JPH06260545A - 半導体ウェーハの生産管理システム - Google Patents
半導体ウェーハの生産管理システムInfo
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- JPH06260545A JPH06260545A JP4243193A JP4243193A JPH06260545A JP H06260545 A JPH06260545 A JP H06260545A JP 4243193 A JP4243193 A JP 4243193A JP 4243193 A JP4243193 A JP 4243193A JP H06260545 A JPH06260545 A JP H06260545A
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Abstract
ット間の混合を防止しながら効率的にウェーハを搬送
し、工程内の無人化(完全自動化)を図る。 【構成】半導体ウェーハWを所定のロット毎に区分した
状態で目的とする加工工程Kに搬送するにあたり、生産
計画に基づく各半導体ウェーハの加工進捗状況や在庫状
況などの各種生産管理項目を管理する半導体ウェーハの
生産管理システムである。半導体ウェーハWを収納する
カセットCおよびこれらのカセットCを格納するカセッ
トマガジンMと、カセットマガジン毎に設けられ半導体
ウェーハに関する仕様情報が書き込まれたバーコードマ
ーク6と、カセットマガジンを保管する立体ストッカ5
0と、立体ストッカ50に保管されたカセットマガジン
を目的とする加工工程Kに搬送する無人搬送車51b
と、立体ストッカ50、無人搬送車51b、および各加
工工程Kにおける半導体ウェーハWの加工進捗状況や在
庫状況などの各種生産管理項目をバーコードマーク6の
情報に基づいて記憶および処理するホストコンピュータ
52aとを備える。
Description
間搬送、加工装置への着脱、工程管理、仕掛かり管理な
ど一連の生産管理を自動化する半導体ウェーハの生産管
理システムに関する。
半導体ウェーハは、例えばシリコン等の単結晶インゴッ
ドをその棒軸の面直方向にスライスし、スライスして得
られたものに対して面取り、ラッピング、エッチング、
ポリッシング等の処理を順次施すことにより鏡面ウェー
ハを得る。
ンウェーハは、タイプ別、インゴッド別、抵抗別、酸素
濃度別など各種の目的に応じて分類された上で、約25
0枚程度のロット毎に加工が施される。
行うのは、各種目的に応じた加工仕様が相違するからで
あり、また、半導体デバイスに不具合が生じたときに、
もし、その原因がウェーハに存在した場合には、そのウ
ェーハを製造したときの工程条件等を検証し、原因解析
および工程条件等へのフィードバックに供するためであ
る。
しておくことは勿論のこと、引上時における熱履歴等の
工程条件の検証に重要となるため、スライスされた順序
も何らかの方法で管理しておく必要がある。
ウェーハの収容治具が採用され、このカセットに対して
ウェーハを順番に収容し、かつ、ロット毎にカセットを
区分けして加工工程内を搬送していた。
度のウェーハを収容することができるものの、一ロット
は多い場合で250枚程度の数量となるため、約10個
のカセットを一単位として加工工程内を搬送する必要が
あった。そこで、異なるロットのカセットが混入するの
を防止するために、同一ロットのカセットをさらにコン
テナと称される箱に収容し、このコンテナを単位として
工程内を搬送するようにしていた。
ットおよびコンテナを用いたウェーハの搬送方法では、
以下のような種々の問題を含んでいた。
セットは、一ロットのウェーハ数が約250枚であれば
約10個のカセットを一単位として工程内を取り廻され
るが、一つのコンテナに一ロット全てのカセットを収容
することができない場合もあり、結局、一ロットのウェ
ーハが数箱のコンテナにわたってしまうことが少なくな
かった。
数が少ないこともあり、例えば一ロットのウェーハ数が
カセット一つで足りる場合においても、他のロットのカ
セットが混入しないように、この一つのカセットのみを
一つのコンテナに収容して工程内を取り廻していた。
ロットのカセットが収容されるようにし、しかも、一つ
のロットを単位として手押し台車に一つまたは複数のコ
ンテナを搭載し搬送し、半導体ウェーハを人手によって
加工装置に着脱していた。
にカセットとコンテナの取り回しを考慮すると、特に一
ロットのウェーハ数が少ない場合などには手押し台車に
よる搬送に無駄が生じることになる。
ットのウェーハをまとめて加工する場合があり、このよ
うなときには、ラインサイドに異種ロットのコンテナを
重ねて積み上げることがあった。そのため、加工順序に
よっては、積み上げられたコンテナ(いわゆる仕掛かり
在庫)のうち下方のものを取り出さなければならないこ
ともあり、希望するコンテナを抜き出す作業がきわめて
煩雑であり、しかも、コンテナの積み上げ順序を変える
際にウェーハに損傷を与えるおそれもあった。
セットは、全て手作業によって各加工装置に受け渡され
ていたため、受渡しの度にウェーハに損傷を与えたり、
塵埃が付着したりするおそれが十分に考えられた。
あたっては、各ウェーハの製造履歴等の検証や、所望に
区分けしたロット間の混入の防止を行うことができ、し
かも、ウェーハへの損傷防止や塵埃付着防止などの品質
面における本来的な要求も満足できるという、製造品質
・生産技術・生産管理の全てを兼ね備えた総合的な流動
管理システムの開発が希求されていた。
鑑みてなされたものであり、ウェーハに対する損傷や塵
埃付着を防止し、かつロット間の混合を防止しながら効
率的にウェーハを搬送することができ、ひいては工程内
の無人化(完全自動化)につながる半導体ウェーハの生
産管理システムを提供することを目的とする。
に、本発明の半導体ウェーハの生産管理システムは、半
導体ウェーハを所定のロット毎に区分した状態で目的と
する加工工程に搬送するにあたり、生産計画に基づく各
半導体ウェーハの加工進捗状況や在庫状況などの各種生
産管理項目を管理する半導体ウェーハの生産管理システ
ムにおいて、前記半導体ウェーハを収納するカセットお
よびこれらのカセットを格納するカセットマガジンから
なるウェーハ格納手段と、 前記ウェーハ格納手段毎に
設けられ、当該ウェーハ格納手段に収納された半導体ウ
ェーハに関する仕様情報が書き込まれた識別手段と、
前記ウェーハ格納手段を保管する立体ストッカと、前記
立体ストッカに保管された前記ウェーハ格納手段を目的
とする加工工程に搬送するとともに、前記加工工程から
前記ウェーハ格納手段を前記立体ストッカに戻す搬送手
段と、 生産計画および前記各加工工程からの要求に応
じて前記立体ストッカと前記搬送手段を制御するととも
に、前記立体ストッカ、前記搬送手段、および前記各加
工工程における半導体ウェーハの加工進捗状況や在庫状
況などの各種生産管理項目を前記ウェーハ格納手段に設
けられた識別手段の情報に基づいて記憶および処理する
中央生産管理手段とを備えたことを特徴としている。
のカセットをさらにカセットマガジンに格納して、半導
体ウェーハを所定のロット毎に区分した状態で目的とす
る加工工程に搬送する。
ンからなるウェーハ格納手段を加工工程のラインサイド
に仕掛かり在庫として置かずに一括して立体ストッカに
保管しておく。立体ストッカに保管されたウェーハ格納
手段は、それぞれに設けられた識別手段によって各半導
体ウェーハの仕様情報とともに保管場所を記憶してお
く。
するウェーハ格納手段が保管された場所を検索し、搬送
手段を用いて目的とする加工工程にそのウェーハ格納手
段を搬送する。その加工工程においては、ウェーハ格納
手段から半導体ウェーハを取り出したのち、空になった
ウェーハ格納手段を搬送手段を用いて立体ストッカに戻
す。このときも、空になったウェーハ格納手段の保管場
所を記憶しておく。
ストッカから空のウェーハ格納手段をその加工工程まで
搬送手段によって搬送し、処理を終えた半導体ウェーハ
をウェーハ格納手段に収納したのち、再び立体ストッカ
に保管する。このとき、その半導体ウェーハの処理情報
を書き換えるとともに、ウェーハ格納手段の保管場所を
記憶する。
明する。半導体ウェーハの加工工程および立体ストッカ、搬送手
段 まず最初に、本発明の半導体ウェーハの生産管理システ
ムを適用した半導体ウェーハの加工工程の一例を説明す
る。図10は本発明の半導体ウェーハの生産管理システ
ムを適用するウェーハ加工工程の一例を示す工程図であ
る。
加工装置であり、面取り、前処理、ラッピング、エッチ
ング、ポリッシング等の各種処理を行う装置である。こ
れらの各加工装置の出入口には、後述するマガジンスタ
ンドSが設置されており、無人搬送車51bに搭載され
てきたカセットマガジンMから直接半導体ウェーハWを
受渡ししたり、あるいは、作業者がカセットCを受け渡
したりする。
ンMを保管するための倉庫である立体ストッカ50が設
置されており、各加工工程Kのラインサイドに仕掛かり
在庫を置かずに、仕掛かり在庫や空カセットマガジンは
一括してこの立体ストッカ50に保管される。
されないが、例えばカセットマガジンMを効率よく格納
するためのマガジン棚50aと、このマガジン棚50a
から目的とするカセットマガジンMを取り出したり、搬
入されてきたカセットマガジンMをマガジン棚50aに
格納するためのリフタ50bと、リフタ50bにより排
出されたカセットマガジンMを無人搬送車51bに搭載
したり、無人搬送車51bで搬送されてきたカセットマ
ガジンMをリフタ50bに移載するための移載機50c
とを備えていることが好ましい。
往復移動可能に、かつマガジン棚50aの上下方向に昇
降可能に設けられており、立体ストッカ制御部50d
(図1参照)からの指令によって目的とするマガジン棚
50aに格納されたカセットマガジンMを取り出すこと
ができるようになっている。なお、立体ストッカ50へ
のカセットマガジンMの出し入れ作業を円滑に行うため
に、本実施例の立体ストッカでは搬入用移載機と搬出用
移載機がそれぞれ専用に設けられている。
は、工程スペースの床面に埋設された磁気テープからな
る走行路51aに沿って移動する。各加工装置Kのカセ
ットマガジン受渡し位置に対応した走行路51aには、
停止位置51c(図10中「○」で示す)が設けられ、
それぞれの位置に応じた特有の磁気情報が書き込まれて
いる。
車制御部51d(図1参照)から指令を受けて目的とす
る位置に走行する場合には、現在の停止位置と目的とす
る停止位置とを判断し、予め教示された経路に基づいて
磁気テープを検知しながら目的位置に至ることになる。
なお、加工装置KによってはカセットマガジンMの搬入
位置と搬出位置とが同じ位置であったり、異なったりす
ることもある。
マガジンMの搬送を効率的に行うために、立体ストッカ
50から加工工程Kへの搬送車と、加工工程Kから立体
ストッカ50への搬送車の2台の搬送車51bが配備さ
れている。そして、一方の搬送車が立体ストッカから取
り出されたカセットマガジンを目的の工程に搬送してい
る間に、他方の搬送車がその工程で処理を終了した半導
体ウェーハを引き取りに空カセットマガジンを搬送する
ようになっている。
発明の生産管理システムを説明するための一具体例であ
り、加工装置の種類や数量、立体ストッカの構成、搬送
車や走行路の具体的構成は何ら本実施例に限定されるこ
とはない。
用するにあたり、半導体ウェーハの搬送および加工装置
への受渡しに用いて好ましいカセットマガジンとマガジ
ンスタンド(ウェーハ格納手段)の一例について説明す
る。図5は本発明の一実施例に係るカセットマガジンを
示す斜視図、図6(a)は同実施例のカセットマガジン
を示す平面図、図6(b)は同じく側面図、図7(a)
は図6(a)のA−A線に沿う断面図、図7(b)は図
6(a)のB−B線に沿う断面図、図8は本発明の一実
施例に係るマガジンスタンドを示す平面図、図9は図8
のC−C線に沿う断面図である。
の合成樹脂製のベースプレート1を有しており、図7
(a)に示すように回転テーブル2が嵌合されて載置さ
れる凹部5が形成されている。
ードなどの識別ラベル6が貼着されており、各カセット
Cに付された識別ラベル(不図示)と照合できるように
なっている。例えば、ある特定の半導体ウェーハWを収
納したカセットCがどのカセットマガジンMに格納され
ているかどうか、さらには、そのカセットマガジンMの
どのカセット棚3に格納されているかどうかをホストコ
ンピュータなどを用いて記憶および検索が可能となって
いる。このベースプレート1の裏面に貼着されたバーコ
ードラベル6は、各工程などに配置されたバーコードリ
ーダ(不図示)によってその情報が読み取られ、ホスト
コンピュータ等に出力される。
合成樹脂にのみ限定されずアルミニウムなどの軽量金属
を用いることもできる。また、回転テーブル2を回転可
能に載置するための構造は、ベースプレート1に形成さ
れた凹部6による嵌合構造の他にも、ベースプレート1
に凸部を形成し、回転テーブル2側に凹部を形成した嵌
合構造でもよい。ただし、後述するように、本実施例で
は、ベースプレート1をポリ塩化ビニルにより形成し、
回転テーブル2はアルミニウムにより形成しているた
め、両者の加工性を考慮して図7(a)に示す構造を採
用している。
り、既述したようにベースプレート1に形成された凹部
6に嵌合しているが、ベースプレート1に対しては回転
可能に設けられている。これは、回転テーブル2上に等
配に取り付けられたカセット棚3から半導体ウェーハW
を順次取り出したり、戻したりする際に、ベースプレー
ト1をコンベアなどに固定した状態であっても、カセッ
ト棚3の方向を順に変えてゆくためである。
を回転させる具体的構造は、以下のようになっている。
すなわち、図6(a)および図7(a)に示すように、
まずベースプレート1には、4つの貫通孔7が穿設され
ており、この4つの貫通孔7にマガジンスタンドSのボ
ール軸受8が貫通して回転テーブル2を押し上げ、これ
により回転テーブル2がベースプレート1から浮き上が
る。また、回転軸9が貫通する貫通孔10がベースプレ
ート1の中央に穿設されており、さらに回転テーブル2
の裏面には回転軸9の先端に形成されたピン11に係合
する係合孔12が形成されている。
もなって回転軸9も上昇し、貫通孔10を通過してピン
11が係合孔12に係合したのち、回転軸9を所定角度
だけ回転させることにより、ボール軸受8に支持された
回転テーブル2が円滑に回転することになる。回転テー
ブル2を所定の角度だけ回転させると、ボール軸受8お
よび回転軸9を下降させて再び回転テーブル2をベース
プレートに載置する。なお、以上説明したボール軸受8
による回転テーブル2の支持構造や、回転軸9による回
転テーブル2の回転構造などは一具体例であって、本発
明のカセットマガジンMでは他の手段を採用してもよ
い。
ーハWを収納したカセットCがさらに複数個格納できる
カセット棚3が形成されている。例えば、図5および図
6に示す実施例では、6インチのウェーハであれば12
カセット(=300枚のウェーハ)、8インチのウェー
ハであれば8カセット(=200枚のウェーハ)が格納
できるように、回転テーブル2上に4等配(すなわち9
0゜間隔)で各カセット棚3が形成されており、6イン
チ用のカセットの場合は、一つのカセット棚3に3つの
カセットC(8インチの場合は2つのカセット)を積み
上げることができるようになっている。
半導体ウェーハWの基準位置を一定にして、例えば図7
(b)に示すh1 ,h2 をウェーハWやカセットCの仕
様に拘らず一定にして、ハンドリングロボットRによる
半導体ウェーハWの把持作業を精度良く行えるようにし
ている。
ーハのように、カセットCへのウェーハWの収納ピッチ
が相違する場合は、カセットマガジンMあるいはカセッ
トCのバーコード情報をハンドリングロボットRに出力
することにより、ハンドリングロボットRの動作軌跡モ
ードを変更することにより対処している。
(b)および図7(b)に示すように、該カセット棚3
の骨組を構成するサイドフレーム13とカセットCを載
置するための載置プレート14からなり、これらを回転
テーブル2上に固定したブラケット15に回転自在に枢
着している。
セットCは、図5に示すように各半導体ウェーハWが所
定ピッチで水平に差し込まれて収納される構造であるた
め、水平のまま搬送すると、搬送時の振動などによって
半導体ウェーハが脱落するおそれがある。そのため、回
転テーブル2上にカセット棚3を取り付けるにあたり、
該カセット棚3を傾動可能に設け、特に図7(b)の実
線で示すようにカセット棚3が後ろ下がりになるように
すれば、搬送時における半導体ウェーハの脱落を防止す
ることができる。
後ろ下がりに傾けておくことが好ましいといえるが、半
導体ウェーハWを加工装置などに受け渡す場合にはカセ
ット棚3が水平である方が半導体ウェーハWへの傷付き
などの点からみて適切なことがある。そこで、本実施例
では、マガジンスタンドSから上昇する押上ピン17が
貫通する貫通孔16をベースプレート1と回転テーブル
2とに穿設し、図7(b)に示すように押上ピン17が
貫通孔16を貫通してカセット棚3を水平に押し上げ、
半導体ウェーハWを受け渡す場合にはこの姿勢を維持す
るようになっている。
よび図6に示すような筒状の防塵カバー4を有してお
り、カセット棚3に格納された各カセットCを覆うよう
にセットされる。なお、防塵カバー4の側面および天井
面はポリカーボネイトなどの透明の合成樹脂により形成
されており、下端縁には補強およびマガジンスタンドに
よるカバーの開閉のための鍔部4aが形成されている。
この鍔部4aは、加工装置に対する半導体ウェーハの受
渡しに支障がない位置に形成され、さらに、マガジンス
タンドSに設けられた開閉機構のピン19が挿入される
孔18が穿設されている。
ンMを搬送車から受け渡すためのベルトコンベア20
と、カセットマガジンMの回転テーブル2を回転させる
ための回転機構と、カセットマガジンMのカセット棚3
を水平に維持するための水平維持機構と、カセットマガ
ジンMの防塵カバー4を開閉するための開閉機構と、半
導体ウェーハWをカセットCから出し入れするためのハ
ンドリングロボットRとを備えている。
れ、図示しない駆動モータにより回動する一対のベルト
22を有し、ベースプレート1を図9の矢印方向に搬入
および搬出する。ベースプレート1の停止端には、図9
に示すように位置調節が自在なストッパピン23が設け
られており、このストッパピン23によって移動方向の
位置出しが行われる。
ースプレート1の両側には、位置出しローラ24を備え
た位置決め板25が設けられており、少なくとも何れか
一方の位置出しローラ24(および/または位置決め板
25)が可動に設けられて、左右方向の位置出しが行わ
れるようになっている。
た光電センサ26(図9参照)によりカセットマガジン
Mの有無が検出され、カセットマガジンMが定位置にま
で搬送されるとベルトコンベア20は停止する。また、
ベルトコンベア20はカセットマガジンMの搬入を終了
すると、ガイドピン43およびブッシュ44による支持
によって、および一つの流体シリンダ42を作動するこ
とによって全体が下降し、ベースプレート1に接触しな
い位置で対するようになっている。
上プレート28と下プレート29との間には2本のガイ
ドポール30が架設されており、このガイドポール30
のそれぞれに対してガイドブッシュ31が摺動可能に嵌
挿されている。また、これらのガイドブッシュ31には
可動プレート32が固定されており、下プレート29に
取り付けられた流体シリンダ33のロッド34の先端が
可動プレート32に固定されている。
ロッド34を上昇させると、ガイドブッシュ31がガイ
ドポール30に沿って摺動しながら可動プレート32が
上昇することになる。
動モータの出力軸に連結された減速機35が固定されて
おり、この減速機35を介して、回転軸9が上プレート
28に固定された軸受ブッシュ36を貫通して設けら
れ、これによって回転軸9は上プレート28に対して上
下移動および回動可能になっている。また、減速機35
に固定されたプレート37には、先端にボール8aを有
する4本のボール軸受8が固定されており、可動プレー
ト32の上昇にともない回転軸9とともに上昇する。
り、ロッド先端の押上ピン17がカセットマガジンMの
ベースプレート1と回転テーブル2とに穿設された貫通
孔16を貫通してカセット棚3の底部を押し上げ、該カ
セット棚3を水平に維持するようになっている。
ト棚3の水平維持機構は、特に半導体ウェーハWをカセ
ットCから出し入れするときにのみ必要であることか
ら、例えばハンドリングロボットRが設置される位置
(図8参照)にのみ設けておけばよい。
塵カバー4の孔18に対してピン19を挿入し、該防塵
カバー4を押し上げる防塵カバーの開閉機構を有してお
り、防塵カバー4を押し上げることにより、半導体ウェ
ーハWの出し入れを行う一方で、半導体ウェーハWとの
アクセスが終了すると再び防塵カバー4を取り付けて半
導体ウェーハWに塵埃等が付着するのを防止する。
ト28に孔18の数に相当するラックアンドピニオンの
ギヤボックス39がそれぞれ固定され、ラックが形成さ
れたピン19をラックアンドピニオン機構によって上昇
および下降させる。このとき、各ピン19の上昇および
下降速度を等しくして該ピン19に支持された防塵カバ
ー4の傾きを抑制するために、ギヤボックス39内のピ
ニオンを駆動するモータは一つとし、各ギヤボックス3
9は図示しない回転伝達部材により同期するように連結
されている。
なわち、防塵カバー4の上昇位置(開放位置)と下降位
置(カセットマガジンへのセット位置)の位置出しは、
ピン19の所定位置を近接スイッチなどによって検出す
ることにより行う。
には、面取り、ラッピング、エッチング、ポリッシング
等の加工装置に対して、カセットCに収納された半導体
ウェーハWを出し入れするために、ハンドリングロボッ
トRが設けられており、半導体ウェーハWを把持するハ
ンドやその他各加工工程の要求に応じた多軸アームを備
えている。
における半導体ウェーハWの有無を検出するための光電
センサであって、カセットマガジンMのベースプレート
1と回転テーブル2とに穿設された貫通孔41(図6
(a)参照)を通ってカセットCに収納された半導体ウ
ェーハWに検出光が照射される。したがって、仮にカセ
ットCに半導体ウェーハWが一枚も収納されていない場
合には、該光電センサ40に反射光が返らないので、こ
の結果をハンドリングロボットRに出力することにより
無駄な作業を予め防止することができる。
について説明する。図1は本発明の一実施例に係る半導
体ウェーハの生産管理システムを示すブロック図であ
る。
産計画および各加工工程からの要求に応じて、上述した
立体ストッカと無人搬送車とを制御して目的とする加工
工程に該当するカセットマガジンを搬送したり、加工工
程から空カセットマガジンを立体ストッカに保管する機
能と、(2)立体ストッカ内に保管されたカセットマガ
ジンの状態、無人搬送車で搬送されているカセットマガ
ジンの仕様、あるいは各加工工程における半導体ウェー
ハの加工進捗状況などの各種生産管理項目をカセットマ
ガジンおよびカセットに設けられたバーコードマーク
(識別手段)6の情報に基づいて、一括管理する機能と
を備えた中央生産管理手段52を有している。
1に示すように、カセットマガジンMおよびカセットC
に設けられたバーコードマーク(識別手段)6の情報に
基づいて、各種生産管理項目を一括管理するホストコン
ピュータ(上記(1)の機能)52aと、立体ストッカ
と無人搬送車とを制御するマスタコントローラ(上記
(2)の機能)52cとを備え、さらに、各加工装置毎
に端末部52bが接続されている。
52bからの情報が集約され、後述する処理手順にした
がって処理された結果を、端末部52bを介してマスタ
コントローラ52cに出力する。この処理結果を受け取
ったマスタコントローラ52dは、立体ストッカ50の
リフタ50bおよび移載機50cを制御する立体ストッ
カ制御部50dと、無人搬送車51bの行き先指示を出
力する無人搬送車制御部51dとに指令信号を出力す
る。
体的構成は、図1に示す実施例にのみ限定されることな
く種々に改変することは可能である。例えば、ホストコ
ンピュータ52aとマスタコントローラ52cとを一つ
のコンピュータで構成し、このコンピュータに各加工工
程Kの各端末部52bを接続してもよい。
参照しながら、本発明の中央生産管理手段における情報
処理手順について説明する。図2は本発明の半導体ウェ
ーハの生産管理システムの処理手順を示すフローチャー
ト、図3は図2のステップ2のサブルーチンを示すフロ
ーチャート、図4は図2のステップ3のサブルーチンを
示すフローチャートである。
方向にスライスし、得られた複数の半導体ウェーハWを
決められたロットに区分けしたのち、スライスした順に
カセットCに収納する。そして、同じロットのカセット
Cは、一つのカセットマガジンMに搭載する。
ーハの枚数が約250〜300枚であることに鑑み、6
インチのウェーハであれば12カセット(=300枚の
ウェーハ)、8インチのウェーハであれば8カセット
(=200枚のウェーハ)というように設定しているの
で、6インチのウェーハであれば最大1つのカセットマ
ガジン、8インチのウェーハであっても最大1つのカセ
ットマガジンで足りることになる。
程内で混入するのを防止する意味で、一つのカセットマ
ガジンMに格納するカセットCは、全て同一ロットのカ
セットCとしておくことが好ましい。
ジンMからなるウェーハ格納手段を加工工程Kのライン
サイドに仕掛かり在庫として置かずに一括して立体スト
ッカ50のマガジン棚50aに保管しておく。
保管する際は、それぞれに設けられたバーコードマーク
6をバーコードリーダで読み取ることにより、各半導体
ウェーハWの仕様情報とともに保管場所(マガジン棚の
番号、以下ストッカNoともいう)がホストコンピュー
タ52aに記憶される。つまり、どのカセットマガジン
Mにどのロットの半導体ウェーハWが収納され、かつそ
のカセットマガジンMがどのマガジン棚50aに保管さ
れているかを一括してホストコンピュータ52aで記憶
管理している。
きは(ステップ1)、該当するカセットマガジンMが保
管されたマガジン棚50aの場所を検索し、無人搬送車
51bを用いて目的とする加工工程Kにそのカセットマ
ガジンMを搬送する(ステップ3)。
た半導体ウェーハWが存在する場合には、それらの半導
体ウェーハWを収納する空カセットマガジンを先に搬送
する(ステップ2)。すなわち、図3に示すように、ま
ず空カセットマガジンを検索するにあたり、マガジン棚
50aに保管されている空カセットマガジンのうち、使
用頻度が最少のカセットマガジンを検索する(ステップ
2a〜2b)。これは、空カセットマガジンを立体スト
ッカから搬出する際にその都度使用頻度を書き換えてお
くことによりホストコンピュータで管理し、常に最少使
用頻度のカセットマガジンを使用することにより、カセ
ットマガジンの洗浄、補修、交換などのメインテナンス
頻度を均等化するためである。
すると、立体ストッカ50のリフタ50bと移載機50
cを用いて該当するカセットマガジンMを無人搬送車5
1bに搭載する(ステップ2c)。これと同時に、その
カセットマガジンMに付されたバーコードマーク6を読
み取り、使用頻度を書き換えるとともに、それまで保管
されていたマガジン棚50aの保管位置に関する情報を
書き換える(ステップ2e)。この書換えによって、そ
れまでそのカセットマガジンMが保管されていた保管位
置は、次にその位置にカセットマガジンが保管されるま
で「空」として扱われることになる。
マガジンが搭載されると、無人搬送車制御部52dに指
令信号を出力して目的とする加工工程Kまでそのカセッ
トマガジンMを搬送する(ステップ2f)。そして、こ
のカセットマガジンMをマガジンスタンドSに移載し
て、後述するカセットマガジンとマガジンスタンドの機
能によって処理を終了した半導体ウェーハWをそのカセ
ットマガジンMに収納し、さらに、このカセットマガジ
ンMを再び無人搬送車51bに搭載する(ステップ2
h)。
ードリーダでカセットマガジンMに付されたバーコード
マーク6を読み取り、その加工工程Kの処理が終了した
ことをホストコンピュータ52aに出力する(ステップ
2h)。ホストコンピュータ52aでは、該当するロッ
トのデータを書換え、その後の管理データとして使用す
る。
れたカセットマガジンMを無人搬送車51bに搭載した
のち、一旦このカセットマガジンMを立体ストッカ50
まで搬送して保管する(ステップ2i)。また、このカ
セットマガジン50を立体ストッカ50に移載するとき
に、カセットマガジンMに付されたバーコードマーク6
を読み取って、そこに書き込まれた情報、すなわち半導
体ウェーハのロットNo、カセットマガジンNo、およ
び立体ストッカの保管場所Noをホストコンピュータ5
2aに出力し、該当する情報を書き換える(ステップ2
j)。
ジンMには、どのロットの半導体ウェーハWであって、
どの加工工程Kまでの処理を終了したものが収納され、
かつこのカセットマガジンMがどのマガジン棚50aに
保管されているかがホストコンピュータ52aで管理さ
れることになる。
を終了した半導体ウェーハWを搬出したのち、あるいは
これと同時に、次に処理を行う半導体ウェーハWを収納
したカセットマガジンMを立体ストッカ50からその加
工工程Kに搬送する。
ットマガジンMをホストコンピュータ52aで検索し
(ステップ3a)、まず、その半導体ウェーハWの生産
順序(生産の優先順位)を判定する(ステップ3b,3
c)。例えば、ある加工工程から要求があった半導体ウ
ェーハを検索したにも拘らず、その半導体ウェーハより
も先に生産すべき半導体ウェーハが存在する場合には、
その優先する半導体ウェーハのほうを搬出する(ステッ
プ3d)。なお、このような優先順位の判定基準は、予
めロットNo別にホストコンピュータ52aに入力して
おく。
が検索されると、立体ストッカ制御部50dに指令信号
を出力してリフタ50bおよび移載機50cを作動させ
ることにより、該当するカセットマガジンMを無人搬送
車51bに移載する(ステップ3e)。
れたバーコードマーク6を読み取り(ステップ3f)、
それまで保管されていたマガジン棚50aの保管位置に
関する情報を書き換える(ステップ3g)。この書換え
によって、それまでそのカセットマガジンが保管されて
いた保管位置は、次にカセットマガジンが保管されるま
で「空」として扱われることになる。
求工程KまでカセットマガジンMを搬送し(ステップ3
h)、該当カセットマガジンMをマガジンスタンドSに
移載する。そして、マガジンスタンドSの機能にしたが
って、半導体ウェーハWを工程内に投入し(ステップ3
i)、その加工工程における処理を開始する。
際に、その加工工程Kでバーコードマーク6を読み取
り、作業中のカセットマガジンNoをホストコンピュー
タ52aで書換え、記憶しておく(ステップ3j)。
となったカセットマガジンMは、そのまま無人搬送車5
1bに搭載されたのち、一旦立体ストッカ50まで搬送
されて保管される(ステップ3k,3l)。保管される
際には、カセットマガジンMに付されたバーコードマー
ク6が読み取られ(ステップ3k)、そこに書き込まれ
た情報、すなわちカセットマガジンNoおよびマガジン
棚50aの保管場所Noがホストコンピュータ52aに
出力されて、該当する情報が書き換えられる(ステップ
3m)。これにより、いま保管されたカセットマガジン
Mは、空カセットマガジンであって、このカセットマガ
ジンMがどのマガジン棚に保管されているかがホストコ
ンピュータで管理されることになる。
ホストコンピュータ52aによる総括的な生産管理を行
う。特に、半導体ウェーハの加工工程Kでは、工程内の
塵埃や半導体ウェーハを取り扱い際の損傷などが特有の
問題となることから、本実施例の生産管理システムを用
いれば、これらの問題を総合的に解消することが可能と
なる。
るカセットマガジンMとマガジンスタンドSは、搬送中
および各加工工程Kにおいて以下のように機能する。ま
ず、回転テーブル2上に設けられるカセット棚3は、半
導体ウェーハWの収納方向Xに傾動自在に設けられてい
るため、搬送中においてはカセットCが後ろ下がりに傾
き、搬送中の振動などによって半導体ウェーハWがカセ
ットCから飛び出すのを防止することができる。
を格納したのち、カセットマガジンMは自動搬送車など
を用いて目的とする加工工程に搬送されるが、各加工工
程の出入口には上述したマガジンスタンドSが配設され
ている。そして、自動搬送車から移載されたカセットマ
ガジンMは、位置出し用のストッパピン23に突き当た
るまでベルトコンベア20によって送られ、位置出しロ
ーラ24によって左右の位置決めが行われる。
きに、ベースプレート1の裏面に貼着されたバーコード
マーク6の読み取りが実施され、システム端末部を介し
てホストコンピュータに加工工程に搬入された半導体ウ
ェーハWに関する情報が送られる。
とベルトコンベア20は停止し、半導体ウェーハWの取
り出し作業を開始する。この場合、まず最初に防塵カバ
ー4を押し上げて、半導体ウェーハに対するハンドリン
グロボットRのアクセスを可能にする。
ックアンドピニオンのギヤボックス39を介して各ピン
19を同期して上昇させる。このピン19の上昇にとも
ない、各ピン先が防塵カバー4の鍔部4aに形成された
孔18に嵌合し、さらにピン19が上昇することにより
防塵カバー4は上昇を始める。防塵カバー4の上昇限
は、ピン19の所定位置を近接センサなどで検出するこ
とにより検知され、これをモータに出力することにより
モータが停止する。このようにして、防塵カバー4は開
かれ、カセットCに収納した半導体ウェーハWに対して
ハンドリングロボットRの作業が開始する。
ーハWの出し入れ作業を行うにあたり、目的とするカセ
ットCが格納されたカセット棚3がハンドリングロボッ
トRに対向する位置にくるように回転テーブル2を回転
させる。
せる。これにより、可動プレート32、減速機35、回
転軸9、およびボール軸受8が一体的に上昇し、回転軸
9がベースプレート1の貫通孔10を通過して、先端が
回転テーブル2の係合孔12に係合する。
プレート1の貫通孔7を通過して回転テーブル2の裏面
を押し上げ、回転テーブル2をベースプレート1から僅
かに浮上させる。この状態から回動モータを作動させ、
減速機35を介して回転軸9を所定角度だけ回動させた
のち、流体シリンダ33のロッド34を下降させて再び
回転テーブル2をベースプレート1に載置する。これに
より、目的とするカセット棚3がハンドリングロボット
Rの対向位置まで回転することになる。
流体シリンダ38を作動させて押上ピン17を上昇させ
る。これにより、押上ピン17の先端はベースプレート
1および回転テーブル2の貫通孔16を通過してカセッ
ト棚3の底面を押し上げることになる。押上ピン17の
ストロークは、カセット棚3が水平になるように設定さ
れているため、ハンドリングロボットRがアクセスする
カセット棚3のカセットCに収納された半導体ウェーハ
Wは、ハンドリング操作が円滑に行えるように、作業
中、水平に維持されることになる。
ーハWの出し入れを終了すると、次のカセット棚Cをハ
ンドリングロボットRの対向位置に回転させる。このと
き、押上ピン17は一旦下降させておく。回転テーブル
2上の全てのカセットCに対する作業を終了すると、ピ
ン19を下降させて防塵カバー4を閉じ、ベルトコンベ
ア20を逆方向(搬出方向)に作動させてカセットマガ
ジンMを排出する。
ガジンスタンドのハンドリングロボットを省略して、カ
セットマガジンから手作業によりカセットを取り出した
り、あるいは戻したりする場合もある。しかしながら、
このような工程においても、本発明のカセットマガジン
はロット間の混入防止や効率的な搬送を行う点で有効に
機能する。
解を容易にするために記載されたものであって、本発明
を限定するために記載されたものではない。したがっ
て、上述した実施例に開示された各要素は、本発明の技
術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨
である。
発明のシステムにおける一例であるため、その他の処理
や取り回しを採用してもよい。
ンやマガジンスタンドの構成は、図4および図5に示す
実施例にのみ限定されることはなく、少なくとも回転テ
ーブルの回転機構、カセット棚の水平維持機構を備えて
いればよく、目的とする加工工程に応じて適宜変更する
ことが可能である。
した半導体ウェーハの面取り、ラッピング、エッチン
グ、ポリッシング等の工程にのみ限定されることはな
く、これらより後工程であっても半導体ウェーハを取り
扱う工程であれば適用することができる。
ト毎に区分けされた半導体ウェーハを加工工程からの要
求に応じて逐次搬送し、処理を終えた半導体ウェーハを
一旦立体ストッカに保管するため、半導体ウェーハの仕
掛かり在庫をラインサイドにもつことがなく、半導体ウ
ェーハに対する損傷を防止し、かつロット間の混合を防
止しながら効率的に半導体ウェーハを搬送することがで
きる。また、このような半導体ウェーハの受渡し作業の
自動化を達成することができるので、半導体ウェーハに
不利となる塵埃や損傷の抑制が期待できる。
示すブロック図である。
処理手順を示すフローチャートである。
チャートである。
チャートである。
す斜視図である。
面図、(b)は同じく側面図である。
(b)は図6(a)のB−B線に沿う断面図である。
す平面図である。
を適用するウェーハ加工工程の一例を示す工程図であ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】半導体ウェーハ(W)を所定のロット毎に
区分した状態で目的とする加工工程(K)に搬送するに
あたり、生産計画に基づく各半導体ウェーハの加工進捗
状況や在庫状況などの各種生産管理項目を管理する半導
体ウェーハの生産管理システムにおいて、 前記半導体ウェーハ(W)を収納するカセット(C)お
よびこれらのカセット(C)を格納するカセットマガジ
ン(M)からなるウェーハ格納手段と、 前記ウェーハ格納手段(C,M)毎に設けられ、当該ウ
ェーハ格納手段に収納された前記半導体ウェーハ(W)
に関する仕様情報が書き込まれた識別手段(6)と、 前記ウェーハ格納手段(C,M)を保管する立体ストッ
カ(50)と、 前記立体ストッカ(50)に保管された前記ウェーハ格
納手段(C,M)を目的とする加工工程(K)に搬送す
るとともに、前記加工工程(K)から前記ウェーハ格納
手段(C,M)を前記立体ストッカ(50)に戻す搬送
手段(51)と、 生産計画および前記各加工工程(K)からの要求に応じ
て前記立体ストッカ(50)と前記搬送手段(51)を
制御するとともに、前記立体ストッカ(50)、前記搬
送手段(51)、および前記各加工工程(K)における
半導体ウェーハ(W)の加工進捗状況や在庫状況などの
各種生産管理項目を前記ウェーハ格納手段(C,M)に
設けられた識別手段(6)の情報に基づいて記憶および
処理する中央生産管理手段(52)と、を備えたことを
特徴とする半導体ウェーハの生産管理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4243193A JP2912108B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 半導体ウェーハの生産管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4243193A JP2912108B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 半導体ウェーハの生産管理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06260545A true JPH06260545A (ja) | 1994-09-16 |
JP2912108B2 JP2912108B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=12635884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4243193A Expired - Lifetime JP2912108B2 (ja) | 1993-03-03 | 1993-03-03 | 半導体ウェーハの生産管理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2912108B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6823229B2 (en) | 2001-08-28 | 2004-11-23 | Renesas Technology Corp. | Substrate carrier management system and program |
JP2004363219A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Fujitsu Ltd | 保管装置の制御方法及び保管システム |
WO2006033489A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-03-30 | Hantech Co., Ltd. | System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same |
US7177716B2 (en) | 2004-02-28 | 2007-02-13 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for material control system interface |
US7218983B2 (en) | 2003-11-06 | 2007-05-15 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities |
US7221993B2 (en) | 2003-01-27 | 2007-05-22 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools |
US7274971B2 (en) | 2004-02-28 | 2007-09-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control |
US7413069B2 (en) | 2004-02-28 | 2008-08-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for transferring a substrate carrier within an electronic device manufacturing facility |
JP2010134900A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-06-17 | Jtekt Corp | フレキシブル生産システムおよびその制御方法 |
JP2010269077A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Glory Ltd | 景品払出装置および景品払出システム |
JP2012126567A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Daifuku Co Ltd | 搬送設備 |
KR102345669B1 (ko) * | 2020-12-24 | 2021-12-30 | 하나 마이크론(주) | 반도체 후공정용 표준협업 이동체 장치 |
-
1993
- 1993-03-03 JP JP4243193A patent/JP2912108B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6823229B2 (en) | 2001-08-28 | 2004-11-23 | Renesas Technology Corp. | Substrate carrier management system and program |
US7221993B2 (en) | 2003-01-27 | 2007-05-22 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for transferring small lot size substrate carriers between processing tools |
JP2004363219A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Fujitsu Ltd | 保管装置の制御方法及び保管システム |
US7218983B2 (en) | 2003-11-06 | 2007-05-15 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities |
US7413069B2 (en) | 2004-02-28 | 2008-08-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for transferring a substrate carrier within an electronic device manufacturing facility |
US7177716B2 (en) | 2004-02-28 | 2007-02-13 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for material control system interface |
US7274971B2 (en) | 2004-02-28 | 2007-09-25 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for electronic device manufacturing system monitoring and control |
EP1800330A1 (en) * | 2004-09-22 | 2007-06-27 | Hantech Co., Ltd | System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same |
WO2006033489A1 (en) * | 2004-09-22 | 2006-03-30 | Hantech Co., Ltd. | System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same |
EP1800330A4 (en) * | 2004-09-22 | 2010-02-17 | Hantech Co Ltd | SYSTEM AND METHOD FOR LASER PROCESSING OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
US7680557B2 (en) | 2004-09-22 | 2010-03-16 | Hantech Co., Ltd. | System for processing semiconductor substrate by using laser and method of the same |
JP2010134900A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-06-17 | Jtekt Corp | フレキシブル生産システムおよびその制御方法 |
JP2010269077A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Glory Ltd | 景品払出装置および景品払出システム |
JP2012126567A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Daifuku Co Ltd | 搬送設備 |
KR102345669B1 (ko) * | 2020-12-24 | 2021-12-30 | 하나 마이크론(주) | 반도체 후공정용 표준협업 이동체 장치 |
WO2022137218A1 (ko) * | 2020-12-24 | 2022-06-30 | 하나 마이크론㈜ | 반도체 후공정용 표준협업 이동체 장치 |
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JP2912108B2 (ja) | 1999-06-28 |
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