JPH06262042A

JPH06262042A - 液体精製装置

Info

Publication number: JPH06262042A
Application number: JP7764893A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Mita; 雅昭三田; Moriyoshi Kudo; 守義工藤
Original assignee: Mitsubishi Kasei Engineering Co; Mitsubishi Kasei Corp
Current assignee: Mitsubishi Kasei Engineering Co; Mitsubishi Kasei Corp
Priority date: 1993-03-11
Filing date: 1993-03-11
Publication date: 1994-09-20

Abstract

(57)【要約】【目的】分離膜モジュールを使用した液体精製装置で
あって、種々の都合により、被処理液の供給が停止され
た場合においても連続運転できるように改良された液体
精製装置を提供する。【構成】被処理液の原料槽（３）と分離膜モジュール
（７）と精製液の取り出し流路（１５）、（１７）とを
含み、該取り出し流路には、精製液を前記原料槽へ返流
する流路（１６）が切替弁（４）を介して接続され、前
記原料槽には、原料槽液面検出手段（２）が付設され、
そして、該原料槽液面検出手段からの入力信号に基づ
き、前記原料槽の液位が所定の高さよりも低下した際に
前記切替弁を流路（１６）側へ開放させ、所定の高さよ
りも低下した際に前記切替弁を取り出し流路（１７）側
へ開放させる制御手段（６）が備えられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液体精製装置に関する
ものであり、詳しくは、分離膜モジュールを使用した液
体精製装置であって、種々の都合により、被処理液の供
給が停止された場合においても連続運転できるように改
良された液体精製装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体基材等の処理などでは、被処理物
の洗浄や乾燥にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等の
有機溶剤が使用される。処理に使用された溶剤を再生す
る場合、例えば、水とＩＰＡとの混合液体では、共沸点
組成を構成するため、分離膜を用いて分離精製される。

【０００３】ＩＰＡ等の精製手段は、例えば、特開昭６
１−２３９６２８号公報に開示されており、また、その
精製装置は、図３に示すように、蒸気乾燥装置（１）等
の被処理液の発生源から導入された被処理液を収容する
原料槽（３）と、特定成分を選択的に透過する分離膜モ
ジュール（７）と、原料槽（３）から分離膜モジュール
（７）へ被処理液を送液するポンプ（５）とを備え、精
製されたＩＰＡを流路（１５）を通じて系外に取り出す
か、または、循環使用するために再び蒸気乾燥装置
（１）に返流するように構成されている。また、精製液
からパーティクル等の不純物を除去するため、必要に応
じて分離膜モジュール（７）の後段に蒸留装置が設けら
れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の蒸気乾燥装置
（１）における半導体基材等の処理は、通常、バッチ式
に行われるため、分離膜モジュール（７）への被処理液
の送液もバッチ式にならざるを得ない。ところが、分離
膜モジュール（７）の運転再開には、定常状態となるま
でに時間を要し、その結果、分離膜モジュール（７）の
分離性能が一時的に低下するという問題がある。また、
原料槽（３）を大型化することにより、ある程度の対処
は可能ではあるが、コスト的に有利ではない。

【０００５】本発明は、上記の実情に鑑みなされたもの
であり、その目的は、分離膜モジュールを使用した液体
精製装置であって、種々の都合により、被処理液の供給
が停止された場合においても連続運転できるように改良
された液体精製装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は２つの要旨から
成り、その第１の要旨は、被処理液が収容される原料槽
と、被処理液を精製する分離膜モジュールと、これらを
接続する流路および前記分離膜モジュールに連設された
精製液の取り出し流路とを含む液体精製装置において、
前記取り出し流路の途中には、精製液を前記原料槽へ返
流する流路が切替弁を介して接続され、前記原料槽に
は、被処理液の液位を検出する原料槽液面検出手段が付
設され、そして、前記原料槽液面検出手段からの入力信
号に基づき、前記原料層における液位が所定の高さより
も低下した際に前記切替弁を前記原料槽への流路側へ開
放させ、所定の高さよりも上昇した際に前記切替弁を前
記取り出し流路側へ開放させる機能を有する制御手段が
備えられていることを特徴とする液体精製装置に存す
る。

【０００７】そして、第２要旨は、被処理液が収容され
る原料槽と、被処理液を精製する分離膜モジュールと、
精製液を蒸留する蒸留缶と、これらを順次接続する流路
および前記蒸留缶に連設された蒸留液の取り出し流路と
を含む液体精製装置において、前記分離膜モジュールか
ら前記蒸留缶に至る流路には、精製液を前記原料槽へ返
流する流路が切替弁を介して接続され、前記取り出し流
路には、開閉弁が配設され、前記原料槽には、被処理液
の液位を検出する原料槽液面検出手段が付設され、前記
蒸留缶には、精製液の液位を検出する蒸留缶液面検出手
段が付設され、そして、前記原料槽液面検出手段からの
入力信号に基づき、前記原料層における液位が所定の高
さよりも低下した際に前記切替弁を前記原料槽への流路
側へ開放させ、所定の高さよりも上昇した際に前記切替
弁を前記蒸留缶への流路側へ開放させる機能と、前記蒸
留缶液面検出手段からの入力信号に基づき、前記蒸留缶
における液位が所定の高さよりも低下した際に前記開閉
弁を閉止させ、所定の高さよりも上昇した際に前記開閉
弁を開放させる機能とを有する制御手段が備えられてい
ることを特徴とする液体精製装置に存する。

【０００８】

【作用】本発明の第１の要旨において、原料槽液面検出
手段からの入力信号に基づき、原料槽における液位が所
定の高さよりも低下した際に切替弁を原料槽への流路側
へ開放させる制御手段は、原料槽への流路を通じ、分離
膜モジュールにて精製された精製液を原料槽へ返流させ
るため、原料槽における被処理液の減少を防止して分離
膜モジュールの連続的な運転を可能にする。

【０００９】また、本発明の第２の要旨において、蒸留
缶液面検出手段からの入力信号に基づき、蒸留缶におけ
る液位が所定の高さよりも低下した際に開閉弁を閉止さ
せる制御手段は、蒸留液の取り出し流路を規制し、蒸留
液の全量を蒸留缶内で還流させるため、蒸発缶における
被処理液の減少を防止し、分離膜モジュールと共に蒸発
缶の連続的な運転を可能にする。

【００１０】

【実施例】本発明の実施例を図１及び図２を参照して説
明する。図１は本発明に係る液体精製装置の一実施例を
示す系統図、図２は本発明に係る液体精製装置の他の実
施例を示す系統図である。なお、同一部分には同一の符
号を使用して示す。

【００１１】本発明の液体精製装置は、図１に示される
ように、被処理液が収容される原料槽（３）と、被処理
液を精製する分離膜モジュール（７）と、これらを接続
する流路（１２）、（１３）及び分離膜モジュール
（７）に連設された精製液の取り出し流路（１５）、
（１７）とを含む液体精製装置において、取り出し流路
（１５）、（１７）の途中には、精製液を原料槽（３）
へ返流する流路（１６）が切替弁（４）を介して接続さ
れ、原料槽（３）には、被処理液の液位を検出する原料
槽液面検出手段（２）が付設され、そして、原料槽液面
検出手段（２）からの入力信号に基づき、原料槽（３）
における液位が所定の高さよりも低下した際に切替弁
（４）を原料槽への流路（１６）側へ開放させ、所定の
高さよりも低下した際に切替弁（４）を取り出し流路
（１７）側へ開放させる機能を有する制御手段（６）が
備えられている。

【００１２】本発明における被処理液としては、蒸気乾
燥装置（１）にて使用される乾燥液等の例えば、イソプ
ロピルアルコール（ＩＰＡ）、エタノール、ｎ−プロパ
ノール、イソブタノール、イソアミルアルコール等のア
ルコール類である。これらの有機溶剤の中、特にＩＰＡ
が代表的であり、以下、ＩＰＡを例に挙げて説明する。

【００１３】原料槽（３）には、蒸気乾燥装置（１）等
の原料発生源から被処理液（水を含むＩＰＡ）を導入す
る流路（１１）が接続される。本発明の液体精製装置に
おいて、原料槽（３）は、ＩＰＡを循環させる際の所謂
バッファとして機能し、ＩＰＡの蒸発損失の防止と安全
性の観点から気密に構成されている。また、原料槽
（３）の容量は、該原料槽と分離膜モジュール（７）と
の間において、ＩＰＡの十分な循環量を確保し得る適宜
の容量とされる。

【００１４】本発明における分離膜モジュール（７）と
しては、従来公知の、所謂、中空糸膜モジュール、平膜
積層型モジュール、チューブラ型モジュール、プリーツ
型モジュール、スパイラル型モジュール等の水を選択的
に透過する各種の分離膜が好適に使用される。これらの
モジュールについては、水の透過係数が０．１Kg／m²
・Hr以上、好ましくは１Kg／m ²・Hr以上、分離係数が
１０００以上、好ましくは１０００以上であるモジュー
ルが好適に使用される。なお、分離係数は以下に示され
る。

【００１５】

【数１】

【００１６】上記の各種のモジュールの中、分離効率の
観点からは中空糸膜モジュールが好ましい。中空糸膜モ
ジュールは、中空糸の数および長さの設定により所望の
透過面積とすることが出来る。また、モジュールの規模
と設置数は、ＩＰＡを例えば、半導体基材の洗浄、乾燥
等に使用する場合、導入されるＩＰＡの水分濃度を勘案
し、精製液の水分濃度が好ましくは５００ppm 以下とな
るように適宜に設定される。

【００１７】モジュールを構成する中空糸の素材として
は、熱変形温度が蒸気乾燥時の有機溶剤の加熱温度より
４０℃以上高い素材、具体的には、ＪＩＳＫ７２０７
における熱変形温度が１５０℃の素材が好ましい。斯か
る素材としては、例えば、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリイミド、ポリフェニレンアセチレン等が
挙げられる。

【００１８】中空糸膜モジュールは、外径が略０．５mm
〜２．０mmの上記の素材の中空糸を５０本〜５００００
本程度束ね、そして、両端をビスフェノール型、ノボラ
ック型、エポキシ型等の熱硬化性樹脂から成るポッティ
ング材により固定して構成される。また、モジュールの
端部の中空糸の形態により、両端開口型、片端開口型、
Ｕ字状型等の各種のモジュールに形成される。

【００１９】一方、上記の原料槽（３）と分離膜モジュ
ール（７）との間には、該モジュールへＩＰＡを送液す
るポンプ（５）が配設される。原料槽（３）の底部とポ
ンプ（５）の吸入側とは、流路（１２）により接続さ
れ、送液ポンプ（５）の吐出側と分離膜モジュール
（７）の膜の１次側とは、流路（１３）により接続され
る。更に、分離膜モジュール（７）の出口側には、精製
液の取り出し流路（１５）、（１７）が設けられる。ま
た、分離膜モジュール（７）の膜の２次側には透過した
水を排出する排出路（１４）が付設される。

【００２０】流路（１３）には、被処理液を加温するヒ
ーターが適宜に設けられ、導入されるＩＰＡの温度は、
６０℃〜１２０℃、好ましくはＩＰＡの沸点温度（１at
m で８２．７℃）に設定される。また、排出路（１４）
には、コールドトラップ及び真空ポンプが介装されて、
モジュールにおける２次側の圧力（真空度）が略１〜１
０トールに設定される。なお、モジュールの２次側は、
不活性ガスにて掃気するように構成されていてもよい。

【００２１】また、取り出し流路（１５）、（１７）に
は、精製液を原料槽（３）へ返流する流路（１６）が切
替弁（４）を介して接続される。斯かる切替弁（４）と
しては、通常、３方切替の空気作動弁や防爆型の電磁弁
が好適に使用される。そして、流路（１５）にて取り出
された精製液は、切替弁（４）により、原料発生源であ
る蒸気乾燥装置（１）へ再び供給されるか、若しくは、
系外に取り出すための流路（１７）に導入されるか、ま
たは、原料槽（３）へ返流するための流路（１６）に導
入される。

【００２２】一方、原料槽液面検出手段（２）は、原料
槽（３）にてＩＰＡの液位を検出するために設置され、
液面の上方または液中に送受信機を設置した超音波液位
計、圧力検出式の液位センサー、差圧式やフロート式の
液面計等の各種の液位計にて構成される。

【００２３】制御手段（６）は、上記の原料槽液面検出
手段（２）からの入力信号に基づき、原料槽（３）にお
ける液位が所定の高さ以下であるか否かを判別し、液位
が所定の高さよりも低下したと判別した際に切替弁
（４）を原料槽（３）への流路（１６）側へ開放させ、
液位が所定の高さよりも上昇したと判別した際に切替弁
（４）を取り出し流路（１７）側へ開放させるように構
成される。斯かる制御手段（６）としては、装置全体を
制御する際に通常使用される所謂プログラムコントーラ
等の制御装置内に構成することが出来る。

【００２４】次に、本発明の液体精製装置の運転方法に
ついて、蒸気乾燥装置（１）にて使用された上記の溶剤
を再生する場合を例に挙げて説明する。蒸気乾燥装置
（１）は、例えば、水洗後の被処理物の表面でＩＰＡ蒸
気を凝縮させて乾燥を行う処理槽を有し、該処理槽の内
部には、ＩＰＡの蒸気発生部、被処理物を配置する乾燥
空間部、該乾燥空間部の下方にて凝縮液を捕集する受
部、乾燥空間部の上方にて乾燥液の蒸気を凝縮させる冷
却コイル、該冷却コイルの下方にて凝縮液を捕集する受
部を備えて成る。

【００２５】上記の蒸気乾燥装置（１）にて発生した凝
縮液（水を含むＩＰＡ）等は、流路（１１）を通じて原
料槽（３）に導入される。原料槽（３）内では、通常、
適宜の量の被処理液であるＩＰＡが貯留される。原料槽
（３）のＩＰＡは、流路（１２）を通じてポンプ（５）
に吸入され、該ポンプにより流路（１３）を通じて分離
膜モジュール（７）に送液される。

【００２６】分離膜モジュール（７）においては、中空
糸膜の１次側に水とＩＰＡの混合液体が導入された場
合、２次側が減圧されており、２次側の水の蒸気分圧が
１次側の平行蒸気圧よりも低く保持されているため、浸
透気化により中空糸膜の２次側に水が気体として選択的
に透過分離され、高濃度のＩＰＡに精製される。そし
て、非透過液である精製されたＩＰＡは、流路（１５）
に導入された後、更に流路（１７）を経て蒸気乾燥装置
（１）に戻されて再利用される。また、分離膜モジュー
ル（７）にて分離された水は、流路（１４）の途中で凝
縮されて排出される。

【００２７】ところで、蒸気乾燥装置（１）（原料発生
源）にて、処理が中断した場合には、流路（１１）を通
じて被処理液が導入されず原料槽（３）の液面が低下す
る。しかしながら、原料槽（３）における液位は、該原
料槽に付設された原料槽液面検出手段（２）により検出
されており、斯かる検出信号が制御手段（６）へ入力さ
れている。そして、制御手段（６）は、原料槽（３）に
おける液位が所定の高さ以下であるか否かを逐次に判別
しており、液位が所定の高さよりも低下したと判別した
際には、切替弁（４）を原料槽（３）への流路（１６）
側へ開放させる。

【００２８】切替弁（４）が流路（１６）側へ切り替え
られた場合、これまで流路（１７）を通じて蒸気乾燥装
置（１）へ戻されていたＩＰＡは、流路（１６）を経て
再び原料槽（３）へ返流される。従って、原料槽（３）
において、被処理液が減少して所定の液位よりも更に低
下することが防止され、分離膜モジュール（７）を停止
させることなく連続的に運転することが出来る。

【００２９】すなわち、種々の都合により、処理すべき
ＩＰＡの供給が停止された場合においても連続運転で
き、分離膜モジュール（７）の分離性能に低下を来すこ
となく、安定した精製機能を維持することが出来る。し
かも、原料槽（３）と分離膜モジュール（６）との間で
は、被処理液の循環精製が繰り返されるため、供給を開
始した際に迅速に対応することが出来る。また、斯かる
循環が行われることにより、予め多量のＩＰＡを系内に
保有させる必要がなく、且つ、原料槽（３）の小型化す
ることが出来、設備コストの低減を図ることが出来る。
更に、原料槽（３）に常にＩＰＡが収容されるため、原
料発生源からの供給がプロセスの異常等により停止した
際にもポンプ（５）の空転が防止される。

【００３０】また、流路（１１）を通じて再び被処理液
が導入され、原料槽（３）の液面が所定の液位よりも上
昇した場合には、原料槽液面検出手段（２）の検出信号
に基づき、制御手段（６）は、原料槽（３）における液
位が所定の高さ以上であるか否かを判別し、液位が所定
の高さよりも上昇したと判別した際には、切替弁（４）
を取り出し流路（１７）側へ開放させる。そして、精製
されたＩＰＡは、流路（１７）を経て蒸気乾燥装置
（１）に戻される。

【００３１】次に、本発明の液体精製装置の他の実施例
について説明する。本発明の他の実施例における液体精
製装置は、被処理液を収容する原料槽（３）と、被処理
液を精製する分離膜モジュール（７）と、精製液を蒸留
する蒸留缶（９）と、これらを順次接続する流路（１
２）、（１３）、（１５）、（１８）および蒸留缶
（９）に連設された蒸留液の取り出し流路（１９）とを
含み、分離膜モジュール（７）から蒸留缶に至る流路
（１５）には、精製液を原料槽（３）へ返流する流路
（１６）が切替弁（４）を介して接続され、取り出し流
路（１９）には、開閉弁（１０）が配設され、しかも、
原料槽（３）には、被処理液の液位を検出する原料槽液
面検出手段（２）が付設され、蒸留缶（９）には、精製
液の液位を検出する蒸留缶液面検出手段（８）が付設さ
れる。

【００３２】そして、原料槽液面検出手段（２）からの
入力信号に基づき、原料槽（３）における液位が所定の
高さよりも低下した際に切替弁（４）を原料槽への流路
（１６）側へ開放させ、所定の高さよりも上昇した際に
切替弁（４）を蒸留缶への流路（１８）側へ開放させる
機能と、蒸留缶液面検出手段（８）からの入力信号に基
づき、蒸留缶（９）における液位が所定の高さよりも低
下した際に開閉弁（１０）を閉止させ、所定の高さより
も上昇した際に開閉弁（１０）を開放させる機能を有す
る制御手段（６）が備えられる。

【００３３】すなわち、本発明の他の実施例において
は、前記の実施例と異なり、分離膜モジュール（７）の
後段に蒸留缶（９）を備え、且つ、流路（１８）を接続
し、分離膜モジュール（７）にて精製されたＩＰＡを蒸
留缶（９）に導入し、そして、蒸留缶（９）にて得られ
た蒸留液（ＩＰＡ）を流路（１９）、開閉弁（１０）、
流路（２０）を介して蒸気乾燥装置（１）等の原料発生
源に返流するように構成される。しかも、蒸留缶（９）
には、蒸留缶液面検出手段（８）が付設され、また、制
御手段（６）には、蒸留缶液面検出手段（８）からの入
力信号に基づき、開閉弁（１０）を操作する機能が付加
される。なお、その他の構成は、前記の実施例と同様と
される。

【００３４】上記の蒸留缶（９）は、精製されたＩＰＡ
から更にパーティクルを除去するために備えられる。斯
かる蒸発缶（９）は、所謂、単塔型の蒸留装置であり、
その下方には、精製液を貯留し且つヒーター等の適宜の
加熱手段を使用してその蒸気を発生させる蒸気発生部が
設けられ、また、上方には、発生させた蒸気を液化する
凝縮コイルが設けられる。

【００３５】また、蒸留缶液面検出手段（８）は、蒸発
缶（９）の上記の蒸気発生部に設けられ、上述した原料
槽液面検出手段（２）と同様の各種の液面計にて構成さ
れる。更に、開閉弁（１０）としては、上記の切替弁
（４）と同様に、空気作動弁、防爆型の電磁弁などの自
動弁が使用される。

【００３６】上記のように蒸発缶（９）が備えられた場
合、通常の運転においては、分離膜モジュール（７）に
て精製されたＩＰＡが流路（１５）、切替弁（４）、流
路（１８）を通じて蒸発缶（９）に供給される。供給さ
れたＩＰＡは、蒸発缶（９）内にて蒸留され、パーティ
クル等の混入しない蒸留液として流路（１９）を通じて
取り出される。そして、流路（２０）を通じ、蒸気乾燥
装置（１）へ戻されて再利用される。

【００３７】また、上記と同様に、原料槽（３）におけ
る液位が低下した際には、分離膜モジュール（７）の下
流側の切替弁（４）が制御装置（６）によって切り替え
られるため、精製されたＩＰＡは、原料槽（３）に返流
されて該原料槽と分離膜モジュール（７）との間で循環
させられる。斯かる場合、切替弁（４）の下流側の流路
（１８）に対し、精製液の供給が停止され、蒸留缶
（９）内に貯留された精製ＩＰＡも順次に減少する場合
がある。

【００３８】その際、蒸留缶（９）における液位は、蒸
留缶液面検出手段（８）により検出されており、斯かる
検出信号に基づき、制御手段（６）は、蒸留缶（９）に
おける液位が所定の高さ以下であるか否かを逐次に判別
している。そして、液位が所定の高さよりも低下したと
判別した際には、開閉弁（１０）を閉止させ、流路（１
９）からの蒸留液の流出を停止させる。

【００３９】開閉弁（１０）が閉止されると、蒸発缶
（９）内では、蒸留されたＩＰＡの全量が蒸気発生部に
貯留された精製液側に還流される。従って、蒸発缶
（９）においては、精製液が減少して所定の液位よりも
更に低下することがないため、当該蒸発缶における空焚
きを防止することが出来、且つ、連続的に運転すること
が出来る。また、分離膜モジュール（７）と共に連続的
に運転させるため、原料槽（３）への供給が開始された
場合、迅速に蒸留液を供給することが出来る。更に、上
記の実施例と同様に、安定した蒸留性能を維持すること
が出来、しかも、予め多量のＩＰＡを原料層（３）内に
保有させる必要がない。

【００４０】また、精製液が流路（１８）を通じて再び
蒸留缶（９）に供給され、蒸留缶（９）における液位が
所定の高さに達した場合には、蒸留缶液面検出手段
（８）の検出信号に基づき、制御手段（６）は、蒸留缶
（９）における液位が所定の高さ以上であるか否かを判
別し、液位が所定の高さよりも上昇したと判別した際に
は、開閉弁（１０）を開放させる。そして、蒸留液は、
流路（２０）を通じて蒸気乾燥装置（１）へ供給され
る。

【００４１】本発明の液体精製装置は、ウェーハ等の半
導体基材、液晶表示デバイス、フォトマスク、ハードデ
ィスク、レンズ、磁気ヘッド、サーマルヘッド、水晶振
動子等の精密な洗浄や乾燥に使用される有機溶剤の精製
に好適され、例えば、蒸気乾燥装置等の加工装置に一体
的に備えられていてもよい。また、上記の他の実施例に
おいて、蒸発缶（９）内にて蒸留液を全還流させる場
合、開閉弁（１０）に替えて切替弁および該切替弁から
蒸発缶（９）の底部に至る流路をを設け、斯かる流路を
通じて還流させてもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液体精製
装置によれば、種々の都合により、被処理液の供給が停
止された場合においても連続運転でき、安定した精製機
能を維持することが出来る。また、原料槽が大型化する
ことなく、設備コストの低減を図ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液体精製装置の一実施例を示す系
統図である。

【図２】本発明に係る液体精製装置の他の実施例を示す
系統図である。

【図３】従来の液体精製手段を示す系統図である。

【符号の説明】

１：蒸気乾燥装置（原料発生源）２：原料槽液面検出手段３：原料槽４：切替弁５：ポンプ６：制御手段７：分離膜モジュール８：蒸留缶液面検出手段９：蒸留缶１０：開閉弁１１、１２、１３、１５、１６、１７、１８、１９、２
０：流路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理液が収容される原料槽と、被処理
液を精製する分離膜モジュールと、これらを接続する流
路および前記分離膜モジュールに連設された精製液の取
り出し流路とを含む液体精製装置において、前記取り出
し流路の途中には、精製液を前記原料槽へ返流する流路
が切替弁を介して接続され、前記原料槽には、被処理液
の液位を検出する原料槽液面検出手段が付設され、そし
て、前記原料槽液面検出手段からの入力信号に基づき、
前記原料層における液位が所定の高さよりも低下した際
に前記切替弁を前記原料槽への流路側へ開放させ、所定
の高さよりも上昇した際に前記切替弁を前記取り出し流
路側へ開放させる機能を有する制御手段が備えられてい
ることを特徴とする液体精製装置。
【請求項２】被処理液が収容される原料槽と、被処理
液を精製する分離膜モジュールと、精製液を蒸留する蒸
留缶と、これらを順次接続する流路および前記蒸留缶に
連設された蒸留液の取り出し流路とを含む液体精製装置
において、前記分離膜モジュールから前記蒸留缶に至る
流路には、精製液を前記原料槽へ返流する流路が切替弁
を介して接続され、前記取り出し流路には、開閉弁が配
設され、前記原料槽には、被処理液の液位を検出する原
料槽液面検出手段が付設され、前記蒸留缶には、精製液
の液位を検出する蒸留缶液面検出手段が付設され、そし
て、前記原料槽液面検出手段からの入力信号に基づき、
前記原料層における液位が所定の高さよりも低下した際
に前記切替弁を前記原料槽への流路側へ開放させ、所定
の高さよりも上昇した際に前記切替弁を前記蒸留缶への
流路側へ開放させる機能と、前記蒸留缶液面検出手段か
らの入力信号に基づき、前記蒸留缶における液位が所定
の高さよりも低下した際に前記開閉弁を閉止させ、所定
の高さよりも上昇した際に前記開閉弁を開放させる機能
とを有する制御手段が備えられていることを特徴とする
液体精製装置。
【請求項３】被処理液が水を含む有機溶剤であり、前
記分離膜モジュールは、水を選択的に透過する分離膜に
て構成される請求項１又は２に記載の液体精製装置。