JPH062260Y2 - スプレー装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は基板表面に現像液やリンス液を噴出するスプレ
ー装置に関する。

（従来の技術） 露光後の基板を現像する方法として、従来にあっては基
板を現像液中に浸漬した後、現像液中から基板を取り出
して水洗いする方法と、基板表面に現像液をスプレーし
た後、基板表面を水洗いする方法が知られている。

（考案が解決しようとする課題） 現像液中に基板を浸漬する方法にあっては、多量の現像
液を必要とし、且つ現像液が短期間のうちに汚れるため
頻繁に交換しなければならない。この点スプレー式によ
れば現像液の無駄がなくなるが、基板表面に短時間のう
ちに均一に塗布することができず、現像ムラを生じやす
い。

また現像装置に限らず、各種液体をノズルを用いて基板
表面に向けて噴出し塗布せしめるスプレー装置にあって
は、基板が大きくなる程均一塗布が困難となる。

（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本考案は、基板を吸着して回転せ
しめるスピンナー装置を備えたケーシング内に、ノズル
ユニットを進退自在とし、このノズルユニットの先端に
基板表面に向けて液体を噴出する複数のノズルチップを
進退方向と直交する方向に離間して設け、各ノズルチッ
プは現像液噴出ノズルチップとリンス液噴出ノズルチッ
プとを対にした。

（作用） スピンナー装置のチャック上面に基板を吸着保持せしめ
た後、ノズルユニット先端の現像液噴出ノズルチップか
ら基板に向けて現像液を噴出し、次いでノズルユニット
を後退させて基板を高速で回転せしめ、基板表面に現像
液を均一に拡散する。現像液の塗布が終ったら、再びノ
ズルユニットを前進させてリンス液噴出ノズルチップか
ら基板に向けてリンス液を噴出する。

（実施例） 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。

第１図は本考案に係るスプレー装置の平面図、第２図は
第１図のＡ−Ａ方向断面図、第３図はノズルユニット先
部の拡大図である。

スプレー装置はケーシング１の底板２の中央にホルダー
３を設け、このホルダー３内にスピンナー装置の軸４を
貫通して臨ませ、この軸４の上端に基板Ｗを吸着するチ
ャック５としている。

またケーシング１はコーナ部のうちの３箇所を隔壁６に
て区切り、これらコーナ部のうち２箇所の底板２に排気
孔７を形成し、残りの１箇所の底板２にドレーン孔８を
形成している。ここで底板２の上面はドレーン孔８に向
って徐々に傾斜し、底板２上に落下した現像液等がドレ
ーン孔８に集中するようにしている。

一方、ドレーン孔８を設けたコーナ部と対向するコーナ
部の側壁９にはスリット１０を形成し、このスリット１
０を介してノズルユニット１１がケーシング１内に進退
動するようにしている。ノズルユニット１１は内部を中
央とした移動プレート１２の先端を傾斜面１３とし、こ
の傾斜面１３に複数のノズルチップを取付けている。

ノズルチップは現像液噴出ノズルチップ１４ａ，１４
ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１４ｅとリンス液（純水）噴出ノ
ズルチップ１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅが
夫々対をなすとともに、ノズルユニット１１の進退方向
と直交する方向に離間して取り付けられ、現像液噴出ノ
ズルチップ１４ａ…１４ｅには現像液貯溜キャニスター
１６内の現像液が恒温槽１７を介して供給され、リンス
液噴出ノズルチップ１５ａ…１５ｅにはリンス液貯溜キ
ャニスター１８内のリンス液が恒温槽１９を介して供給
される。更に、各ノズルチップの噴角については中央の
ノズルチップの噴角を小さく、外側のノズルチップの噴
角を大きくし、基板Ｗ表面に現像液及びリンス液を均一
に塗布するようにしている。噴角の具体例を挙げると、
ノズルチップ１４ａ，１５ａについては７０°とし、残
りのノズルチップについては１２０°とする。

また、ケーシング１の上面開口２０には上方から蓋体２
１が挿抜自在とされている。この蓋体２１は下面を開放
した筒状をなし、その一部に外側に向って伸びる把持片
２２を備えている。

更に前記ホルダー３の傾斜した上面には基板Ｗの裏面洗
浄用ノズル２３を取り付けている。

以上の如きスプレー装置を現像装置として用いる場合を
以下に述べる。

先ず蓋体２１を上昇せしめた状態でスピンナー装置のチ
ャック５上面に露光後の基板Ｗを吸着保持する。そし
て、ノズルユニット１１を前進せしめ、ノズルユニット
１１の先端に取付けた現像液噴出ノズルチップ１４ａ…
１４ｅから基板Ｗ表面に現像液を噴出する。次いで直ち
にノズルユニット１１を後退せしめるとともに蓋体２１
を下降せしめ、この状態でスピンナー装置によって基板
Ｗを高速で回転し、現像液を基板Ｗに均一に拡散する。
尚、蓋体２１については省略してもよい。

以上の如くして現像液の塗布が終了したならば、再びノ
ズルユニット１１を前進させ、リンス液噴出ノズルチッ
プ１５ａ…１５ｅから基板Ｗ表面に向けてリンス液を噴
出し、光可溶化部分または光未硬化部分を洗い流すこと
で現像が完了する。

（考案の効果） 以上に説明した如く本考案によれば、基板を収納するケ
ーシング内にノズルユニットを進退自在とし、このノズ
ルユニットに複数のノズルチップを進退方向と直交する
方向に離間して設け、各ノズルチップは現像液噴出ノズ
ルチップとリンス液噴出ノズルチップとを対にしたの
で、短時間のうちに均一に現像液を基板表面に塗布し、
引続いてリンス液でムラ無く洗い流すことができ、しか
も各ノズルチップの噴角を異ならせるようにすれば、均
一塗布の面において更に効果的となる。したがって現像
装置等として用いて極めて有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るスプレー装置の平面図、第２図は
第１図のＡ−Ａ方向断面図、第３図はノズルユニット先
部の拡大図である。 尚、図面中１はケーシング、２は底板、５はスピンナー
装置のチャック、１０はスリット、１１はノズルユニッ
ト、１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１４ｅは現像液
噴出ノズルチップ、１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，
１５ｅはリンス液噴出ノズルチップ、Ｗは基板である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 植原 晃 神奈川県横浜市旭区若葉台２丁目24番204 号 (72)考案者 中山 宗雄 東京都世田谷区代田４丁目２番28号 (72)考案者 山本 正治 岡山県井原市木之子町167番地 タツモ株 式会社内 (72)考案者 川上 和志 岡山県井原市木之子町167番地 タツモ株 式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−63726（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−187680（ＪＰ，Ｕ)

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】ケーシングの底板を貫通してケーシング内
   に臨むスピンナー装置と、このスピンナー装置のチャッ
   クに吸着された基板と平行に基板上方位置と待機位置と
   の間を進退動するノズルユニットを備え、このノズルユ
   ニットの先端には進退方向と直交する方向に離間する複
   数のノズルチップを取り付け、各ノズルチップは現像液
   噴出ノズルチップとリンス液噴出ノズルチップとが対と
   なっていることを特徴とするスプレー装置。
2. 【請求項２】前記ノズルユニットの中央寄りの位置に設
   けられるノズルチップの噴角を小さく、外側寄りの位置
   に設けられるノズルチップの噴角を大きくしたことを特
   徴とする請求項（１）に記載のスプレー装置。