JPH0621330A - 半導体パワーモジュール - Google Patents

半導体パワーモジュール

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JPH0621330A
JPH0621330A JP4172773A JP17277392A JPH0621330A JP H0621330 A JPH0621330 A JP H0621330A JP 4172773 A JP4172773 A JP 4172773A JP 17277392 A JP17277392 A JP 17277392A JP H0621330 A JPH0621330 A JP H0621330A
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circuit board
control circuit
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semiconductor
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Seiichi Oshima
征一 大島
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電気的雑音による誤動作を防止しつつ大電力
を制御する。 【構成】 装置の回路基板210は2つの領域B1、B
2に分割されており、領域B1にはIGBT素子T1〜
T6を有する主回路が展開され、領域B2には主回路を
制御する制御回路が展開されている。すなわち、大電力
を制御し、強力な電気的雑音の発生源である主回路と、
電気的雑音による誤動作の危険がある制御回路とが同一
回路基板の上に、互いに分離して展開されている。 【効果】 主回路が発生する電気的雑音の制御回路への
侵入が低減されるので、電気的雑音に起因する制御回路
の誤動作が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体パワーモジュ
ールの電気的雑音への耐性の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体パワーモジュールは、電力制御用
の半導体素子を備える主回路と、当該回路との間で信号
を交換することにより当該回路の動作を制御する半導体
素子を備える制御回路とを、1個の装置に組み込んだも
のである。この半導体パワーモジュールは、モータ等の
動作を制御するインバータ等に主として応用されてい
る。半導体パワーモジュールにおいては、その電力損失
の低減、並びにモータなどの電力制御対象の高速応答性
及びその動作精度の向上等のために、電力を反復的に遮
断および接続する周波数の高いものが要求されている。
更に、産業用の大型モータ等の駆動に使用できる、より
大きな電力を制御し得る半導体パワーモジュールが求め
られている。これらの要求に応えるものとして、電力制
御半導体素子として高速動作の可能な絶縁ゲート型バイ
ポーラトランジスタ(以下、IGBTと称する)を用い
て、電圧値220V、電流値30A程度の電力を10kH
z 程度の高い周波数で制御し得る、半導体パワーモジュ
ールが近年開発されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】半導体パワーモジュー
ルにおいては、更に高い周波数で、かつ更に大きい電力
を制御し得る装置が要求されている。しかしながら、こ
れらの要求に応えて、例えば電圧値440V、電流値3
0A〜600Aの範囲の大電力を、10kHz 〜20kHz
の高い周波数で制御し得る半導体パワーモジュールを構
成するには、以下のような問題点を解決することが不可
欠である。
【0004】動作周波数が高く、かつ遮断、接続する電
流値が高いと、これらに比例して回路に発生する電気的
雑音が大きくなる。その結果、制御回路を構成する半導
体素子などにおいて、電気的雑音に起因する誤動作が生
じる。このため、従来の装置の構成を基礎として、動作
速度が高く電流容量の高い電力制御用半導体素子を使用
し、回路基板の配線の電流容量を高くする等の単なる設
計変更を行うだけでは、電気的雑音による回路の誤動作
が避けられず、上述の大電力かつ高周波数の半導体パワ
ーモジュールを構成することはできない。
【0005】また、例えば出力電圧値が220Vで、出
力電流値30A以下である比較的低出力電力の半導体パ
ワーモジュールにおいても、電気的雑音による誤動作を
防止しつつ、しかもより小型の装置を実現することが求
められている。
【0006】この発明は、上述の問題点を解消するため
に行われたものであり、電気的雑音による回路の誤動作
がなく、高周波数で大電力を制御し得て、しかも小型の
半導体パワーモジュールを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる請求項
1に記載の半導体パワーモジュールは、(a)電力を制
御する電力制御半導体素子を有する主回路と、(c)前
記主回路を展開する第1の回路基板と、(b)当該主回
路を制御する制御回路と、(d)前記制御回路を展開
し、前記第1の回路基板とは分離して配置される、第2
の回路基板と、を備えるものである。
【0008】この発明にかかる請求項2に記載の半導体
パワーモジュールは、(a)電力を制御する電力制御半
導体素子を有する主回路と、(b)当該主回路を制御す
る制御回路と、(c)互いに分離された、前記主回路を
展開する第1の領域と、前記制御回路を展開する第2の
領域と、を有する回路基板と、を備えるものである。
【0009】
【作用】この発明における半導体パワーモジュールで
は、電力を制御する主回路と、これを制御する制御回路
とが、別個に設けられる回路基板に互いに分離して展開
される。このため、主回路で発生する電気的雑音の制御
回路への侵入が低減される(請求項1)。
【0010】この発明における半導体パワーモジュール
では、電力を制御する主回路と、これを制御する制御回
路とが、同一の回路基板に設けられる2領域に、互いに
分離して展開される。このため、主回路で発生する電気
的雑音の制御回路への侵入が低減される(請求項2)。
【0011】
【実施例】[実施例1.] <装置100の回路構成と動作>図2はこの発明の一実
施例における半導体パワーモジュール100の回路11
0の主要な部分を示す概略回路図である。この装置10
0の定格出力電圧、及び最大出力電流は、例えばそれぞ
れ440V、及び30A〜600Aである。また、出力
電流を遮断及び接続する動作の周波数は、10kHz 〜2
0kHz である。
【0012】回路110は、2つの回路部分120、1
30を有している。主回路120は、電力を制御し、か
つ出力する回路部分である。2個の電源端子PS
(P)、PS(N)には、それぞれ直流の高電位P及び
低電位Nが外部電源(図示しない)より印加される。す
なわち、これらの電源端子PS(P)、PS(N)を通
して、外部電源より主回路120へ電力が供給される。
主回路120は6個の電力制御用のIGBT素子T1〜
T6を備えており、入力された電力をU、V、W相の3
相に対応して制御し、これらの制御された電力を各々3
個の出力端子OUT(U)、OUT(V)、OUT
(W)を通して、装置100の外部へ出力する。
【0013】制御回路130は、IGBT素子T1〜T
6の動作を制御する回路部分である。制御回路130は
6個の能動的な半導体素子IC1〜IC6を備えてい
る。これらの半導体素子IC1〜IC6は、それぞれ信
号入力端子IN1〜IN6へ外部より入力される入力信
号VIN1〜VIN6に応答して、IGBT素子T1〜T6
のゲートGへゲート電圧信号VG 1〜VG 6を送出す
る。IGBT素子T1〜T6は、これらのゲート電圧信
号に応答して、コレクタCとエミッタEの間の電流の遮
断及び接続を行う。
【0014】4個の独立した外部の直流電圧源(図示し
ない)を、高電位側(正)の電源端子VCC1〜VCC4
と、低電位側(負)の電源端子VEE1〜VEE4の各1同
士の対に接続することにより、これらの電源端子を介し
て半導体素子IC1〜IC6へ直流電圧が供給される。
負の電源端子VEE1〜VEE3は、IGBT素子T1〜T
3のエミッタEと電気的に接続されており、負の電源端
子VEE4は、互いに共通電位であるIGBT素子T4〜
T6のエミッタEに接続されている。
【0015】主回路120は相対的に大きい電流が流れ
る回路であり、大電流、及び大電流に伴う発熱に耐え得
る回路設計が施される。一方、制御回路130は電圧信
号を処理する回路であるため、当該回路に流れる電流は
微小である。このため、制御回路130では、大電流に
相応した回路設計は要しない。
【0016】<装置100の外観>図3は装置100の
外観を示す斜視図である。装置100は合成樹脂等の絶
縁体で構成されるケース101を備えており、ケース1
01の上面には蓋102が設けられている。主回路12
0の端子103と、制御回路130の端子104が、ケ
ース101の上面の外部に露出している。
【0017】<主回路120の回路素子の配置>図4
は、ケース101の所定の位置に収納された主回路の回
路基板121の平面図である。回路基板121は4個の
回路基板121a〜121dを備えている。これらの回
路基板121a〜121dは、ケース101の底面を構
成する銅ベース122の上面に配置されている。回路基
板121a及び121bの上には、IGBT素子T1〜
T6、これらの各々に付随する受動的な回路素子D1〜
D6、及び配線パターンが設けられている。配線パター
ンP(P)、P(N)、P(U)、P(V)、及びP
(W)は、それぞれ高電位P、低電位N、U相出力、V
相出力、及びW相出力の配線パターンである。これらの
配線パターンは、大電流が通過するのに十分な幅と厚さ
とを有している。各配線パターンは、それぞれに描かれ
る斜線部分において、対応する電源端子PS(P)、P
S(N)、出力端子OUT(U)、OUT(V)、OU
T(W)にそれぞれ接続される。
【0018】回路基板121c、121dは、IGBT
素子T1〜T6と制御回路130との間を中継する回路
基板である。これらの回路基板上に形成された配線パタ
ーンにおいて、配線パターンP(E1)〜P(E6)は
各々IGBT素子T1〜T6のエミッタEに接続されて
おり、配線パターンP(G1)〜P(G6)は各々IG
BT素子T1〜T6のゲートGに接続されている。IG
BT素子T1〜T6は、これらの素子の各1のコレクタ
Cを流れる電流(コレクタ電流)の大きさを検出し、コ
レクタ電流に対応した電圧信号を送出する検出回路を備
えている。配線パターンP(S1)〜P(S6)は、各
々IGBT素子T1〜T6が備える検出回路に接続され
ており、コレクタ電流の検出信号を伝達する。これらの
検出信号は制御回路130へ伝達され、半導体素子IC
1〜IC6へ入力される。半導体素子IC1〜IC6
は、入力信号VIN1〜VIN6とともに、これらコレクタ
電流の検出信号をも参照して、ゲート電圧信号VG 1〜
VG 6を出力する。配線パターンP(EX)は、その他
の信号を伝達する配線パターンである。
【0019】これらの配線パターンは、それぞれに描か
れる斜線部分において、制御回路130へ接続される複
数の導体ピン(後述する)の各1の一端に接続される。
すなわち、これらの配線パターンは、導体ピンを介して
制御回路130に電気的に接続される。多数の導体ワイ
ヤwによって、上述の素子同士、あるいは素子と配線パ
ターンの間が適宜、電気的に接続されている。
【0020】<制御回路130の回路素子の配置>図5
は、制御回路130を展開する回路基板131の平面図
である。大電流に対応し得るように、制御回路130は
発熱の大きい主回路120とは別個の基板の上に展開さ
れている。回路基板131の上には、能動的な半導体素
子IC1〜IC7、これらの各々に付随する各種の受動
的な回路素子EL、及び配線パターンが設けられてい
る。電気的雑音による半導体素子IC1〜IC7の誤動
作を防止するために、これら半導体素子IC1〜IC7
の各1に近接して、これらに付随する回路素子ELが配
置されている。すなわち、回路基板131の主面は図5
において点線でその境界が描かれている複数のエリアに
分割されていて、各エリアA1〜A7の中に半導体素子
IC1〜IC7の各1とこれに付随する回路素子ELが
配置されている。なお、半導体素子IC7は、半導体素
子IC1〜IC6とは異なる目的で設けられている。
【0021】回路基板131には配線パターンに接続さ
れたスルーホールが設けられており、前述の導体ピンの
他の一端がこれらのスルーホールに接続されている。こ
れらの導体ピンを介して、スルーホールTH(E1)〜
TH(E6)、TH(G1)〜TH(G6)、TH(S
1)〜TH(S6)、TH(EX)は、各々前述の配線
パターンP(E1)〜P(E6)、P(G1)〜P(G
6)、P(S1)〜P(S6)、P(EX)と接続され
ている。回路基板131には、配線パターンに接続さ
れ、更に前述の外部電源等に接続される端子104が設
けられている。
【0022】回路基板121及び回路基板131上の回
路素子は、これらの基板が後に図6において図示するよ
うに相互に上方と下方とに互いに対向して配置されたと
きに、半導体素子IC1〜IC6の各1とこれに付随す
る回路素子ELとが、その制御対象であるIGBT素子
T1〜T6の各1とこれに付随する回路素子D1〜D6
の各1の略上方に位置するように配置される。例えば、
回路基板131において半導体素子IC1とこれに付随
する回路素子ELが配置されるエリアA1は、回路基板
121におけるIGBT素子T1、回路素子D1などが
存在する領域の略真上に位置するように設けられる。こ
のことにより、回路基板121に展開される回路からの
電気的雑音に起因する半導体素子IC1〜IC6の誤動
作を更に抑制することができる。
【0023】IGBT素子T1〜T6が動作し、大きな
コレクタ電流を遮断及び接続するのに伴って、IGBT
素子T1〜T3のエミッタEの電位(エミッタ電位)は
激しく振動する。この振動的な電位は、電磁輻射あるい
は配線パターン間の容量結合などにより、半導体素子I
C1〜IC6に電気的雑音をもたらす。しかしながら、
例えば半導体素子IC1の負の電源電位はIGBT素子
T1のエミッタ電位と共通であり、このため半導体素子
IC1はIGBT素子T1の動作に伴う電気的雑音の影
響を受けにくい。一方、半導体素子IC1は他のIGB
T素子の動作に伴う電気的な雑音の影響は受け易い。従
って半導体素子IC1と、それに付随する回路素子EL
が配置されるエリアA1を、その制御対象であるIGB
T素子T1の真上に配置して、他のIGBT素子T2〜
T6からは比較的遠方に配置することにより、これらの
素子の動作に伴う電気的雑音の半導体素子IC1の動作
への影響を低減することができる。他の半導体素子IC
2〜IC6についても同様である。
【0024】また、半導体素子IC7をも含めて半導体
素子IC4〜IC6の負の電源電位は、IGBT素子T
4〜T6の共通のエミッタ電位と同電位である。従っ
て、エリアA4〜A7の各1は、IGBT素子T4〜T
6の配置される領域全体の上方に相応する回路基板13
1上の領域に含まれておればよい。
【0025】なお、回路基板131は配線パターンが両
主面に設けられる2層基板であり、図5に示される回路
素子が配置される主面の裏側に相当する主面には、エリ
アA1全体に、IGBT素子T1のエミッタ電位と同電
位であるシールドパターンが設けられ、電気的雑音の侵
入を更に抑制している。エリアA2〜A7についても同
様のシールドパターンが設けられている。
【0026】<装置100の断面構造>図6は装置10
0の正面断面図である。装置100をより小型化するた
めに、回路基板131と回路基板121は、互いに装置
100の上方と下方とに互いに対向して配置されてい
る。前述のように複数の導体ピンPIによって、回路基
板121上の回路と回路基板131上の回路とが電気的
に適宜接続されている。回路基板121の本体はセラミ
ックあるいは窒化アルミニウムで構成され、その底面は
全面にわたって銅箔によって覆われている。この銅箔の
表面を銅ベース122の上面にハンダ付けすることによ
り、回路基板121は銅ベース122に固定されてい
る。回路基板121の上面には配線パターンP(N)、
P(W)等の配線パターンが形成されており、その上面
にはIGBT素子T3、T6等の回路素子がハンダ付け
されている。
【0027】装置100の底面を略全面にわたって占め
る銅ベース122は、主として放熱を目的として設けら
れる。すなわち、銅ベース122は、主回路120に発
生する損失熱を装置100の外部へ放出し、主回路12
0及び制御回路130における温度の過度な上昇を防止
する。
【0028】蓋102はその本体が合成樹脂等の電気的
な絶縁体で構成され、その下面には略全面にわたって銅
シート105が接着されている。銅シート105は電源
端子PS(N)と電気的に接続されており、電源端子P
S(N)以外の端子103、及び端子104とは絶縁さ
れている。すなわち、銅シート105の電位は、装置1
00の回路の安定電位である低電位Nと同じ電位に保た
れている。このため、銅シート105は電磁輻射雑音に
対して遮蔽の効果を奏する。すなわち銅シート105
は、電磁輻射雑音の侵入を抑制して制御回路130等の
誤動作を防止するとともに、主回路120等で発生する
電磁輻射雑音が装置100の外部へ漏洩するのを抑制す
る。
【0029】装置100を使用する際には、装置100
に接続される外部電源その他の外部装置が、装置100
に近接して設けられる。しかしながら、損失熱の大きい
回路基板121が配置される装置100の底面には、前
述の通り放熱設計が施されているために、外部装置は装
置100の上面に設置される。端子103、104が装
置100の上面に設けられているのは、この理由によ
る。端子103に接続される外部装置は特に強い電気的
雑音の発生源であり、この電気的雑音が制御回路130
へ侵入して制御回路130の誤動作を招くおそれがあ
る。上述の蓋102に銅シート105を設ける構成は、
この電気的雑音の制御回路130への侵入を効果的に遮
蔽する。
【0030】[実施例1の変形例]図7は、装置100
の変形例における回路基板の斜視図である。図7(a)
に示す例では、回路基板121と回路基板131とが、
1個の装置の中に階段状に配置されている。この装置例
では、回路基板121と回路基板131において、互い
に対向する部分がない。このため、この装置例では回路
基板121に展開される主回路120からの電気的雑音
が回路基板131上の制御回路130に侵入し難いとい
う効果がある。回路基板121と回路基板131とが部
分的に対向する構成を有する装置においても、対向しな
い部分の比率に相応して上述の効果を奏する。図7
(a)に示す構成において、回路基板121と回路基板
131とを、その主面に沿った方向に互いに離隔させて
成る装置を構成することもできる。この装置例では、更
に顕著に上述の効果が現れる。しかしながら、過度に離
隔する構成は、装置100を小型化するという要請から
は好ましくない。
【0031】図7(b)に示す装置例では、回路基板1
21と回路基板131とが同一平面上において、互いに
接し、ないし離隔して設けられている。この装置例にお
いても、回路基板121に展開される主回路120から
の電気的雑音が回路基板131上の制御回路130に侵
入し難いという利点がある。相互の離隔距離が大きいほ
ど、上述の効果はより顕著に現れる。しかしながら、離
隔距離を過度に大きくする構成は、装置100を小型化
する要請には適しない。
【0032】[実施例2.]図1は、この発明の第2の
実施例による半導体パワーモジュール200の回路基板
210上の部品配置図である。以下の図において、実施
例1の装置100と同一の機能を有する部分は同一の符
号を付けている。この実施例の装置200は、実施例1
の装置100よりも制御すべき電力が小さく、定格出力
電圧、及び最大出力電流は、それぞれ例えば220V、
及び30A以下である。このため、主回路120と制御
回路130とは同一の回路基板210の上に展開されて
いる。この構成は、実施例1の装置100に比べて、装
置を更に小型化し得る利点を備えている。半導体素子I
C8は、図2の回路図における半導体素子IC4〜IC
6の機能を1個の半導体素子で実現するものである。こ
の部品配置図では、半導体素子IC1〜IC3、IC8
に付随する受動的な回路素子は、図示を省略されてい
る。
【0033】回路基板210は2つの領域B1、B2に
分割されている。そして主回路120は1つの領域B1
上に展開されており、制御回路130は他方の領域B2
上に展開されている。主回路の端子204、及び制御回
路の端子203もそれぞれ領域B1、及びB2の上に設
けられる。
【0034】図8に装置200の外観斜視図を示す。回
路基板210は合成樹脂などの絶縁体で構成されるケー
ス201の中に収納されている。装置200の上面には
絶縁体の蓋202が設けられている。蓋202の外部
に、制御回路の端子203と主回路の端子204とが露
出している。装置200の底面には放熱を主目的とし
て、アルミニウムの遮蔽板(図示しない)が設けられて
いる。
【0035】図9は回路基板210の配線パターンの平
面図である。回路基板210は、基板本体211の上面
と下面とに配線パターンが形成されている、いわゆる両
面基板(2層基板)である。図9には両層の配線パター
ンを重ねて描いている。比較的細い線で輪郭が描かれる
配線パターンは、回路基板210の上面側の配線パター
ン(第1層配線パターン)であり、比較的太い線で輪郭
が描かれる配線パターンは下面側の配線パターン(第2
層配線パターン)である。IGBT素子T1〜T6、半
導体素子IC1〜IC3、IC8及びその他の回路素子
は上面側に配置される。
【0036】半導体素子IC1〜IC3、IC8、及び
これらの各1に付随する回路素子と第1層配線パターン
はそれぞれ、最小の広がりを有するエリアAR1〜AR
3、AR8の中に配置され、それぞれのエリアの直下を
覆うように第2層配線パターンPB1〜PB3、PB8
が形成されている。これらの配線パターンPB1〜PB
3、PB8は、各々配線パターンP(VEE1)〜P(V
EE3)、P(VEE8)に接続されている。すなわち、配
線パターンPB1〜PB3は、IGBT素子T1〜T3
のエミッタ電位と同電位を保持し、配線パターンPB8
は、IGBT素子T4〜T6の共通のエミッタ電位と同
電位を保持する。従って、配線パターンPB1〜PB
3、PB8は、それぞれエリアAR1〜AR3、及びA
R8に属する回路への電気的雑音の侵入を抑えるべく作
用する。
【0037】制御回路130が展開されるエリアAR1
〜AR3、AR8は領域B2のみを占めている。従っ
て、制御回路130の配線パターンは、領域B2の中に
形成されている。同様に主回路120の配線パターン
は、領域B1の中に形成されている。すなわち、主回路
120と制御回路130とは同一の回路基板210上に
おいて、2つの領域に分離されている。このため、主回
路120で発生した電気的雑音の制御回路130への侵
入が低減されるので、制御回路130の電気的雑音に起
因する誤動作が防止される。
【0038】[実施例2の変形例]図10及び図11
は、装置200の変形例における回路基板210上の部
品配置図である。図10に示す装置例では、矩形の回路
基板210が直線状の境界をもって互いに接し合う、矩
形の2領域領域B1、B2に分割されている。それぞれ
の領域B1、B2には主回路120と制御回路130が
展開されている。この装置例においても、図1に示した
装置例と同様に、主回路120と制御回路130とが同
一の回路基板210上の2領域に分離して展開されてい
る。このためこの装置例においても、主回路120で発
生した電気的雑音の制御回路130への侵入が低減され
るので、制御回路130の電気的雑音に起因する誤動作
が防止される。
【0039】図11に示す装置例では、回路基板210
が3領域B1、B2a、及びB2bに分割されている。
領域B1の中において、領域B2aに近接する領域にI
GBT素子T1〜T3が配置され、領域B2aにはこれ
らのIGBT素子T1〜T3を制御する半導体素子IC
1〜IC3が配置される。一方、領域B1の中におい
て、領域B2bに近接する領域にはIGBT素子T4〜
T6が配置され、領域B2bにはこれらのIGBT素子
T4〜T6を制御する半導体素子IC4〜IC6が配置
される。
【0040】この装置例では、主回路120と制御回路
130とが同一の回路基板210の上で分離して展開さ
れるので、上述の装置例と同様に、主回路120で発生
した電気的雑音が制御回路130へ侵入し難い。更にこ
の装置例では、IGBT素子T1〜T6のおのおのと、
これらを制御する半導体素子IC1〜IC6とが、互い
に近接して配置される。このためこの装置例では、半導
体素子IC1〜IC6とIGBT素子T1〜T6の間の
配線パターンを最短にすることができるので、これらの
配線パターンに電気的雑音が侵入し難いという更なる効
果がある。
【0041】
【発明の効果】この発明における半導体パワーモジュー
ルでは、電力を制御する主回路と、これを制御する制御
回路とが、別個に設けられる回路基板に互いに分離して
展開されるので、主回路で発生する電気的雑音の制御回
路への侵入が低減される。このため、この発明の装置
は、電気的雑音による制御回路の誤動作を防止する効果
を有している(請求項1)。
【0042】この発明における半導体パワーモジュール
では、電力を制御する主回路と、これを制御する制御回
路とが、同一の回路基板に設けられる2領域に、互いに
分離して展開されるので、主回路で発生する電気的雑音
の制御回路への侵入が低減される。このため、この発明
の装置は、電気的雑音による制御回路の誤動作を防止す
る効果を有している。更に、前記2種類の回路が同一の
回路基板に展開されるので、装置を小型化し得る効果が
ある(請求項2)。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第2の実施例における回路基板の平
面図である。
【図2】この発明の一実施例における装置の回路図であ
る。
【図3】この発明の一実施例における装置の外観斜視図
である。
【図4】この発明の一実施例における主回路の回路基板
の平面図である。
【図5】この発明の一実施例における制御回路の回路基
板の平面図である。
【図6】この発明の一実施例における装置の正面断面図
である。
【図7】この発明の一実施例の変形例における回路基板
の斜視図である。
【図8】この発明の第2の実施例における装置の外観斜
視図である。
【図9】この発明の第2の実施例における回路基板の平
面図である。
【図10】この発明の第2の実施例の第1の変形例にお
ける回路基板の平面図である。
【図11】この発明の第2の実施例の第2の変形例にお
ける回路基板の平面図である。
【符号の説明】
100 半導体パワーモジュール 120 主回路 130 制御回路 T1〜T6 IGBT素子(電力制御半導体素子) 121 回路基板 131 回路基板 200 半導体パワーモジュール 210 回路基板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)電力を制御する電力制御半導体素子
    を有する主回路と、 (c)前記主回路を展開する第1の回路基板と、 (b)当該主回路を制御する制御回路と、 (d)前記制御回路を展開し、前記第1の回路基板とは
    分離して配置される、第2の回路基板と、 を備える半導体パワーモジュール。
  2. 【請求項2】(a)電力を制御する電力制御半導体素子
    を有する主回路と、 (b)当該主回路を制御する制御回路と、 (c)互いに分離された、前記主回路を展開する第1の
    領域と、前記制御回路を展開する第2の領域と、を有す
    る回路基板と、 を備える半導体パワーモジュール。
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