JPH06220635A - 基板に異なる材料を付着させる方法および装置 - Google Patents

基板に異なる材料を付着させる方法および装置

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JPH06220635A
JPH06220635A JP5304230A JP30423093A JPH06220635A JP H06220635 A JPH06220635 A JP H06220635A JP 5304230 A JP5304230 A JP 5304230A JP 30423093 A JP30423093 A JP 30423093A JP H06220635 A JPH06220635 A JP H06220635A
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JP5304230A
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Roger Hill
ヒル ロジャー
John Nuttall
ナットール ジョン
Roger K Tolfree
キース トルフリー ロジャー
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G II C MARCONI EIBUIONITSUKUSU
G II C MARCONI EIBUIONITSUKUSU HOLDINGS Ltd
Leonardo UK Ltd
Original Assignee
G II C MARCONI EIBUIONITSUKUSU
G II C MARCONI EIBUIONITSUKUSU HOLDINGS Ltd
GEC Marconi Avionics Holdings Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 異なる材料を基板に付着させる方法および装
置を提供することを目的とする。 【構成】 付着された材料における所望の化学量論を達
成するために反応性物質の存在下で異なる材料を基板に
付着させる装置および方法であり、この装置は、領域間
で基板９を移動させる手段５、６、７と、異なる材料
を、領域の各々で基板９に付着させる手段３、４と、材
料が領域で付着させられるときに、この材料を反応性物
質に露出させるように、反応性物質を領域の各々に導入
する手段１２と、付着された材料における所望の化学量
論を達成するために１つの領域におけるかかる露出の程
度を他の領域に対して制御する手段１３、１４、１５と
を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、リングレーザ
ジャイロスコープの製造に必要とされるような高品質な
四分の一波長板光反射器を製造する目的で、異なる材料
を基板に付着させる方法および装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術および発明が解決しようとする課題】上記の
付着を行う一つの公知な方法が、雑誌「真空技術(Vacuu
m Technology)」、１９７５年８月号で公表されたＷ．
ランズノブスキー著の「低エネルギイオンビーム技術の
進歩(Advances in Low-Energy Ion Beam Technology)」
と称する論文に述べられている。この論文に記載された
方法は、低エネルギアルゴンイオンのビームを基板に付
着すべき材料で作られたターゲットに差し向けるコーフ
マン型(Kaufman-type)のイオン源を使用している。その
作用は、ターゲット材料の粒子を移動させ、すなわちス
パッタし、次いで粒子を基板に付着させて薄い層を形成
することである。四分の一波長板光反射器またはフィル
タを製造するときに必要とされるような異なる材料の交
互層を生成することが望まれている場合、ターゲットを
変更することが必要であり、上記論文は交換することが
できる３つのこのようなターゲットを用いる装置を意図
している。上述した装置のような、以前に提案された装
置の欠点は、各層の付着間の時間間隔中、基板が汚染物
に被覆されてしまうことである。二次イオンガンからの
低エネルギを使用して上記汚染物を除去し得るが、装置
およびその作動が複雑になる。
【０００３】他の問題は、一つの材料の付着に必要とさ
れる環境が他の材料の付着のために理想であるわけでは
ないということである。英国特許明細書第 2,020,701B
号には、付着材料の化学量論を制御するために慎重に導
入された室内の低真空ガスの圧力を、異なる材料を付着
させる方法間で変化させるべきであることが提案されて
いる。しかしながら、このような調整を行う必要によ
り、異なる層の付着に必要とされる複雑さおよび時間が
増し、多数の層を多数の基板に付着させようとする場
合、方法は非常に時間がかかり且つ高価になる。上述し
たような装置を使用して実験した結果、これらの装置
は、製造された製品の品質が、先に述べたようなリング
レーザジャイロスコープに使用するのに必要とされる場
合にその製品のかなりの割合を捨てることが必要とされ
る程度に一定でないという点で、信頼性がないことが示
されている。
【０００４】
【発明の目的】したがって、本発明の目的は、各層の付
着間の時間間隔中、基板が汚染物に被覆され、また、一
つの材料の付着に必要とされる環境が他の材料の付着の
ために理想ではないという従来の装置の問題点を解決し
た基板に異なる材料を付着させる方法および装置を提供
することにある。
【０００５】
【発明の構成および作用】本発明のかかる目的は、付着
された材料における所望の化学量論を達成するように、
反応性物質の存在下で異なる材料を基板に付着させる装
置において、基板（９）を領域間で移動させる手段と、
異なる材料を、領域の各々で基板（９）に付着させる手
段（３、４）と、材料が各領域で付着させられるとき
に、該材料を反応性物質に露出させるように、反応性物
質を領域の各々に導入する手段（１２または１９）と、
付着された材料における所望の化学量論を達成するため
に、一つの領域における上記露出の程度を、他の領域に
対して制御する手段（１２、１４、１５または１９）と
を備えたことを特徴とする異なる材料を基板に付着させ
る装置により達成される。本発明は、おそらく、薄いフ
ィルムの蒸着などの方法に使用することができるが、ス
パッタ付着方法に主な用途を見出せるものと考えられ
る。本発明を用いることにより、基板における条件が各
層の付着に適していることを確保しつつ、多数の層を付
着させることが可能である。さらに、層付着の間の調整
を行う目的で設備を稼働停止することが不要となり、実
質的に連続的な方法で多数の基板を処理することができ
る。
【０００６】付着された材料を、二つの方法で反応性物
質に露出することができる。第１の方法は夫々の領域に
おける雰囲気を制御することによる。有利には、この制
御は、反応性ガスを領域に導入することにより、およ
び、領域内の反応性ガスの圧力を制御する真空装置を適
当に構成することにより達成することができる。異なる
領域における雰囲気を制御するのとは対照的に、反応性
粒子のビームを付着されているときの材料上に差し向け
ることができる。このようなビームを供給する手段はイ
オン源を備え、反応性粒子は酸素原子またはイオンから
構成されるのが好ましい。(i) ターゲット近傍の反応性
粒子の低い背景圧を維持することができ、それによっ
て、粒子がターゲットと反応する可能性を低減すること
ができ、また、(ii)精力的である反応性粒子が付着材料
とより容易に反応するため、この方法を使用することに
より、より大きな付着速度を得ることができる。室は、
１以上の隔壁部により上述した異なる領域に分割されて
いるのが好ましい。二つより多いターゲットを使用して
二つより多い異なる材料を付着させる場合には、一つよ
り多い隔壁部を必要とする。この種類の設備に通常用い
られる非常に低い圧力のため、これら領域は、通常の意
味で互いからシールされていなくてもよい。各領域に連
結された適当な真空ポンプが、連結された領域間の圧力
差を効果的になすことができる。
【０００７】反応性粒子ビームの使用は、それ自身が発
明性を有するものと思われる。したがって、本発明の他
の実施態様によれば、粒子のビームをターゲットに差し
向け、それによりターゲット材料の粒子が基板に向けて
放出され、反応性粒子のビームを付着された材料に差し
向けて付着材料と反応させて所望の化学量論を達成する
ように構成された材料を基板に付着させる方法が提供さ
れる。有利には、付着手段が、各領域と関連され、イオ
ン、好ましくは、アルゴンイオンのビームをその領域に
おける関連するターゲットに差し向けるように構成され
た別体のイオンビーム源の形状をなしている。イオンを
中和してターゲット上に電荷が発生するのを防ぐことが
望ましく、この明細書では、「イオン」という語は、こ
のような中和イオンを含むものと解釈すべきである。し
かしながら、他の構成を使用することができる。ある構
成では、一つのイオンビームを領域間で分割し、分割さ
れたビームの各部分が夫々の領域における関連するター
ゲットに衝突してこのターゲットから粒子を移動させ、
これらの粒子を次々に基板に付着させる。ビームの分割
は、ビームを形成するイオンにより運ばれる電荷と同じ
電荷を運ぶビーム分割装置を使用して達成することがで
きる。
【０００８】ビームを分割する手段は、前述した目的で
異なる圧力に維持される二つの領域を分離するという二
次的な目的を果たし得るシンプルな機械的隔壁であって
もよい。変更例として、或いは、追加して、ビームから
イオンを追放し且つその分割を助成するように、隔壁が
荷電されていてもよい。これに関して、イオンビームを
発生する手段が、イオンを追放するターゲット上の電荷
の発生を防ぐように電荷中和装置を有するのがよいこと
に注意すべきである。中和ビームに関して、ビームの静
電分割は実用的でなく、他の分割手段を用いる必要があ
る。基板を領域間で移動させる手段は、回転により基板
を一つの領域から他の領域へ運ぶ回転キャリアの形状を
有するのが好ましい。キャリアに設けられた個々の基板
ホルダを用いるのが有利であり、基板に付着される材料
が一様に付着されるように、各ホルダをキャリアに対し
て回転させるか、あるいは他の方法で移動させる設備を
設けてもよい。キャリアの回転運動は不可欠ではなく、
本発明の他の実施例では、基板を一つの領域から他の領
域まで移動させるために或る形態の線形移動を構成する
ことが可能である。基板を領域間で移動させる手段は、
装置の一部をなすエンクロージャに対して基板を移動さ
せる効果を有するのが好ましいが、たとえば、隔壁を回
転させるか或いは移動させることによって”領域”を移
動させることも可能である。
【０００９】回転キャリアを使用し、連続的な方法で装
置を作動したい場合、ある形状のシールド或いは他の制
御装置を用いて、付着された異なる材料の所望の割合を
得るのに必要な基板への材料の付着を阻止することが必
要である。本発明を用いることにより得ることができる
一つの特別な利点は、時間のかかる切換方法を必要とす
ることなしに、異なる材料を交互に付着させることが非
常に容易になるので、基盤を連続式に、或いは、パルス
式に移動させることによって、層間に勾配付き構造が生
成され、各材料の構造のために最適な条件下で可変屈折
率または空間的に変化する屈折率のフィルムを効果的に
付着させることができる。勾配付き構造は急に交互する
層より構成されていてもよい。或いは、切換えを非常に
頻繁に行うのであれば、ターゲット材料の粒子を、これ
らの材料製の層間で連続的に変化するように制御された
混合物として付着させればよい。この連続的に変化する
屈折率の構造体は、たとえば、四分の一波長板ミラーの
層の間の界面として有用であるとみなされるが、連続的
に変化する屈折率を有する構造体を生成するのが有用で
あるような他の状況もある。
【００１０】また、本発明は、付着された材料における
所望の化学量論を達成するように反応性物質の存在下で
基板に異なる材料を付着させる方法において、基板を領
域間で移動させ、異なる材料を夫々の領域で基板に付着
させ、材料が各領域で付着させられるときに、該材料を
反応性物質に露出させるように、反応性物質を各領域に
導入し、一つの領域におけるかかる露出の程度を他の領
域に対して制御して付着された材料における所望の化学
量論を達成することを特徴とする基板に異なる材料を付
着させる方法を提供する。また、本発明は、すぐ上の段
落に述べた方法により付着された異なる材料を有する装
置を提供する。
【００１１】
【実施例】以下、添付図面に基づいて、本発明を実施す
る３つの方法につき詳細に説明を加える。図１を参照す
ると、二つの部分１Ａ、１Ｂより構成される室１が示さ
れている。室１は隔壁部２により二つの領域に分割され
ており、イオン源３が各領域と関連されている。各イオ
ン源３は、図中、破線として、３Ａで示されたアルゴン
イオンビームを、当業界で周知な方法で、関連するター
ゲット４上に差し向けるように構成されている。ターゲ
ット物質の粒子は、アルゴンイオンにより移動させら
れ、キャリア５の方に差し向けられる。キャリア５は、
モータ７により駆動されるように構成されたシャフト６
に設けられている。キャリア５は、ターゲット物質のス
パッタ粒子を高エネルギで入射することにより層が付着
されるべき基板９を保持するようになっている多数のホ
ルダ８を支持している。各ホルダ８は、小さいスプロケ
ット１０に連結されており、このスプロケット１０の歯
は、室１の壁部に対して固定された大きい歯付きホイー
ル１１の対応する歯に係合している。モータ７の作用に
よりキャリア５を回転させることによって、ホルダ８を
或る領域から他の領域まで移動させ、次いで連続的に戻
してそれぞれのターゲット物質の交互する層を付着させ
る。また、キャリア５の回転により、大きい歯付きホイ
ール１１とスプロケット１０との係合によってホルダ８
を図３に示すように遊星的にそれらの軸線を中心に回転
させ、各層の一様な付着を行う。
【００１２】室１の二つの領域は、異なる層で所望の化
学量論を得るのに適したガス状の環境に保持される。光
学部品の製造において、しばしば、低屈折率の材料とし
てＳｉＯ2 が使用され、高低屈折率の材料としてＴｉＯ
2 が使用される。これらの材料を付着させるために、シ
リコンおよびチタンのターゲットがそれぞれ使用され、
酸素分圧を注意深く維持した酸素環境の存在下でスパッ
タ付着が起こる。図示の実施例では、酸素Ｏ2 または他
の反応性ガスが、ガス入口１２から夫々の領域に導入さ
れる。また、各領域は、関連するポンプ１３およびガス
圧センサ１４を有している。ビーム源３からの他のガ
ス、特にアルゴンが存在する場合に、所定のガスにとっ
て特有のガス圧センサ１４を使用するのが有利である。
図２に示すように、制御装置内のコントローラ１５を使
用して、センサ１４に応答して領域内のガス状の環境の
分圧を維持することができる。この圧力は、３つの方
法、すなわち、(i) 弁１６により入口１２を通る領域へ
のガスの流量を調整することによって、(ii)ポンプ１３
の圧送速度を調整することによって、たとえば、調整可
能な絞り１７またはダイアフラムによりポンプの入口を
絞ることによって、(iii) 上記技術の組み合わせによっ
て、コントローラ１５により制御することができる。
【００１３】また、ガスを一つの領域にのみ導入し、ポ
ンプ１３を使用してガスを領域間で吸い込み、それによ
り領域内の所望の分圧を達成することが可能である。こ
のような構成では、領域は通常の意味で互いにシールさ
れる必要がない。キャリアの連続移動を用いる場合、各
層の所望の厚さを達成するようにターゲット物質のうち
の一方または他方の付着を抑制することが好ましく、こ
の目的で移動可能なシールド１８が装置に設けられる。
図４には、移動可能なシールド１８は右側領域における
付着を抑制する位置に示されており、このシールド１８
は室１の左側領域内での付着を可能にするためには取り
除かれる。図４に破線で囲まれ１８Ａで示された領域
は、シールド１８の他の作用位置を指している。また、
シールド１８は、ターゲット４を初めに清浄してそれら
の表面から汚染物を除去するのが望ましい場合、装置の
始動時に使用することができる。付着速度は、３つの手
段、すなわち、イオン平均エネルギ、基板速度および移
動可能シールドの使用により制御可能である。かかる制
御により、層間に急な界面を生じるのが容易になり、し
たがって、所望のときに、屈折率の急変化を生じること
が容易になる。また、必要なときに、層間に勾配付き屈
折率または連続的に変化する屈折率を生じることが容易
になる。例えば、材料Ａ、Ｂ間の層間に勾配付き界面を
望む場合、まず、材料Ａを所要の厚さに付着させる。次
いで、材料Ｂ、Ａの交互する層を付着させ、この際、層
Ａの厚さを漸次減少させ、層Ｂの厚さを漸次増大させ
る。本発明では、各材料の構造について最適な条件下で
交互する層を容易且つ急速に付着させることができるの
で、このような勾配付き屈折率を達成することができる
だけである。勾配付き構造における層の厚さを十分な程
度まで減少させる場合、これらの層は、層として区別で
きなくなり、異なる材料の粒子が互いに効果的に混合さ
れ、連続的に変化する屈折率の界面を形成する。
【００１４】また、一つのフィルムを付着させながら、
他のターゲット用のイオン源を、ターゲットから材料を
スパッタすることなしに、ターゲットを”用意”状態に
維持するのに十分な、より低い待機レベルで作動させる
ことができる。図５を参照すると、本発明の他の実施例
が示されている。各々の領域における第２のイオン源１
９は、付着時に材料と反応して所望の化学量論を達成す
るために、酸素Ｏ2 （または他の反応性物質）の原子ま
たはイオンのビームを基板９上に差し向けるように構成
されている。酸素をこのようにして供給することによっ
て、以下の二つの理由、すなわち、(i) ターゲット４近
傍の酸素のより低い背景圧力を維持し、それにより基板
９近傍で所望の条件が存在するのを確保しつつ、ターゲ
ットを酸化する可能性を低減させることができ、(ii)酸
素原子が精力的であり、したがって、付着される材料と
容易に反応するので、優れたスパッタ付着速度を達成す
ることができる。さらに、酸素イオンのエネルギ範囲を
容易に制御することができるので、化学量論の正確な制
御を達成することができる。第２のイオン源１９は、当
業界で知られているような高周波ＲＦ励起型であるのが
好ましい。この種類の源は、酸素などの反応性ガスにつ
いて使用する場合、コーフマン型の源と比較して、大き
い予想寿命を有している。また、第２のイオン源１９を
有利に使用して、アルゴンなどの不活性ガスをこの源１
９に供給することにより、付着前に基板を清浄すること
ができる。
【００１５】差し向けられたビームの形態で反応性粒子
を供給することに加えて、前述のように、背景ガスを入
口１２から導入することができる。図示した装置が本発
明をいかに実施可能であるかを示す例に過ぎないこと
を、理解すべきである。二つの別々のイオンビーム源を
使用することが有利であるが、これらの源は高価であ
り、分割ビームの各部分が夫々の領域における関連する
ターゲットに衝突するように差し向けられるように、一
つのイオンビームを領域間で分割するような他の構成が
意図される。一つのこのような構成が、図６に概略的に
示されている。この構成は先の実施例と本質的に類似し
ているが、図示するように、頂点から分岐するように配
置された二つのターゲット４Ａ、４Ｂにより形成された
隔壁部２Ａを有している。この頂点は、エッジ２０によ
り画定されている。エッジ２０は正に荷電され、アルゴ
ンイオンの一つのビーム２１を、ターゲット４Ａ、４Ｂ
にそれぞれ衝突する二つの別々のビーム２１Ａ、２１Ｂ
に分割するのを促進することができる。この実施例で
は、基板（それらのうちの一つを参照数字９Ａで示す）
が、円筒形キャリア５Ａまわりに設けられ、このキャリ
ア５Ａは、連続的に回転され、異なるターゲット材料
（または、この材料と図示しない室内の酸素または他の
ガス状物質との化合物）が付着されるような領域間で、
基板を移動させる。シールドが図１、図４および図５に
１８で示されたシールドと同様な作用を有するように、
キャリア上の個々の基板を回転する適当な設備を設けて
もよい。
【００１６】本発明の図示の実施例は、夫々の材料を付
着させる二つまたはそれ以上の領域を使用することによ
り、付着された材料を汚染するおそれのある方法につい
ての時間のかかる変化を必要とすることなしに、より速
い付着速度を可能にするという利点を有している。各領
域内には、ターゲット材料が、一つだけ存在するので、
ターゲットを固定することができ、ターゲットの冷却を
容易になすことができる。また、源３からの漂流イオン
が未清浄ターゲット材料に衝突しないようにすることは
簡単である。各領域では、付着された材料の厚さを測定
するのに使用可能なフィルム厚モニタは、一つの材料に
対する測定を必要とするだけである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 二種の異なる材料の交互する層を基板に付着
させるための本発明により構成された装置の略水平断面
図である。
【図２】 二つの領域内のガス圧を維持するのに使用さ
れる制御装置の概略図である。
【図３】 図１の線Ｉ−Ｉに沿った略垂直断面図であ
る。
【図４】 図１の線ＩＩ−ＩＩに沿った略垂直断面図で
ある。
【図５】 本発明にしたがって構成された他の装置の略
水平断面図である。
【図６】 内部部品を表すために外側エンクロージャを
取り外した状態の本発明にしたがって構成された他の装
置の概略斜視図である。
【符号の説明】 １ 室 ２ 隔壁部 ３ イオン源 ４ ターゲット ５ キャリア ６ シャフト ７ モータ ８ ホルダ ９ 基板 １２ ガス入口 １３ ポンプ １４ ガス圧センサ １５ コントローラ １６ 弁 １７ ダイアフラム １８ シールド １９ 第２のイオン源 １９ａ 酸素イオンビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン ナットール イギリス エディンバラ セント ローナ ンス テラス 17 (72)発明者 ロジャー キース トルフリー イギリス エセックス シーエム８ ３エ ヌキューウィッカム ビショップス ウィ タム ロード 28 ブリケット コッテー ジ

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 付着された材料における所望の化学量論
    を達成するように反応性物質の存在下で異なる材料を基
    盤に付着させる装置において、前記基板（９）を領域間
    で移動させる手段と、前記異なる材料を、前記領域の各
    々で前記基板（９）に付着させる手段（３、４）と、前
    記材料が前記領域で付着させられるときに、前記材料を
    前記反応性物質に露出させるように、前記反応性物質を
    前記領域の各々に導入する手段（１２または１９）と、
    前記付着された材料における所望の化学量論を達成する
    ために、一つの前記領域における上記露出の程度を、他
    の前記領域に対して制御する手段（１３、１４、１５ま
    たは１９）とを備えたことを特徴とする基板に異なる材
    料を付着させる装置。
  2. 【請求項２】 前記材料を露出させる手段が、領域内の
    雰囲気を制御する手段（１２、１３、１４、１５）を有
    することを特徴とする請求項１に記載の装置。
  3. 【請求項３】 前記雰囲気を制御する手段が、反応性ガ
    スを導入する手段（１２）および廃棄装置（１３）を有
    することを特徴とする請求項２に記載の装置。
  4. 【請求項４】 前記材料を露出させる手段が、前記材料
    が付着されているときに、前記材料に反応性粒子のビー
    ムを差し向ける手段（１９）を有することを特徴とする
    請求項１に記載の装置。
  5. 【請求項５】 前記異なる材料を付着させる手段が、タ
    ーゲット（４）の粒子をターゲットから基板に向けて射
    出させるように、前記領域にそれぞれ関連するターゲッ
    ト（４）上へ、粒子ビームを差し向ける手段（３）を有
    することを特徴とする請求項１に記載の装置。
  6. 【請求項６】 共通の源から得られる粒子ビームを、関
    連するターゲット上に入射するような部分に分割する手
    段を備えたことを特徴とする請求項５に記載の装置。
  7. 【請求項７】 前記基板を移動させる手段が、前記基板
    を領域間で移動させるような方法で回転するように構成
    されたキャリア（５）を有することを特徴とする請求項
    １に記載の装置。
  8. 【請求項８】 前記基板上の異なる材料のうちの一つの
    付着を抑制するように構成された移動可能なシールド
    （１８）を備えていることを特徴とする請求項１に記載
    の装置。
  9. 【請求項９】 付着された材料における所望の化学量論
    を達成するように反応性物質の存在下で基板に異なる材
    料を付着させる方法において、基板を前記領域間で移動
    させ、異なる材料を前記領域の各々で前記基板に付着さ
    せ、反応性物質を前記領域の各々に導入し、前記材料が
    前記領域で付着させられるときに、前記材料を前記反応
    性物質に露出させ、一つの前記領域における上記露出の
    程度を他の前記領域に対して制御して付着された材料に
    おける所望の化学量論を達成することを特徴とする基板
    に異なる材料を付着させる方法。
  10. 【請求項１０】 領域内の雰囲気を制御することにより
    上記露出の制御がなされることを特徴とする請求項９に
    記載の方法。
  11. 【請求項１１】 反応性ガスを導入し、その圧力を制御
    することにより前記雰囲気の制御がなされることを特徴
    とする請求項１０に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記材料が付着されているときに、反
    応性粒子のビームを前記材料に差し向けることにより、
    上記露出の制御がなされることを特徴とする請求項９に
    記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記領域にそれぞれ関連するターゲッ
    ト上へ、粒子のビームを差し向け、それによりターゲッ
    ト材料の粒子が基板にむけて放出されることによって、
    異なる材料を付着させることを特徴とする請求項９に記
    載の方法。
  14. 【請求項１４】 一つの粒子ビームを関連するターゲッ
    トに入射する部分に分割することを有することを特徴と
    する請求項１３に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 前記基板を回転キャリアによって領域
    間で移動させることを有することを特徴とする請求項９
    に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 少なくとも一つの材料の付着を、移動
    可能なシールドによって抑制することを有することを特
    徴とする請求項９に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 請求項９ないし１６のいずれか一項に
    記載の方法により付着された異なる材料を有する装置。
  18. 【請求項１８】 粒子のビームをターゲット上に差し向
    け、それによりターゲット材料の粒子を基板に向けて放
    出し、反応性粒子を付着された材料に差し向け、この付
    着された材料と反応させて所望の化学量論を達成するこ
    とを特徴とする基板に材料を付着させる方法。
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