケット６を介し
てハウジング１に接触している。対向電極３は、Ｏリン
グ８を備えた支持部材７によって保持されている。両方
の電極は、線１３、１４によって電流源（図示なし）に
接続されている。
極２を保持するための開口部を有する樹脂ハウジング１
と、対向電極３とを備えている。図２に示す発生電極２
は電極支持部材４内に固定されている。この支持部材４
は、樹脂クランプ板１２によって固定されており、かつ
Ｏリング５及びＰＴＦＥによる密封ガスケット６を介し
てハウジング１に接触している。対向電極３は、Ｏリン
グ８を備えた支持部材７によって保持されている。両方
の電極は、線１３、１４によって電流源（図示なし）に
接続されている。
【００１５】電解液９は、ハウジング１間及び電解液を
抑制するがガスを透過させる半透過膜４１及び４２を支
える樹脂側板１０及び１１間に形成された電解液室内に
入っている。この電解液室は、ポート１６を介して電解
液が満たされる。
抑制するがガスを透過させる半透過膜４１及び４２を支
える樹脂側板１０及び１１間に形成された電解液室内に
入っている。この電解液室は、ポート１６を介して電解
液が満たされる。
【００１６】浄化ガス室２３を規定する浄化ガス室ブロ
ック２０は、電解液が含まれている間隙２５及び電解液
の損失を防止するためのＰＴＦＥ膜２４（図３に示され
ている）によって離隔され、発生電極２の上方に固定さ
れている。
ック２０は、電解液が含まれている間隙２５及び電解液
の損失を防止するためのＰＴＦＥ膜２４（図３に示され
ている）によって離隔され、発生電極２の上方に固定さ
れている。
【００１７】使用の際には、ガスは発生電極２において
発生せしめられ、気泡を形成することなく濃度勾配によ
り間隙２５を横断し、半透過膜２４及び穴２１のグリッ
ドを通って浄化ガス室２４内に拡散する。穴２１による
グリッドは、ＰＴＦＥ膜２４を支持するブロック２０の
基部２１′内に形成されており、ガスが室２３内に通過
することを可能としている。しかしながら、この基部と
しては、Ｖｙｏｎ又はＲＶＣ（Ｒｅｔｉｃｕｌａｔｅｄ
Ｖｉｔｒｅｏｕｓ Ｃａｒｂｏｎ、網状ガラス質カー
ボン）層のような他のいかなるマクロ多孔性（ｍａｃｒ
ｏ−ｐｏｒｏｕｓ）支持体をも使用可能である。発生源
（図示なし）からの浄化ガスは、入口３０（図４参照）
を介して室２３内に流入し、発生ガスと混合され、出口
ブロック３２内の出口３１を介して排出される。これに
より、浄化ガス内の発生ガスの濃度が制御されたものと
なる。ガス濃度は、発生電極の活性面積、電極へ供給さ
れる電流、及び浄化ガスの流速の１つ又はそれ以上を変
化させることによって制御可能である。
発生せしめられ、気泡を形成することなく濃度勾配によ
り間隙２５を横断し、半透過膜２４及び穴２１のグリッ
ドを通って浄化ガス室２４内に拡散する。穴２１による
グリッドは、ＰＴＦＥ膜２４を支持するブロック２０の
基部２１′内に形成されており、ガスが室２３内に通過
することを可能としている。しかしながら、この基部と
しては、Ｖｙｏｎ又はＲＶＣ（Ｒｅｔｉｃｕｌａｔｅｄ
Ｖｉｔｒｅｏｕｓ Ｃａｒｂｏｎ、網状ガラス質カー
ボン）層のような他のいかなるマクロ多孔性（ｍａｃｒ
ｏ−ｐｏｒｏｕｓ）支持体をも使用可能である。発生源
（図示なし）からの浄化ガスは、入口３０（図４参照）
を介して室２３内に流入し、発生ガスと混合され、出口
ブロック３２内の出口３１を介して排出される。これに
より、浄化ガス内の発生ガスの濃度が制御されたものと
なる。ガス濃度は、発生電極の活性面積、電極へ供給さ
れる電流、及び浄化ガスの流速の１つ又はそれ以上を変
化させることによって制御可能である。
【００１８】ガスは、対向電極３においても生成され、
これはある限度までは電解液室内において集められる。
装置が図示の向きで設置されている場合、対向電極３か
ら生じたガスは、位置４０又は４３に集まる。この向き
での設置の場合、圧力の補償は、半透過膜ＰＴＦＥ膜４
１及び４２を通ってガスを排出することによって達成さ
れる。ガスは、図１に示す側板１０又は１１とハウジン
グ１の第１の部分５１との間の境界面４４又は４５に沿
って、そして側板１０又は１１内の側部排出口５０を介
してそれぞれ通過する。気泡（位置４０及び４３に示
す）が常にＰＴＦＥ膜４１及び４２に接触していること
が効率的であり、外気への排出が保証される。
これはある限度までは電解液室内において集められる。
装置が図示の向きで設置されている場合、対向電極３か
ら生じたガスは、位置４０又は４３に集まる。この向き
での設置の場合、圧力の補償は、半透過膜ＰＴＦＥ膜４
１及び４２を通ってガスを排出することによって達成さ
れる。ガスは、図１に示す側板１０又は１１とハウジン
グ１の第１の部分５１との間の境界面４４又は４５に沿
って、そして側板１０又は１１内の側部排出口５０を介
してそれぞれ通過する。気泡（位置４０及び４３に示
す）が常にＰＴＦＥ膜４１及び４２に接触していること
が効率的であり、外気への排出が保証される。
【００１９】装置が図２に示す向きから反時計方向に９
０°回転させられた場合、位置４０にある気泡は、傾い
た壁４６に沿ってさらに通路６０（図４に示す）を通っ
て発生電極２の回りを通過し、次いでＰＴＦＥ膜４２に
沿って広がり側部排出口５０を通って排出される。傾い
た壁４６は、気泡が電解液室の対向電極側に残って対向
電極を露出させないことを保証する。装置が９０°より
若干小さい角度だけ回転させられ、位置４０にある気泡
が傾いた壁４６に沿って移動しない場合、気泡は拡大さ
れるがそれは対向電極を完全に露出させるには不充分な
程度である。
０°回転させられた場合、位置４０にある気泡は、傾い
た壁４６に沿ってさらに通路６０（図４に示す）を通っ
て発生電極２の回りを通過し、次いでＰＴＦＥ膜４２に
沿って広がり側部排出口５０を通って排出される。傾い
た壁４６は、気泡が電解液室の対向電極側に残って対向
電極を露出させないことを保証する。装置が９０°より
若干小さい角度だけ回転させられ、位置４０にある気泡
が傾いた壁４６に沿って移動しない場合、気泡は拡大さ
れるがそれは対向電極を完全に露出させるには不充分な
程度である。
【００２０】装置が図２に示す向きから１８０°回転さ
せられた場合、位置４０及び４３にあるガス気泡は、ハ
ウジング１の基部の上面によって規定される壁１５に沿
ってかつＰＴＦＥ密封ガスケット６に対向して薄い層と
なって広がるように移動する。対向電極は、壁１５から
立ち上がっておりこの対向電極を囲んでいる、支持部材
７の立ち上がり部分のためにガスによって露出されるこ
とはなく、このガスは、側板１０又は１１とハウジング
１の第２の部分５２との間の境界面４７又は４８に沿っ
て、そして側板１０又は１１内の側部排出口５０を介し
てそれぞれ排出される。従って、全ての設置の方向につ
いて、生成されたガスが、電解液室内を高圧としたり、
対向電極又は発生電極のどちらかを乾燥させてファラデ
ー効率を低下させ最終的に回路を遮断してしまうような
ことはなくなる。
せられた場合、位置４０及び４３にあるガス気泡は、ハ
ウジング１の基部の上面によって規定される壁１５に沿
ってかつＰＴＦＥ密封ガスケット６に対向して薄い層と
なって広がるように移動する。対向電極は、壁１５から
立ち上がっておりこの対向電極を囲んでいる、支持部材
７の立ち上がり部分のためにガスによって露出されるこ
とはなく、このガスは、側板１０又は１１とハウジング
１の第２の部分５２との間の境界面４７又は４８に沿っ
て、そして側板１０又は１１内の側部排出口５０を介し
てそれぞれ排出される。従って、全ての設置の方向につ
いて、生成されたガスが、電解液室内を高圧としたり、
対向電極又は発生電極のどちらかを乾燥させてファラデ
ー効率を低下させ最終的に回路を遮断してしまうような
ことはなくなる。
【００２１】発生電極及びＰＴＦＥ膜２４間の間隙２５
は、そこに存在するガスによって気泡がほとんど形成さ
れないようにするため、充分小さくしなければならな
い。これにより、電解液中のガスはガスの濃度勾配によ
って間隙２５を横断して拡散し、装置の設置方向に係り
なくガスは浄化ガス室へ入ることとなる。
は、そこに存在するガスによって気泡がほとんど形成さ
れないようにするため、充分小さくしなければならな
い。これにより、電解液中のガスはガスの濃度勾配によ
って間隙２５を横断して拡散し、装置の設置方向に係り
なくガスは浄化ガス室へ入ることとなる。
【００２２】好ましい実施例において、電極２において
発生せしめられるガスは、塩素である。電解液は、ｐＨ
１のＬｉＣｌ、ＣｕＣｌ2 及びＨＣｌの水溶液である。
発生電極２は、二酸化ルテニウムの被膜を有するチタン
で形成されており、かつ陽極である。塩素発生反応は、 ２ＨＣｌ → ２Ｈ+ ＋ Ｃｌ2 ＋ ２ｅ である。
発生せしめられるガスは、塩素である。電解液は、ｐＨ
１のＬｉＣｌ、ＣｕＣｌ2 及びＨＣｌの水溶液である。
発生電極２は、二酸化ルテニウムの被膜を有するチタン
で形成されており、かつ陽極である。塩素発生反応は、 ２ＨＣｌ → ２Ｈ+ ＋ Ｃｌ2 ＋ ２ｅ である。
【００２３】銅の電着は、以下の反応により対向電極
（陰極）で起こる。 Ｃｕ++ ＋ ２ｅ → Ｃｕ
（陰極）で起こる。 Ｃｕ++ ＋ ２ｅ → Ｃｕ
【００２４】この場合、好ましい対向電極材料は、チタ
ンである。
ンである。
【００２５】対向電極において、他の陰極反応を利用す
ることができる。例えば、プラチナ電極による下記のご
とき水素生成又は酸素還元反応等である。 ２Ｈ+ ＋ ２ｅ → Ｈ2 Ｏ2 ＋ ４Ｈ+ ＋ ４ｅ → ２Ｈ2 Ｏ
ることができる。例えば、プラチナ電極による下記のご
とき水素生成又は酸素還元反応等である。 ２Ｈ+ ＋ ２ｅ → Ｈ2 Ｏ2 ＋ ４Ｈ+ ＋ ４ｅ → ２Ｈ2 Ｏ
【００２６】塩素発生器の場合、間隙２５（これは精度
良く維持しなければならない）は、気泡の形成を防止す
るためにおよそ１２７μｍ（約５０００）より小さく、
かつファラデー効率を維持するためにおよそ７６μｍ
（約３０００）より大きくするべきである。
良く維持しなければならない）は、気泡の形成を防止す
るためにおよそ１２７μｍ（約５０００）より小さく、
かつファラデー効率を維持するためにおよそ７６μｍ
（約３０００）より大きくするべきである。
【００２７】発生器は、硫化水素、シアン化水素、水
素、二酸化塩素又は電気分解で生成し得るその他のガス
を発生させるのに用いられるかもしれない。電極、電解
液及び間隙２５はそれに応じて選択しなければならな
い。
素、二酸化塩素又は電気分解で生成し得るその他のガス
を発生させるのに用いられるかもしれない。電極、電解
液及び間隙２５はそれに応じて選択しなければならな
い。
【００２８】浄化ガス流から微粒子状及びガス状汚染物
質を取り除くために、浄化ガス入口３０にカーボンフィ
ルタが取り付けられることもある。
質を取り除くために、浄化ガス入口３０にカーボンフィ
ルタが取り付けられることもある。
【００２９】セルは、電解液室内にガスが発生すること
によって生じるセル電圧の急変を検出可能な定電流源か
ら電流供給を受ける。
によって生じるセル電圧の急変を検出可能な定電流源か
ら電流供給を受ける。
【００３０】以上述べた塩素発生器を用いることによ
り、９７％〜１０２％のファラデー効率が常に得られ
た。
り、９７％〜１０２％のファラデー効率が常に得られ
た。
【図１】本発明による校正ガス発生システムの一実施例
の側立面図である。
の側立面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】図２の一部の拡大図である。
【図４】図１のＡ−Ａ線に垂直の断面図である。
１ ハウジング ２ 発生電極 ３ 対向電極 ４、７ 支持部材 ５、８ Ｏリング ６ 密封ガスケット ９ 電解液 １０、１１ 樹脂側板 １２ クランプ板 １３、１４ 線 １５ 壁 １６ ポート ２０ ブロック ２１ 穴 ２３ 浄化ガス室 ２４、４１、４２ 半透過膜 ２５ 間隙 ３０ 入口 ３１ 出口 ４６ 傾いた壁 ４７、４８ 境界面 ５０ 側部排出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 594040741 アドバンスト キャリブレーション デザ インズ インコーポレーテッド ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＣＡＬＩＢＲＡＴＩＯ Ｎ ＤＥＳＩＧＮＳ， ＩＮＣ．, アメリカ合衆国， アリゾナ 85706， トゥーソン， エス．コルブ ロード 2960番地 (72)発明者 デビット アレン ローベッカー アメリカ合衆国， アリゾナ 85711， トゥーソン， ノース ウィルモット 830番地 (72)発明者 ジョン ロバート フィンボウ イギリス国， エスオー51 ６ビージー, ハンプシャー， サザンプトン， イー スト ウェロウ， ロムジー ロード， ウェル ハウス（番地なし)
Claims (9)
- 【請求項１】 ガス発生電極（２）及び対向電極（３）
を有しておりかつこれらの間に電解液体を介在させ、該
電極間を通る電流により前記ガス発生電極においてガス
を発生させる電気化学セルを備えたガス発生装置であっ
て、前記ガス発生電極によって生成されたガスが、電解
液内に気泡をほとんど形成することなくかつ当該装置の
設置方向に係りなくガス濃度勾配効果によって電解液を
通り第１の膜（２４）を通って外部に拡散されるよう
に、前記ガス発生電極（２）に充分近接して位置しガス
に対して透過性であるが電解液に対してはほぼ不透過性
の前記第１の膜（２４）を備えており、前記電気化学セ
ルはほぼＵ字状の電解液室を規定しており、前記対向電
極（３）は該Ｕ字状電解液室の腕部の一方に伸長してお
り、前記ガス発生電極（２）は該Ｕ字状電解液室の基部
に位置していることを特徴とするガス発生装置。 - 【請求項２】 電解液（９）を保持する前記室を規定す
る装置の壁は、対向電極（３）によって生成されたガス
を装置の該壁を介して排出できるように配置されており
ガスに対して透過性であるが電解液に対してはほぼ不透
過性の第２の膜（４１、４２）で少なくとも一部が形成
されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記第１及び第２の膜の一方又は両方が
多孔性ＰＴＦＥからなることを特徴とする請求項２に記
載の装置。 - 【請求項４】 前記第１の膜が、比較的高度の多孔性支
持部材（２１′）によって支持されていることを特徴と
する請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項５】 前記高度の多孔性支持部材（２１′）が
Ｖｙｏｎ又は網状ガラス質カーボンで形成されているこ
とを特徴とする請求項４に記載の装置。 - 【請求項６】 対向電極（３）を含むＵ字状電解液室の
腕部を規定する内壁（４６）が、装置が傾けられた際に
他方の腕部へのガスの通過を助長するために該Ｕ字状電
解液室の基部に向かって角度を持っていることを特徴と
する請求項１から５のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項７】 第１の膜（２４）とガス発生電極（２）
との距離が７０μｍ以上であることを特徴とする請求項
１から６のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項８】 第１の膜（２４）とガス発生電極（２）
との距離が７６μｍ以上であることを特徴とする請求項
７に記載の装置。 - 【請求項９】 請求項１から８のいずれか１項に記載の
ガス発生装置と、前記第１の膜を通ったガスが印加され
該ガスが浄化ガスと混合される浄化ガス室とを備えたこ
とを特徴とする校正ガス発生システム。
Applications Claiming Priority (2)
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Legal Events
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