JPH06234511A - 圧縮熱を使用する精製方法及び装置 - Google Patents

圧縮熱を使用する精製方法及び装置

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JPH06234511A
JPH06234511A JP6011280A JP1128094A JPH06234511A JP H06234511 A JPH06234511 A JP H06234511A JP 6011280 A JP6011280 A JP 6011280A JP 1128094 A JP1128094 A JP 1128094A JP H06234511 A JPH06234511 A JP H06234511A
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ジョン・ヘンリー・ロイアル
Mary Louise Markowski
メアリー・ルイーズ・マルコウスキ
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 酸素含有供給流れから一酸化炭素、水素及び
/又はメタンのような酸化性不純物を除去する方法を提
供する。 【構成】 酸素と一酸化炭素、水素及びメタンのうちの
少なくとも1種からなる酸化性種とを含む供給流れを圧
縮して圧縮熱を発生させ、次いで中間冷却を行わずにそ
の圧縮した供給流れを接触帯域で反応させて酸化種を形
成し、その後に供給流れから酸化種を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、酸素含有流れから一酸化炭
素、水素及び/又はメタンの如き酸化性不純物を除去す
ることに関する。本発明は、極低温空気分離プラントへ
の供給流れを清浄するのに特に有用である。
【0002】
【発明の背景】窒素や酸素のような工業ガスを製造する
ための空気の極低温精留では、供給空気を空気分離プラ
ントの極低温精留塔に送る前に供給空気から二酸化炭
素、水蒸気及び大部分の炭化水素の如き高沸点不純物が
除去される。もしも供給流れからかかる高沸点不純物が
除去されないと、それらは、極低温精留を実施する際の
温度において凝縮して固化し、かくしてその分離プロセ
スに過酷な負担をしいる。一般には、これらの高沸点不
純物は、供給空気流れを逆転熱交換器又はモレキュラシ
ーブ若しくは他の吸着剤を含む吸着剤床に通すことによ
って極低温精留塔よりも上流側で供給空気流れから除去
される。
【0003】極低温精留プラントへの供給空気流れは、
一酸化炭素や水素及びメタンのような微量炭化水素の如
き低沸点不純物も含有する場合がある。これらの低沸点
不純物は、極低温精留を通してガス状の状態のままであ
り、かくして上記の高沸点不純物のようには分離の負担
にならない。この理由のために、これらの低沸点不純物
は一般には極低温精留プラントへの供給空気から除去さ
れずに、どちらかと言えば、系を通されて生成物主とし
てより揮発性の生成物(これは一般には窒素である)と
共に極低温精留から出される。
【0004】低沸点不純物の一酸化炭素及び水素を少量
含有する窒素はたいていの用途に対して好適である。し
かしながら、エレクトロニクス産業で使用される半導体
製造プロセスの不活性化におけるような窒素のいくらか
の用途では、一酸化炭素や水素が実質上除去された超高
純度窒素が要求される。これらの場合には、使用点の直
前で窒素流れから一酸化炭素及び水素を除去する精製器
がその使用点で通常使用される。また、極低温空気分離
プラントの酸素生成物からメタンを除去するにもその使
用点で精製器を使用することができる。かかる使用点に
ある精製器は例えば窒素から一酸化炭素や水素を除去す
るのに極めて有効であったが、しかしそれらは使用上の
費用及び困難の如きある種の欠陥を有する。その上、使
用点にある精製器の他の欠点は、それらが常に粒状物質
を発生させそしてこの粒状物質を窒素流れが精製器を通
過する間にその流れ中に混入せしめることである。これ
は、窒素が極高純度を有することを要求する用途で窒素
を使用しようとするときには特に有害である。
【0005】従って、極低温精留プラントから取られた
生成物を処理するのに使用点にある精製器を使用するこ
とを回避するのが望ましい。これを行うことができる1
つの方法は、供給空気流れを極低温精留塔に導入する前
にそれから一酸化炭素及び水素を除去することである。
この態様で、窒素の如き極低温精留プラントからの生成
物からこれらの低沸点不純物が実質上除去され、かくし
てかかる生成物は使用点での精製を必要とせずに極高純
度用途において直接使用することができる。供給空気流
れから一酸化炭素や水素のような不純物を除去するため
の方法や装置が知られているけれども、それらは一般に
は費用がかかりしかも効率的な操作を得るには高い温度
を必要とする。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、供給流れから一酸化炭素、水素及び/又はメタンの
如き酸化性不純物を除去するための方法及び装置を提供
することである。
【0007】本発明の他の目的は、極低温精留プラント
との関連で特に有用な供給流れから一酸化炭素、水素及
び/又はメタンの如き酸化性不純物を除去するための改
良された方法及び装置を提供することである。
【0008】
【発明の概要】本明細書の開示を通読するときに当業者
に明らかになるであろう上記の目的及び他の目的はここ
に本発明によって達成されるが、本発明の1つの面は、
(A)酸素と、一酸化炭素、水素及びメタンよりなる群
からの少なくとも1種の酸化性種とを含む供給流れを、
圧縮間に発生される圧縮熱によって供給流れの温度を高
めながら圧縮し、(B)圧縮熱を含有する供給流れを、
酸化触媒を収容する接触帯域に通し、(C)接触帯域で
供給流れ中の酸化性種を酸化させて酸化種を生成し、そ
して(D)供給流れから酸化種を除去する、ことを含む
供給流れからの酸化性種の除去法である。
【0009】本発明の他の面は、(A)圧縮器及び触媒
床、(B)供給流れを圧縮器に送るための手段及び供給
流れを冷却手段に通さずに圧縮器から触媒床に送るため
の手段、(C)流れから酸化種を除去するための精製
器、及び(D)供給流れを精製器に送るための手段及び
精製器から供給流れを抜き出すための手段、を含む供給
流れから酸化性種を除去するための装置である。
【0010】本明細書で使用する用語「床」は、容器内
に保持されたペレット化固体粒子の許容可能な凝集体を
意味する。
【0011】用語「塔」は、蒸留若しくは精留塔又は帯
域、即ち、例えば塔内に配置された一連の垂直方向に空
間を置いたトレー又はプレート及び/又は充填部材(こ
れは構造部材及び/又はランダムな充填部材であってよ
い)の如き気液接触部材上で液相及び気相を向流接触さ
せて流体混合物を分離させるような接触塔又は帯域を意
味する。蒸留塔の更なる説明については、米国ニューヨ
ーク州所在のマックグロー・ヒル・ブック・カンパニー
ニによって発行されたケミカル・エンジニヤズ・ハンド
ブック第五版(アール・エイチ・ペリー及びチー・エイ
チ・チルトン両氏編)のページ13−3のセクション1
3にある“連続蒸留法”におけるビー・ディー・スミス
氏の“蒸留”を参照されたい。
【0012】用語「精留」又は「連続蒸留」は、気相及
び液相の向流処理によって得られるような連続的部分蒸
留及び凝縮を結合させた分離プロセスを意味する。極低
温精留は、150°K又はそれ以下の温度の如き低温度
において少なくとも一部分実施される精留プロセスであ
る。極低温精留プラントは1つ以上の塔を含む。
【0013】用語「間接的熱交換」は、2つの流体流れ
を互いに物理的に接触又は混合させずに熱交換関係にす
ることを意味する。
【0014】用語「供給空気」は、空気のように主とし
て窒素及び酸素を含む混合物を意味する。
【0015】用語「圧縮器」は、ガスの存在を増大させ
るための装置を意味する。
【0016】用語「圧縮熱」は、圧縮器によって供給空
気の如きガスに与えられるエネルギー入力であって、ガ
スの温度上昇によって表わされるものを意味する。
【0017】
【発明の具体的な説明】本発明は、一酸化炭素、水素及
び/又はメタンの他に酸素も含む流れを先ず高められた
圧力に圧縮して圧縮熱を発生させそしてその流れが酸化
触媒を収容する接触帯域を通るときに流れ中に圧縮熱を
維持することによって、かかる流れから一酸化炭素、水
素及び/又はメタンを除去する。圧縮熱は、接触反応が
より高い効率と共に進行するのを可能にし、かくして酸
化性種の酸化種への転化を促進させることができる。本
発明の実施では、一酸化炭素が存在する場合には二酸化
炭素に転化され、水素が存在する場合には水に転化さ
れ、そしてメタンが存在する場合には二酸化炭素と水と
の転化される。この二酸化炭素及び水は、逆転熱交換
器、モレキュラシーブ吸着剤床又はゲルトラップの使用
によるが如き慣用法によって流れから除去される。
【0018】空気の極低温精留では、供給空気は典型的
にはその分離を促進させるために高められた圧力に圧縮
される。次いで、供給空気は、典型的には、生じた圧縮
熱を除去するために冷却される。本発明は、かかる極低
温精留のために供給流れを処理するのに特に有用であ
る。というのは、本発明では、いかにしても発生されそ
してこれまで使用されずに除去されていた圧縮熱が有益
下に使用されるからである。
【0019】ここで図面を参照しながら本発明を詳細に
説明する。図1を説明すると、酸素と一緒に一酸化炭
素、水素及び/又はメタンを含む供給流れ20は圧縮器
21に送られる。供給流れは更なる処理操作への供給材
料とするものであってもよく、又はそれは酸化性種の除
去直後に回収しようとするものであってもよい。特に好
ましい供給流れは、極低温精製プラントへの供給材料と
して使用しようとする周囲空気である。典型的には、か
かる周囲空気は、一酸化炭素を1〜5,000ppb
(10億部当たりの部数)の範囲内の平均濃度で含有し
そして水素を0.5〜20,000ppbの範囲内の平
均濃度で含有する。
【0020】供給流れが圧縮器21を通されると、供給
流れの圧力は、一般には、供給材料の温度を高める圧縮
熱を発生するプロセスにおいて40〜400ポンド/i
2絶対圧(psia)の範囲内に高められる。好まし
くは、圧縮器21から抜き出された供給流れ22の温度
は少なくとも90℃の温度そして一般には80〜200
℃の範囲内の温度にある。
【0021】特に供給材料が水蒸気も含有する周囲空気
であるような場合には、接触帯域の前で供給材料から水
蒸気を除去するのが望ましい。このような場合には、供
給材料は水分の除去のために水分除去器23を通すこと
ができる。水分除去器23は、膜及び/又はペレット乾
燥剤を含むことができる。
【0022】流れ22は、次いで、接触帯域24に送ら
れてそこを通される。流れ22は、圧縮熱をなお含有し
且つ少なくとも80℃の温度にある間に接触帯域24に
送られ、しかして供給材料は圧縮器21と接触帯域24
との間で熱交換又は冷却手段を通らない。圧縮器と接触
帯域との間で流れ22のいくらかの熱損失が生じる可能
性があることが認識される。本発明の実施では、圧縮器
と接触帯域との間には、流れ22から熱を除去するのを
唯一の又は主な機能とする手段は全く存在しない。
【0023】接触帯域又は触媒床24は、ルテニウム、
銅、オスミウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、
白金及び錫から選択される少なくとも1種の金属元素を
含む。触媒床は、これらの金属元素のうちの2種以上か
らなる混合物を含むことができる。触媒中に含有される
金属は、一般には、アルミナ、イオン交換済モレキュラ
シーブ、ゲル及び/又はハネカム構造のような表面上の
被覆の形態で担持される。
【0024】供給材料が触媒床24を通るときに、流れ
22中の酸化性種は閉じ込められて供給材料中の酸素で
酸化され、しかして場合によって二酸化炭素及び/又は
水を生成する。
【0025】接触帯域24から抜き出された供給流れ2
5は精製器26に送られ、そこで二酸化炭素及び/又は
水蒸気が除去される。精製器は、例えば、逆転熱交換
器、吸着剤床又はゲルトラップであってよい。供給材料
が極低温精製塔に送られるような場合には、天然に産出
する高沸点不純物を除去するために精製器が既に適所に
設置されているのが通常である。かくして、本発明は、
低沸点不純物を除去するのが困難なものを高沸点不純物
を除去するのが容易なものに転換する都合のよい働きを
する。先に記載したように、水分除去器23は使用され
る必要はなく、接触酸化によって発生されるものを含め
たすべての水は精製器26によって除去することができ
る。一般には、供給流れ25は、精製器26に送る前に
冷却される。
【0026】精製器26を通過した後に、供給材料31
は使用点に送られる。極低温精留の場合には、使用点は
窒素、酸素及び/又はアルゴンの如き生成物を生成する
1つ以上の塔を含む極低温精留プラントである。かかる
極低温精製プラントは、図1に参照数字27によって示
されている。極低温精製プラントでは、供給材料は極低
温精留によって窒素28及び廃棄物29の如き生成物に
分離される。図1に例示されるように、廃棄物の一部分
30を使用して精製器26及び/又は水部除去器23を
再生することができる。
【0027】本発明は、供給材料中の一酸化炭素及び水
素濃度が百万部当たり1部(ppm)以上であるときに
最も有用であり、そしてこれらの不純物を0.1ppm
以下の低い濃度まで除去することができる。供給材料が
一酸化炭素、水素及び又は/メタンの他に他の酸化性種
を含有する場合には、存在する酸化性種に依存してかか
る種も本発明の実施の過程で除去することができる。例
えば、供給材料はエタン又は他の炭化水素を含有する可
能性がある。
【0028】図2は、本発明と関連させて使用すること
ができる窒素生成物の製造のための単一塔からなる極低
温精留プラントの1つの具体例を例示するものである。
図2を説明すると、図1の流れ31に相当する供給空気
3は塔4に送られ、そこで極低温精留によって窒素に富
む上方蒸気と酸素に富んだ底部液体とに分離される。酸
素に富んだ底部液体は、凝縮する窒素に富む上方蒸気に
対する間接的熱交換によって気化されて塔に還流を提供
する。図2に示される具体例では、これは上部凝縮器7
で行われる。酸素に富んだ底部液体は、流れ6として弁
8を経て上部凝縮器7に送られる。窒素に富む上方蒸気
は流れ5として上部凝縮器7に送られ、そこでそれは凝
縮されて流れ9として還流のために塔4に戻される。生
じた酸素に富んだ蒸気10は、系から廃棄物として取り
出される。流れ5の一部分11は、生成物窒素として回
収される。生成物窒素は少なくとも90%の窒素濃度
(これは99.999999%まで又はそれ以上になり
得る)を有し且つ極めて低いレベルの一酸化炭素及び水
素を含有し、しかしてこの生成物窒素は、使用点にある
精製器を通す必要なしに極高純度用途において使用する
ことができる。一般には、生成物窒素は、1ppm又は
それ以下の一酸化炭素濃度及び1ppm又はそれ以下の
水素濃度を有する。
【0029】
【実施例】次の実施例は、本発明を更に例示するもので
あって、いかなる点においても本発明を限定するもので
はない。
【0030】例1 周囲空気を56psiaの圧力に圧縮し、そしてその温
度を圧縮熱によって100℃に上げた。周囲空気は、
4,000〜6,000ppmの水蒸気含量を有しそし
て一酸化炭素を1.4ppmの濃度で水素を1.0pp
mの濃度で含有していた。圧縮した空気を、長さ6イン
チで直径7/8インチの寸法を有しそしてアルミナ担体
にパラジウムを担持させてなる50gの触媒物質を収容
する接触反応器に5リットル/分の流量で通した。接触
反応器から、連続基準で0.10ppm未満の一酸化炭
素及び0.30ppm未満の水素を含有する供給物を排
出させた。生じた一酸化炭素及び水は、モレキュラシー
ブ吸着剤によって供給物から除去された。
【0031】例2 流量が2.6リットル/分であったことを除いて例1に
記載したと同様な操作を実施した。接触反応器から排出
された供給物は、連続基準で0.10ppm未満の一酸
化炭素及び0.15ppm未満の水素を含有していた。
【0032】
【発明の効果】ここに本発明の使用によって、所望なら
ば極低温精留プラント(これは、使用点にある精製器を
必要とせずに極高純度用途で使用することができる生成
物を生成することができる)への供給材料として使用す
ることができる酸素含有流れから酸化性不純物を容易に
除去することができる。本発明の他の有用性は、プラン
ト生成物中の酸化性種をばらつきのないレベルに制御す
ることである。ある用途では、不純物のばらつき性は低
不純物レベルよりも重要である。本発明はプラント生成
物中の不純物レベルの変動を狭くすることができ、かく
してプラントによって供給される生成物のばらつき性を
改善することができる。
【0033】ある種の好ましい具体例に関して本発明を
詳細に説明したけれども、当業者には本発明の精神及び
特許請求の範囲内で本発明の他の具体例が明らかになる
であろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の精製方法を簡単に示す概略フロシート
である。
【図2】本発明の精製方法に関連して使用することがで
きる極低温精製プラントの1つの具体例の概略図であ
る。
【符号の説明】
4 塔 7 凝縮器 21 圧縮器 23 水分除去器 24 接触帯域 26 精製器 27 極低温精製プラント
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C01B 23/00 L F25J 3/08 8925−4D // B01D 53/04 Z

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 供給流れから酸化性種を除去するに際し
    て、 (A)酸素と、一酸化炭素、水素及びメタンよりなる群
    からの少なくとも1種の酸化性種とを含む供給流れを、
    圧縮間に発生される圧縮熱によって供給流れの温度を高
    めながら圧縮し、 (B)圧縮熱を含有する供給流れを、酸化触媒を収容す
    る接触帯域に通し、 (C)接触帯域で供給流れ中の酸化性種を酸化させて酸
    化種を生成し、そして (D)供給流れから酸化種を除去する、ことを含む供給
    流れからの酸化性種の除去法。
  2. 【請求項2】 供給流れが供給空気である請求項1記載
    の方法。
  3. 【請求項3】 圧縮した供給流れが少なくとも180℃
    の温度を有する請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 酸化触媒がルテニウム、ロジウム、パラ
    ジウム、オスミウム、銅、イリジウム、白金又は錫を含
    む請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 酸化触媒がルテニウム、ロジウム、パラ
    ジウム、オスミウム、銅、イリジウム、白金又は錫のう
    ちの2種以上を含む請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 供給流れを少なくとも1つの塔を含む極
    低温精留プラントに送り、そして極低温精留プラントか
    ら生成物を回収することを更に含む請求項1記載の方
    法。
  7. 【請求項7】 生成物が窒素である請求項6記載の方
    法。
  8. 【請求項8】 生成物が酸素である請求項6記載の方
    法。
  9. 【請求項9】 生成物がアルゴンである請求項6記載の
    方法。
  10. 【請求項10】 酸化性種が一酸化炭素でありそして酸
    化種が二酸化炭素である請求項1記載の方法。
  11. 【請求項11】 酸化性種が水素でありそして酸化種が
    水である請求項1記載の方法。
  12. 【請求項12】 酸化性種がメタンでありそして酸化種
    が二酸化炭素及び水である請求項1記載の方法。
  13. 【請求項13】 酸化性種が一酸化炭素及び水素であり
    そして酸化種が二酸化炭素及び水である請求項1記載の
    方法。
  14. 【請求項14】 酸化性種が一酸化炭素、水素及びメタ
    ンでありそして酸化種が二酸化炭素及び水である請求項
    1記載の方法。
  15. 【請求項15】 供給流れが、一酸化炭素、水素又はメ
    タ以外の少なくとも1種の酸化性種を更に含む請求項1
    記載の方法。
  16. 【請求項16】 供給流れから酸化性種を除去するため
    の装置において、 (A)圧縮器及び触媒床、 (B)供給流れを圧縮器に送るための手段及び供給流れ
    を冷却手段に通さずに圧縮器から触媒床に送るための手
    段、 (C)流れから酸化種を除去するための精製器、及び (D)供給流れを精製器に送るための手段及び精製器か
    ら供給流れを抜き出すための手段、を含む装置。
  17. 【請求項17】 少なくとも1つの塔を含む極低温精留
    プラントと、供給流れを精製器から極低温精留プラント
    に送るための手段と、極低温精留プラントから生成物を
    抜き出すための手段とを更に含む請求項16記載の装
    置。
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