JPH06263518A - 高温安定性サーミスタ用焼結セラミック及びその製造方法 - Google Patents
高温安定性サーミスタ用焼結セラミック及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH06263518A JPH06263518A JP6024929A JP2492994A JPH06263518A JP H06263518 A JPH06263518 A JP H06263518A JP 6024929 A JP6024929 A JP 6024929A JP 2492994 A JP2492994 A JP 2492994A JP H06263518 A JPH06263518 A JP H06263518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sintered ceramic
- spinel
- sintered
- oxide
- iii
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/04—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having negative temperature coefficient
- H01C7/042—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having negative temperature coefficient mainly consisting of inorganic non-metallic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/016—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on manganites
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い熱安定性及び感度を有し、場合によって
は放射線受容器の薄層としても使用することのできるN
iXMn3-X-ZO4 (x>0)をベースとするサーミスタ
用焼結セラミックを提供する。 【構成】 一般式FeZNiXMn3-X-ZO4 (x=0.
83〜1並びに0<z<1.6)の焼結セラミックを、
NiMn2O4 のような酸化ニッケル−マンガン−スピ
ネル相の種類の不安定性物質系である出発物質MnOX
及びNiOを酸化鉄と反応させることにより空気中で冷
却した際分解しない熱力学的に安定なスピネル混晶に移
行させることにより製造する。
は放射線受容器の薄層としても使用することのできるN
iXMn3-X-ZO4 (x>0)をベースとするサーミスタ
用焼結セラミックを提供する。 【構成】 一般式FeZNiXMn3-X-ZO4 (x=0.
83〜1並びに0<z<1.6)の焼結セラミックを、
NiMn2O4 のような酸化ニッケル−マンガン−スピ
ネル相の種類の不安定性物質系である出発物質MnOX
及びNiOを酸化鉄と反応させることにより空気中で冷
却した際分解しない熱力学的に安定なスピネル混晶に移
行させることにより製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、NiXMn3-XO4[式
中x>0]をベースとする高温安定性で感温性の焼結セ
ラミック(NTC半導体セラミック)用サーミスタに関
する。更に本発明はこの種の高温安定性サーミスタ用焼
結セラミックを製造する方法に関する。
中x>0]をベースとする高温安定性で感温性の焼結セ
ラミック(NTC半導体セラミック)用サーミスタに関
する。更に本発明はこの種の高温安定性サーミスタ用焼
結セラミックを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のセラミック材料は放射線受容器
の薄層としても極めて重要である。
の薄層としても極めて重要である。
【0003】例えば英国特許第1266789号明細書
から公知の方法では例えばスピネル型構造の遷移元素及
びその組み合せの半導体酸化物から出発している。その
際例えばコバルト−マンガン酸化物系のような多相系を
多様に使用するが、これらの多相系は単一相を形成する
利点を求めることなく、酸化銅、酸化ニッケル又は酸化
リチウムのような他の成分により改質して使用されてい
る(例えば米国特許第3219480号明細書参照)。
定格電気抵抗R25(T=25℃でのサーミスタの電気抵
抗)及び式R(T)=ROexp(B/T)=R25ex
p(1/T−1/298)に基づく温度測定の感度に対
する基準となるB定数をこの種の多相系をベースとして
焼結処理における適当な反応によって種々の値に調整す
ることにより、サーミスタの特定の種類の生産が可能と
なる。しかしこの処理方法は概ね個々のサンプルのデー
タに、特にチャージ毎にかなりのばらつきが見込まれ
る。それというのもサーミスタを特色づける電気パラメ
ータがそれぞれ得られたセラミックの構造によって種々
の値をとるからである。この種の不均一系では相の組成
の均衡は概ね温度に依存するものであり、そのため電気
パラメータの時間的安定性に対し負に作用する。
から公知の方法では例えばスピネル型構造の遷移元素及
びその組み合せの半導体酸化物から出発している。その
際例えばコバルト−マンガン酸化物系のような多相系を
多様に使用するが、これらの多相系は単一相を形成する
利点を求めることなく、酸化銅、酸化ニッケル又は酸化
リチウムのような他の成分により改質して使用されてい
る(例えば米国特許第3219480号明細書参照)。
定格電気抵抗R25(T=25℃でのサーミスタの電気抵
抗)及び式R(T)=ROexp(B/T)=R25ex
p(1/T−1/298)に基づく温度測定の感度に対
する基準となるB定数をこの種の多相系をベースとして
焼結処理における適当な反応によって種々の値に調整す
ることにより、サーミスタの特定の種類の生産が可能と
なる。しかしこの処理方法は概ね個々のサンプルのデー
タに、特にチャージ毎にかなりのばらつきが見込まれ
る。それというのもサーミスタを特色づける電気パラメ
ータがそれぞれ得られたセラミックの構造によって種々
の値をとるからである。この種の不均一系では相の組成
の均衡は概ね温度に依存するものであり、そのため電気
パラメータの時間的安定性に対し負に作用する。
【0004】「シーメンス・ツァイトシュリフト」第4
7号、1973年1月、第1号、第65〜67頁から、
例えばNiXMn3-XO4系をベースとするサーミスタが
完成されたことは公知である。0<x<1.275の組
成の範囲に対しては、特殊な焼結補助剤の使用と関連す
るセラミック構造が形成されることを前提として、上述
の大きなばらつきに関する欠点をもはや示さない十分に
均一な相が生じる。サーミスタを完成する焼結処理を行
う際に均一な相成分を有するこの酸化物半導体では空気
中で720℃の温度を下回る際不均一な混合物への分解
を回避しなければならない。従って使用温度範囲は約1
50℃に制限される。
7号、1973年1月、第1号、第65〜67頁から、
例えばNiXMn3-XO4系をベースとするサーミスタが
完成されたことは公知である。0<x<1.275の組
成の範囲に対しては、特殊な焼結補助剤の使用と関連す
るセラミック構造が形成されることを前提として、上述
の大きなばらつきに関する欠点をもはや示さない十分に
均一な相が生じる。サーミスタを完成する焼結処理を行
う際に均一な相成分を有するこの酸化物半導体では空気
中で720℃の温度を下回る際不均一な混合物への分解
を回避しなければならない。従って使用温度範囲は約1
50℃に制限される。
【0005】一般式MgZNiMn2-ZO4に基づき徐々
にマンガンがマグネシウムに置換されるNiXMn3-XO
4系のスピネル化合物の場合マグネシウム分を増加する
ことにより温度降下を示し、その際酸化物の分解が始ま
ったことが認められ、MgNiMnO4(z=1)の組
成に対して完全な安定性が達成される。これに関しては
先願のドイツ国特許出願公開第4213631号明細書
に記載されている。
にマンガンがマグネシウムに置換されるNiXMn3-XO
4系のスピネル化合物の場合マグネシウム分を増加する
ことにより温度降下を示し、その際酸化物の分解が始ま
ったことが認められ、MgNiMnO4(z=1)の組
成に対して完全な安定性が達成される。これに関しては
先願のドイツ国特許出願公開第4213631号明細書
に記載されている。
【0006】従来の方法の場合低い温度範囲で酸素の受
容下に不均一な物質系への分解が生じる欠点は、一般式
ZnZNiMn2-ZO4に基づき徐々にマンガンを亜鉛に
代えていくスピネル化合物NiXMn3-XO4によって排
除することができる。スピネル化合物Zn1/3NiMn
5/3O4及びZn2/3NiMn4/3O4は冷却処理中に任意
の放熱率で完全に安定であることを示す。
容下に不均一な物質系への分解が生じる欠点は、一般式
ZnZNiMn2-ZO4に基づき徐々にマンガンを亜鉛に
代えていくスピネル化合物NiXMn3-XO4によって排
除することができる。スピネル化合物Zn1/3NiMn
5/3O4及びZn2/3NiMn4/3O4は冷却処理中に任意
の放熱率で完全に安定であることを示す。
【0007】NiO相の析出と関連する高温範囲におけ
るO2雰囲気中での酸素の脱離温度がNiMn2O4に対
する975℃からMgNiMnO4、Zn1/3NiMn
5/3O4及びZn2/3NiMn4/3O4に対する800℃ま
で低下することは欠点である。従って十分な焼結圧縮を
得るためにはこの処理が安定度の上限を越え、不均一段
階を経なければならない。即ち通常時間を要する800
℃以下の温度での逆酸化によって初めて相の結合下に均
一なセラミックが得られることになる。更に相の均一な
セラミック体を製造することは蓚酸混晶の経費を要する
製造処理工程及びその熱分解により制約されている。
るO2雰囲気中での酸素の脱離温度がNiMn2O4に対
する975℃からMgNiMnO4、Zn1/3NiMn
5/3O4及びZn2/3NiMn4/3O4に対する800℃ま
で低下することは欠点である。従って十分な焼結圧縮を
得るためにはこの処理が安定度の上限を越え、不均一段
階を経なければならない。即ち通常時間を要する800
℃以下の温度での逆酸化によって初めて相の結合下に均
一なセラミックが得られることになる。更に相の均一な
セラミック体を製造することは蓚酸混晶の経費を要する
製造処理工程及びその熱分解により制約されている。
【0008】これらの欠点は、FeNiMnO4(x=
1)スピネル型構造から出発してZnIIを組み込むこと
によりMnIIIの側のスピネル格子のB位置上にMnIV
の伝導率に必要な等量を形成し、その際FeIII(Ni
IIMnIII)O4立方晶スピネルの上限分解温度Tz=1
020℃を空気中で950℃まで低下するZnZFeI II
X-ZNiIIMnIII 2-X+Z(0<z<x)の代替系列のス
ピネル化合物により部分的に排除される。これについて
は先願のドイツ国特許出願公開第4213629号明細
書に記載されている。その際亜鉛を含有しているためこ
の方法の場合蓚酸混晶の形成と熱分解のための経費のか
かる処理工程と熱分解を依然として甘受しなければなら
なかった。
1)スピネル型構造から出発してZnIIを組み込むこと
によりMnIIIの側のスピネル格子のB位置上にMnIV
の伝導率に必要な等量を形成し、その際FeIII(Ni
IIMnIII)O4立方晶スピネルの上限分解温度Tz=1
020℃を空気中で950℃まで低下するZnZFeI II
X-ZNiIIMnIII 2-X+Z(0<z<x)の代替系列のス
ピネル化合物により部分的に排除される。これについて
は先願のドイツ国特許出願公開第4213629号明細
書に記載されている。その際亜鉛を含有しているためこ
の方法の場合蓚酸混晶の形成と熱分解のための経費のか
かる処理工程と熱分解を依然として甘受しなければなら
なかった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高い熱安定
性及び感度を有し、場合によっては放射線受容器の薄層
としても使用することのできるNiXMn3-XO4(x>
0)をベースとするサーミスタ用焼結セラミックを提供
することを課題とする。
性及び感度を有し、場合によっては放射線受容器の薄層
としても使用することのできるNiXMn3-XO4(x>
0)をベースとするサーミスタ用焼結セラミックを提供
することを課題とする。
【0010】更に本発明は、焼結処理中に不均一系に移
行することを極力回避し、広範囲の温度に対して耐性の
あるNTCセラミックを保証する上記の焼結セラミック
の製造方法を提供することを課題とする。
行することを極力回避し、広範囲の温度に対して耐性の
あるNTCセラミックを保証する上記の焼結セラミック
の製造方法を提供することを課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】これらの課題は、本発明
によれば請求項1の特徴部分に記載された焼結セラミッ
ク及び請求項5ないし7に記載された製造方法により解
決される。
によれば請求項1の特徴部分に記載された焼結セラミッ
ク及び請求項5ないし7に記載された製造方法により解
決される。
【0012】本発明の本質は、NiXMn3-XO4系にF
eIIIを組み込むことによりNTCサーミスタとしての
用途に有利な伝導率パラメータを有するFezNiXMn
3-X-zO4スピネルを得ることにあるが、その際種々の酸
化物相への分解は酸素の受容下に一定の温度を下回ると
きにも起こらず、その分解は酸素脱離下にできるだけ高
い温度で生じ、その結果サーミスタのパラメータの再現
性のある調整に対して均一な構造を形成する焼結圧縮
を、経費のかさむ蓚酸混晶を形成する方法及びその熱分
解を回避して、出発物質の酸化物/炭酸塩混合物を燬
焼、圧縮成形、引続き焼結する容易な方法で達成するも
のである。B位置上にMnIVを形成するためにA位置上
にZnを組み込みことは省略することができる。それと
いうのもメスバウアー効果の測定が証明するようにFe
IIIカチオンがB位置を部分的に占めることによってス
ピネルのB下部格子内に伝導挙動にとって重要なMnIV
を形成することになるからである。例えばx=1で1/
6<z<2の全ての範囲内に隙間なく均一な立方晶の熱
力学的に安定なスピネルを形成することができ、このス
ピネルはNTCサーミスタに使用するのに重要な特性パ
ラメータ、特にB定数のパラメータに適当な段階付けを
示す。
eIIIを組み込むことによりNTCサーミスタとしての
用途に有利な伝導率パラメータを有するFezNiXMn
3-X-zO4スピネルを得ることにあるが、その際種々の酸
化物相への分解は酸素の受容下に一定の温度を下回ると
きにも起こらず、その分解は酸素脱離下にできるだけ高
い温度で生じ、その結果サーミスタのパラメータの再現
性のある調整に対して均一な構造を形成する焼結圧縮
を、経費のかさむ蓚酸混晶を形成する方法及びその熱分
解を回避して、出発物質の酸化物/炭酸塩混合物を燬
焼、圧縮成形、引続き焼結する容易な方法で達成するも
のである。B位置上にMnIVを形成するためにA位置上
にZnを組み込みことは省略することができる。それと
いうのもメスバウアー効果の測定が証明するようにFe
IIIカチオンがB位置を部分的に占めることによってス
ピネルのB下部格子内に伝導挙動にとって重要なMnIV
を形成することになるからである。例えばx=1で1/
6<z<2の全ての範囲内に隙間なく均一な立方晶の熱
力学的に安定なスピネルを形成することができ、このス
ピネルはNTCサーミスタに使用するのに重要な特性パ
ラメータ、特にB定数のパラメータに適当な段階付けを
示す。
【0013】z>1の範囲内では約x=5/6まで低下
されたニッケル含有量及びそれに対応して増やされたマ
ンガン及び鉄含有量では同様に空気中での冷却の際に酸
化物の分解に対して安定であることを示す均一なスピネ
ルを得ることができる。このスピネルは一定のMnII含
有量を有しており、従ってこの化合物の場合熱分解温度
の上限は酸素の脱離下に一層高められ、このことは焼結
圧縮処理にとって有利である。
されたニッケル含有量及びそれに対応して増やされたマ
ンガン及び鉄含有量では同様に空気中での冷却の際に酸
化物の分解に対して安定であることを示す均一なスピネ
ルを得ることができる。このスピネルは一定のMnII含
有量を有しており、従ってこの化合物の場合熱分解温度
の上限は酸素の脱離下に一層高められ、このことは焼結
圧縮処理にとって有利である。
【0014】z>1の範囲内ではニッケル含有量が値x
<1に低下するとFe(II)が形成されることにな
る。これと関連するFe2O3の析出下の酸化傾向はこの
範囲内では空気中での冷却では安定であるスピネル相の
形成を減少させる。
<1に低下するとFe(II)が形成されることにな
る。これと関連するFe2O3の析出下の酸化傾向はこの
範囲内では空気中での冷却では安定であるスピネル相の
形成を減少させる。
【0015】ニッケル含有量を鉄に対してz>1の範囲
内でx=5/6よりも小さい値に低減した場合、ここで
もMnIIの形成及びそれと関連するMn2O3の析出下の
酸化傾向によってその安定性の限度を越える。空気中で
の冷却はスピネル相の酸化物の分解を来す。それという
のもFeXMn3-XO4系中に存在する広範な混合物の隙
間が組成のこの範囲内にまで拡大するからである。この
範囲内に均一なスピネルを得るには冷却処理中の酸素部
分圧を温度低下と併せて低下させることが必要である。
内でx=5/6よりも小さい値に低減した場合、ここで
もMnIIの形成及びそれと関連するMn2O3の析出下の
酸化傾向によってその安定性の限度を越える。空気中で
の冷却はスピネル相の酸化物の分解を来す。それという
のもFeXMn3-XO4系中に存在する広範な混合物の隙
間が組成のこの範囲内にまで拡大するからである。この
範囲内に均一なスピネルを得るには冷却処理中の酸素部
分圧を温度低下と併せて低下させることが必要である。
【0016】FeZNiXMn3-XO4系中の空気中での冷
却の際の安定なスピネル構造の領域を図1中にグラフに
より示す。組成の図中ハッチングを施した範囲のNTC
半導体セラミックの試料は老化中の伝導率パラメータの
比較的僅かな変化及び老化状態での値の高い長時間安定
性を特徴とする。
却の際の安定なスピネル構造の領域を図1中にグラフに
より示す。組成の図中ハッチングを施した範囲のNTC
半導体セラミックの試料は老化中の伝導率パラメータの
比較的僅かな変化及び老化状態での値の高い長時間安定
性を特徴とする。
【0017】
【実施例】本発明を実施例に基づき以下に詳述する。
【0018】金属カチオンのそれぞれ公知の含有量を有
するαFe2O3、炭酸マンガン及び炭酸ニッケルからな
る相応する化学構造の混合物を650℃で燬焼し、(P
b4Ge3O11)3/81モル%又はBi2O30.2〜1モ
ル%を添加して、引続き湿式粉砕しながらFeZNiXM
n3-X-ZO4から算出して焼結補助剤を混和する。空気中
で1050〜1150℃の温度での圧縮並びに焼結によ
る成形(温度の正確な数値はできるだけ組成に応じて僅
かに異なる分解温度に調整する)、及び引続き800〜
900℃までの温度で熱処理することにより90〜95
%の相対密度を有する最適なセラミック構造が得られ、
これはサーミスタに対する高度の再現性及び安定性に関
する要求を満たすものである。表1及び表2には高度の
均一性及び相安定性を有する高熱安定性で高感度のサー
ミスタのための本発明による焼結セラミックの例を、上
述の利点を有さないNiMn2O4のスピネルセラミック
と併せて表示するものである。カチオン分布に関する構
造式は試料(1)、(4)及び(5)の場合はXPS及
びメスバウアー効果測定法に基づくものである。その他
の試料の組成については伝導率パラメータ及び他の特性
値との比較から表に記載されたようなカチオン分布を推
論したものである。
するαFe2O3、炭酸マンガン及び炭酸ニッケルからな
る相応する化学構造の混合物を650℃で燬焼し、(P
b4Ge3O11)3/81モル%又はBi2O30.2〜1モ
ル%を添加して、引続き湿式粉砕しながらFeZNiXM
n3-X-ZO4から算出して焼結補助剤を混和する。空気中
で1050〜1150℃の温度での圧縮並びに焼結によ
る成形(温度の正確な数値はできるだけ組成に応じて僅
かに異なる分解温度に調整する)、及び引続き800〜
900℃までの温度で熱処理することにより90〜95
%の相対密度を有する最適なセラミック構造が得られ、
これはサーミスタに対する高度の再現性及び安定性に関
する要求を満たすものである。表1及び表2には高度の
均一性及び相安定性を有する高熱安定性で高感度のサー
ミスタのための本発明による焼結セラミックの例を、上
述の利点を有さないNiMn2O4のスピネルセラミック
と併せて表示するものである。カチオン分布に関する構
造式は試料(1)、(4)及び(5)の場合はXPS及
びメスバウアー効果測定法に基づくものである。その他
の試料の組成については伝導率パラメータ及び他の特性
値との比較から表に記載されたようなカチオン分布を推
論したものである。
【0019】図2及び図3はそれぞれ、図1のハッチン
グを施された範囲のスピネルセラミックの電気的特性に
関する高い安定度を試料(4)の10個のサンプルにつ
いて老化中の値の時間及び温度に対する依存度が僅かで
あることを図解するものである。
グを施された範囲のスピネルセラミックの電気的特性に
関する高い安定度を試料(4)の10個のサンプルにつ
いて老化中の値の時間及び温度に対する依存度が僅かで
あることを図解するものである。
【0020】
【表 1】 スピネルセラミックFeZNiXMn3-X-ZO4 の組成及びそのカチオン分布に関するデータ 試料 x z 組成 カチオン分布 1 0 0 NiMn2O4 NiII 0.1MnII 0.9[NiII 0.9MnIII 0.2MnI V 0.9]O4 2 1 0.17 Fe0.17NiMn1.83O4 FeIII 0.17MnII 0.83[NiMnIII 0.17MnIV 0.83]O4 3 1 0.67 Fe0.67NiMn1.33O4 FeIII 0.67MnII 0.33[NiMnII 0.33MnIV 0.67]O4 4 1 1 FeNiMnO4 FeIII 0.85MnII 0.15[FeIII 0.15NiMnII I 0.7MnIV 0.15]O4 5 1 1.10 Fe1.10NiMn0.90O4 FeIII 0.9MnII 0.1[FeIII 0.2NiMnIII 0. 7MnIV 0.1]O4 6 1 1.50 Fe1.5NiMn0.50O4 FeIII[Fe0.5NiIIMnIII 0.5]O4 7 0.90 1.05 Fe1.05Ni0.90Mn1.05O4 FeIII 0.95MnII 0.05[FeIII 0.10NiII 0. 90MnIII 0.65MnIV 0.35]O4 8 0.83 1.0 FeNi0.83Mn1.17O4 FeIII 0.67MnII 0.33[FeIII 0.33NiII 0. 83MnIII 0.67MnIV 0.17]O4 9 0.83 0.83 Fe0.83Ni0.83Mn1.33O4 FeIII 0.67MnII 0.33[NiII 0.83FeIII 0. 17MnIII 0.83MnIV 0.17]O4 10 0.83 0.67 Fe0.67Ni0.83Mn1.50O4 FeIII 0.67MnII 0.33[NiII 0.83MnIV 0.1 7MnIII 1]O4
【0021】
【表 2】 O2脱離及びNiO析出の電気的特性、温度TZ並びにスピネルセラミック FeZNi3-X-ZO4の相対密度(nは測定されたサンプルの数を表す) 試料 D n TZ /℃ ρ20℃/Ωcm B/K 番号 % (Po2=0.21;105Pa) 1 96 30 960 2.000 +- 400 3.774 +- 3 2 54 3 876 9.900 +- 200 3.740 +- 4 3 97 10 916 2.130 +- 90 3.325 +- 14 4 84 15 1020 6.800 +- 100 3.398 +- 7 5 82 5 1065 7.700 +- 220 3.400 +- 7 6 83 5 1120 14.880 +- 150 3.340 +- 3 7 76 5 1155 7.400 +- 1.400 3.464 +- 7 8 92 10 1034 3.090 +- 90 3.463 +- 2 9 90 10 1052 4.290 +- 55 3.448 +- 410 91 10 1090 6.4010 +- 160 3.40 +- 2
【図1】FeZNiXMn3-X-ZO4系中の空気中での冷却
時の安定なスピネル構造を示すグラフ。
時の安定なスピネル構造を示すグラフ。
【図2】図1のハッチング部分のスピネルセラミックの
電気的特性と時間との関係を示すグラフ。
電気的特性と時間との関係を示すグラフ。
【図3】図1のハッチング部分のスピネルセラミックの
電気的特性と温度との関係を示すグラフ。
電気的特性と温度との関係を示すグラフ。
フロントページの続き (71)出願人 390041508 シーメンス、マツシタ、コンポーネンツ、 ゲゼルシヤフト、ミツト、ベシユレンクテ ル、ハフツング、ウント、コンパニ、コマ ンデイート、ゲゼルシヤフト SIEMENS MATSUSHITA COMPONENTS GESELLSC HAFT MIT BESCHRANKT ER HAFTUNG & COMPAN Y KOMMANDITGESELLSC HAFT ドイツ連邦共和国ミユンヘン (番地な し) (72)発明者 アダルベルト フエルツ オーストリア国 8530 ドイツチユランズ ベルク ブルゲツガーシユトラーセ 50 (72)発明者 ハンス‐ゲオルク シユスター オーストリア国 8010 グラーツ ドクト ル‐ローベルト‐グラーフ‐シユトラーセ 42
Claims (8)
- 【請求項1】 一般式FezNixMn3-X-ZO4[式中x
=0.84〜1並びに0<z<1.6]を特徴とするN
iXMn3-XO4[式中x>0]をベースとする高温安定
性サーミスタ用焼結セラミック。 - 【請求項2】 x=1及びz=0.17〜1.50であ
ることを特徴とする請求項1記載の焼結セラミック。 - 【請求項3】 x=0.83〜1及びz=0.67〜
1.10であることを特徴とする請求項1記載の焼結セ
ラミック。 - 【請求項4】 x=1に対しz=0.17、x=1に対
しz=1.67、x=1に対しz=1、x=0.90に
対しz=1.05、x=0.83に対しz=0.83、
x=0.83に対しz=0.67であることを特徴とす
る請求項1記載の焼結セラミック。 - 【請求項5】 NiMn2O4 のような酸化ニッケル−
マンガン−スピネル相の種類の不安定性物質系である出
発物質MnOX及びNiOを酸化鉄と反応させることに
より空気中で冷却した際に分解しない熱力学的に安定な
スピネル混晶に移行させることを特徴とする請求項1な
いし4の1つに記載の高温安定性サーミスタ用焼結セラ
ミックの製造方法。 - 【請求項6】 炭酸ニッケル、炭酸マンガン又はα−鉄
(III)−酸化物からなる混合物を空気中で600℃
以上の加熱により燬焼し、この燬焼物から粒状単位の精
選及び圧搾成形後空気中又は酸素雰囲気中で焼結により
焼結セラミック体を形成することを特徴とする請求項1
ないし4の1つに記載の高温安定性サーミスタ用焼結セ
ラミックの製造方法。 - 【請求項7】 燬焼混合物に粒状単位の精選の前又は後
に焼結補助剤、有利にはゲルマニウム酸鉛又は酸化ビス
マスを焼結工程にとって必要な分量で添加又は混和し、
その後有利には圧縮工程により錠剤に成形し、この錠剤
を大気雰囲気中で1020〜1150℃の温度で均一な
スピネル相を形成しながら焼結することを特徴とする請
求項6記載の焼結セラミックの製造方法。 - 【請求項8】 鉄の分量がz>1で、ニッケルの分量が
x<1〜0.83の場合焼結錠剤を冷却する際に均一な
スピネル型結晶を形成するように温度降下及び酸素部分
圧を相互に調整することを特徴とする請求項3又は4記
載の高温安定性サーミスタ用焼結セラミックを製造する
ための請求項5ないし7の1つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4303414 | 1993-02-05 | ||
DE4303414.4 | 1993-02-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06263518A true JPH06263518A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=6479763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6024929A Pending JPH06263518A (ja) | 1993-02-05 | 1994-01-28 | 高温安定性サーミスタ用焼結セラミック及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0609776A1 (ja) |
JP (1) | JPH06263518A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003128463A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-05-08 | Kiyoshi Yatsui | 電気伝導性酸化物並びに電気伝導性酸化物を用いて構成したセンサー |
JP2005512317A (ja) * | 2001-12-04 | 2005-04-28 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 負の温度係数を有する電気デバイス |
JP2005150289A (ja) * | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Tdk Corp | サーミスタ用組成物及びサーミスタ素子 |
JP2010251757A (ja) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Korea Inst Of Mach & Materials | 高密度及びナノ結晶粒スピネル系負温度係数サーミスタ厚膜及びその製造方法 |
WO2011086850A1 (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-21 | 株式会社村田製作所 | Ntcサーミスタ用半導体磁器組成物およびntcサーミスタ |
JP2019525491A (ja) * | 2016-08-23 | 2019-09-05 | テーデーカー エレクトロニクス アーゲー | セラミック材料、素子及び素子を製造するための方法 |
WO2023084678A1 (ja) * | 2021-11-11 | 2023-05-19 | 株式会社芝浦電子 | サーミスタ焼結体およびサーミスタ焼結体の製造方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4420657A1 (de) * | 1994-06-14 | 1995-12-21 | Siemens Matsushita Components | Sinterkeramik für hochstabile Thermistoren und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US6099164A (en) * | 1995-06-07 | 2000-08-08 | Thermometrics, Inc. | Sensors incorporating nickel-manganese oxide single crystals |
EP0906246A4 (en) * | 1996-06-17 | 2002-11-13 | Thermometrics Inc | GROWTH OF NICKEL-COBALT-MANGANESE OXIDE MONOCRYSTALS |
US6125529A (en) * | 1996-06-17 | 2000-10-03 | Thermometrics, Inc. | Method of making wafer based sensors and wafer chip sensors |
EP0923504A4 (en) * | 1996-08-23 | 2002-11-06 | Thermometrics Inc | GROWTH OF NICKEL-IRON-MANGANESE OXIDE MONOCRYSTALS |
EP0862192B1 (en) * | 1996-09-18 | 2006-09-13 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Wide-range thermistor material and process for preparing the same |
KR100674692B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2007-01-26 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 박막서미스터소자 및 박막서미스터소자의 제조방법 |
US6880234B2 (en) | 2001-03-16 | 2005-04-19 | Vishay Intertechnology, Inc. | Method for thin film NTC thermistor |
EP1371070B1 (en) * | 2001-03-16 | 2011-03-09 | Vishay Intertechnology, Inc. | Thin film ntc thermistor |
CN101585707B (zh) * | 2009-07-07 | 2012-05-23 | 西安交通大学 | 一种高温ntc热敏电阻材料的制备方法 |
FI123270B2 (fi) | 2010-06-07 | 2019-04-15 | Kemira Oyj | Mikroselluloosan valmistus |
DE102014102042A1 (de) * | 2014-02-18 | 2015-08-20 | Epcos Ag | NTC-Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
CN109133901A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-01-04 | 惠州嘉科实业有限公司 | 含铁系热敏电阻及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4324702A (en) * | 1979-11-02 | 1982-04-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Oxide thermistor compositions |
JPS6014484B2 (ja) * | 1980-05-13 | 1985-04-13 | 松下電器産業株式会社 | サ−ミスタ用酸化物半導体の製造方法 |
-
1994
- 1994-01-27 EP EP94101203A patent/EP0609776A1/de not_active Ceased
- 1994-01-28 JP JP6024929A patent/JPH06263518A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003128463A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-05-08 | Kiyoshi Yatsui | 電気伝導性酸化物並びに電気伝導性酸化物を用いて構成したセンサー |
JP2005512317A (ja) * | 2001-12-04 | 2005-04-28 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 負の温度係数を有する電気デバイス |
JP2010258482A (ja) * | 2001-12-04 | 2010-11-11 | Epcos Ag | 負の温度係数を有する電気デバイス |
JP2005150289A (ja) * | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Tdk Corp | サーミスタ用組成物及びサーミスタ素子 |
JP2010251757A (ja) * | 2009-04-13 | 2010-11-04 | Korea Inst Of Mach & Materials | 高密度及びナノ結晶粒スピネル系負温度係数サーミスタ厚膜及びその製造方法 |
WO2011086850A1 (ja) * | 2010-01-12 | 2011-07-21 | 株式会社村田製作所 | Ntcサーミスタ用半導体磁器組成物およびntcサーミスタ |
US8547198B2 (en) | 2010-01-12 | 2013-10-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor ceramic composition for NTC thermistors and NTC thermistor |
JP2019525491A (ja) * | 2016-08-23 | 2019-09-05 | テーデーカー エレクトロニクス アーゲー | セラミック材料、素子及び素子を製造するための方法 |
US10961159B2 (en) | 2016-08-23 | 2021-03-30 | Tdk Electronics Ag | Ceramic material, component, and method for producing the component |
WO2023084678A1 (ja) * | 2021-11-11 | 2023-05-19 | 株式会社芝浦電子 | サーミスタ焼結体およびサーミスタ焼結体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0609776A1 (de) | 1994-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH06263518A (ja) | 高温安定性サーミスタ用焼結セラミック及びその製造方法 | |
US5661094A (en) | Sintered ceramic for high-stability thermistors and method for production thereof | |
CN107056273A (zh) | 一种双层负温度系数热敏电阻及其制备方法 | |
JP4527347B2 (ja) | サーミスタ用焼結体 | |
JPH0799103A (ja) | サーミスタ用磁器組成物およびサーミスタ素子 | |
US4647895A (en) | Ceramic temperature sensor | |
Varghese et al. | Ni–Mn–Fe–Cr–O negative temperature coefficient thermistor compositions: correlation between processing conditions and electrical characteristics | |
US4743881A (en) | Ceramic temperature sensor | |
JPH08231223A (ja) | 熱電変換材料 | |
CN112851335B (zh) | 一种类钙钛矿基复合高温热敏电阻材料及其制备方法 | |
JP3331447B2 (ja) | サーミスタ用磁器組成物の製造方法 | |
US5976421A (en) | Indium-containing, oxide-ceramic thermistor | |
JPH02143502A (ja) | Ntcサーミスタの製造方法 | |
US20040164280A1 (en) | Ceramic mixture having negative temperature co-efficient, a thermistor containing the ceramic mixture and a process for preparing same | |
JP2000100606A (ja) | サ―ミスタ | |
US2694050A (en) | Thermally sensitive resistor | |
CN113004039A (zh) | 一种钨青铜型高温热敏电阻材料及其制备方法 | |
JP2581754B2 (ja) | サーミスタ用酸化物半導体組成物 | |
JPH0562805A (ja) | 高温用サーミスタ材料 | |
JP2808580B2 (ja) | 熱電半導体材料 | |
JPH0766008A (ja) | 高温サーミスタ用焼結セラミック及びその製造方法 | |
US5002912A (en) | Oxide sintered product | |
JPH1012405A (ja) | サーミスター用組成物 | |
JPH08242021A (ja) | 熱電変換材料の製造方法 | |
JPH0255921B2 (ja) |