JPH06272027A - 真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置 - Google Patents
真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置Info
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- JPH06272027A JPH06272027A JP5081199A JP8119993A JPH06272027A JP H06272027 A JPH06272027 A JP H06272027A JP 5081199 A JP5081199 A JP 5081199A JP 8119993 A JP8119993 A JP 8119993A JP H06272027 A JPH06272027 A JP H06272027A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4407—Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B23/00—Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
- C30B23/002—Controlling or regulating
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体となる磁性材料を蒸着する真空
蒸着槽の洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向
上と磁性材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方
法及び装置を提供する。 【構成】 真空蒸着槽１内において基体３に磁性材料６
を蒸着する際、真空蒸着槽１を構成する部材９、１０に
不所望に付着する磁性材料６から蒸発せしめられた蒸発
原子の残滓を洗浄するため、基体３への蒸着工程が終了
した後に部材９、１０を分離して洗浄位置に搬送し、洗
浄位置において洗浄方向や水圧等を自在に制御し得るよ
うに構成した洗浄ロボット２１により洗浄した後、次の
蒸着工程に備えて待機位置に待機させるとともに、洗浄
水をタンクに収容して再利用を図るようにした。
蒸着槽の洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向
上と磁性材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方
法及び装置を提供する。 【構成】 真空蒸着槽１内において基体３に磁性材料６
を蒸着する際、真空蒸着槽１を構成する部材９、１０に
不所望に付着する磁性材料６から蒸発せしめられた蒸発
原子の残滓を洗浄するため、基体３への蒸着工程が終了
した後に部材９、１０を分離して洗浄位置に搬送し、洗
浄位置において洗浄方向や水圧等を自在に制御し得るよ
うに構成した洗浄ロボット２１により洗浄した後、次の
蒸着工程に備えて待機位置に待機させるとともに、洗浄
水をタンクに収容して再利用を図るようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空槽、例えば磁気記録
媒体の製造に使用される真空蒸着装置を構成する真空蒸
着槽等の汚れを除去する際に好適な洗浄方法及び該洗浄
方法を実施するための洗浄装置に関する。
媒体の製造に使用される真空蒸着装置を構成する真空蒸
着槽等の汚れを除去する際に好適な洗浄方法及び該洗浄
方法を実施するための洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】周知の如く、ビデオ信号やオーディオ信
号の磁気記録媒体として例えば磁気ディスクや磁気テー
プが多用されている。磁気記録媒体は、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステルやポリプロピレン等のポ
リオレフィンをフィルム上に形成した基体の表面に磁性
材料を塗布、或いは蒸着して形成したものである。前記
磁気記録媒体については、信号の高密度記録化の要求は
高まる一方であり、これに対処するためには、磁性層中
の磁性材料の高密度化、抗磁力の増加、周波数特性の短
波長側へのシフト、磁性層の薄膜化といった磁性層の改
善が必要になる。しかし、前記基体の表面に磁性材料を
塗布して形成した場合は、原理的に磁性層中にバインダ
が残存するので、前記高密度記録化に要求される諸条件
をみたすことが非常に困難である。
号の磁気記録媒体として例えば磁気ディスクや磁気テー
プが多用されている。磁気記録媒体は、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステルやポリプロピレン等のポ
リオレフィンをフィルム上に形成した基体の表面に磁性
材料を塗布、或いは蒸着して形成したものである。前記
磁気記録媒体については、信号の高密度記録化の要求は
高まる一方であり、これに対処するためには、磁性層中
の磁性材料の高密度化、抗磁力の増加、周波数特性の短
波長側へのシフト、磁性層の薄膜化といった磁性層の改
善が必要になる。しかし、前記基体の表面に磁性材料を
塗布して形成した場合は、原理的に磁性層中にバインダ
が残存するので、前記高密度記録化に要求される諸条件
をみたすことが非常に困難である。
【０００３】このような問題点を解消するため、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の蒸着方
法による磁気記録媒体の製造方法が提案されている。真
空蒸着による磁気記録媒体の製造は、例えば図５に示す
ように構成された真空蒸着装置を用いて行われる。な
お、図５は真空蒸着装置の一部分のみを示した概略斜視
図である。真空蒸着装置１は、図示を省略した真空槽内
に回転自在に配設した円柱状の冷却用メインドラム２、
前記冷却用メインドラム２の周面上にフィルム状の基体
３を巻装させた状態で搬送するためのパスローラ４、
５、更に前記冷却用メインドラム２の下側に配設されて
磁性材料６を収納した坩堝７、また前記磁性材料６に電
子ビームを照射して磁性材料６を加熱・蒸発させる電子
銃８、蒸発した磁性材料がフィルム以外へ付着を防止す
るコンデンセートフード９、前記磁性材料６の蒸発領域
を規制するマスク１０等を具備している。
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の蒸着方
法による磁気記録媒体の製造方法が提案されている。真
空蒸着による磁気記録媒体の製造は、例えば図５に示す
ように構成された真空蒸着装置を用いて行われる。な
お、図５は真空蒸着装置の一部分のみを示した概略斜視
図である。真空蒸着装置１は、図示を省略した真空槽内
に回転自在に配設した円柱状の冷却用メインドラム２、
前記冷却用メインドラム２の周面上にフィルム状の基体
３を巻装させた状態で搬送するためのパスローラ４、
５、更に前記冷却用メインドラム２の下側に配設されて
磁性材料６を収納した坩堝７、また前記磁性材料６に電
子ビームを照射して磁性材料６を加熱・蒸発させる電子
銃８、蒸発した磁性材料がフィルム以外へ付着を防止す
るコンデンセートフード９、前記磁性材料６の蒸発領域
を規制するマスク１０等を具備している。
【０００４】また、真空槽内は真空排気ポンプにより例
えば１．０×１０-4〔Ｔｏｒｒ〕に保持されている。ま
た、前記基体３は図示を省略した供給ローラからパスロ
ーラ４を介して前記冷却ローラ２の周面に巻掛けられ、
更にパスローラ５を介して図示を省略した巻取りローラ
に巻取られるように構成されている。前記マスク１０に
前記冷却メインドラム２の周面に対面する位置には開口
部１０ａとシャッター機構が設けられ、前記磁性材料６
を蒸着させる際に前記基体３の両端部を遮ったり、蒸発
領域を適宜規制し得るように構成されている。
えば１．０×１０-4〔Ｔｏｒｒ〕に保持されている。ま
た、前記基体３は図示を省略した供給ローラからパスロ
ーラ４を介して前記冷却ローラ２の周面に巻掛けられ、
更にパスローラ５を介して図示を省略した巻取りローラ
に巻取られるように構成されている。前記マスク１０に
前記冷却メインドラム２の周面に対面する位置には開口
部１０ａとシャッター機構が設けられ、前記磁性材料６
を蒸着させる際に前記基体３の両端部を遮ったり、蒸発
領域を適宜規制し得るように構成されている。
【０００５】次に、上記装置１を使用した磁気記録媒体
の製造方法を説明すると、供給ローラを駆動して前記基
体３を繰り出すとともに、前記冷却用メインドラム２を
例えば−３０℃程度に冷却した状態で矢印Ａ方向に回転
させる。これと同時に、前記電子銃８の電子ビームによ
り前記磁性材料６を加熱して蒸発させ、蒸発粒子（磁性
材料）を前記開口部１０ａに露呈している前記基体３の
表面に連続的に蒸着させる。このようにして、前記基体
３の表面に前記磁性材料６が蒸着され、蒸着後の前記基
体３は前記パスローラ５を介して巻取りローラに巻き取
られる。このように製造された磁気記録媒体は、磁性体
塗布により製造された磁気記録媒体に比較して、再生出
力は格段に大きく、磁気記録の周波数特性もより短波長
側に延びており、高密度磁気記録媒体として有用なもの
となっている。
の製造方法を説明すると、供給ローラを駆動して前記基
体３を繰り出すとともに、前記冷却用メインドラム２を
例えば−３０℃程度に冷却した状態で矢印Ａ方向に回転
させる。これと同時に、前記電子銃８の電子ビームによ
り前記磁性材料６を加熱して蒸発させ、蒸発粒子（磁性
材料）を前記開口部１０ａに露呈している前記基体３の
表面に連続的に蒸着させる。このようにして、前記基体
３の表面に前記磁性材料６が蒸着され、蒸着後の前記基
体３は前記パスローラ５を介して巻取りローラに巻き取
られる。このように製造された磁気記録媒体は、磁性体
塗布により製造された磁気記録媒体に比較して、再生出
力は格段に大きく、磁気記録の周波数特性もより短波長
側に延びており、高密度磁気記録媒体として有用なもの
となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記基体３の真空蒸着
は、数千ｍもの長さについて連続して行われる。このよ
うな長尺について連続蒸着を行うと、前記マスク１０を
含むシャッタ機構、コンデンセートフード９の内壁に蒸
発粒子の残滓が大量に付着する。付着した残滓はその量
が多くなると内壁からはがれ落ちたり、前記蒸発領域の
規制を損ねたり、大気中のガス成分を吸着する等の問題
を生じる。このため、蒸着工程毎に前記残滓を除去する
か、或いは新しい部材と交換する必要があった。
は、数千ｍもの長さについて連続して行われる。このよ
うな長尺について連続蒸着を行うと、前記マスク１０を
含むシャッタ機構、コンデンセートフード９の内壁に蒸
発粒子の残滓が大量に付着する。付着した残滓はその量
が多くなると内壁からはがれ落ちたり、前記蒸発領域の
規制を損ねたり、大気中のガス成分を吸着する等の問題
を生じる。このため、蒸着工程毎に前記残滓を除去する
か、或いは新しい部材と交換する必要があった。
【０００７】従来は、残滓の除去を人手により治具を用
いて行っていたのであるが、残滓は部材に強固に付着し
ているので、砕き落としたり、掻き落とさなければなら
ず、多大の労力を要する面倒な作業であった。また、残
滓のクリーニングを丁寧にすることにより前記磁気記録
媒体の品質の安定化を図ることができるものであるが、
クリーニング作業に多くの時間をかけることは蒸着工程
のサイクルを長くして生産性を大幅に低下させる問題が
あった。更に、従来は除去した残滓は殆ど廃棄されてい
た。これは、上述のように従来においては、掻き落とし
時において残滓が付着した部材を掻き落とし治具により
傷付けたり、削り落とすことから、除去された残滓には
部材の削れ片等の不純物をふくんだものになり、回収分
離して再利用を図る際の障害になり、磁性材料の利用効
率低下の大きな要因になっていた。本発明の目的は、磁
気記録媒体となる磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の
洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向上と磁性
材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方法及び装
置を提供することにある。
いて行っていたのであるが、残滓は部材に強固に付着し
ているので、砕き落としたり、掻き落とさなければなら
ず、多大の労力を要する面倒な作業であった。また、残
滓のクリーニングを丁寧にすることにより前記磁気記録
媒体の品質の安定化を図ることができるものであるが、
クリーニング作業に多くの時間をかけることは蒸着工程
のサイクルを長くして生産性を大幅に低下させる問題が
あった。更に、従来は除去した残滓は殆ど廃棄されてい
た。これは、上述のように従来においては、掻き落とし
時において残滓が付着した部材を掻き落とし治具により
傷付けたり、削り落とすことから、除去された残滓には
部材の削れ片等の不純物をふくんだものになり、回収分
離して再利用を図る際の障害になり、磁性材料の利用効
率低下の大きな要因になっていた。本発明の目的は、磁
気記録媒体となる磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の
洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向上と磁性
材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方法及び装
置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る前記目的
は、磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸着物が付着
した被洗浄部材を、高圧噴射する洗浄液により洗浄する
ことを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄方法により達成
できる。さらに、同様の目的は磁性材料を真空蒸着する
真空蒸着槽で蒸着物が付着した被洗浄部材を該真空蒸着
槽外に一定の搬出入経路を介して洗浄領域へ搬出し、前
記洗浄領域にて高圧噴射する洗浄液により洗浄した後に
乾燥領域へ移送して乾燥し、その後、前記搬出入経路に
戻して前記真空蒸着槽内に装着することを特徴とする真
空蒸着槽の自動洗浄方法によって達成される。また、前
記被洗浄部材を複数ユニット使用し、該ユニットのうち
一つを前記真空蒸着槽から搬出したときに、他のユニッ
トを前記真空蒸着槽に装着し、前記真空蒸着槽における
蒸着工程と洗浄工程とを同時に行う真空蒸着槽の洗浄方
法、並びに前記洗浄領域において前記洗浄液により除去
された蒸着物を該洗浄液と分離して回収する真空蒸着槽
の洗浄方法により上記目的を達成することができる。
は、磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸着物が付着
した被洗浄部材を、高圧噴射する洗浄液により洗浄する
ことを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄方法により達成
できる。さらに、同様の目的は磁性材料を真空蒸着する
真空蒸着槽で蒸着物が付着した被洗浄部材を該真空蒸着
槽外に一定の搬出入経路を介して洗浄領域へ搬出し、前
記洗浄領域にて高圧噴射する洗浄液により洗浄した後に
乾燥領域へ移送して乾燥し、その後、前記搬出入経路に
戻して前記真空蒸着槽内に装着することを特徴とする真
空蒸着槽の自動洗浄方法によって達成される。また、前
記被洗浄部材を複数ユニット使用し、該ユニットのうち
一つを前記真空蒸着槽から搬出したときに、他のユニッ
トを前記真空蒸着槽に装着し、前記真空蒸着槽における
蒸着工程と洗浄工程とを同時に行う真空蒸着槽の洗浄方
法、並びに前記洗浄領域において前記洗浄液により除去
された蒸着物を該洗浄液と分離して回収する真空蒸着槽
の洗浄方法により上記目的を達成することができる。
【０００９】また、本発明に係る前記目的は、磁性材料
を真空蒸着する真空蒸着槽の被洗浄部材を前記真空蒸着
槽外に搬出し且つ搬入する搬出入手段と、搬出された前
記被洗浄部材を高圧噴射する洗浄液で洗浄する洗浄部
と、前記洗浄部により洗浄された前記被洗浄部材を乾燥
部とを有し、かつ前記搬出入手段が前記洗浄部から前記
乾燥部を移動して前記真空蒸着槽へと順次移動可能に構
成し、前記被洗浄部材の取り出しから洗浄、乾燥および
装着までを一定の移動経路にそって行うようにしたこと
を特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄装置によって達成さ
れる。また、磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の槽壁
面に開閉可能な開閉部を設け、高圧噴射する洗浄液を噴
射する洗浄手段が移動経路に沿って移動自在でかつ前記
開閉部から真空槽内に進入可能に構成され、前記真空蒸
着槽内に装着されたままの被洗浄部材を前記洗浄手段に
より洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄装
置によっても前記目的を達成することができる。
を真空蒸着する真空蒸着槽の被洗浄部材を前記真空蒸着
槽外に搬出し且つ搬入する搬出入手段と、搬出された前
記被洗浄部材を高圧噴射する洗浄液で洗浄する洗浄部
と、前記洗浄部により洗浄された前記被洗浄部材を乾燥
部とを有し、かつ前記搬出入手段が前記洗浄部から前記
乾燥部を移動して前記真空蒸着槽へと順次移動可能に構
成し、前記被洗浄部材の取り出しから洗浄、乾燥および
装着までを一定の移動経路にそって行うようにしたこと
を特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄装置によって達成さ
れる。また、磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の槽壁
面に開閉可能な開閉部を設け、高圧噴射する洗浄液を噴
射する洗浄手段が移動経路に沿って移動自在でかつ前記
開閉部から真空槽内に進入可能に構成され、前記真空蒸
着槽内に装着されたままの被洗浄部材を前記洗浄手段に
より洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄装
置によっても前記目的を達成することができる。
【００１０】
【実施態様】次に、図１及び図２を参照して本発明の一
実施態様を説明する。図１は磁気記録媒体の製造装置で
ある真空蒸着槽および自動洗浄装置を示す要部の斜視図
である。図２は自動洗浄及び乾燥の工程を示した概略構
成図である。なお、真空蒸着槽における各部材について
は、従来例と同様の作用をなす部材には同一の符号を付
して説明を省略する。
実施態様を説明する。図１は磁気記録媒体の製造装置で
ある真空蒸着槽および自動洗浄装置を示す要部の斜視図
である。図２は自動洗浄及び乾燥の工程を示した概略構
成図である。なお、真空蒸着槽における各部材について
は、従来例と同様の作用をなす部材には同一の符号を付
して説明を省略する。
【００１１】本実施態様における自動洗浄装置全体は、
磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽１ａ内に各種部材を
備えた真空蒸着装置１に隣接して配置された装置であ
る。そして、その構成は本発明で云う被洗浄部材である
コンデンセートフード９やマスク１０等を前記真空蒸着
槽１ａ外に、開閉部であるゲート１１から搬出し且つ搬
入する搬出入手段としてのレール２４と、搬出された前
記コンデンセートフード９等を高圧噴射する洗浄液で洗
浄する洗浄部であるクリーニング装置２１と、該クリー
ニング装置２１により洗浄された前記コンデンセートフ
ード９等を乾燥部５０へと搬送してから前記レール２４
へと搬送するループ状のレール３４とを有した構成であ
る。この構造により後述するように、前記コンデンセー
トフード９等が真空蒸着槽１ａから取り出されてから、
洗浄、乾燥されて再び装着されるまでの一連の作業を一
定の移動経路に沿って迅速かつ能率よく行うことができ
る。
磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽１ａ内に各種部材を
備えた真空蒸着装置１に隣接して配置された装置であ
る。そして、その構成は本発明で云う被洗浄部材である
コンデンセートフード９やマスク１０等を前記真空蒸着
槽１ａ外に、開閉部であるゲート１１から搬出し且つ搬
入する搬出入手段としてのレール２４と、搬出された前
記コンデンセートフード９等を高圧噴射する洗浄液で洗
浄する洗浄部であるクリーニング装置２１と、該クリー
ニング装置２１により洗浄された前記コンデンセートフ
ード９等を乾燥部５０へと搬送してから前記レール２４
へと搬送するループ状のレール３４とを有した構成であ
る。この構造により後述するように、前記コンデンセー
トフード９等が真空蒸着槽１ａから取り出されてから、
洗浄、乾燥されて再び装着されるまでの一連の作業を一
定の移動経路に沿って迅速かつ能率よく行うことができ
る。
【００１２】前記クリーニング装置２１は、自動洗浄ロ
ボット２２（以下、単にロボットと略称する）と該ロボ
ット２２を搬送するためのレール２３、洗浄液（ここで
は水を使用する）及び残滓の飛散を防ぐ仕切りケース２
１ａ等（図２参照）により構成されてる。なお、前記レ
ール２４は前記クリーニング装置２１の所定の位置に前
記コンデンセートフード９を搬送するように適宜延びて
いる。また、前記ロボット２２は、前記レール２３上を
移動する台車２５、該台車２５上に回動自在設けられた
基部２６、前記基部２６上に設けた回転自在な回動アー
ム２７、フレックス部２７ａを介して回転自在な昇降ア
ーム２８、更に昇降アーム２８の先端部分にて回転自在
に設けられた噴射ノズル２９、該噴射ノズル２９に給水
するパイプ３０により構成されている。
ボット２２（以下、単にロボットと略称する）と該ロボ
ット２２を搬送するためのレール２３、洗浄液（ここで
は水を使用する）及び残滓の飛散を防ぐ仕切りケース２
１ａ等（図２参照）により構成されてる。なお、前記レ
ール２４は前記クリーニング装置２１の所定の位置に前
記コンデンセートフード９を搬送するように適宜延びて
いる。また、前記ロボット２２は、前記レール２３上を
移動する台車２５、該台車２５上に回動自在設けられた
基部２６、前記基部２６上に設けた回転自在な回動アー
ム２７、フレックス部２７ａを介して回転自在な昇降ア
ーム２８、更に昇降アーム２８の先端部分にて回転自在
に設けられた噴射ノズル２９、該噴射ノズル２９に給水
するパイプ３０により構成されている。
【００１３】また、本実施態様においては、前記コンデ
ンセートフード９の下面に前記レール２４、２３に対応
した車輪１３（図３参照）が適宜設けられている。ま
た、前記レール２４は前記真空蒸着槽１ａ内に延びてお
り、前記コンデンセートフード９は前記レール２４上を
移動することで真空蒸着槽内からの取り出し並びにセッ
トを行うことができる。なお、前記レール２４は前記真
空蒸着槽１ａのゲート１１（図２参照）が開閉できるよ
うに、該ゲート１１の移動部分は切れた構成となってい
る。
ンセートフード９の下面に前記レール２４、２３に対応
した車輪１３（図３参照）が適宜設けられている。ま
た、前記レール２４は前記真空蒸着槽１ａ内に延びてお
り、前記コンデンセートフード９は前記レール２４上を
移動することで真空蒸着槽内からの取り出し並びにセッ
トを行うことができる。なお、前記レール２４は前記真
空蒸着槽１ａのゲート１１（図２参照）が開閉できるよ
うに、該ゲート１１の移動部分は切れた構成となってい
る。
【００１４】次に、前記基体３への磁性材料６の蒸着後
における前記装置のクリーニング方法を図１、図２及び
図３を参照しながら説明する。前記基体３への磁性材料
６の蒸着は、図４を参照して説明した如く従来と同様に
行われる。そして、蒸着が行われると、前記コンデンセ
ートフード９や前記マスク１０のクリーニングに移行す
る。なお、前記コンデンセートフード９は上述したよう
に前記レール２４上を移動することで真空槽から離脱可
能であり、又、前記マスク１０は、その両端片部分１０
ｂがドラムの回転中心部分に取り付けられているが、こ
の両端片部分１０ｂを適宜分割可能にすることで、真空
槽から取り出すことができる。なお、前記マスク１０は
取り外した後に、例えば前記レール上を走行可能なワゴ
ンに載置する。また、前記マスク１０及び前記コンデン
セートフード９は同時にクリーニングされるのである
が、図１には図示の便宜のため前記コンデンセートフー
ド９について図示した。
における前記装置のクリーニング方法を図１、図２及び
図３を参照しながら説明する。前記基体３への磁性材料
６の蒸着は、図４を参照して説明した如く従来と同様に
行われる。そして、蒸着が行われると、前記コンデンセ
ートフード９や前記マスク１０のクリーニングに移行す
る。なお、前記コンデンセートフード９は上述したよう
に前記レール２４上を移動することで真空槽から離脱可
能であり、又、前記マスク１０は、その両端片部分１０
ｂがドラムの回転中心部分に取り付けられているが、こ
の両端片部分１０ｂを適宜分割可能にすることで、真空
槽から取り出すことができる。なお、前記マスク１０は
取り外した後に、例えば前記レール上を走行可能なワゴ
ンに載置する。また、前記マスク１０及び前記コンデン
セートフード９は同時にクリーニングされるのである
が、図１には図示の便宜のため前記コンデンセートフー
ド９について図示した。
【００１５】前記基体３への前記磁性材料６の長時間の
蒸着が終了すると、前記コンデンセートフード９や前記
マスク１０には大量の蒸発原子が付着している。この付
着した蒸発原子をクリーニングするため、先ず、ゲート
１１を開いて前記コンデーンセートフード９や前記マス
ク１０を前記レール２４に沿って移動させる。なお、コ
ンセンデートフード９のように車輪（自走できる場合や
他の手段により移動させる場合がある）を備えた構成や
自走台車上に載せて搬送する構成のいずれでもよい。更
に移動して前記レール２４上を洗浄位置、例えば前記レ
ール２３との交差位置に搬出する。
蒸着が終了すると、前記コンデンセートフード９や前記
マスク１０には大量の蒸発原子が付着している。この付
着した蒸発原子をクリーニングするため、先ず、ゲート
１１を開いて前記コンデーンセートフード９や前記マス
ク１０を前記レール２４に沿って移動させる。なお、コ
ンセンデートフード９のように車輪（自走できる場合や
他の手段により移動させる場合がある）を備えた構成や
自走台車上に載せて搬送する構成のいずれでもよい。更
に移動して前記レール２４上を洗浄位置、例えば前記レ
ール２３との交差位置に搬出する。
【００１６】この搬出が行われた後、次の蒸着工程に空
きが生じないように、内部洗浄が終了しかつレール３４
上で待機位置Ｂに待機していた他のコンデンセートフー
ド９やマスク１０を真空槽内に搬入し装着する。なお、
この時、前記レール３４から前記レール２４への乗り移
りは、乗り移り部２４ａが上下移動並びに回転移動する
ことにより、該乗り移り部２４ａのレールが両レール２
４、３４に一致するように動作することで可能となる。
そして、前記真空蒸着装置１側では蒸着のため前記基体
３の巻装、前記磁性材料６の補充等の準備を行った後、
前記ゲート１１を閉じ次いで真空槽内を排気して次の蒸
着工程に移行する。
きが生じないように、内部洗浄が終了しかつレール３４
上で待機位置Ｂに待機していた他のコンデンセートフー
ド９やマスク１０を真空槽内に搬入し装着する。なお、
この時、前記レール３４から前記レール２４への乗り移
りは、乗り移り部２４ａが上下移動並びに回転移動する
ことにより、該乗り移り部２４ａのレールが両レール２
４、３４に一致するように動作することで可能となる。
そして、前記真空蒸着装置１側では蒸着のため前記基体
３の巻装、前記磁性材料６の補充等の準備を行った後、
前記ゲート１１を閉じ次いで真空槽内を排気して次の蒸
着工程に移行する。
【００１７】一方、搬出された前記コンデンセートフー
ド９等は、洗浄位置に待ち受けていた前記ロボット２１
により洗浄される。洗浄は前記ホース３０から前記ノズ
ル２９に給水した洗浄水を高圧噴射して行うのである
が、前記ロボット２１が前記回動アーム２７、前記昇降
アーム２８により言わば多関節ロボットに構成されてい
るので、前記ノズル２９の方向、言い換えれば洗浄水の
高圧噴射方向を自在に変化させることができ、前記コン
デンセートフード９等の内壁面全体を隅ゞまで洗浄する
ことができる。
ド９等は、洗浄位置に待ち受けていた前記ロボット２１
により洗浄される。洗浄は前記ホース３０から前記ノズ
ル２９に給水した洗浄水を高圧噴射して行うのである
が、前記ロボット２１が前記回動アーム２７、前記昇降
アーム２８により言わば多関節ロボットに構成されてい
るので、前記ノズル２９の方向、言い換えれば洗浄水の
高圧噴射方向を自在に変化させることができ、前記コン
デンセートフード９等の内壁面全体を隅ゞまで洗浄する
ことができる。
【００１８】この洗浄時に、洗浄水の高圧噴射の圧力を
利用して、前記コンデンセートフード９の壁面を削るこ
となく、前記残滓を完全に除去することができる。ま
た、ロボット２１の噴射方向等は、洗浄物の形状等に合
わせてプログラム化され、そのプログラムに従って自動
洗浄が行われる。この洗浄にあたって、前記ノズル２９
から噴出する洗浄水の噴射衝撃力はその洗浄水の圧力並
びにその流量によるが、前記残滓の除去テストを実施し
た結果、洗浄水の水圧は、吐出量が５リットル／分〜４
００リットル／分において高圧プランジャポンプを用い
て１００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲であるときに残
滓除去効果が良好であった。また、図６に示すように、
被洗浄体９と洗浄水Ｗｆの入射角度θは前記ノズル２９
から該被洗浄体９の洗浄面に対して４５度〜９０度に調
整することで洗浄効果をあげることができ、望ましくは
７５度〜９０度の範囲にすることにより、より効果的で
あった。
利用して、前記コンデンセートフード９の壁面を削るこ
となく、前記残滓を完全に除去することができる。ま
た、ロボット２１の噴射方向等は、洗浄物の形状等に合
わせてプログラム化され、そのプログラムに従って自動
洗浄が行われる。この洗浄にあたって、前記ノズル２９
から噴出する洗浄水の噴射衝撃力はその洗浄水の圧力並
びにその流量によるが、前記残滓の除去テストを実施し
た結果、洗浄水の水圧は、吐出量が５リットル／分〜４
００リットル／分において高圧プランジャポンプを用い
て１００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲であるときに残
滓除去効果が良好であった。また、図６に示すように、
被洗浄体９と洗浄水Ｗｆの入射角度θは前記ノズル２９
から該被洗浄体９の洗浄面に対して４５度〜９０度に調
整することで洗浄効果をあげることができ、望ましくは
７５度〜９０度の範囲にすることにより、より効果的で
あった。
【００１９】洗浄水の高圧噴射により除去された残滓
（磁性材料）は、洗浄水とともに前記仕切りケース２１
ａの下方に流れる。この流れる途中において例えば図３
に示すごとく、フィルタや網目状の分離部材５２により
濾過して、回収部５４に集められる。一方、洗浄水は前
記仕切りケース２１ａの下部の排水口５３から排水され
る。このように濾過した残滓は洗浄水以外何も混入して
いないので、その純度はもとの材料えお殆ど同じであ
り、極めて容易に再生して再利用に供される。そして、
洗浄後の前記コンデンセートフード９等は、前記レール
３４上に移される。このレールの乗り移り動作は前記乗
り移り部２４ａと同様に上下移動及び回転動が自在にで
きる乗り移り部２４ｂにより行うことができる。前記レ
ール３４に移動した前記コンデンセートフード９等は乾
燥部５０まで移動して乾燥され、さらに移動して待機位
置Ｂに搬送され、次の交換に備えて待機する。なお、前
記乾燥部５０の構造は、特に限定するものではないが、
例えば被乾燥物である前記コンデンセートフード９等を
囲むことのできるフード４１を設け、該フード５１内に
乾燥熱風を送り込んで乾燥する等の適宜構造を採用する
ことができる。
（磁性材料）は、洗浄水とともに前記仕切りケース２１
ａの下方に流れる。この流れる途中において例えば図３
に示すごとく、フィルタや網目状の分離部材５２により
濾過して、回収部５４に集められる。一方、洗浄水は前
記仕切りケース２１ａの下部の排水口５３から排水され
る。このように濾過した残滓は洗浄水以外何も混入して
いないので、その純度はもとの材料えお殆ど同じであ
り、極めて容易に再生して再利用に供される。そして、
洗浄後の前記コンデンセートフード９等は、前記レール
３４上に移される。このレールの乗り移り動作は前記乗
り移り部２４ａと同様に上下移動及び回転動が自在にで
きる乗り移り部２４ｂにより行うことができる。前記レ
ール３４に移動した前記コンデンセートフード９等は乾
燥部５０まで移動して乾燥され、さらに移動して待機位
置Ｂに搬送され、次の交換に備えて待機する。なお、前
記乾燥部５０の構造は、特に限定するものではないが、
例えば被乾燥物である前記コンデンセートフード９等を
囲むことのできるフード４１を設け、該フード５１内に
乾燥熱風を送り込んで乾燥する等の適宜構造を採用する
ことができる。
【００２０】このようにして、前記基体３への磁性材料
６の蒸着と、蒸着により前記コンデンセートフード９や
前記マスク１０等に付着した蒸発原子の残滓の洗浄とが
同時に行われ、洗浄済の前記コンデンセートフード９や
前記マスク１０が次の蒸着に備えて待機状態になる。従
って、前記基体３への前記磁性材料６の蒸着工程は洗浄
工程の作業時間に左右されることがなくなり、極めて効
率よく行われる。上記実施態様においては、被洗浄部材
を真空槽から出して洗浄するようにしたが、本発明はこ
れに限定するものではなく、前記真空蒸着槽１ａの槽壁
面に開閉可能な前記ゲート１１が設けられているが、高
圧噴射する洗浄液を噴射する洗浄手段であるクリーニン
グロボット２２がレール２３、乗り移り部２４ｂ、レー
ル２４（レール２４とレール２３とは同じ幅に構成され
ている）からなる移動経路に沿って移動自在であり、か
つ前記ゲート１１から真空槽内に進入可能に構成されて
いる。したがって、前記真空蒸着槽１ａ内に装着された
ままの前記コンデンセートフード９や前記マスク１０等
の被洗浄部材を前記クリーニングロボット２２により洗
浄することができる。
６の蒸着と、蒸着により前記コンデンセートフード９や
前記マスク１０等に付着した蒸発原子の残滓の洗浄とが
同時に行われ、洗浄済の前記コンデンセートフード９や
前記マスク１０が次の蒸着に備えて待機状態になる。従
って、前記基体３への前記磁性材料６の蒸着工程は洗浄
工程の作業時間に左右されることがなくなり、極めて効
率よく行われる。上記実施態様においては、被洗浄部材
を真空槽から出して洗浄するようにしたが、本発明はこ
れに限定するものではなく、前記真空蒸着槽１ａの槽壁
面に開閉可能な前記ゲート１１が設けられているが、高
圧噴射する洗浄液を噴射する洗浄手段であるクリーニン
グロボット２２がレール２３、乗り移り部２４ｂ、レー
ル２４（レール２４とレール２３とは同じ幅に構成され
ている）からなる移動経路に沿って移動自在であり、か
つ前記ゲート１１から真空槽内に進入可能に構成されて
いる。したがって、前記真空蒸着槽１ａ内に装着された
ままの前記コンデンセートフード９や前記マスク１０等
の被洗浄部材を前記クリーニングロボット２２により洗
浄することができる。
【００２１】本発明は上記実施態様に限定されるのでは
なく、種々変更できるものである。例えば、被洗浄部材
の搬送系はレール構造ではなく、自走台車により特定の
経路を移動する構成であれば、前記実施態様における乗
り移り部２４ａ，２４ｂ等の構造は必要なくなり、ま
た、上方から吊り下げるような構成を採用することがで
きる。また、コンデンセートフードとマスクを一体構造
とすることにより、被洗浄部材のセット並びに取り外し
が極めて迅速にできる。本発明の洗浄方法は前記真空蒸
着装置１の洗浄にのみ適用されるものではなく、その他
スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、ＣＶ
Ｄ装置、エッチング装置等の真空成膜装置に適用できる
ものである。
なく、種々変更できるものである。例えば、被洗浄部材
の搬送系はレール構造ではなく、自走台車により特定の
経路を移動する構成であれば、前記実施態様における乗
り移り部２４ａ，２４ｂ等の構造は必要なくなり、ま
た、上方から吊り下げるような構成を採用することがで
きる。また、コンデンセートフードとマスクを一体構造
とすることにより、被洗浄部材のセット並びに取り外し
が極めて迅速にできる。本発明の洗浄方法は前記真空蒸
着装置１の洗浄にのみ適用されるものではなく、その他
スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、ＣＶ
Ｄ装置、エッチング装置等の真空成膜装置に適用できる
ものである。
【００２２】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係る真
空蒸着槽の洗浄方法及び装置は、真空蒸着槽内において
基体に磁性材料を蒸着する際、前記真空蒸着槽を構成す
る部材に不所望に付着する前記磁性材料から蒸発せしめ
られた蒸発原子の残滓を洗浄するため、前記基体への蒸
着工程が終了した後に前記部材を前記真空蒸着槽から分
離して洗浄位置に搬送し、前記洗浄位置において洗浄方
向や圧力等を自在に制御し得るように構成した洗浄手段
により洗浄した後、次の蒸着工程に備えて待機位置に待
機させることができる。したがって、前記真空蒸着槽を
構成する部材に付着した残滓が、ロボット操作による洗
浄水の高圧噴射にて洗浄されるので、安全性も高く人手
による洗浄に比較して作業効率が向上するだけでなく、
洗浄と蒸着工程が同時進行の形態で行えるので、生産性
の向上させることがでる。また、本発明によれば、掻き
落としのための治具を使用しないので、前記部材の表面
を傷付けたり削ったりすることがなく、残滓洗浄後の洗
浄水に不純物が混入しないので、残滓を含む洗浄水を濾
過して残滓を分離し再利用を図ることができる。
空蒸着槽の洗浄方法及び装置は、真空蒸着槽内において
基体に磁性材料を蒸着する際、前記真空蒸着槽を構成す
る部材に不所望に付着する前記磁性材料から蒸発せしめ
られた蒸発原子の残滓を洗浄するため、前記基体への蒸
着工程が終了した後に前記部材を前記真空蒸着槽から分
離して洗浄位置に搬送し、前記洗浄位置において洗浄方
向や圧力等を自在に制御し得るように構成した洗浄手段
により洗浄した後、次の蒸着工程に備えて待機位置に待
機させることができる。したがって、前記真空蒸着槽を
構成する部材に付着した残滓が、ロボット操作による洗
浄水の高圧噴射にて洗浄されるので、安全性も高く人手
による洗浄に比較して作業効率が向上するだけでなく、
洗浄と蒸着工程が同時進行の形態で行えるので、生産性
の向上させることがでる。また、本発明によれば、掻き
落としのための治具を使用しないので、前記部材の表面
を傷付けたり削ったりすることがなく、残滓洗浄後の洗
浄水に不純物が混入しないので、残滓を含む洗浄水を濾
過して残滓を分離し再利用を図ることができる。
【００２３】
【実施例−１】以下に示す実施例により、本発明を更に
明確に説明する。図１に示した真空蒸着装置１を使用
し、前記磁性材料６としてＣo80 Ｎi 20を用い、前記電
子銃８により加熱して蒸発せしめ、全長３０００ｍの前
記基体３に厚み１８００Åの薄膜を形成した。なお、前
記マスク１０を含むシャッタ機構はステンレス材にて構
成し、内部に冷却水が通る構造にした。また、前記コン
デンセートフード９及び図示を省略した内壁の防着板は
銅材により構成し、内部に冷却水が通る構造にした。
明確に説明する。図１に示した真空蒸着装置１を使用
し、前記磁性材料６としてＣo80 Ｎi 20を用い、前記電
子銃８により加熱して蒸発せしめ、全長３０００ｍの前
記基体３に厚み１８００Åの薄膜を形成した。なお、前
記マスク１０を含むシャッタ機構はステンレス材にて構
成し、内部に冷却水が通る構造にした。また、前記コン
デンセートフード９及び図示を省略した内壁の防着板は
銅材により構成し、内部に冷却水が通る構造にした。
【００２４】そして、前記基体３について蒸着を行った
後、前記マスク１０を含むシャッタ機構の内壁表面に
は、厚さ２〜４ｍｍのＣo Ｎi 金属の残滓が付着し、前
記コンデンセートフード９の内壁面には厚さ５〜１０ｍ
ｍの残滓が付着していた。これらの残滓を付着させたま
まで次の試作を行うことは困難である。何故ならば、前
記金属残滓は固まり状で剥がれ落ち、坩堝７内に落下す
る。また、前記マスク１０等に付着した前記金属残滓
は、蒸発領域規制部の形状を変えてしまうので、蒸発原
子が前記基体３の所望の位置に均等に蒸着しなくなり、
所望の磁気特性が得られない。更に、前記残滓を充分に
除去しない場合は、大気中の水分成分等の吸着の影響
で、バッチ毎の磁気特性が変動する要因になる。
後、前記マスク１０を含むシャッタ機構の内壁表面に
は、厚さ２〜４ｍｍのＣo Ｎi 金属の残滓が付着し、前
記コンデンセートフード９の内壁面には厚さ５〜１０ｍ
ｍの残滓が付着していた。これらの残滓を付着させたま
まで次の試作を行うことは困難である。何故ならば、前
記金属残滓は固まり状で剥がれ落ち、坩堝７内に落下す
る。また、前記マスク１０等に付着した前記金属残滓
は、蒸発領域規制部の形状を変えてしまうので、蒸発原
子が前記基体３の所望の位置に均等に蒸着しなくなり、
所望の磁気特性が得られない。更に、前記残滓を充分に
除去しない場合は、大気中の水分成分等の吸着の影響
で、バッチ毎の磁気特性が変動する要因になる。
【００２５】そこで、前記金属残滓を除去するために、
前記実施態様で説明したように前記コンデンセートフー
ド９、前記マスク１０等を真空槽から取り外し、前記洗
浄ロボット２１により洗浄する。この洗浄にあたって、
ノズル２９から噴出する洗浄水の噴射衝撃力を利用して
前記金属残滓の除去テストを実施した。洗浄水は、高圧
プランジャポンプを用いて１００〜１０００ｋｇｆ／cm
2 の範囲と１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲とに
分けてテストした。洗浄結果は、２００ｍｍ×２００ｍ
ｍの面積内で目視により９０％以上の面積の材料部材が
露出している場合を◎、同７０％以上が露出している場
合を○、同５０％以上が露出している場合を△、同５０
％以下が露出している場合を×と評価した。なお、設定
パラメータには、（１）吐出圧力、（２）吐出流量、
（３）ノズル形状、（４）被洗浄体とノズル２９との距
離、（５）ノズル２９の移動速度、（６）洗浄水の洗浄
面への入射角度等がある。
前記実施態様で説明したように前記コンデンセートフー
ド９、前記マスク１０等を真空槽から取り外し、前記洗
浄ロボット２１により洗浄する。この洗浄にあたって、
ノズル２９から噴出する洗浄水の噴射衝撃力を利用して
前記金属残滓の除去テストを実施した。洗浄水は、高圧
プランジャポンプを用いて１００〜１０００ｋｇｆ／cm
2 の範囲と１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲とに
分けてテストした。洗浄結果は、２００ｍｍ×２００ｍ
ｍの面積内で目視により９０％以上の面積の材料部材が
露出している場合を◎、同７０％以上が露出している場
合を○、同５０％以上が露出している場合を△、同５０
％以下が露出している場合を×と評価した。なお、設定
パラメータには、（１）吐出圧力、（２）吐出流量、
（３）ノズル形状、（４）被洗浄体とノズル２９との距
離、（５）ノズル２９の移動速度、（６）洗浄水の洗浄
面への入射角度等がある。
【００２６】先ず、前記コンデンセートフード９等の被
洗浄体と前記ノズル２９との間の距離、前記ノズル２９
の移動速度、被洗浄体と洗浄水との入射角度とについて
調べるため、吐出圧力５００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量４
０リットル／ｍｉｎ、扇型ノズルを用いて前記テストを
実施した。その結果、被洗浄体と前記ノズル２９との間
の距離は１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度は５０
〜１００ｍｍ／ｓｅｃ、被洗浄体９と洗浄水Ｗｆの入射
角度θは，図６に示すようにノズル２９から被洗浄体９
の洗浄面に対して４５度〜９０度にすることができ、望
ましくは７５度〜９０度の範囲であった。
洗浄体と前記ノズル２９との間の距離、前記ノズル２９
の移動速度、被洗浄体と洗浄水との入射角度とについて
調べるため、吐出圧力５００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量４
０リットル／ｍｉｎ、扇型ノズルを用いて前記テストを
実施した。その結果、被洗浄体と前記ノズル２９との間
の距離は１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度は５０
〜１００ｍｍ／ｓｅｃ、被洗浄体９と洗浄水Ｗｆの入射
角度θは，図６に示すようにノズル２９から被洗浄体９
の洗浄面に対して４５度〜９０度にすることができ、望
ましくは７５度〜９０度の範囲であった。
【００２７】次に、前記条件で前記ノズル２９について
直進ノズルと扇型ノズルとの比較を行った。その結果、
両者は金属残滓の剥離能力は略同等であり、扇型ノズル
は洗浄幅が広い分有利であることが判明した。以上の設
定を基本条件として、吐出圧力及び吐出流量について後
述する実験１、２、３を行った。実験にあたっては、ノ
ズル２９に扇型ノズルを適用し、被洗浄対と前記ノズル
２９との間隔を１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度
を１００ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体表面への入射
角度を９０°に設定した。
直進ノズルと扇型ノズルとの比較を行った。その結果、
両者は金属残滓の剥離能力は略同等であり、扇型ノズル
は洗浄幅が広い分有利であることが判明した。以上の設
定を基本条件として、吐出圧力及び吐出流量について後
述する実験１、２、３を行った。実験にあたっては、ノ
ズル２９に扇型ノズルを適用し、被洗浄対と前記ノズル
２９との間隔を１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度
を１００ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体表面への入射
角度を９０°に設定した。
【００２８】実験１について説明すると、吐出流量を４
０リットル／ｍｉｎに設定し、吐出圧力を５０〜１００
０ｋｇｆ／cm2 の範囲内で変化させた場合、表１に示す
如き実験結果を得た。
０リットル／ｍｉｎに設定し、吐出圧力を５０〜１００
０ｋｇｆ／cm2 の範囲内で変化させた場合、表１に示す
如き実験結果を得た。
【００２９】
【表１】
【００３０】次に、実験２について説明すると、吐出流
量を１２リットル／ｍｉｎに設定し、吐出出力を１５０
０〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で変化させ、表２に示
す如き実験結果を得た。
量を１２リットル／ｍｉｎに設定し、吐出出力を１５０
０〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で変化させ、表２に示
す如き実験結果を得た。
【００３１】
【表２】
【００３２】実験１、２を行った結果、吐出圧力が１０
０〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で洗浄効果が認めら
れ、更に５００〜１０００ｋｇｆ／cm2 の範囲が望まし
いことが明らかになった。そして、吐出圧力が１５００
ｋｇｆ／cm2 以上の範囲では、剥離効果は高いが剥離部
分が線状になり、全面積を洗浄するのに時間がかかり、
実用上の問題があることも明らかになった。なお、３０
００ｋｇｆ／cm2 の圧力になると、部材そのものを削り
取る状況になるため、削られた部材が不純物として混入
する恐れがあり、この場合は金属残滓の再利用を図る際
の障害になりやすいことも判明した。
０〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で洗浄効果が認めら
れ、更に５００〜１０００ｋｇｆ／cm2 の範囲が望まし
いことが明らかになった。そして、吐出圧力が１５００
ｋｇｆ／cm2 以上の範囲では、剥離効果は高いが剥離部
分が線状になり、全面積を洗浄するのに時間がかかり、
実用上の問題があることも明らかになった。なお、３０
００ｋｇｆ／cm2 の圧力になると、部材そのものを削り
取る状況になるため、削られた部材が不純物として混入
する恐れがあり、この場合は金属残滓の再利用を図る際
の障害になりやすいことも判明した。
【００３３】次に、実験３について説明すると、吐出出
力を５００ｋｇｆ／cm2 に設定し、吐出流量を５〜４０
０リットル／ｍｉｎの範囲で変化させ、他の条件は前記
実験１、２と同様に設定した。表３は実験３の結果を示
すものである。
力を５００ｋｇｆ／cm2 に設定し、吐出流量を５〜４０
０リットル／ｍｉｎの範囲で変化させ、他の条件は前記
実験１、２と同様に設定した。表３は実験３の結果を示
すものである。
【００３４】
【表３】
【００３５】実験結果によれば、吐出流量が１０リット
ル／ｍｉｎ以上の場合に顕著な洗浄効果が認められ、更
に４０〜１００リットル／ｍｉｎの範囲が望ましいこと
が明らかになった。なお、吐出流量を１００リットル／
ｍｉｎ以上に設定しても、洗浄効果に明確な差異は認め
られなかったので、排水処理能力等の経済的要因を考慮
した場合、４０〜１００リットル／ｍｉｎの範囲が適切
である。また、被洗浄体の金属残滓の付着場所により剥
離効果に差異が認められたが、実用上は前記ノズル２９
の移動速度を変化させて、洗浄時間を調整することによ
り充分に対処できることが判明した。
ル／ｍｉｎ以上の場合に顕著な洗浄効果が認められ、更
に４０〜１００リットル／ｍｉｎの範囲が望ましいこと
が明らかになった。なお、吐出流量を１００リットル／
ｍｉｎ以上に設定しても、洗浄効果に明確な差異は認め
られなかったので、排水処理能力等の経済的要因を考慮
した場合、４０〜１００リットル／ｍｉｎの範囲が適切
である。また、被洗浄体の金属残滓の付着場所により剥
離効果に差異が認められたが、実用上は前記ノズル２９
の移動速度を変化させて、洗浄時間を調整することによ
り充分に対処できることが判明した。
【００３６】前記実験１〜３の結果を踏まえて吐出出力
５００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量４０リットル／ｍｉｎ、
ノズル２９を扇型ノズル、被洗浄体と前記ノズル２９と
の間隔を１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度を１０
０ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体への入射角度を９０
°に設定し、被洗浄体、即ち前記コンデンセートフード
９や前記マスク１０等に付着した金属残滓を洗浄水の高
圧噴射による衝撃力を利用して洗浄した。その結果、洗
浄後の被洗浄体は、従来の人手による砕き落としや掻き
落とし作業による洗浄に比較してはるかに効果的に洗浄
され、且つ洗浄時間が１／３に短縮された。洗浄により
除去した金属残滓は、一旦洗浄水とともにタンクに収容
し、その後フィルタにより分離して再利用し、材料利用
効率を向上させることができた。洗浄後の被洗浄体につ
いては温風乾燥を行い、次の蒸着工程のために前記製造
装置１に装着し、磁気記録媒体の作成を試みた。以上の
工程を繰り返し、試作毎の磁気特性の再現性を評価した
結果、従来の人手による洗浄作業の繰り返し工程に比較
して再現性が非常に良好になり、生産性を大幅に向上さ
せることができた。
５００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量４０リットル／ｍｉｎ、
ノズル２９を扇型ノズル、被洗浄体と前記ノズル２９と
の間隔を１５０ｍｍ、前記ノズル２９の移動速度を１０
０ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体への入射角度を９０
°に設定し、被洗浄体、即ち前記コンデンセートフード
９や前記マスク１０等に付着した金属残滓を洗浄水の高
圧噴射による衝撃力を利用して洗浄した。その結果、洗
浄後の被洗浄体は、従来の人手による砕き落としや掻き
落とし作業による洗浄に比較してはるかに効果的に洗浄
され、且つ洗浄時間が１／３に短縮された。洗浄により
除去した金属残滓は、一旦洗浄水とともにタンクに収容
し、その後フィルタにより分離して再利用し、材料利用
効率を向上させることができた。洗浄後の被洗浄体につ
いては温風乾燥を行い、次の蒸着工程のために前記製造
装置１に装着し、磁気記録媒体の作成を試みた。以上の
工程を繰り返し、試作毎の磁気特性の再現性を評価した
結果、従来の人手による洗浄作業の繰り返し工程に比較
して再現性が非常に良好になり、生産性を大幅に向上さ
せることができた。
【００３７】
【実施例−２】以下、図４に示す装置を使用した実施例
である。なお、図４はスパッタリング成膜装置の構成図
であり、本実施例はスパッタリング成膜装置への適用を
示すものである。先ず、各部材について説明すると、３
１ａ、３１ｂは磁性材料であり本実施例ではＳｉ3 Ｎ4
が使用されている。３２はマグネット、３３は真空チャ
ンバー、３４はパレット回転装置、３５は基板、３６は
パレット、３７は膜厚分布補正板、３８はパレット回転
軸、３９はマスク、４０はスパッタリングカソード、４
１はスパッタガス導入ノズル、４２は防着板である。な
お、本装置おける被洗浄部材は前記膜厚分布補正板３
７、前記パレット３６、前記マスク３９および前記防着
板４２である。そして、被洗浄部材の材質は、ＳＵＳ４
０４である。
である。なお、図４はスパッタリング成膜装置の構成図
であり、本実施例はスパッタリング成膜装置への適用を
示すものである。先ず、各部材について説明すると、３
１ａ、３１ｂは磁性材料であり本実施例ではＳｉ3 Ｎ4
が使用されている。３２はマグネット、３３は真空チャ
ンバー、３４はパレット回転装置、３５は基板、３６は
パレット、３７は膜厚分布補正板、３８はパレット回転
軸、３９はマスク、４０はスパッタリングカソード、４
１はスパッタガス導入ノズル、４２は防着板である。な
お、本装置おける被洗浄部材は前記膜厚分布補正板３
７、前記パレット３６、前記マスク３９および前記防着
板４２である。そして、被洗浄部材の材質は、ＳＵＳ４
０４である。
【００３８】本実施例は磁性材料を前記のように設定す
るとともに、前記スパッタガス導入ノズル４１から導入
されるＡｒガス雰囲気中でスパッタリングを行い、基板
３５上にＳｉ3 Ｎ4 膜を形成する。チャンバー３３内に
はφ５mmのプラスチック基板３５に形成する膜厚の均一
化を図るため膜厚分布補正板３７と、前記プラスチック
基板３５の円周端面及び中心部の成膜を遮るためのマス
ク３９が設けられている。更に、前記真空チャンバー３
３の内壁面前面には、該内壁面を大方覆うように前記防
着板４２が貼りめぐらされている。
るとともに、前記スパッタガス導入ノズル４１から導入
されるＡｒガス雰囲気中でスパッタリングを行い、基板
３５上にＳｉ3 Ｎ4 膜を形成する。チャンバー３３内に
はφ５mmのプラスチック基板３５に形成する膜厚の均一
化を図るため膜厚分布補正板３７と、前記プラスチック
基板３５の円周端面及び中心部の成膜を遮るためのマス
ク３９が設けられている。更に、前記真空チャンバー３
３の内壁面前面には、該内壁面を大方覆うように前記防
着板４２が貼りめぐらされている。
【００３９】スパッタリング成膜時には、前記プラスチ
ック基板３５以外の前記各部材の表面にもＳｉ3 Ｎ4 膜
が形成され、試作を繰り返す毎に徐ゞに厚みを増し、最
終的に表面から剥離、脱落することになる。剥離物は、
磁気記録媒体の成膜工程においてピンホール等の欠陥を
発生する要因となり、品質や歩留り向上の観点からこの
不所望の膜を除去することが望ましい。しかし抜本的な
解決策はなく、従来は数回の成膜工程を繰り返した後、
前記各部材を取り外して交換したり、付着物をブラスト
処理等で除去する等の作業を手作業で行っていた。この
ため、部材のコストが増大するとともに、多大の作業時
間がかかっていた。
ック基板３５以外の前記各部材の表面にもＳｉ3 Ｎ4 膜
が形成され、試作を繰り返す毎に徐ゞに厚みを増し、最
終的に表面から剥離、脱落することになる。剥離物は、
磁気記録媒体の成膜工程においてピンホール等の欠陥を
発生する要因となり、品質や歩留り向上の観点からこの
不所望の膜を除去することが望ましい。しかし抜本的な
解決策はなく、従来は数回の成膜工程を繰り返した後、
前記各部材を取り外して交換したり、付着物をブラスト
処理等で除去する等の作業を手作業で行っていた。この
ため、部材のコストが増大するとともに、多大の作業時
間がかかっていた。
【００４０】以下に説明する実験４、５は本発明の方法
を適用したもので、前記問題点を解消することができ
た。実験４、５では、前記ノズル２９を直進型ノズルに
設定し、被洗浄体と前記ノズル２９との間隔を１００ｍ
ｍ、前記ノズル２９の移動速度を５０ｍｍ／ｓｅｃ、洗
浄水の被洗浄体への入射角を９０°に設定した。又、実
験４については吐出流量を２０リットル／ｍｉｎ、吐出
圧力を５０〜１０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で変化させ
た。実験５については吐出流量を１２リットル／ｍｉ
ｎ、吐出圧力を１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲
で変化させた。下記、表４及び表５は、それぞれ実験
４、５の結果を示すものである。
を適用したもので、前記問題点を解消することができ
た。実験４、５では、前記ノズル２９を直進型ノズルに
設定し、被洗浄体と前記ノズル２９との間隔を１００ｍ
ｍ、前記ノズル２９の移動速度を５０ｍｍ／ｓｅｃ、洗
浄水の被洗浄体への入射角を９０°に設定した。又、実
験４については吐出流量を２０リットル／ｍｉｎ、吐出
圧力を５０〜１０００ｋｇｆ／cm2 の範囲で変化させ
た。実験５については吐出流量を１２リットル／ｍｉ
ｎ、吐出圧力を１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲
で変化させた。下記、表４及び表５は、それぞれ実験
４、５の結果を示すものである。
【００４１】
【表４】
【００４２】
【表５】
【００４３】実験結果によれば、吐出圧力が７００〜５
０００ｋｇｆ／cm2 の条件で洗浄効果が顕著に認めら
れ、更に１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲が望ま
しいことが明らかになった。
０００ｋｇｆ／cm2 の条件で洗浄効果が顕著に認めら
れ、更に１５００〜５０００ｋｇｆ／cm2 の範囲が望ま
しいことが明らかになった。
【００４４】次に、吐出圧力を２０００ｋｇｆ／cm2 に
設定し、吐出流量を５〜２０リットル／ｍｉｎの範囲で
変化させて実験６を行った。なお、他の実験条件は前記
実験４、５と同様に設定した。実験６の結果は、下記表
６に示すとおりである。
設定し、吐出流量を５〜２０リットル／ｍｉｎの範囲で
変化させて実験６を行った。なお、他の実験条件は前記
実験４、５と同様に設定した。実験６の結果は、下記表
６に示すとおりである。
【００４５】
【表６】
【００４６】実験結果によれば、吐出流量の設定範囲５
〜２０リットル／ｍｉｎの全範囲で洗浄効果が顕著に認
められ、更に８〜２０リットル／ｍｉｎの範囲が望まし
いことが明らか担った。そして、本実施例の如く、Ｓｉ
3 Ｎ4 膜の剥離に関しては、吐出圧力の設定が重要であ
ることが判明した。
〜２０リットル／ｍｉｎの全範囲で洗浄効果が顕著に認
められ、更に８〜２０リットル／ｍｉｎの範囲が望まし
いことが明らか担った。そして、本実施例の如く、Ｓｉ
3 Ｎ4 膜の剥離に関しては、吐出圧力の設定が重要であ
ることが判明した。
【００４７】前記実験４〜６の結果を踏まえて、吐出圧
力２０００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量１２リットル／ｍｉ
ｎ、前記ノズル２９は直進型ノズル、被洗浄体と前記ノ
ズル２９との間隔を１００ｍｍ、前記ノズル２９の移動
速度を５０ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体への入射角
度を９０°に設定し、前記マスク３９、前記膜厚分布補
正板３７、前記防着板４２に付着したＳｉ3 Ｎ4 膜を高
圧水噴射の衝撃力を利用して洗浄した。その結果、従来
のブラスト処理による洗浄に比較して優れた除去効果を
示し、且つ洗浄時間を１／４に短縮することができた。
力２０００ｋｇｆ／cm2 、吐出流量１２リットル／ｍｉ
ｎ、前記ノズル２９は直進型ノズル、被洗浄体と前記ノ
ズル２９との間隔を１００ｍｍ、前記ノズル２９の移動
速度を５０ｍｍ／ｓｅｃ、洗浄水の被洗浄体への入射角
度を９０°に設定し、前記マスク３９、前記膜厚分布補
正板３７、前記防着板４２に付着したＳｉ3 Ｎ4 膜を高
圧水噴射の衝撃力を利用して洗浄した。その結果、従来
のブラスト処理による洗浄に比較して優れた除去効果を
示し、且つ洗浄時間を１／４に短縮することができた。
【００４８】また、図２に示す如く洗浄、乾燥の一定の
ラインを有した装置を使用して、洗浄済の被洗浄部材を
温風乾燥し、次のスパッタリング成膜工程のために、前
記スパッタリング成膜装置に装着してＳｉ3 Ｎ4 膜の形
成を試みた。以上の膜形成工程、洗浄工程を繰り返し、
試作毎にピンホール等の欠陥の発生を評価した。この結
果、従来のブラスト処理に比べて生産性は４０％程度向
上し、かつピンホール発生が少なく、磁性膜の形成が極
めて良好に行われ、製品の歩留りを大幅に向上させるこ
とができた。
ラインを有した装置を使用して、洗浄済の被洗浄部材を
温風乾燥し、次のスパッタリング成膜工程のために、前
記スパッタリング成膜装置に装着してＳｉ3 Ｎ4 膜の形
成を試みた。以上の膜形成工程、洗浄工程を繰り返し、
試作毎にピンホール等の欠陥の発生を評価した。この結
果、従来のブラスト処理に比べて生産性は４０％程度向
上し、かつピンホール発生が少なく、磁性膜の形成が極
めて良好に行われ、製品の歩留りを大幅に向上させるこ
とができた。
【図１】本発明の実施態様を示す真空蒸着装置の要部の
斜視図である。
斜視図である。
【図２】真空蒸着装置とクリーニング装置との構成図で
ある。
ある。
【図３】図１に示す装置における残滓の回収装置の構造
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図４】スパッタリング成膜装置の構成図である。
【図５】従来の真空蒸着装置の要部の斜視図である。
【図６】ノズルから噴出する洗浄液の被洗浄部材に対す
る入射角度を示した概略図である。
る入射角度を示した概略図である。
１ 真空蒸着装置 ２ 冷却メインドラム ３ 基体 ４、５ パスローラ ６ 磁性材料 ７ 坩堝 ８ 電子銃 ９ コンデンセートフード １０ マスク １１ ゲート １２ ワゴン ２１ クリーニング装置 ２２ クリーニングロボット ２３、２４、３４ レール ２４ａ、２４ｂ 乗り移り部 ２６ 基台、 ２７ 回動アーム ２８ 昇降アーム ２９ ノズル ３０ パイプ ３１ａ、３１ｂ 磁性材料 ３３ 真空チャンバー ３５ 基板 ３７ 膜厚分布補正板 ４２ 防着板 ５０ 乾燥部 ５１ 乾燥部のフード ５２ 分離部材 ５４ 回収部 Ｂ 待機位置
Claims (6)
- 【請求項１】 磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸
着物が付着した被洗浄部材を、高圧噴射する洗浄液によ
り洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄方
法。 - 【請求項２】 磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸
着物が付着した被洗浄部材を該真空蒸着槽外に一定の搬
出入経路を介して洗浄領域へ搬出し、前記洗浄領域にて
高圧噴射する洗浄液により洗浄した後に乾燥領域へ移送
して乾燥し、その後、前記搬出入経路に戻して前記真空
蒸着槽内に装着することを特徴とする真空蒸着槽の自動
洗浄方法。 - 【請求項３】 前記被洗浄部材を複数ユニット使用し、
該ユニットのうち一つを前記真空蒸着槽から搬出したと
きに、他のユニットを前記真空蒸着槽に装着し、前記真
空蒸着槽における蒸着工程と洗浄工程とを同時に行うこ
とを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着槽の洗浄方
法。 - 【請求項４】 前記洗浄領域において前記洗浄液により
除去された蒸着物を該洗浄液と分離して回収することを
特徴とする請求項１に記載の真空蒸着槽の洗浄方法。 - 【請求項５】 磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の被
洗浄部材を前記真空蒸着槽外に搬出し且つ搬入する搬出
入手段と、搬出された前記被洗浄部材を高圧噴射する洗
浄液で洗浄する洗浄部と、前記洗浄部により洗浄された
前記被洗浄部材を乾燥部とを有し、かつ前記搬出入手段
が前記洗浄部から前記乾燥部を移動して前記真空蒸着槽
へと順次移動可能に構成し、前記被洗浄部材の取り出し
から洗浄、乾燥および装着までを一定の移動経路にそっ
て行うようにしたことを特徴とする真空蒸着槽の自動洗
浄装置。 - 【請求項６】 磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽の槽
壁面に開閉可能な開閉部を設け、高圧噴射する洗浄液を
噴射する洗浄手段が移動経路に沿って移動自在でかつ前
記開閉部から真空槽内に進入可能に構成され、前記真空
蒸着槽内に装着されたままの被洗浄部材を前記洗浄手段
により洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄
装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5081199A JPH06272027A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置 |
| US08/213,593 US5492569A (en) | 1993-03-17 | 1994-03-16 | Method of automatically cleaning a vacuum vapor deposition tank |
| DE4409199A DE4409199A1 (de) | 1993-03-17 | 1994-03-17 | Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Reinigung eines Vakuumbedampfungsbehälters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5081199A JPH06272027A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06272027A true JPH06272027A (ja) | 1994-09-27 |
Family
ID=13739810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5081199A Pending JPH06272027A (ja) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | 真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5492569A (ja) |
| JP (1) | JPH06272027A (ja) |
| DE (1) | DE4409199A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2002053953A (ja) * | 2000-08-04 | 2002-02-19 | Tosoh Corp | スパッタリングターゲットの製造方法 |
| KR101311471B1 (ko) * | 2005-03-28 | 2013-09-25 | 램 리써치 코포레이션 | 로봇으로 플라즈마 처리 시스템을 서비스하는 장치 |
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| US7959984B2 (en) * | 2004-12-22 | 2011-06-14 | Lam Research Corporation | Methods and arrangement for the reduction of byproduct deposition in a plasma processing system |
| US7319316B2 (en) | 2005-06-29 | 2008-01-15 | Lam Research Corporation | Apparatus for measuring a set of electrical characteristics in a plasma |
| CN104209294B (zh) * | 2014-08-28 | 2017-01-18 | 上海丰禾精密机械有限公司 | 直交多关节复合型cnc清洗机及其清洗方法 |
| CN107227443B (zh) * | 2017-08-04 | 2019-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 吸附遮挡装置及具有该装置的蒸镀设备 |
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| CN113028077B (zh) * | 2021-02-26 | 2022-09-16 | 重庆市江北嘴水源空调有限公司 | 一种江水取水用阀门 |
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1993
- 1993-03-17 JP JP5081199A patent/JPH06272027A/ja active Pending
-
1994
- 1994-03-16 US US08/213,593 patent/US5492569A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-17 DE DE4409199A patent/DE4409199A1/de not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040630 |