JPH06228111A - 安息香酸誘導体およびそれを有効成分とする植物病害防除剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ
¹ およびＲ² は、同一または相異なり、低級アルキル
基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｘ¹ ，Ｘ² およびＸ³ は同一または相異なり、水素原
子，低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはハロゲ
ン原子を表し、Ｙ¹ ，Ｙ² およびＹ³ は同一または相異
なり、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、ニトロ基またはシ
アノ基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｗ
はＣＨまたはＮを表わす。〕で示される安息香酸誘導体
およびそれを有効成分とする植物病害防除剤。 【効果】 本発明化合物を用いることにより、種々の
植物病害を防除できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、安息香酸誘導体および
それを有効成分とする植物病害防除剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】これまで種々の化合物が、植物病害防除
剤の有効成分として知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の化合物は、植物病害防除剤の有効成分として必ずしも
充分なものであるとはいえない。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を重ねた結果、一般式 化２

【化２】 〔式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ
¹ およびＲ² は、同一または相異なり、低級アルキル
基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｘ¹ ，Ｘ² およびＸ³ は、同一または相異なり、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン
原子を表し、Ｙ¹ ，Ｙ² およびＹ³ は、同一または相異
なり、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
ハロゲン原子、ハロ低級アルキル基、ニトロ基またはシ
アノ基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表わ
す。〕で示される安息香酸誘導体（以下、本発明化合物
と記す。）が、種々の植物病害に対して予防的、治療的
あるいは浸透移行的防除効力を有することを見出し本発
明に至った。

【０００５】本発明化合物が効力を有する植物病害とし
ては、イネのいもち病（Pyricularia oryzae) 、ごま葉
枯病 (Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病 (Rhizoctoni
a solani) 、ムギ類のうどんこ病 (Erysiphe graminis
f.sp.fordei,f.sp. tritici)、赤かび病 (Gibberella z
eae)、さび病 (Puccinia striiformis, P.graminis,P.
recondita, P.hordei) 、雪腐病 (Typhula sp., Micron
ectriella nivalis)、裸黒穂病 (Ustilago tritici, U.
nuda) 、アイスポット (Pseudocercosporella herpotri
choides)、雲形病 (Rhynchosporium secalis) 、葉枯病
(Septoria tritici) 、ふ枯病 (Leptosphaeris nodoru
m)、カンキツの黒点病 (Diaporthe citri)、そうか病
(Elsinoe fawcetti) 、果実腐敗病 (Penicillium digit
atum, p. italicum) 、リンゴのモニリア病 (Sclerotin
ia mali) 、腐らん病 (Valsa mali) 、うどんこ病 (Pod
osphaera leucotricha)、斑点落葉病 (Alternaria mal
i)、黒星病 (Venturia inaequalis)、ナシの黒星病 (Ve
nturia nashicola) 、黒斑病 (Alternaria kikuchian
a)、赤星病 (Gymnosporangium haraeanum)、モモの灰星
病 (Sclerotinia cinerea)、黒星病 (Cladosporium car
pophilum) 、フォモプシス腐敗病 (Phomopsis sp.)、ブ
ドウの黒とう病 (Elsione ampelina) 、晩腐病(Glomere
lla cingulate) 、うどんこ病 (Uncinula necator) 、
さび病 (Phakopsora ampelopsidis)、カキの炭そ病 (Gl
oeosporium kaki)、落葉病 (Cercosporakaki, Mycospha
erella nawae)、ウリ類の炭そ病 (Colletotrichum lage
narium)、うどんこ病 (Sphaerotheca fulinginea)、つ
る枯病 (Mycosphaerella melonis) 、トマトの輪紋病
(Alternaria solani)、葉かび病 (Cladosporium fulvu
m)、ナスの褐紋病 (Phomopsis vexans) 、うどんこ病
(Erysiphe cichoracearum) 、アブラナ科野菜の黒斑病
(Alternaria japonica)、白斑病 (Cercosporella brass
icae)、ネギのさび病 (Puccinia allii) 、ダイズの紫
斑病 (Cercospora kikuchii)、黒とう病 (Elsinoe glyc
ines) 、黒点病 (Diaporthe phaseolorum var. sajae)
、インゲンの炭そ病 (Colletotrichum lindemuthianu
m)、ラッカセイの黒渋病 (Mycosphaerella personnatu
m) 、褐斑病 (Cercospora arachidicola)、エンドウの
うどんこ病 (Erysiphepisi) 、ジャガイモの夏疫病 (Al
ternaria solani)、イチゴのうどんこ病 (Sphaerotheca
humuli)、チャの網もち病 (Exobasidium teticulatu
m)、白星病 (Elsinoe leucospila) 、タバコの赤星病
(Alternarialongipes)、うどんこ病 (Erysiphe cichora
cearum) 、炭そ病 (Colletotrichumtabacum) 、テンサ
イの褐斑病 (Cercospora beticola)、バラの黒星病 (Di
plocarpon rosae)、うどんこ病 (Sphaerotheca pannos
a) 、キクの褐斑病 (Septoriachrysanthemi-indici) 、
白さび病 (Puccinia horiana) 、種々の作物の灰色かび
病 (Botrytis cinerea) 、菌核病 (Sclerotinia sclero
tiorum) 等が挙げられる。一般式 化２において、低級
とは一般に炭素数１〜６を表し、低級アルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、sct-ブチル基、tert- ブチル
基、n-ヘキシル基等が挙げられる。低級アルコキシ基と
しては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキ
シ基、ｉープロポキシ基、ｎーブトキシ基、ヘキシルオ
キシ基等が挙げられる。ハロゲン原子およびハロ低級ア
ルキル基のハロゲン部分としてはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子等が挙げられ、ハロ低級アルキル基として
は、2-クロロエチル基、2-ブロモエチル基、3-フルオロ
プロピル基、2-クロロプロピル基、4-クロロブチル基、
6-クロロヘキシル基等が挙げられる。

【０００６】本発明化合物は、一般式 化３

【化３】 〔式中、Ｒ，Ｘ¹ ，Ｘ² ，Ｘ³ ，Ｙ¹ ，Ｙ² ，Ｙ³ およ
びＺは前記と同じ意味を表わす。〕で示されるフェノー
ル誘導体と一般式 化４

【化４】 〔式中、Ｒ¹ およびＲ² は前記と同じ意味を表し、Ｗは
ハロゲン原子を表わす。〕で示されるピリミジン誘導体
とを反応させることによって製造することができる。反
応は、通常、溶媒または無溶媒中、脱ハロゲン化水素剤
の存在下で行われ、反応に供される試剤の量は通常、一
般式化３で示される化合物１当量に対して、一般式化４
で示されるピリミジン誘導体は１〜５当量、脱ハロゲン
化水素剤は１〜５０当量である。反応温度の範囲は、室
温〜溶媒の沸点であり、反応時間の範囲は３０分〜２４
時間である。

【０００７】溶媒を用いる場合、用いうる溶媒として
は、例えばヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、
アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルホルモリン等の第三
級アミン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトアミド等の
酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄
化合物、液体アンモニア、水等あるいはそれらの混合物
が挙げられる。脱ハロゲン化水素剤としては、例えばピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン
等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無
機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。反応終
了後は、反応液を水に注ぎ、有機溶媒抽出および濃縮等
の通常処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、蒸
留、再結晶等によって精製することにより本発明化合物
が得られる。

【０００８】また、本発明化合物は、一般式 化５

【化５】 〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｘ¹ ，Ｘ² ，Ｘ³ およびＺは前記
と同じ意味を表わす。〕で示される安息香酸誘導体と一
般式 化６

【化６】 〔式中、Ｒ，Ｙ¹ ，Ｙ² およびＹ³ は前記と同じ意味を
表し、Ｗ’はハロゲン原子を表わす。〕で示されるベン
ジルハライド誘導体とを反応させることにより製造する
こともできる。反応は、通常、溶媒または無溶媒中、脱
ハロゲン化水素剤の存在下で行われる。反応に供される
試剤の量は、一般式化５で示される化合物１当量に対
し、一般式化６で示される化合物は通常、１〜５当量で
あり、脱ハロゲン化水素剤は通常１〜５０当量である。
反応温度の範囲は、通常、室温〜溶媒の沸点であり、反
応時間の範囲は通常３０分〜２４時間である。

【０００９】溶媒を用いる場合、用いうる溶媒として
は、例えばヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリ
ル、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルホルモリン等の
第三級アミン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトアミド
等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、液体アンモニア、水等あるいはそれらの混
合物が挙げられる。脱ハロゲン化水素剤としては、例え
ばピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム
等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
反応終了後、反応液を水に注ぎ、有機溶媒抽出および濃
縮等の通常処理を行い、必要ならばクロマトグラフィ
ー、蒸留、再結晶等によって精製することにより本発明
化合物が得られる。

【００１０】このような製造法によって製造できる本発
明化合物の例を表１〜５に示す。（表中、Ｘ¹ ，Ｘ² ，
Ｘ³ ，Ｙ¹ ，Ｙ² ，Ｙ³ ，Ｒ，Ｚ，Ｒ¹ ，Ｒ² は一般式
化２で示される化合物の各置換基を表す。） なお、一般式化２で示される化合物には、光学活性体を
有するものもあるが、植物病害防除活性を有するこれら
の光学異性体もすべて本発明化合物に含まれる。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【表３】

【００１４】

【表４】

【表５】

【００１５】本発明化合物を製造する場合、原材料化合
物である一般式 化５で示される安息香酸誘導体は、一
般式 化７

【化７】 〔式中、Ｘ¹ ，Ｘ² ，Ｘ³ ，Ｒ¹ ，Ｒ² およびＺは、前
記と同じ意味を表し、Ｒ ³ は、アルキル基またはベンジ
ル基を表す。〕で示されるピリミジン誘導体のエステル
部分を常法に従い、酸または塩基の存在下に加水分解す
るか、またはＲ³ がベンジル基の場合は、化７で示され
る誘導体を接触還元することによっても製造することが
できる。一般式 化７で示されるビフェニル誘導体を加
水分解する反応は、通常、溶媒中、酸性または塩基性の
下に行い、反応温度の範囲は、通常、室温〜溶媒の沸
点、反応時間の範囲は、通常、１０分〜４８時間であ
る。溶媒を用いる場合、用いうる溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン類、水、等あるいは、それらの混合物があげられる。
酸としては、塩酸、硫酸等があげられる。塩基として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等があげられる。反応終了後の反応液
は、水を加えて、反応液の液性を調節し、有機溶媒抽出
および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば、クロ
マトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精製す
ることにより、目的の一般式 化５で示される誘導体を
得ることができる。また、一般式 化７で示されるピリ
ミジン誘導体の接触還元反応は、通常、無溶媒または溶
媒中、触媒の存在下に行い、反応温度の範囲は、通常、
室温〜２００℃、反応時間の範囲は、通常１０分〜４８
時間である。また、加圧下に反応を行う場合もある。溶
媒を用いる場合、用いうる溶媒としては、ヘキサン、ヘ
プタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジン、
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、
水等あるいは、それらの混合物があげられる。触媒とし
ては、パラジウム−炭素、酸化白金等があげられる。反
応終了後の反応液は、触媒をろ過して除き、濃縮等の通
常の後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、
蒸留、再結晶等の操作によって精製することにより、目
的の一般式 化５で示される誘導体を得ることができ
る。

【００１６】一般式 化７で示される化合物は、一般式
化８

【化８】 〔式中、Ｘ¹ ，Ｘ² ，Ｘ³ 、ＺおよびＲ³ は、前記と同
じ意味を表す。〕で示されるフェノール誘導体と一般式
化４で示されるピリミジン誘導体を反応させることに
よって製造することができる。反応は、通常、無溶媒ま
たは溶媒中、塩基の存在下に行う。反応温度の範囲は、
通常、室温〜溶媒の沸点であり、反応時間の範囲は通常
１０分〜２４時間であり、反応に供される試剤の量は通
常、一般式 化８で示されるフェノール誘導体１当量に
対して化４で示されるピリミジン誘導体は１〜３当量、
塩基は１〜５当量である。溶媒を用いる場合、用いうる
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等、ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン
類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチ
ル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等の
ニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等
のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミン- Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモル
ホリン等の第三級アミン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、液体アン
モニア、水等あるいは、それらの混合物があげられる。
塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化
ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があ
げられる。反応終了後の反応液は、水を加えて有機溶媒
抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば、
クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精
製することにより、目的の一般式 化７で示される誘導
体を得ることができる。なお、原料化合物である一般式
化８および化３で示されるフェノール誘導体は、SYNT
HESIS, 1980, 814, CHEMISTRY LETTERS, 1990, 143, CH
EMISTRY LETTERS, 1990, 807, SYNTHESIS, 1992, 413、
特開平3-31268 号公報、特開平4-112876号公報、WO91 1
3065号公報等に記載の方法に準じて製造することができ
る。

【００１７】本発明化合物を殺菌剤の有効成分として用
いる場合、他に何らの成分も加えずそのまま用いてもよ
いが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤、その他
の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粉
剤、粒剤等に製剤して用いる。この場合、製剤中での有
効成分含有量は重量比で0.１〜99.9％、好ましくは１〜
９０％である。上述の固体担体としては、カオリンクレ
ー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白
土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石、トウ
モロコシ穂軸粉、クルミ殻粉、尿素、硫酸アンモニウ
ム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があげ
られ、液体担体としては、キシレン、メチルナフタレン
等の芳香族炭化水素、イソプロパノール、エチレングリ
コール、エトキシエタノール等のアルコール、アセト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆
油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、水等があげられる。乳化、分散、湿展のため
に用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステ
ル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホ
ン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、ナフ
タレンスルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン界面活
性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビ
タン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があげら
れる。製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、
アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、
ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ＰＡＰ（酸性
リン酸イソプロピル）等があげられる。本発明化合物を
殺菌剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気
象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、場所、対象雑
草、対象作物によっても異なるが、有効成分の施用量
は、通常１アールあたり0.１〜１００ｇ、好ましくは0.
２〜２０ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤等を水で希釈
して施用する場合は、その施用濃度は、0.0001〜0.５
％、好ましくは0.0005〜0.２％であり粉剤、粒剤等はな
んら希釈することなくそのまま施用する。本発明化合物
の施用方法としては、茎葉散布、土壌処理、種子消毒等
があげられるが、通常の当業者が利用できるどのような
施用方法も用いることができる。また、本発明化合物は
他の殺菌剤と混合して用いることにより殺菌効力の増強
を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、
肥料等と混合して用いることもできる。

【００１８】

【発明の効果】本発明化合物は種々の植物病害に対し優
れた防除効果を有する。

【００１９】

【実施例】以下に、本発明化合物を製造例、製剤例およ
び試験例により、さらに詳しく説明するが、本発明はこ
れらの例のみに限定されるものではない。まず、本発明
の製造例を示す。 製造例１ ６０％油性水素化ナトリウム2.41ｇをＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１００mlに懸濁させ、これに６−フェニル
サリチル酸ベンジルエステル17.44 ｇをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド５０mlに溶かした溶液を徐々に加えた。
室温で３０分間、攪拌した。４−クロロ−２，６−ジメ
トキシピリミジン10.01 ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド５０mlに溶かした溶液を反応系に加え、１００−１
１０℃で３時間、加熱、攪拌した。放冷後、反応液を１
規定塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和
食塩水で３回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸
エチル（１０：１〜３：１，ｖ／ｖ））にて処理し、2
1.55 ｇの２−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−
イルオキシ）−６−フェニル安息香酸ベンジルエステル
（本発明化合物（１））を得た。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ) ： δ 3.７７（ｓ，３
Ｈ） 3.８７（ｓ，３Ｈ） 4.８９（ｓ，２Ｈ） 5.６５（ｓ，１Ｈ） 6.７６〜7.４３（ｍ，１３Ｈ） 製造例２ ６０％油性水素化ナトリウム0.11ｇをＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５mlに懸濁させ、これに２−｛（２，４−
ジメトキシピリミジン−６−イル）オキシ｝−６−フェ
ニル安息香酸0.88ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３
mlに溶かした溶液を加えた。室温で３０分間、攪拌し
た。ｐ−メトキシベンジルクロリド0.43ｇをＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド３mlに溶かした溶液を反応系に加
え、７０〜８０℃で１時間、加熱、攪拌した。放冷後、
反応液を１規定塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣を薄層クロマ
トグラフィー（シリカゲル（Merck Art. 5717)，展開溶
媒：酢酸エチル／ヘキサン（１：３，（ｖ／ｖ））にて
精製し、0.92ｇの２−｛（２，４−ジメトキシピリミジ
ン−６−イル）オキシ｝−６−フェニル安息香酸ｐ−メ
トキシベンジルエステル（本発明化合物（24））を得
た。 製造例３ 製造例２において、原料化合物として２−｛（２，４−
ジメトキシピリミジン−６−イル）オキシ｝−６−フェ
ニル安息香酸の代わりに２−｛（２，４−ジメトキシピ
リミジン−６−イル）チオ｝−６−フェニル安息香酸を
用いることにより２−｛（２，４−ジメトキシピリミジ
ン−６−イル）チオ｝−６−フェニル安息香酸ｐ−メト
キシベンジルエステルを製造できる。次に一般式 化５
で示される化合物の参考製造例を示す。 参考製造例１ ２−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イルオキ
シ）−６−フェニル安息香酸ベンジルエステル10.3ｇを
酢酸エチル１００mlに溶解し、１０％パラジウム−カー
ボン（５０％含水品）0.５ｇを加え、室温、常圧下（水
素圧）に、３時間、接触還元した。パラジウム−カーボ
ンを濾別し、得られた濾液を減圧下に濃縮、定量的収率
で２−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イルオキ
シ）−６−フェニル安息香酸を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ／アセトン−ｄ６）：δ 3.
８７（ｓ，３Ｈ） 3.９６（ｓ，３Ｈ） 5.８４（ｓ，１Ｈ） 7.１５〜7.６２（ｍ，８Ｈ）

【００２０】次に製剤例を示す。本発明化合物は表１−
５の化合物番号で示し、部は重量部を表わす。 製剤例１ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラ
ウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４５
部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。 製剤例２ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々２５部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレ
エート３部、ＣＭＣ３部および水６９部を混合し、有効
成分の粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して各
々の懸濁剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々２部、カオリンクレー８８部およびタルク１０部
をよく粉砕混合して各々の粉剤を得る。 製剤例４ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々２０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム
６部、およびキシレン６０部をよく混合して各々の乳剤
を得る。 製剤例５ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン
酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリン
クレー６５部をよく粉砕混合し水を加えてよく練り合わ
せた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。 製剤例６ 本発明化合物（１），（２），（11），（24），（37）
の各々１０部をキシレン３５部およびジメチルホルムア
ミド３５部に溶解し、ポリオキシエチレンスチリルフェ
ニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カル
シウム６部を加え、よく攪拌混合して各々の１０％乳剤
を得る。

【００２１】次に本発明化合物が、植物病害防除剤とし
て有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合物
は、表１−５の化合物番号で示す。 試験例１ ブドウうどんこ病防除試験（予防効果） プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（ベリ−
Ａ）を播種し、温室内で６週間栽培した。第４〜５本葉
が展開したブドウ幼苗に、製剤例１に準じて水和剤にし
た供試薬剤を水で希釈して５００ppm の濃度にし、それ
を葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、ブ
ドウうどんこ病菌の胞子懸濁液を噴霧接種した。接種
後、２３℃温室内で１４日間栽培し表６に示す基準によ
り、防除効力を調査した結果、化合物（１）および
（２）は各々５、４の防除効力を示した。

【表６】

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239/38 8615−4Ｃ 239/52 8615−4Ｃ 239/56 8615−4Ｃ (72)発明者 高野 仁孝 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ
   ¹ およびＲ² は、同一または相異なり、低級アルキル
   基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
   Ｘ¹ ，Ｘ² およびＸ³ は同一または相異なり、水素原
   子，低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン
   原子を表し、Ｙ¹ ，Ｙ² およびＹ³ は同一または相異な
   り、水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハ
   ロゲン原子、ハロ低級アルキル基、ニトロ基またはシア
   ノ基を表し、Ｚは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕
   で示される安息香酸誘導体。
2. 【請求項２】請求項１記載の安息香酸誘導体を有効成分
   とすることを特徴とする植物病害防除剤。