JPH06268146A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半田リフロー時におけるパッケージのクラック
耐性の向上を図る。 【構成】ダイパッド22の中央部には穴が形成される。
半導体素子21は、ダイパッド22上に搭載される。半
導体素子21の表面及び裏面には、高密着性材料(例え
ばポリイミド)24が被覆される。半導体素子21の裏
面の一部は露出しているが、その露出部分には高密着性
材料24が形成されるため、半導体素子21と封止樹脂
23との密着性は良くなっている。なお、ダイボンド材
料25は、半導体素子21の裏面とダイパッド22の間
にのみ形成される。
耐性の向上を図る。 【構成】ダイパッド22の中央部には穴が形成される。
半導体素子21は、ダイパッド22上に搭載される。半
導体素子21の表面及び裏面には、高密着性材料(例え
ばポリイミド)24が被覆される。半導体素子21の裏
面の一部は露出しているが、その露出部分には高密着性
材料24が形成されるため、半導体素子21と封止樹脂
23との密着性は良くなっている。なお、ダイボンド材
料25は、半導体素子21の裏面とダイパッド22の間
にのみ形成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面実装型パッケージ
の改良に関する。
の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の表面実装型パッケージは、例えば
図5に示されるように、半導体素子11がダイパッド1
2上に搭載され、全体が樹脂13により覆われた構造を
有している。そして、半導体素子11の裏面は、ダイボ
ンド材14によりダイパッド12に接着され、その表面
は、保護膜としてポリイミド15がコートされている。
図5に示されるように、半導体素子11がダイパッド1
2上に搭載され、全体が樹脂13により覆われた構造を
有している。そして、半導体素子11の裏面は、ダイボ
ンド材14によりダイパッド12に接着され、その表面
は、保護膜としてポリイミド15がコートされている。
【0003】しかし、上記構造のパッケージ(SOJ,
SOP,QFP等)は、吸湿し易いため、吸湿後に半田
リフローを行うと当該パッケージにクラックが発生する
という欠点がある。
SOP,QFP等)は、吸湿し易いため、吸湿後に半田
リフローを行うと当該パッケージにクラックが発生する
という欠点がある。
【0004】当該パッケージにクラックが発生するメカ
ニズムとしては、以下の二つのパターンが知られてい
る。第一のパターン(図6参照)は、まず、ダイパッド
12と封止樹脂13の界面に水分が集まる(同図
(a))。これは、ダイパッド12と封止樹脂13の密
着力が弱いためである。次に、半田リフローを行うと、
ダイパッド12と封止樹脂13の熱応力の差により、ダ
イパッド12と封止樹脂13が剥離する。同時に、この
隙間で水分が拡散、気化し、高圧が生じるため(同図
(b))、当該パッケージにクラックが発生するという
ものである(同図(c))。
ニズムとしては、以下の二つのパターンが知られてい
る。第一のパターン(図6参照)は、まず、ダイパッド
12と封止樹脂13の界面に水分が集まる(同図
(a))。これは、ダイパッド12と封止樹脂13の密
着力が弱いためである。次に、半田リフローを行うと、
ダイパッド12と封止樹脂13の熱応力の差により、ダ
イパッド12と封止樹脂13が剥離する。同時に、この
隙間で水分が拡散、気化し、高圧が生じるため(同図
(b))、当該パッケージにクラックが発生するという
ものである(同図(c))。
【0005】第二のパターン(図7参照)は、まず、ダ
イボンド材(例えば、Agペースト)14が吸湿する。
次に、半田リフローを行うと、ダイボンド材14中の水
分が拡散、気化し、半導体素子11とダイパッド12が
剥離する(同図(b))。その結果、当該パッケージに
クラックが発生するというものである(同図(c))。
イボンド材(例えば、Agペースト)14が吸湿する。
次に、半田リフローを行うと、ダイボンド材14中の水
分が拡散、気化し、半導体素子11とダイパッド12が
剥離する(同図(b))。その結果、当該パッケージに
クラックが発生するというものである(同図(c))。
【0006】上記欠点を解決すべく、近年、以下の構造
が提案されている。第一の構造は、ダイパッドの中央部
に穴を開け、又は半導体素子の直下にダイパッドのない
部分を設けることにより、ダイパッドと封止樹脂の接触
面積を極力小さくするものである。第二の構造は、ダイ
ボンド材を吸湿しないもの(例えば半田)に変えるもの
である。
が提案されている。第一の構造は、ダイパッドの中央部
に穴を開け、又は半導体素子の直下にダイパッドのない
部分を設けることにより、ダイパッドと封止樹脂の接触
面積を極力小さくするものである。第二の構造は、ダイ
ボンド材を吸湿しないもの(例えば半田)に変えるもの
である。
【0007】いずれの構造も、多少のパッケージのクラ
ック耐性の向上が認められるものの、第一の構造では、
まだ十分なクラック耐性が得られたとは言えず、第二の
構造では、大型の半導体素子を用いると、当該半導体素
子自体にクラックを発生させるという新たな問題を生じ
る。
ック耐性の向上が認められるものの、第一の構造では、
まだ十分なクラック耐性が得られたとは言えず、第二の
構造では、大型の半導体素子を用いると、当該半導体素
子自体にクラックを発生させるという新たな問題を生じ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の表
面実装型パッケージでは、十分なクラック耐性を確保で
きるものが存在しないという欠点がある。
面実装型パッケージでは、十分なクラック耐性を確保で
きるものが存在しないという欠点がある。
【0009】本発明は、上記欠点を解決すべくなされた
もので、その目的は、半田リフロー時において、パッケ
ージにクラックが発生することを完全に防止できる半導
体装置を提供することである。
もので、その目的は、半田リフロー時において、パッケ
ージにクラックが発生することを完全に防止できる半導
体装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の半導体装置は、半導体素子と、前記半導体
素子の裏面の一部が露出する状態で当該半導体素子を搭
載し得るダイパッドと、前記半導体素子の表面及び裏面
の全体に被覆される高密着性材料とを備えている。
め、本発明の半導体装置は、半導体素子と、前記半導体
素子の裏面の一部が露出する状態で当該半導体素子を搭
載し得るダイパッドと、前記半導体素子の表面及び裏面
の全体に被覆される高密着性材料とを備えている。
【0011】
【作用】上記構成によれば、第一に、ダイパッドは、半
導体素子の裏面の一部が露出する状態で当該半導体素子
を搭載し得る、即ちダイパッドの面積を極力小さくして
いる。第二に、半導体素子の表面及び裏面の全体には高
密着性材料が被覆されている。これにより、半田リフロ
ー時において、パッケージにクラックが発生することを
完全に防止できる。
導体素子の裏面の一部が露出する状態で当該半導体素子
を搭載し得る、即ちダイパッドの面積を極力小さくして
いる。第二に、半導体素子の表面及び裏面の全体には高
密着性材料が被覆されている。これにより、半田リフロ
ー時において、パッケージにクラックが発生することを
完全に防止できる。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明の一実施
例について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例
に係わる半導体装置を示している。図1において、半導
体素子21は、ダイパッド22上に搭載されている。こ
こに、ダイパッド22は、その中央部に穴が設けられて
おり、当該ダイパッド22と封止樹脂23との接触面積
が極力少なくなるように構成されている。
例について詳細に説明する。図1は、本発明の一実施例
に係わる半導体装置を示している。図1において、半導
体素子21は、ダイパッド22上に搭載されている。こ
こに、ダイパッド22は、その中央部に穴が設けられて
おり、当該ダイパッド22と封止樹脂23との接触面積
が極力少なくなるように構成されている。
【0013】さらに、半導体素子21の表面及び裏面の
両面には、高密着性材料(例えば、ポリイミド、エポキ
シ等)24がスピンコート等により均一にコートされて
いる。この高密着性材料24は、表面と裏面で同じ材料
を同じ厚さで被覆する。なお、高密着性材料24の被覆
は、ウェハの段階で行うことができる。また、半導体素
子21とダイパッド22は、ダイボンド材25によって
接合されている。そして、全体が樹脂23により覆われ
ている。
両面には、高密着性材料(例えば、ポリイミド、エポキ
シ等)24がスピンコート等により均一にコートされて
いる。この高密着性材料24は、表面と裏面で同じ材料
を同じ厚さで被覆する。なお、高密着性材料24の被覆
は、ウェハの段階で行うことができる。また、半導体素
子21とダイパッド22は、ダイボンド材25によって
接合されている。そして、全体が樹脂23により覆われ
ている。
【0014】上記構成によれば、第一に、中央部に穴が
形成されたダイパッドを用いてダイパッドと封止樹脂と
の接触面積を極力小さくしている。第二に、ダイパッド
の中央部の穴から露出した半導体素子の裏面に高密着性
材料をコートして当該半導体素子と封止樹脂の密着性を
高めている。これにより、以下の効果が得られる。
形成されたダイパッドを用いてダイパッドと封止樹脂と
の接触面積を極力小さくしている。第二に、ダイパッド
の中央部の穴から露出した半導体素子の裏面に高密着性
材料をコートして当該半導体素子と封止樹脂の密着性を
高めている。これにより、以下の効果が得られる。
【0015】まず、ダイパッドと封止樹脂の界面におけ
る吸湿に起因するパッケージのクラックの発生は、当該
ダイパッドの面積を少なくする(例えばリング状のダイ
パッドとする)ことにより回避することができる。
る吸湿に起因するパッケージのクラックの発生は、当該
ダイパッドの面積を少なくする(例えばリング状のダイ
パッドとする)ことにより回避することができる。
【0016】次に、ダイボンド材料の吸湿に起因するパ
ッケージのクラックの発生は、ダイパッドの面積を少な
くすることにより、少ない量のダイボンド材料で済むこ
とになるため、これを回避することが可能である。さら
に、半導体素子の裏面は高密着性材料で被覆されている
ため、当該半導体素子と封止樹脂との密着力を向上させ
ることができる。以上により、半田リフロー時における
パッケージのクラック耐性を大幅に向上させることがで
きる。
ッケージのクラックの発生は、ダイパッドの面積を少な
くすることにより、少ない量のダイボンド材料で済むこ
とになるため、これを回避することが可能である。さら
に、半導体素子の裏面は高密着性材料で被覆されている
ため、当該半導体素子と封止樹脂との密着力を向上させ
ることができる。以上により、半田リフロー時における
パッケージのクラック耐性を大幅に向上させることがで
きる。
【0017】また、ウェハの表面及び裏面に、同じ高密
着性材料を同じ厚さで形成することで、当該ウェハの反
りをなくすことができる。また、ダイシング時のウェハ
裏面でのチップの欠けがなくなり、Si屑対策に有効で
ある。
着性材料を同じ厚さで形成することで、当該ウェハの反
りをなくすことができる。また、ダイシング時のウェハ
裏面でのチップの欠けがなくなり、Si屑対策に有効で
ある。
【0018】図2及び図3は、ダイパッドの変形例を示
すものである。本発明は、ダイパッドの面積を極力少な
くし、かつ、露出する半導体素子の裏面に高密着性材料
を被覆する点に特徴がある。従って、ダイパッドの形状
は、半導体素子の裏面が露出する構造となっていれば、
特定のものに限定されることはない。例えば、図2に示
すように、ダイパッド22をコの字状にしたものでもよ
い。さらには、図3に示すように、角部が幅広のリング
状としたもの(同図(a))、ダイパッドが互いに独立
した複数の部分からなるもの(同図(b),(c))、
X状のもの(同図(d))や、星型のもの(同図
(e))であってもよい。
すものである。本発明は、ダイパッドの面積を極力少な
くし、かつ、露出する半導体素子の裏面に高密着性材料
を被覆する点に特徴がある。従って、ダイパッドの形状
は、半導体素子の裏面が露出する構造となっていれば、
特定のものに限定されることはない。例えば、図2に示
すように、ダイパッド22をコの字状にしたものでもよ
い。さらには、図3に示すように、角部が幅広のリング
状としたもの(同図(a))、ダイパッドが互いに独立
した複数の部分からなるもの(同図(b),(c))、
X状のもの(同図(d))や、星型のもの(同図
(e))であってもよい。
【0019】なお、上記実施例において、半導体素子の
裏面にコートされる高密着性材料を熱可塑性材料とすれ
ば、ホットプレート上でダイボンドすることにより、そ
のまま当該材料をダイボンド材料として使用することが
できる。また、高密着性材料は、半導体素子の表面及び
裏面に同じ材料を同じ厚さに被覆する必要はなく、異種
材料で異なる厚さに形成してもよい。
裏面にコートされる高密着性材料を熱可塑性材料とすれ
ば、ホットプレート上でダイボンドすることにより、そ
のまま当該材料をダイボンド材料として使用することが
できる。また、高密着性材料は、半導体素子の表面及び
裏面に同じ材料を同じ厚さに被覆する必要はなく、異種
材料で異なる厚さに形成してもよい。
【0020】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の半導体
装置によれば、次のような効果を奏する。ダイパッドの
面積が少ないため、当該ダイパッドと封止樹脂の界面に
おける吸湿や、ダイボンド材料の吸湿に起因するパッケ
ージのクラックの発生が防止できる。一方、半導体素子
の裏面は高密着性材料で被覆されているため、当該半導
体素子と封止樹脂との密着力を向上させることができ
る。これにより、半田リフロー時におけるパッケージの
クラック耐性を大幅に向上させることができ、防湿包装
が不要となる。なお、半導体素子自体にクラックを発生
させることもない。
装置によれば、次のような効果を奏する。ダイパッドの
面積が少ないため、当該ダイパッドと封止樹脂の界面に
おける吸湿や、ダイボンド材料の吸湿に起因するパッケ
ージのクラックの発生が防止できる。一方、半導体素子
の裏面は高密着性材料で被覆されているため、当該半導
体素子と封止樹脂との密着力を向上させることができ
る。これにより、半田リフロー時におけるパッケージの
クラック耐性を大幅に向上させることができ、防湿包装
が不要となる。なお、半導体素子自体にクラックを発生
させることもない。
【0021】図4は、半導体素子の裏面に高密着性材料
を被覆させた場合と被覆させない場合とについて、それ
ぞれ5種類のパッケージについてクラックの発生割合
(クラック発生個数/サンプル数)を調べた結果を示す
ものである。なお、吸湿、リフローの条件は2種類用意
した。同図から明らかなように、半導体素子の裏面に高
密着性材料を被覆させた場合には、全てのサンプルにつ
いてクラックが発生しておらず、本発明の効果がうかが
える。
を被覆させた場合と被覆させない場合とについて、それ
ぞれ5種類のパッケージについてクラックの発生割合
(クラック発生個数/サンプル数)を調べた結果を示す
ものである。なお、吸湿、リフローの条件は2種類用意
した。同図から明らかなように、半導体素子の裏面に高
密着性材料を被覆させた場合には、全てのサンプルにつ
いてクラックが発生しておらず、本発明の効果がうかが
える。
【図1】本発明の一実施例に係わる半導体装置を示す
図。
図。
【図2】ダイパッドの変形例を示す図。
【図3】ダイパッドの変形例を示す図。
【図4】本発明の効果を示す図。
【図5】従来の半導体装置を示す図。
【図6】クラック発生のメカニズムを示す図。
【図7】クラック発生のメカニズムを示す図。
11,21 …半導体素子、 12,22 …ダイパッド、 13,23 …封止樹脂、 14,25 …ダイボンド材料、 24 …高密着性材料。
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体素子と、前記半導体素子の裏面の
一部が露出する状態で当該半導体素子を搭載し得るダイ
パッドと、前記半導体素子の表面及び裏面の全体に被覆
される高密着性材料とを具備することを特徴とする半導
体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5053499A JPH06268146A (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5053499A JPH06268146A (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06268146A true JPH06268146A (ja) | 1994-09-22 |
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ID=12944527
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JP (1) | JPH06268146A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1993
- 1993-03-15 JP JP5053499A patent/JPH06268146A/ja active Pending
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