JPH06206886A - セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬 - Google Patents
セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬Info
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- JPH06206886A JPH06206886A JP5230488A JP23048893A JPH06206886A JP H06206886 A JPH06206886 A JP H06206886A JP 5230488 A JP5230488 A JP 5230488A JP 23048893 A JP23048893 A JP 23048893A JP H06206886 A JPH06206886 A JP H06206886A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 種々の病原菌に対して優れた抗菌作用を有す
るセフェム化合物を提供する。 【構成】 一般式（１）で表わされる化合物及びその非
毒性塩、それらの製造方法ならびに当該化合物又はその
塩を含む、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌による感染症
治療用医薬組成物。
るセフェム化合物を提供する。 【構成】 一般式（１）で表わされる化合物及びその非
毒性塩、それらの製造方法ならびに当該化合物又はその
塩を含む、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌による感染症
治療用医薬組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規セフェム化合物、
その製造方法及び該化合物を含む医薬に関する。
その製造方法及び該化合物を含む医薬に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、第３世代のセファロスポリンの広
範な使用に伴い、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲ
ＳＡ）が起こす感染症が重要な問題となっている。第３
世代のセファロスポリンはグラム陰性桿菌に対する抗菌
力は強いもののグラム陽性球菌に対する抗菌力が低下し
ているため、β−ラクタム系抗生物質に耐性の黄色ブド
ウ球菌が増加し、難治性感染症として深刻な問題となっ
ている。現在ＭＲＳＡの引き起こす感染症の治療薬とし
て有効なものとしては、ポリペプチド系抗生物質である
バンコマイシンのみであるが、バンコマイシンは湿疹、
腎毒性の副作用等があり慎重な投与が必要である。
範な使用に伴い、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲ
ＳＡ）が起こす感染症が重要な問題となっている。第３
世代のセファロスポリンはグラム陰性桿菌に対する抗菌
力は強いもののグラム陽性球菌に対する抗菌力が低下し
ているため、β−ラクタム系抗生物質に耐性の黄色ブド
ウ球菌が増加し、難治性感染症として深刻な問題となっ
ている。現在ＭＲＳＡの引き起こす感染症の治療薬とし
て有効なものとしては、ポリペプチド系抗生物質である
バンコマイシンのみであるが、バンコマイシンは湿疹、
腎毒性の副作用等があり慎重な投与が必要である。
【０００３】従来、抗菌作用を有する３−チオビニルセ
ファロスポリン誘導体としては、例えば、特公昭６２−
１７５９２号公報及び特開昭５９−１３０２９２号公報
（欧州特許公開第１１１２８１号明細書）に記載された
化合物が知られている。後者の公報中には７位の側鎖部
分にアルコキシイミノ基を有し、セファロスポリン骨格
の３位にチオビニル−第４級アンモニウム塩を有する化
合物が記載されてはいるが、ヒドロキシイミノ基につい
ては記載されていない。また、これら先行技術には３−
チオビニルセファロスポリン誘導体がＭＲＳＡに有効で
あるとの開示もない。
ファロスポリン誘導体としては、例えば、特公昭６２−
１７５９２号公報及び特開昭５９−１３０２９２号公報
（欧州特許公開第１１１２８１号明細書）に記載された
化合物が知られている。後者の公報中には７位の側鎖部
分にアルコキシイミノ基を有し、セファロスポリン骨格
の３位にチオビニル−第４級アンモニウム塩を有する化
合物が記載されてはいるが、ヒドロキシイミノ基につい
ては記載されていない。また、これら先行技術には３−
チオビニルセファロスポリン誘導体がＭＲＳＡに有効で
あるとの開示もない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた抗菌
力を有するセフェム化合物、殊にＭＲＳＡに対して有効
且つ安全性の高い新規なセフェム化合物を提供すること
にある。
力を有するセフェム化合物、殊にＭＲＳＡに対して有効
且つ安全性の高い新規なセフェム化合物を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するために、種々のセフェム化合物を合成し、検討
した結果、セファロスポリン骨格の３位にチオビニル−
第４級アンモニウム塩を有し、且つ７位の側鎖部分にヒ
ドロキシイミノ基を有するセフェム化合物が優れた抗菌
活性を有し、特にＭＲＳＡに有効であることを見い出
し、ここに本発明を完成するに至った。
解決するために、種々のセフェム化合物を合成し、検討
した結果、セファロスポリン骨格の３位にチオビニル−
第４級アンモニウム塩を有し、且つ７位の側鎖部分にヒ
ドロキシイミノ基を有するセフェム化合物が優れた抗菌
活性を有し、特にＭＲＳＡに有効であることを見い出
し、ここに本発明を完成するに至った。
【０００６】本発明のセフェム化合物は、新規化合物で
あって、下記一般式（１）で表わされる。
あって、下記一般式（１）で表わされる。
【０００７】
【化１５】
【０００８】〔式中ＱはＣＨ又はＮを示す。Ｒ1 はカル
ボキシレート又はカルボキシル基を示す。Ｒは
ボキシレート又はカルボキシル基を示す。Ｒは
【０００９】
【化１６】
【００１０】を示す。ここでＲ2 は低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、ヒドロキシ低級ア
ルキル基又は基−Ａ−ＣＯ−Ｒ3 （基中、Ａは炭素数１
〜６のアルキレン基、フェニレン基、ベンジレン基又は
キシリレン基を、Ｒ3 は水酸基、低級アルキル基、水酸
基で置換されることのあるフェニル基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又はアミノ酸のアミノ基をそれぞれ示
す。）を示す。ｎは０又は１〜３の整数を示す。Ｂ- は
陰イオンを示す。ｆはＲ1 がカルボキシレートを示す場
合には０を、Ｒ1 がカルボキシル基を示す場合には１を
示す。Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換される
ことのある窒素数４以下の５員複素環基を示す。〕本明
細書において示される基は、より具体的にはそれぞれ次
の通りである。
級アルケニル基、低級アルキニル基、ヒドロキシ低級ア
ルキル基又は基−Ａ−ＣＯ−Ｒ3 （基中、Ａは炭素数１
〜６のアルキレン基、フェニレン基、ベンジレン基又は
キシリレン基を、Ｒ3 は水酸基、低級アルキル基、水酸
基で置換されることのあるフェニル基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又はアミノ酸のアミノ基をそれぞれ示
す。）を示す。ｎは０又は１〜３の整数を示す。Ｂ- は
陰イオンを示す。ｆはＲ1 がカルボキシレートを示す場
合には０を、Ｒ1 がカルボキシル基を示す場合には１を
示す。Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換される
ことのある窒素数４以下の５員複素環基を示す。〕本明
細書において示される基は、より具体的にはそれぞれ次
の通りである。
【００１１】低級アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
３級ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の
アルキル基を例示できる。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
３級ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の
アルキル基を例示できる。
【００１２】低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、クロチル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の
炭素数２〜６のアルケニル基を例示できる。
ル、クロチル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の
炭素数２〜６のアルケニル基を例示できる。
【００１３】低級アルキニル基としては、エチニル、１
−プロピニル、２−プロピニル、２−ブチニル、１−メ
チル−２−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニ
ル基等の炭素数２〜６のアルキニル基を例示できる。
−プロピニル、２−プロピニル、２−ブチニル、１−メ
チル−２−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキシニ
ル基等の炭素数２〜６のアルキニル基を例示できる。
【００１４】ヒドロキシ低級アルキル基としては、ヒド
ロキメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプ
ロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキシペンチ
ル、６−ヒドロキシヘキシル基等のアルキル部分の炭素
数が１〜６のヒドロキシアルキル基を例示できる。
ロキメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプ
ロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキシペンチ
ル、６−ヒドロキシヘキシル基等のアルキル部分の炭素
数が１〜６のヒドロキシアルキル基を例示できる。
【００１５】炭素数１〜６のアルキレン基としては、メ
チレン、エチレン、１−メチルエチレン、プロピレン、
２−エチルプロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシ
レン基等を例示できる。
チレン、エチレン、１−メチルエチレン、プロピレン、
２−エチルプロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシ
レン基等を例示できる。
【００１６】水酸基で置換されることのあるフェニル基
としては、フェニル基、フェニル基に１〜３個の水酸基
が置換したｏ−ヒドロキシフェニル、ｐ−ヒドロキシフ
ェニル、ｍ−ヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキ
シフェニル、３，４−ジヒドロキシフェニル、３，４，
５−トリヒドロキシフェニル基等を例示できる。
としては、フェニル基、フェニル基に１〜３個の水酸基
が置換したｏ−ヒドロキシフェニル、ｐ−ヒドロキシフ
ェニル、ｍ−ヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキ
シフェニル、３，４−ジヒドロキシフェニル、３，４，
５−トリヒドロキシフェニル基等を例示できる。
【００１７】低級アルキルアミノ基としては、メチルア
ミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、
ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜６のモノアルキルアミ
ノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジヘキシルアミノ基等の炭素数
２〜１２のジアルキルアミノ基等を例示できる。
ミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、
ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜６のモノアルキルアミ
ノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジヘキシルアミノ基等の炭素数
２〜１２のジアルキルアミノ基等を例示できる。
【００１８】アミノ酸のアミノ基とはアミノ酸を構成す
るアミノ基から１個の水素原子が脱離した基を意味する
ものである。該アミノ酸としては、アラニン、イソロイ
シン、グリシン、セリン、トレオニン、バリン、ノルバ
リン、イソバリン、ロノルロイシン、ロイシン、メチオ
ニン等の炭素数３〜１０のαアミノ酸やβアミノ酸を例
示できる。
るアミノ基から１個の水素原子が脱離した基を意味する
ものである。該アミノ酸としては、アラニン、イソロイ
シン、グリシン、セリン、トレオニン、バリン、ノルバ
リン、イソバリン、ロノルロイシン、ロイシン、メチオ
ニン等の炭素数３〜１０のαアミノ酸やβアミノ酸を例
示できる。
【００１９】Ｃで表わされる環は低級アルキル基で置換
されることのある窒素数４以下の５員複素環基であり、
具体的にはオキサゾール、チアゾール、イソキサゾー
ル、イソチアゾール、オキサチアゾール、チアジアゾー
ル、オキサチアジアゾール、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾ
ール、テトラゾール等を例示でき、これらの複素環の窒
素原子や炭素原子上に低級アルキル基が１個置換してい
てもよい。斯かる複素環はより具体的には下記構造式で
示される。
されることのある窒素数４以下の５員複素環基であり、
具体的にはオキサゾール、チアゾール、イソキサゾー
ル、イソチアゾール、オキサチアゾール、チアジアゾー
ル、オキサチアジアゾール、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾ
ール、テトラゾール等を例示でき、これらの複素環の窒
素原子や炭素原子上に低級アルキル基が１個置換してい
てもよい。斯かる複素環はより具体的には下記構造式で
示される。
【００２０】
【化１７】
【００２１】Ｂ- で表わされる陰イオンとしては、塩
酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、２−クロロエタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、ｐ−エチ
ルスルホン酸、ｐ−クロルスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸等の有機酸の酸残基が
例示できる。
酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、２−クロロエタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、ｐ−エチ
ルスルホン酸、ｐ−クロルスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸等の有機酸の酸残基が
例示できる。
【００２２】セフェムカルボキシル保護基には、セフェ
ム合成において汎用される保護エステル及び薬学的に許
容される保護エステルが包含される。セフェム合成にお
いて汎用される保護エステルとは、β−ラクタム化合物
に種々の化学的修飾を施す際に安定であり、且つ後記の
薬学的に許容される保護エステルに導く際には容易に脱
離させることができるエステルである。薬学的に許容さ
れる保護エステルとは、ｉｎ ｖｉｖｏで容易に加水分
解され得るものであり、ヒトの血中や組織において迅速
に分解され得る非毒性のエステルである。これらエステ
ルとしては、抗生物質の分野で通常用いられている公知
のものでよく、具体的には例えば特開昭４９−８１３８
０号公報及びエッチ．イー．フライン編セファロスポリ
ン アンド ペニシリンズ、ケミストリー アンド バ
イオロジー（１９７２年 アカデミックプレス発行）に
記載のものをいずれも使用できる。好ましいものとして
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−シクロプ
ロピルメチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル等の炭素数１〜１８のアルキル基、ヨードデシル、
クロルメチル、２，２−ジブロモエチル、２，２，２−
トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル等の
塩素、臭素又は沃素原子が１〜３個置換したハロゲノ低
級アルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−メトキシベンジル、ｐ−
メトキシベンジル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチル
等のニトロ基又はアルコキシ基が置換していてもよいフ
ェニル基が１〜３個置換したメチル基、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、ｎ−プロピルオキシメチル、イソ
プロピルオキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブト
キシメチル等の低級アルコキシメチル基、アセトキシメ
チル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、
ｎ−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、１−アセトキシエチル、
ピバロイルオキシエチル、ピバロイルオキシプロピル、
１−プロピオニロキシブチル等の低級アルキルカルボニ
ロキシ低級アルキル基、シクロペンチルカルボニルオキ
シメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等の
炭素数５〜７のシクロアルキルカルボニルオキシ−低級
アルキル基、ベンジルカルボニルオキシメチル等のベン
ジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイルオキ
シメチル、ベンゾイルオキシエチル等のベンゾイルオキ
シ低級アルキル基、メトキシ−カルボニルオキシメチ
ル、１−エトキシ−カルボニルオキシエチル、３−メト
キシ−カルボニルオキシプロピル等の低級アルコキシカ
ルボニルオキシ低級アルキル基、ベンジルオキシメチ
ル、ベンジルオキシエチル等のベンジルオキシ低級アル
キル基等の他、２−シアノ−１，１−ジメチルエチル、
ブロモベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチ
ル、ジメチルアミノメチル、メチルチオメチル、フェニ
ルチオメチル、スクシンイミドメチル、１，１−ジメチ
ル−２−プロペニル、１，３−ジメチル−３−ブテイ
ル、３−フタリジル、クロトノラクトン−４−イル、γ
−ブチロラクトン−４−イル、テトラヒドロピラニル、
ジメチルアミノエチル、ジメチルクロロシリル、トリク
ロロシリル、（２−オキソ−１，３−ジオキソデン−４
−イル）メチル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソデン−４−イル）メチル、（５−フェニル−２
−オキソ−１，３−ジオキソデン−４−イル）メチル、
ピリジン−１−オキサイド−２−メチル、キノリン−１
−オキサイド−２−メチル基等を例示できる。
ム合成において汎用される保護エステル及び薬学的に許
容される保護エステルが包含される。セフェム合成にお
いて汎用される保護エステルとは、β−ラクタム化合物
に種々の化学的修飾を施す際に安定であり、且つ後記の
薬学的に許容される保護エステルに導く際には容易に脱
離させることができるエステルである。薬学的に許容さ
れる保護エステルとは、ｉｎ ｖｉｖｏで容易に加水分
解され得るものであり、ヒトの血中や組織において迅速
に分解され得る非毒性のエステルである。これらエステ
ルとしては、抗生物質の分野で通常用いられている公知
のものでよく、具体的には例えば特開昭４９−８１３８
０号公報及びエッチ．イー．フライン編セファロスポリ
ン アンド ペニシリンズ、ケミストリー アンド バ
イオロジー（１９７２年 アカデミックプレス発行）に
記載のものをいずれも使用できる。好ましいものとして
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−シクロプ
ロピルメチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル等の炭素数１〜１８のアルキル基、ヨードデシル、
クロルメチル、２，２−ジブロモエチル、２，２，２−
トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル等の
塩素、臭素又は沃素原子が１〜３個置換したハロゲノ低
級アルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−メトキシベンジル、ｐ−
メトキシベンジル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチル
等のニトロ基又はアルコキシ基が置換していてもよいフ
ェニル基が１〜３個置換したメチル基、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、ｎ−プロピルオキシメチル、イソ
プロピルオキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、イソブト
キシメチル等の低級アルコキシメチル基、アセトキシメ
チル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、
ｎ−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、１−アセトキシエチル、
ピバロイルオキシエチル、ピバロイルオキシプロピル、
１−プロピオニロキシブチル等の低級アルキルカルボニ
ロキシ低級アルキル基、シクロペンチルカルボニルオキ
シメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等の
炭素数５〜７のシクロアルキルカルボニルオキシ−低級
アルキル基、ベンジルカルボニルオキシメチル等のベン
ジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイルオキ
シメチル、ベンゾイルオキシエチル等のベンゾイルオキ
シ低級アルキル基、メトキシ−カルボニルオキシメチ
ル、１−エトキシ−カルボニルオキシエチル、３−メト
キシ−カルボニルオキシプロピル等の低級アルコキシカ
ルボニルオキシ低級アルキル基、ベンジルオキシメチ
ル、ベンジルオキシエチル等のベンジルオキシ低級アル
キル基等の他、２−シアノ−１，１−ジメチルエチル、
ブロモベンゾイルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチ
ル、ジメチルアミノメチル、メチルチオメチル、フェニ
ルチオメチル、スクシンイミドメチル、１，１−ジメチ
ル−２−プロペニル、１，３−ジメチル−３−ブテイ
ル、３−フタリジル、クロトノラクトン−４−イル、γ
−ブチロラクトン−４−イル、テトラヒドロピラニル、
ジメチルアミノエチル、ジメチルクロロシリル、トリク
ロロシリル、（２−オキソ−１，３−ジオキソデン−４
−イル）メチル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソデン−４−イル）メチル、（５−フェニル−２
−オキソ−１，３−ジオキソデン−４−イル）メチル、
ピリジン−１−オキサイド−２−メチル、キノリン−１
−オキサイド−２−メチル基等を例示できる。
【００２３】一般式（１）の化合物の非毒性塩として
は、医薬上許容される塩類、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、クエン酸塩、マレイン酸
塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機カルボン酸、メタンスル
ホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸、タウリン塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機ス
ルホン酸塩、アルギニン塩、リジン塩、セリン塩、アス
パラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン酸塩等のアミ
ノ酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等のア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩が挙げられる。
は、医薬上許容される塩類、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、クエン酸塩、マレイン酸
塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機カルボン酸、メタンスル
ホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸、タウリン塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機ス
ルホン酸塩、アルギニン塩、リジン塩、セリン塩、アス
パラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン酸塩等のアミ
ノ酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等のア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩が挙げられる。
【００２４】上記一般式（１）の化合物及びその非毒性
塩の中で好ましいものは、７−〔２−ヒドロキシイミノ
−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリ
ジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシ
レート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−〔２−（１−エチル−４−ピリジニオ）チオビニ
ル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその
塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１
−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕チオビ
ニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその
塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−カルボキシメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−
３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセト
ニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジニ
オ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−
｛２−〔１−（４−カルボキシベンジル）−４−ピリジ
ニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル
メチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル〕アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキ
シレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−〔２−（１，４−ジメチル−１，２，４−トリア
ゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−イミダゾリ
オ−２−イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カル
ボキシレート又はその塩、及び７−〔２−ヒドロキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−１，２，３
−トリアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート又はその塩である。
塩の中で好ましいものは、７−〔２−ヒドロキシイミノ
−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリ
ジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシ
レート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−〔２−（１−エチル−４−ピリジニオ）チオビニ
ル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその
塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１
−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕チオビ
ニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその
塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−カルボキシメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−
３−セフェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセト
ニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジニ
オ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−
｛２−〔１−（４−カルボキシベンジル）−４−ピリジ
ニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル
メチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル〕アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキ
シレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−〔２−（１，４−ジメチル−１，２，４−トリア
ゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−イミダゾリ
オ−２−イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カル
ボキシレート又はその塩、及び７−〔２−ヒドロキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−１，２，３
−トリアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート又はその塩である。
【００２５】本発明の化合物（１）及び原料化合物にお
いては、シス異性体、トランス異性体、及びシス，トラ
ンス混合物が包含されるものとする。
いては、シス異性体、トランス異性体、及びシス，トラ
ンス混合物が包含されるものとする。
【００２６】化合物（１）については、例えばシス異性
体は下記一般式（４）で表わされる部分構造を有する幾
何異性体の一つを意味し、トランス異性体は下記式
（５）で表わされる部分構造を有する他の幾何異性体を
意味する。
体は下記一般式（４）で表わされる部分構造を有する幾
何異性体の一つを意味し、トランス異性体は下記式
（５）で表わされる部分構造を有する他の幾何異性体を
意味する。
【００２７】
【化１８】
【００２８】
【化１９】
【００２９】本発明の化合物（１）及びその塩は、種々
の方法によって製造されるが、その好ましい方法を示せ
ば下記製造法Ｉに従い製造される。
の方法によって製造されるが、その好ましい方法を示せ
ば下記製造法Ｉに従い製造される。
【００３０】
【化２０】
【００３１】〔式中Ｒ4 はセフェムカルボキシル保護基
を、Ｒ′は
を、Ｒ′は
【００３２】
【化２１】
【００３３】を示す。ここでＲ2 、ｎ、Ｂ- 及びＣは前
記に同じ。Ｒ5 はアミノ基又は保護されたアミノ基を示
す。Ｒ6 はオキシム保護基を示す。Ｑ、Ｒ及びＲ1 は前
記に同じ。〕上記製造法Ｉにおいて、一般式（１）で表
わされる化合物は、一般式（６）で表わされるアミン化
合物と一般式（７）で表わされるカルボン酸化合物又は
そのカルボキシ基が活性化された反応性誘導体とを通常
のアミド結合生成反応させ、次いで得られる生成物から
保護基を除去することにより製造できる。
記に同じ。Ｒ5 はアミノ基又は保護されたアミノ基を示
す。Ｒ6 はオキシム保護基を示す。Ｑ、Ｒ及びＲ1 は前
記に同じ。〕上記製造法Ｉにおいて、一般式（１）で表
わされる化合物は、一般式（６）で表わされるアミン化
合物と一般式（７）で表わされるカルボン酸化合物又は
そのカルボキシ基が活性化された反応性誘導体とを通常
のアミド結合生成反応させ、次いで得られる生成物から
保護基を除去することにより製造できる。
【００３４】ここでＲ4 で示されるカルボキシ基の保護
基としては、トリメチルシリル基等のトリ（低級）アル
キルシリル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジ
ル基、tert−ブチル基、ｐ−ニトロベンジル基、フェナ
シル基等通常この分野に用いられる、容易に除去し得る
カルボキシ基の保護基を例示できる。
基としては、トリメチルシリル基等のトリ（低級）アル
キルシリル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジ
ル基、tert−ブチル基、ｐ−ニトロベンジル基、フェナ
シル基等通常この分野に用いられる、容易に除去し得る
カルボキシ基の保護基を例示できる。
【００３５】Ｒ5 の保護されたアミノ基の保護基として
は、緩和な条件で容易に除去できる保護基を広く使用で
き、具体的にはトリメチルシリル基等のトリ（低級）ア
ルキルシリル基、ホルミル基、トリフルオロアセチル
基、アセチル基、tert−ブチルカルボニル基、メトキシ
アセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基等のアシル系保護基、ベン
ジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラルキル
基系の保護基を例示できる。
は、緩和な条件で容易に除去できる保護基を広く使用で
き、具体的にはトリメチルシリル基等のトリ（低級）ア
ルキルシリル基、ホルミル基、トリフルオロアセチル
基、アセチル基、tert−ブチルカルボニル基、メトキシ
アセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基等のアシル系保護基、ベン
ジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラルキル
基系の保護基を例示できる。
【００３６】Ｒ6 で示されるオキシム保護基としては、
トリチル基、テトラヒドロピラニル基等の緩和な条件で
容易に除去し得るこの分野で一般的に使用される保護基
を例示できる。
トリチル基、テトラヒドロピラニル基等の緩和な条件で
容易に除去し得るこの分野で一般的に使用される保護基
を例示できる。
【００３７】化合物（６）と化合物（７）又はその反応
性誘導体との反応には、通常用いられている公知のアミ
ド結合生成反応の条件が適用できる。
性誘導体との反応には、通常用いられている公知のアミ
ド結合生成反応の条件が適用できる。
【００３８】化合物（７）の反応性誘導体の例として
は、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハライド、置換リ
ン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、炭酸ア
ルキル、有機カルボン酸等の酸との酸無水物及び対称酸
無水物、イミダゾール、ジメチルピラゾール等との活性
酸アミド、ｐ−ニトロフェニルエステル、フェニルチオ
エステル、カルボキシメチルチオエステル又はＮ−ヒド
ロキシピペリジン、Ｎ−ヒドロキシサクシノイミド、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒドロキシ化合物と
のエステル等の活性エステルが挙げられる。
は、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハライド、置換リ
ン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、炭酸ア
ルキル、有機カルボン酸等の酸との酸無水物及び対称酸
無水物、イミダゾール、ジメチルピラゾール等との活性
酸アミド、ｐ−ニトロフェニルエステル、フェニルチオ
エステル、カルボキシメチルチオエステル又はＮ−ヒド
ロキシピペリジン、Ｎ−ヒドロキシサクシノイミド、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド等のＮ−ヒドロキシ化合物と
のエステル等の活性エステルが挙げられる。
【００３９】本発明において、化合物（７）を遊離のカ
ルボン酸の状態で使用する場合には、Ｎ，Ｎ−ジエチル
カルボジイミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド等の縮合剤を用いることが好ましい。
ルボン酸の状態で使用する場合には、Ｎ，Ｎ−ジエチル
カルボジイミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド等の縮合剤を用いることが好ましい。
【００４０】上記反応で用いられる溶媒は反応に関与し
なければ特に制限はなく、また反応温度は通常冷却下又
は室温付近で行なわれる。溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、ト
リエチルアミン等のアミン類、酢酸エチル、ギ酸エチル
等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン性極性溶媒、アセトン等やこれらの混合溶媒を例示出
来る。
なければ特に制限はなく、また反応温度は通常冷却下又
は室温付近で行なわれる。溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、ト
リエチルアミン等のアミン類、酢酸エチル、ギ酸エチル
等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン性極性溶媒、アセトン等やこれらの混合溶媒を例示出
来る。
【００４１】更に用いられるカルボン酸の反応性誘導体
によっては塩基性化合物存在下に行なうことが好ましい
場合もある。該塩基性化合物としては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類、ピリ
ジン、ピコリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．
０〕ウンデセン−７等の有機塩基、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を
例示できる。
によっては塩基性化合物存在下に行なうことが好ましい
場合もある。該塩基性化合物としては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類、ピリ
ジン、ピコリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．
０〕ウンデセン−７等の有機塩基、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を
例示できる。
【００４２】上記反応において一般式（６）で表わされ
るアミン化合物に対する一般式（７）で表わされるカル
ボン酸化合物又はその反応性誘導体の使用量は、通常１
〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量程度が
よい。また一般式（６）で表わされるアミン化合物に対
する塩基性化合物の使用量は、通常１〜３０倍モル量程
度、好ましくは２〜１０倍モル量程度とするのがよい。
反応時間は通常１〜２４時間程度、好ましくは１〜６時
間程度である。
るアミン化合物に対する一般式（７）で表わされるカル
ボン酸化合物又はその反応性誘導体の使用量は、通常１
〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量程度が
よい。また一般式（６）で表わされるアミン化合物に対
する塩基性化合物の使用量は、通常１〜３０倍モル量程
度、好ましくは２〜１０倍モル量程度とするのがよい。
反応時間は通常１〜２４時間程度、好ましくは１〜６時
間程度である。
【００４３】上記で得られたアミド結合生成物から保護
基を除去するには、例えば保護基がトリ（低級）アルキ
ルシリル基等である場合には、水で処理することにより
行なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、ホル
ミル基等の保護基である場合には、ギ酸、塩酸、トリフ
ルオロ酢酸、アニソール−トリフルオロ酢酸、酢酸、フ
ェノール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。反
応終了後、ダイヤイオンＨＰ−２０、ＨＰ−２１、ＳＰ
−２０７、ＣＨＰ−２０Ｐ（三菱化成工業）等のハイポ
ーラスポリマー、アンバーライトＸＡＤ−２（ローム＆
ハス社）等を用いたカラムグラフィーにより精製するこ
とにより一般式（１）の本発明化合物を得ることができ
る。
基を除去するには、例えば保護基がトリ（低級）アルキ
ルシリル基等である場合には、水で処理することにより
行なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、ホル
ミル基等の保護基である場合には、ギ酸、塩酸、トリフ
ルオロ酢酸、アニソール−トリフルオロ酢酸、酢酸、フ
ェノール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。反
応終了後、ダイヤイオンＨＰ−２０、ＨＰ−２１、ＳＰ
−２０７、ＣＨＰ−２０Ｐ（三菱化成工業）等のハイポ
ーラスポリマー、アンバーライトＸＡＤ−２（ローム＆
ハス社）等を用いたカラムグラフィーにより精製するこ
とにより一般式（１）の本発明化合物を得ることができ
る。
【００４４】
【化２２】
【００４５】〔式中Ｑ、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 及
びＲ′は前記に同じ。Ｒ7 はハロゲン原子、低級アシル
オキシ基又はスルホニルオキシ基を示す。Ｒ8 は
びＲ′は前記に同じ。Ｒ7 はハロゲン原子、低級アシル
オキシ基又はスルホニルオキシ基を示す。Ｒ8 は
【００４６】
【化２３】
【００４７】を示す。ここでＣ及びｎは前記に同じ。Ｘ
はハロゲン原子を示す。Ｍは水素原子又は金属原子を示
す。〕上記製造法IIにおいて、一般式（１）で表わされ
る本発明化合物は、一般式（８）で表わされるセファロ
スポリン化合物又はその塩類と一般式（９）で表わされ
るメルカプト化合物を反応させ、次いで得られる一般式
（１０）の化合物に一般式（１１）で表わされるハロゲ
ン化有機化合物を反応させ、更に得られる一般式（１
２）の化合物から保護基を除去することにより、一般式
（１）の本発明化合物を得ることができる。また一般式
（８）の化合物に一般式（１３）で表わされる４級化さ
れたメルカプト化合物を反応させることにより、一般式
（１２）の化合物を一挙に製造することもできる。
はハロゲン原子を示す。Ｍは水素原子又は金属原子を示
す。〕上記製造法IIにおいて、一般式（１）で表わされ
る本発明化合物は、一般式（８）で表わされるセファロ
スポリン化合物又はその塩類と一般式（９）で表わされ
るメルカプト化合物を反応させ、次いで得られる一般式
（１０）の化合物に一般式（１１）で表わされるハロゲ
ン化有機化合物を反応させ、更に得られる一般式（１
２）の化合物から保護基を除去することにより、一般式
（１）の本発明化合物を得ることができる。また一般式
（８）の化合物に一般式（１３）で表わされる４級化さ
れたメルカプト化合物を反応させることにより、一般式
（１２）の化合物を一挙に製造することもできる。
【００４８】化合物（８）と化合物（９）との反応は、
通常アセトン等のケトン類、クロロホルム、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトニトリル、メタノール、エタノール等
のアルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、水、リン酸緩衝液等の有機溶媒又は親水性有
機溶媒と水との混合液中で行なわれる。該反応系内に塩
基や塩類を添加することによって反応を促進させること
もできる。これらの塩基、塩類としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピ
ルアミン等のトリアルキルアミンの様な有機アミンを挙
げることができる。また塩類としてはテトラブチルアン
モニウム塩の様な第４級アンモニウム塩が例示できる。
該反応は通常冷却下又は室温付近で行なわれる。
通常アセトン等のケトン類、クロロホルム、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトニトリル、メタノール、エタノール等
のアルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、水、リン酸緩衝液等の有機溶媒又は親水性有
機溶媒と水との混合液中で行なわれる。該反応系内に塩
基や塩類を添加することによって反応を促進させること
もできる。これらの塩基、塩類としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピ
ルアミン等のトリアルキルアミンの様な有機アミンを挙
げることができる。また塩類としてはテトラブチルアン
モニウム塩の様な第４級アンモニウム塩が例示できる。
該反応は通常冷却下又は室温付近で行なわれる。
【００４９】一般式（１１）で表わされるハロゲン化有
機化合物としては、例えば低級アルキルハライド、低級
アルケニルハライド、低級アルキニルハライド、ヒドロ
キシ低級アルキルハライド、カルボキシ低級アルキルハ
ライド、カルバモイル低級アルキルハライド、低級アル
カノイル低級アルキルハライド等が挙げられ、上記各種
ハライドとしては、クロライド、ブロマイド、ヨーダイ
ド等が例示できる。化合物（１０）と化合物（１１）と
の反応に使用される溶媒としては、例えばジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等
が例示できる。該反応は室温〜８０℃程度、好ましくは
２０〜５０℃程度にて行なわれ、一般に１〜２０時間程
度で終了する。
機化合物としては、例えば低級アルキルハライド、低級
アルケニルハライド、低級アルキニルハライド、ヒドロ
キシ低級アルキルハライド、カルボキシ低級アルキルハ
ライド、カルバモイル低級アルキルハライド、低級アル
カノイル低級アルキルハライド等が挙げられ、上記各種
ハライドとしては、クロライド、ブロマイド、ヨーダイ
ド等が例示できる。化合物（１０）と化合物（１１）と
の反応に使用される溶媒としては、例えばジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等
が例示できる。該反応は室温〜８０℃程度、好ましくは
２０〜５０℃程度にて行なわれ、一般に１〜２０時間程
度で終了する。
【００５０】一般式（８）の化合物と一般式（１３）の
化合物との反応は、前記一般式（８）の化合物と一般式
（９）の化合物との反応と同様の反応条件下に行ない得
る。一般式（９）及び（１３）の金属原子としては、ナ
トリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム、銀、
銅等が例示できる。
化合物との反応は、前記一般式（８）の化合物と一般式
（９）の化合物との反応と同様の反応条件下に行ない得
る。一般式（９）及び（１３）の金属原子としては、ナ
トリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム、銀、
銅等が例示できる。
【００５１】斯くして得られる一般式（１２）の化合物
は、製造法Ｉで示した方法により保護基の除去を行なう
ことができ、一般式（１）の本発明化合物が容易に製造
される。
は、製造法Ｉで示した方法により保護基の除去を行なう
ことができ、一般式（１）の本発明化合物が容易に製造
される。
【００５２】本発明の化合物は、適当な製剤用担体を用
いて通常の方法に従い、製剤組成物とされる。ここで用
いられる担体としては、通常の薬剤に汎用される各種の
もの、例えば賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色
剤、矯味剤、矯臭剤、界面活性剤等を例示できる。
いて通常の方法に従い、製剤組成物とされる。ここで用
いられる担体としては、通常の薬剤に汎用される各種の
もの、例えば賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色
剤、矯味剤、矯臭剤、界面活性剤等を例示できる。
【００５３】本発明製剤を人を含む哺乳動物の感染症、
殊にメチシリン耐性黄色ブドウ球菌の引き起こす感染症
の治療剤として使用する際の投与単位形態としては特に
限定されず、治療目的に応じて適宜選択でき、具体的に
は注射剤、坐剤、点眼剤、軟膏剤、エアゾール剤等の非
経口剤、錠剤、被覆錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、
液剤、丸剤、懸濁剤、乳剤等の経口剤を例示できる。
殊にメチシリン耐性黄色ブドウ球菌の引き起こす感染症
の治療剤として使用する際の投与単位形態としては特に
限定されず、治療目的に応じて適宜選択でき、具体的に
は注射剤、坐剤、点眼剤、軟膏剤、エアゾール剤等の非
経口剤、錠剤、被覆錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、
液剤、丸剤、懸濁剤、乳剤等の経口剤を例示できる。
【００５４】上記各種薬剤は、この分野で通常知られた
製剤方法により製剤化される。錠剤、散剤、顆粒剤等の
経口用固形製剤の形態に成形するに際しては、担体とし
て例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿
素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロ
ース、ケイ酸、メチルセルロース、グリセリン、アルギ
ン酸ナトリウム、アラビアゴム等の賦形剤、単シロッ
プ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリ
ドン、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、エチルセルロース、水、エタノール、リン
酸カリウム等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、
ステアリン酸、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用でき
る。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠、二重錠、多層錠等とすることができる。
製剤方法により製剤化される。錠剤、散剤、顆粒剤等の
経口用固形製剤の形態に成形するに際しては、担体とし
て例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿
素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロ
ース、ケイ酸、メチルセルロース、グリセリン、アルギ
ン酸ナトリウム、アラビアゴム等の賦形剤、単シロッ
プ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリ
ドン、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、エチルセルロース、水、エタノール、リン
酸カリウム等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、
ステアリン酸、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用でき
る。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠、二重錠、多層錠等とすることができる。
【００５５】丸剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化
植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム
末、トラガント末、ゼラチン等の結合剤、ラミナラン、
カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
して例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化
植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム
末、トラガント末、ゼラチン等の結合剤、ラミナラン、
カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
【００５６】カプセル剤は上記で例示した各種の担体と
混合し、硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填
して調製される。
混合し、硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填
して調製される。
【００５７】坐剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、ラノリ
ン、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼ
ラチン、半合成グリセライド、ウィテップゾール（登録
商標ダイナマイトノーベル社）等に適当な吸収促進剤を
添加して使用できる。
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、ラノリ
ン、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼ
ラチン、半合成グリセライド、ウィテップゾール（登録
商標ダイナマイトノーベル社）等に適当な吸収促進剤を
添加して使用できる。
【００５８】注射剤の形態に成形するに際しては、担体
として例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プ
ロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等の希釈剤、
クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム等のｐＨ調整剤及び緩衝剤、ピロ亜硫酸ナトリウム、
エチレンジアミン四酢酸、チオグリコール酸、チオ乳酸
等の安定化剤等を使用できる。なお、この場合等張性の
溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖又はグリセ
リンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶
解補助剤、無痛化剤、局所麻酔剤等を添加してもよい。
これらの担体を添加して、常法により皮下、筋肉内、静
脈内用注射剤を製造することができる。
として例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プ
ロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等の希釈剤、
クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム等のｐＨ調整剤及び緩衝剤、ピロ亜硫酸ナトリウム、
エチレンジアミン四酢酸、チオグリコール酸、チオ乳酸
等の安定化剤等を使用できる。なお、この場合等張性の
溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖又はグリセ
リンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶
解補助剤、無痛化剤、局所麻酔剤等を添加してもよい。
これらの担体を添加して、常法により皮下、筋肉内、静
脈内用注射剤を製造することができる。
【００５９】液体製剤は水性又は油性の懸濁液、溶液、
シロップ、エリキシル剤であってもよく、これらは通常
の添加剤を用いて常法に従い、調製される。
シロップ、エリキシル剤であってもよく、これらは通常
の添加剤を用いて常法に従い、調製される。
【００６０】軟膏剤、例えばペースト、クリーム及びゲ
ルの形態に調製するに際しては、希釈剤として例えば白
色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロース誘導
体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト
等を使用できる。
ルの形態に調製するに際しては、希釈剤として例えば白
色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロース誘導
体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト
等を使用できる。
【００６１】上記製剤中に含有されるべき本発明化合物
の量としては、剤型、投与経路、投与計画等により異な
り一概には言えず広い範囲内から適宜選択されるが、通
常製剤中に１〜７０重量％程度とするのがよい。
の量としては、剤型、投与経路、投与計画等により異な
り一概には言えず広い範囲内から適宜選択されるが、通
常製剤中に１〜７０重量％程度とするのがよい。
【００６２】上記製剤の投与方法は、例えば経腸投与、
経口投与、直腸投与、口腔内投与、経皮投与等特に制限
されず、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条
件、患者の症状の程度等に応じて適宜決定される。例え
ば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセ
ル剤の場合には、経口投与される。また注射剤の場合に
は単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合
して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、
皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には
直腸内投与される。軟膏剤は、皮膚、口腔内粘膜等に塗
布される。
経口投与、直腸投与、口腔内投与、経皮投与等特に制限
されず、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条
件、患者の症状の程度等に応じて適宜決定される。例え
ば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセ
ル剤の場合には、経口投与される。また注射剤の場合に
は単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合
して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、
皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には
直腸内投与される。軟膏剤は、皮膚、口腔内粘膜等に塗
布される。
【００６３】本発明の化合物の投与量は、用法、患者の
年齢、状態、病気の種類、投与する本発明化合物の種類
等に応じて適宜選択される。一般に１日１００ｍｇから
約１０ｇ、更にはそれ以上の量が患者に投与できる。病
原菌感染症の治療には、本発明化合物の１回当りの平均
投与量として約５０ｍｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、１
０００ｍｇ、２０００ｍｇの量が使用できる。
年齢、状態、病気の種類、投与する本発明化合物の種類
等に応じて適宜選択される。一般に１日１００ｍｇから
約１０ｇ、更にはそれ以上の量が患者に投与できる。病
原菌感染症の治療には、本発明化合物の１回当りの平均
投与量として約５０ｍｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、１
０００ｍｇ、２０００ｍｇの量が使用できる。
【００６４】目的化合物の有用性を示すために、本発明
の代表的化合物の寒天平板希釈法により各種細菌に対す
る抗菌力試験を行ない、各種細菌に対する菌発育最小阻
止濃度（ＭＩＣ値）をＦＭＯＸ（フロモキセフ）と比較
して試験した結果を表１に、また臨床分離メチシリン耐
性、シプロフロキサシリン高度耐性黄色ブドウ球菌に対
するＭＩＣ−８０値をＶＣＭ（バンコマイシン）、ＦＭ
ＯＸ、ＣＰＦＸ（シプロフロキサシリン）と比較した結
果を表２に示す。尚、試験化合物は以下の通りである。
の代表的化合物の寒天平板希釈法により各種細菌に対す
る抗菌力試験を行ない、各種細菌に対する菌発育最小阻
止濃度（ＭＩＣ値）をＦＭＯＸ（フロモキセフ）と比較
して試験した結果を表１に、また臨床分離メチシリン耐
性、シプロフロキサシリン高度耐性黄色ブドウ球菌に対
するＭＩＣ−８０値をＶＣＭ（バンコマイシン）、ＦＭ
ＯＸ、ＣＰＦＸ（シプロフロキサシリン）と比較した結
果を表２に示す。尚、試験化合物は以下の通りである。
【００６５】試験化合物 （ａ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニ
ル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） （ｂ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体） （ｃ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−
〔１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ）チ
オビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体） （ｄ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−カルボキシメチル−４−ピリジニオ）チオビニル
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体） （ｅ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（４−ピリジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム（シン異性体） （ｆ）：７−〔２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニ
ル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） （ｂ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体） （ｃ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−
〔１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ）チ
オビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体） （ｄ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−カルボキシメチル−４−ピリジニオ）チオビニル
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体） （ｅ）：７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（４−ピリジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム（シン異性体） （ｆ）：７−〔２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
【００６６】
【表１】
【００６７】
【表２】
【００６８】
【実施例】以下に実施例を掲げる。
【００６９】実施例１
【００７０】
【化２４】
【００７１】７−アミノ−３−〔２−（４−ピリジル）
チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）
の塩化メチレン（１０ｍｌ）及びジメチルホルムアミド
（１．０ｍｌ）の混合溶液に（Ｚ）−２−トリチルオキ
シイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸（１．４６ｇ）及びＤＣＣ（ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド）（４５０ｍｇ）を加え、室温にて２
時間攪拌した。反応終了後ジシクロヘキシルウレアを濾
別後酢酸エチルエステル（５０ｍｌ）を加え、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネ
シウムで乾燥後減圧下溶媒を留去して粗生成物（２．６
５ｇ）を得た。その粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付してベンゼン−酢酸エチルで溶出し
て、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（１．６ｇ）
を得た。
チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）
の塩化メチレン（１０ｍｌ）及びジメチルホルムアミド
（１．０ｍｌ）の混合溶液に（Ｚ）−２−トリチルオキ
シイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸（１．４６ｇ）及びＤＣＣ（ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド）（４５０ｍｇ）を加え、室温にて２
時間攪拌した。反応終了後ジシクロヘキシルウレアを濾
別後酢酸エチルエステル（５０ｍｌ）を加え、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネ
シウムで乾燥後減圧下溶媒を留去して粗生成物（２．６
５ｇ）を得た。その粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付してベンゼン−酢酸エチルで溶出し
て、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（１．６ｇ）
を得た。
【００７２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；
３．５−３．７（２Ｈ，ｍ）、５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．３Ｈｚ）、６．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，
８．９Ｈｚ）、６．３７（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５
Ｈｚ）、６．４４（１Ｈ，ｓ）、６．５９（０．８Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｓ）、７．
１−７．５（４３Ｈ，ｍ）、８．４２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、（トランス／シス＝約４／１）。
３．５−３．７（２Ｈ，ｍ）、５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．３Ｈｚ）、６．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，
８．９Ｈｚ）、６．３７（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５
Ｈｚ）、６．４４（１Ｈ，ｓ）、６．５９（０．８Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｓ）、７．
１−７．５（４３Ｈ，ｍ）、８．４２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、（トランス／シス＝約４／１）。
【００７３】実施例２
【００７４】
【化２５】
【００７５】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（２３８ｍｇ）のアセトニト
リル（１１．０ｍｌ）及び塩化メチレン（５．５ｍｌ）
の混合溶液に、ヨードアセトアミド（７６３ｍｇ）を加
え、室温にて６５時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去し、真空乾燥した。これをジエチルエーテル
（２０ｍｌ）で３回洗浄を行ない、７−〔２−トリチル
オキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルバモ
イルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物
（３２０ｍｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（２３８ｍｇ）のアセトニト
リル（１１．０ｍｌ）及び塩化メチレン（５．５ｍｌ）
の混合溶液に、ヨードアセトアミド（７６３ｍｇ）を加
え、室温にて６５時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去し、真空乾燥した。これをジエチルエーテル
（２０ｍｌ）で３回洗浄を行ない、７−〔２−トリチル
オキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルバモ
イルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物
（３２０ｍｇ）を得た。
【００７６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．２２（ｓ，２
Ｈ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．２２
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、７．１−７．７
（４２Ｈ，ｍ）、７．９８（１Ｈ，ｓ）、８．１０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．０Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．２２（ｓ，２
Ｈ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．２２
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、７．１−７．７
（４２Ｈ，ｍ）、７．９８（１Ｈ，ｓ）、８．１０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．０Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【００７７】実施例３
【００７８】
【化２６】
【００７９】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（３２０ｍｇ）の酢
酸（７．８ｍｌ）及び水（１．０５ｍｌ）の混合溶液を
２時間４０〜４５℃に加温した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去した後、ジエチルエーテル（５０ｍｌ）を加
え、沈殿物を得た（１９５ｍｇ）。この粗脱トリチル体
（７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−
カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
・沃化物）の塩化メチレン溶液（７．０ｍｌ）に、０℃
でアニソール（０．２８ｍｌ）及びＴＦＡ（トリフルオ
ロ酢酸）（０．２９６ｍｌ）を加え０℃から室温へ戻し
ながら２時間４５分攪拌した。反応終了後、ジエチルエ
ーテルを加え、沈殿物（１５０ｍｇ）を得た。この粗生
成物の水溶液をダイヤイオンＣＨＰ−２０Ｐに吸着さ
せ、水、次いで水−アセトニトリルで溶出した。目的物
を含む分画を集め、減圧濃縮し、凍結乾燥して、７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルバ
モイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（トランス異性体）を６
０ｍｇ得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（３２０ｍｇ）の酢
酸（７．８ｍｌ）及び水（１．０５ｍｌ）の混合溶液を
２時間４０〜４５℃に加温した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去した後、ジエチルエーテル（５０ｍｌ）を加
え、沈殿物を得た（１９５ｍｇ）。この粗脱トリチル体
（７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−
カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
・沃化物）の塩化メチレン溶液（７．０ｍｌ）に、０℃
でアニソール（０．２８ｍｌ）及びＴＦＡ（トリフルオ
ロ酢酸）（０．２９６ｍｌ）を加え０℃から室温へ戻し
ながら２時間４５分攪拌した。反応終了後、ジエチルエ
ーテルを加え、沈殿物（１５０ｍｇ）を得た。この粗生
成物の水溶液をダイヤイオンＣＨＰ−２０Ｐに吸着さ
せ、水、次いで水−アセトニトリルで溶出した。目的物
を含む分画を集め、減圧濃縮し、凍結乾燥して、７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルバ
モイルメチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（トランス異性体）を６
０ｍｇ得た。
【００８０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．２０（２Ｈ，ｂｒｓ）、
５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、
６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．６３（１Ｈ，
ｓ）、７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．０
０（１Ｈ，ｓ）、８．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．
７（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．２０（２Ｈ，ｂｒｓ）、
５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、
６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．６３（１Ｈ，
ｓ）、７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．０
０（１Ｈ，ｓ）、８．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．
７（１Ｈ，ｓ）。
【００８１】実施例４
【００８２】
【化２７】
【００８３】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（４．０３ｇ）のアセトニト
リル（９．２ｍｌ）及び塩化メチレン（２４ｍｌ）の混
合液に沃化メチル（２．２１ｍｌ）を加え、室温にて２
２時間攪拌した。反応終了後、減圧濃縮後、ジエチルエ
ーテルを加え粉末化した。これを濾取し、７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メ
チル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（４．
３２ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（４．０３ｇ）のアセトニト
リル（９．２ｍｌ）及び塩化メチレン（２４ｍｌ）の混
合液に沃化メチル（２．２１ｍｌ）を加え、室温にて２
２時間攪拌した。反応終了後、減圧濃縮後、ジエチルエ
ーテルを加え粉末化した。これを濾取し、７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メ
チル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（４．
３２ｇ）を得た。
【００８４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．２０（１Ｈ，
ｓ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、７．１−７．７
（４２Ｈ，ｍ）、８．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、８．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．２０（１Ｈ，
ｓ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、７．１−７．７
（４２Ｈ，ｍ）、８．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、８．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【００８５】実施例５
【００８６】
【化２８】
【００８７】実施例３の方法に準じ、７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル沃化物（４．３ｇ）
より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（１．１ｇ）を得た。
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル沃化物（４．３ｇ）
より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−メチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（１．１ｇ）を得た。
【００８８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１５（３Ｈ，
ｓ）、５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．４９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、６．６５（１Ｈ，
ｓ）、７．１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０
Ｈｚ）、８．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．
４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．３２（１
Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、４．１５（３Ｈ，
ｓ）、５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．４Ｈｚ）、６．４９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、６．６５（１Ｈ，
ｓ）、７．１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０
Ｈｚ）、８．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．
４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．３２（１
Ｈ，ｓ）。
【００８９】実施例６
【００９０】
【化２９】
【００９１】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）のアセトニトリ
ル（２．３ｍｌ）及び塩化メチレン（５．９ｍｌ）の混
合液に臭化エチル（８．５ｍｌ）及び沃化ナトリウム
（１４．９ｇ）を加え、室温にて２４時間攪拌した。反
応終了後沈殿を濾別し、溶媒を減圧下留去した後ジエチ
ルエーテル（１００ｍｌ）を加え、粉末化を行ない、こ
れを濾取して、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−エチル−４−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物（９７２ｍｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）のアセトニトリ
ル（２．３ｍｌ）及び塩化メチレン（５．９ｍｌ）の混
合液に臭化エチル（８．５ｍｌ）及び沃化ナトリウム
（１４．９ｇ）を加え、室温にて２４時間攪拌した。反
応終了後沈殿を濾別し、溶媒を減圧下留去した後ジエチ
ルエーテル（１００ｍｌ）を加え、粉末化を行ない、こ
れを濾取して、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−エチル−４−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物（９７２ｍｇ）を得た。
【００９２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．７６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ）、４．１６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ）、４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈ
ｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．１Ｈ
ｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．１〜７．６（４２Ｈ，ｍ）、８．８０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．７６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ）、４．１６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ）、４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈ
ｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．１Ｈ
ｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．１〜７．６（４２Ｈ，ｍ）、８．８０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【００９３】実施例７
【００９４】
【化３０】
【００９５】実施例３の方法に準じ、７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−エチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物より７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−エチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキ
シレートを得た。
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−エチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物より７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−エチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキ
シレートを得た。
【００９６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．５３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６２Ｈｚ）、３．７４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ）、５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．４Ｈｚ）、４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、９．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１
１．７１（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．５３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６２Ｈｚ）、３．７４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ）、５．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．４Ｈｚ）、４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、９．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１
１．７１（１Ｈ，ｓ）。
【００９７】実施例８
【００９８】
【化３１】
【００９９】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）のアセトニトリ
ル（２．３ｍｌ）及び塩化メチレン（５．９ｍｌ）の混
合液にブロム酢酸ベンズヒドリルエステル（３．２ｇ）
を加え、室温にて１２時間攪拌した。反応終了後減圧下
溶媒を留去後、ジエチルエーテル（１００ｍｌ）を加
え、粉末化を行ない、これを濾別して７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ジフェ
ニルメトキシカルボニルメチル−４−ピリジニオ）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・臭化物（１．２ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シス，トランス混合物）（１．０ｇ）のアセトニトリ
ル（２．３ｍｌ）及び塩化メチレン（５．９ｍｌ）の混
合液にブロム酢酸ベンズヒドリルエステル（３．２ｇ）
を加え、室温にて１２時間攪拌した。反応終了後減圧下
溶媒を留去後、ジエチルエーテル（１００ｍｌ）を加
え、粉末化を行ない、これを濾別して７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ジフェ
ニルメトキシカルボニルメチル−４−ピリジニオ）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・臭化物（１．２ｇ）を得た。
【０１００】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、４．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、５．６９（１Ｈ，ｓ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．５Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．９３（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１
Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（５２Ｈ，ｍ）、８．１８
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．８０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）。
ｍ；３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、４．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、５．６９（１Ｈ，ｓ）、５．９
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．５Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．９３（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１
Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（５２Ｈ，ｍ）、８．１８
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．８０（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）。
【０１０１】実施例９
【０１０２】
【化３２】
【０１０３】実施例３の方法に準じ、７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ジフェ
ニルメトキシカルボニルメチル−４−ピリジニオ）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・臭化物より、７−〔２−ヒドロキシイミノ
−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１−カルボキシメチル−４−ピリジ
ニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレ
ートを得た。
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ジフェ
ニルメトキシカルボニルメチル−４−ピリジニオ）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・臭化物より、７−〔２−ヒドロキシイミノ
−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１−カルボキシメチル−４−ピリジ
ニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレ
ートを得た。
【０１０４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４．８，８．４Ｈｚ）、４．６９（２Ｈ，ｓ）、６．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，
ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．０Ｈｚ）、８．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．
７２（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
４．８，８．４Ｈｚ）、４．６９（２Ｈ，ｓ）、６．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，
ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．０Ｈｚ）、８．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、９．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１１．
７２（１Ｈ，ｓ）。
【０１０５】実施例１０
【０１０６】
【化３３】
【０１０７】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．２ｇ）のアセトニトリル（２．８ｍｌ）及び塩化
メチレン（７．０ｍｌ）の混合液に２−ヨード−エタノ
ール（８．１ｍｌ）を加え、４０〜５０℃で５０時間攪
拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去した後ジイソプ
ロピルエーテル（１００ｍｌ）を加え、粉末化を行な
い、これを濾別して７−〔２−トリチルオキシイミノ−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド〕−３−｛２−〔１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（９２
５ｍｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．２ｇ）のアセトニトリル（２．８ｍｌ）及び塩化
メチレン（７．０ｍｌ）の混合液に２−ヨード−エタノ
ール（８．１ｍｌ）を加え、４０〜５０℃で５０時間攪
拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去した後ジイソプ
ロピルエーテル（１００ｍｌ）を加え、粉末化を行な
い、これを濾別して７−〔２−トリチルオキシイミノ−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド〕−３−｛２−〔１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（９２
５ｍｇ）を得た。
【０１０８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．１
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．７〜３．８
（２Ｈ，ｍ）、４．５〜４．６（２Ｈ，ｍ）、５．３５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝５．１，８．５Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，
ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（４２
Ｈ，ｍ）、８．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、
８．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）。
ｍ；３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．１
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．７〜３．８
（２Ｈ，ｍ）、４．５〜４．６（２Ｈ，ｍ）、５．３５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝５．１，８．５Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，
ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（４２
Ｈ，ｍ）、８．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、
８．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）。
【０１０９】実施例１１
【０１１０】
【化３４】
【０１１１】実施例３の方法に準じて、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２
−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝
−３−セフェムカルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物より、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２
−〔１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕
チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを
得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２
−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝
−３−セフェムカルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物より、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２
−〔１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ピリジニオ〕
チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを
得た。
【０１１２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．８〜３．９
（２Ｈ，ｍ）、４．６〜４．７（２Ｈ，ｍ）、５．０７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．８，８．５Ｈｚ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、６．６５（１Ｈ，ｓ）、７．１１
（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４
Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、１１．７１（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．７
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、３．８〜３．９
（２Ｈ，ｍ）、４．６〜４．７（２Ｈ，ｍ）、５．０７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．８，８．５Ｈｚ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１５．４Ｈｚ）、６．６５（１Ｈ，ｓ）、７．１１
（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４
Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．
６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、１１．７１（１Ｈ，ｓ）。
【０１１３】実施例１２
【０１１４】
【化３５】
【０１１５】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．０ｇ）のアセトニトリル（２．３ｍｌ）及び塩化
メチレン（５．９ｍｌ）の混合液にクロルアセトン
（０．６９ｍｌ）及び沃化ナトリウム（１．３ｇ）を加
え、室温にて５時間反応し、沈殿物を濾別し、濾液を減
圧下溶媒を留去した後ジエチルエーテル（１００ｍｌ）
で粉末化を行ない、これを濾取し７−〔２−トリチルオ
キシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセトニル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（１．１
ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．０ｇ）のアセトニトリル（２．３ｍｌ）及び塩化
メチレン（５．９ｍｌ）の混合液にクロルアセトン
（０．６９ｍｌ）及び沃化ナトリウム（１．３ｇ）を加
え、室温にて５時間反応し、沈殿物を濾別し、濾液を減
圧下溶媒を留去した後ジエチルエーテル（１００ｍｌ）
で粉末化を行ない、これを濾取し７−〔２−トリチルオ
キシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセトニル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物（１．１
ｇ）を得た。
【０１１６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；２．２８（３Ｈ，ｓ）、３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１７．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈ
ｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
７（２Ｈ，ｓ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．４Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９９（１
Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（４２Ｈ，ｍ）、８．１２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）。
ｍ；２．２８（３Ｈ，ｓ）、３．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１７．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈ
ｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
７（２Ｈ，ｓ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．４Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９９（１
Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（４２Ｈ，ｍ）、８．１２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）。
【０１１７】実施例１３
【０１１８】
【化３６】
【０１１９】実施例３の方法に準じて、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセ
トニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物よ
り、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−アセトニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アセ
トニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物よ
り、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１
−アセトニル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレートを得た。
【０１２０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；２．２８（３Ｈ，ｓ）、３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１６．０Ｈｚ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈ
ｚ）、５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ）、５．５７
（２Ｈ，ｓ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．
０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ）、１１．７０（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；２．２８（３Ｈ，ｓ）、３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１６．０Ｈｚ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈ
ｚ）、５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．４Ｈｚ）、５．５７
（２Ｈ，ｓ）、６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．
０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、９．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ）、１１．７０（１Ｈ，ｓ）。
【０１２１】実施例１４
【０１２２】
【化３７】
【０１２３】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（２−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（２．４ｇ）のアセトニトリル（１２ｍｌ）及び塩化メ
チレン（４．８ｍｌ）の混合溶液に沃化メチル（１８．
７ｍｌ）を加え、室温にて３日間攪拌した。反応終了
後、減圧濃縮し、クロロホルム（３８ｍｌ）に溶解した
後、ジイソプロピルエーテル（１２０ｍｌ）中に滴下
し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−〔２−（１−メチル−２−ピリジニオ）チオビニル〕
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル・沃化物（３．５ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（２−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（２．４ｇ）のアセトニトリル（１２ｍｌ）及び塩化メ
チレン（４．８ｍｌ）の混合溶液に沃化メチル（１８．
７ｍｌ）を加え、室温にて３日間攪拌した。反応終了
後、減圧濃縮し、クロロホルム（３８ｍｌ）に溶解した
後、ジイソプロピルエーテル（１２０ｍｌ）中に滴下
し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−〔２−（１−メチル−２−ピリジニオ）チオビニル〕
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル・沃化物（３．５ｇ）を得た。
【０１２４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．２０（３Ｈ，
ｓ）、５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．８
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．６８
（１Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．７
（４６Ｈ，ｍ）、８．９４（１Ｈ，ｓ）、９．６３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．２０（３Ｈ，
ｓ）、５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．８
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．６８
（１Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．７
（４６Ｈ，ｍ）、８．９４（１Ｈ，ｓ）、９．６３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１２５】実施例１５
【０１２６】
【化３８】
【０１２７】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物（２．５ｇ）のクロロホルム
（７．１ｍｌ）溶液に８８％ギ酸（４．７ｍｌ）及び濃
塩酸（０．４６ｍｌ）を加え、２５℃にて３．５時間攪
拌した。反応終了後クロロホルム（１４．５ｍｌ）を加
え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（１４．５
ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル
（１３．４ｍｌ）及びアセトン（４９ｍｌ）の混合液中
に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸
塩として脱保護体（１．７ｇ）を得た。次にこれを０．
１Ｎ−塩酸（６０ｍｌ）溶液として、常法に従い、ダイ
ヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセト
ニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジ
ニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート（６００ｍｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物（２．５ｇ）のクロロホルム
（７．１ｍｌ）溶液に８８％ギ酸（４．７ｍｌ）及び濃
塩酸（０．４６ｍｌ）を加え、２５℃にて３．５時間攪
拌した。反応終了後クロロホルム（１４．５ｍｌ）を加
え、分液後、上層をクロロホルムにて洗浄し（１４．５
ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプロピルエーテル
（１３．４ｍｌ）及びアセトン（４９ｍｌ）の混合液中
に滴下し、生成した沈殿物をアセトンにて洗浄し、塩酸
塩として脱保護体（１．７ｇ）を得た。次にこれを０．
１Ｎ−塩酸（６０ｍｌ）溶液として、常法に従い、ダイ
ヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出液；アセト
ニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル−２−ピリジ
ニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート（６００ｍｇ）を得た。
【０１２８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．６
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ，
ｓ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．７２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，
ｓ）、７．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，４．８Ｈ
ｚ）、７．１９（２Ｈ，ｓ）、７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１５．８Ｈｚ）、７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
８，８．１Ｈｚ）、８．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．
７，４．８Ｈｚ）、７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、９．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１１．
６（１Ｈ，ｂｒｓ）。
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．６
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ，
ｓ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．７２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，
ｓ）、７．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，４．８Ｈ
ｚ）、７．１９（２Ｈ，ｓ）、７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１５．８Ｈｚ）、７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
８，８．１Ｈｚ）、８．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．
７，４．８Ｈｚ）、７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、９．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１１．
６（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０１２９】実施例１６
【０１３０】
【化３９】
【０１３１】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．０ｇ）のアセトニトリル（５．９ｍｌ）及び塩化
メチレン（２．３ｍｌ）の混合溶液に４−（クロロアセ
チル）カテコール（８９５ｍｇ）及び沃化ナトリウム
（７５０ｍｇ）を加え、室温にて６．５時間攪拌した。
反応終了後、塩化メチレン（３０ｍｌ）を加えて不溶分
を濾別した後、濾液を減圧濃縮し、溶媒を留去した。こ
れをクロロホルム（５０ｍｌ）に溶解した後、ジイソプ
ロピルエーテル（５０ｍｌ）中に滴下し、沈殿物を分取
し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェニルカルボ
ニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化
物（１．０５ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．０ｇ）のアセトニトリル（５．９ｍｌ）及び塩化
メチレン（２．３ｍｌ）の混合溶液に４−（クロロアセ
チル）カテコール（８９５ｍｇ）及び沃化ナトリウム
（７５０ｍｇ）を加え、室温にて６．５時間攪拌した。
反応終了後、塩化メチレン（３０ｍｌ）を加えて不溶分
を濾別した後、濾液を減圧濃縮し、溶媒を留去した。こ
れをクロロホルム（５０ｍｌ）に溶解した後、ジイソプ
ロピルエーテル（５０ｍｌ）中に滴下し、沈殿物を分取
し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３
−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェニルカルボ
ニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化
物（１．０５ｇ）を得た。
【０１３２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．１８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．１６（２Ｈ，ｓ）、６．６１（１
Ｈ，ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、６．９〜７．５（４
５Ｈ，ｍ）、８．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、
８．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７８（１
Ｈ，ｓ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．１８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．１６（２Ｈ，ｓ）、６．６１（１
Ｈ，ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、６．９〜７．５（４
５Ｈ，ｍ）、８．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、
８．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７８（１
Ｈ，ｓ）、９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１３３】実施例１７
【０１３４】
【化４０】
【０１３５】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニ
ル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・沃化物（１．０ｇ）のクロロホルム（３．０ｍ
ｌ）溶液に８８％ギ酸（２ｍｌ）及び濃塩酸（０．１８
ｍｌ）を加え、２５℃にて２．５時間攪拌した。反応終
了後クロロホルム（１５ｍｌ）を加え、分液後、上層を
クロロホルムにて洗浄し（１５ｍｌ×３回）、その後ギ
酸層をジイソプロピルエーテル（５．４ｍｌ）及びアセ
トン（２０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物
をアセトンにて洗浄して、粗生成物（４５８ｍｇ）を塩
酸塩として得た。次にこれを０．１Ｎ−塩酸（１００ｍ
ｌ）溶液として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１
カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、
凍結乾燥品として７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェニルカル
ボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−
セフェム−４−カルボキシレート（５７ｍｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニ
ル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・沃化物（１．０ｇ）のクロロホルム（３．０ｍ
ｌ）溶液に８８％ギ酸（２ｍｌ）及び濃塩酸（０．１８
ｍｌ）を加え、２５℃にて２．５時間攪拌した。反応終
了後クロロホルム（１５ｍｌ）を加え、分液後、上層を
クロロホルムにて洗浄し（１５ｍｌ×３回）、その後ギ
酸層をジイソプロピルエーテル（５．４ｍｌ）及びアセ
トン（２０ｍｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物
をアセトンにて洗浄して、粗生成物（４５８ｍｇ）を塩
酸塩として得た。次にこれを０．１Ｎ−塩酸（１００ｍ
ｌ）溶液として、常法に従い、ダイヤイオンＨＰ−２１
カラムにより精製（溶出液；アセトニトリル／水）し、
凍結乾燥品として７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（３，４−ジヒドロキシフェニルカル
ボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−
セフェム−４−カルボキシレート（５７ｍｇ）を得た。
【０１３６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、３．５
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．１，８．１Ｈｚ）、６．１３（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６５
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４３（２Ｈ，
ｍ）、７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．
０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．５９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
ｍ；３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、３．５
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．１，８．１Ｈｚ）、６．１３（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６５
（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４３（２Ｈ，
ｍ）、７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．
０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．５９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
【０１３７】実施例１８
【０１３８】
【化４１】
【０１３９】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．６ｇ）のアセトニトリル（９．６ｍｌ）及び塩化
メチレン（３．７ｍｌ）の混合溶液に５−ブロモ吉草酸
ベンズヒドリルエステル（１１．０ｇ）及び沃化ナトリ
ウム（４．８４ｇ）を加え、４５℃にて４７．５時間攪
拌した。反応終了後、塩化メチレン（４８ｍｌ）を加え
て不溶分を濾別した後、濾液を減圧濃縮し、溶媒を留去
した。これをクロロホルム（７ｍｌ）に溶解した後、ジ
イソプロピルエーテル（７５ｍｌ）中に滴下し、沈殿物
を分取し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−｛２−〔１−（４−ジフェニルメトキシカル
ボニルブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物（２．０２ｇ）を得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−〔２−（４−ピリジル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（１．６ｇ）のアセトニトリル（９．６ｍｌ）及び塩化
メチレン（３．７ｍｌ）の混合溶液に５−ブロモ吉草酸
ベンズヒドリルエステル（１１．０ｇ）及び沃化ナトリ
ウム（４．８４ｇ）を加え、４５℃にて４７．５時間攪
拌した。反応終了後、塩化メチレン（４８ｍｌ）を加え
て不溶分を濾別した後、濾液を減圧濃縮し、溶媒を留去
した。これをクロロホルム（７ｍｌ）に溶解した後、ジ
イソプロピルエーテル（７５ｍｌ）中に滴下し、沈殿物
を分取し、７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−｛２−〔１−（４−ジフェニルメトキシカル
ボニルブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物（２．０２ｇ）を得た。
【０１４０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．４２〜１．５９（２Ｈ，ｍ）、１．７９〜１．
９２（２Ｈ，ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．
１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．４５（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．１Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．７８（１
Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．６（５
２Ｈ，ｍ）、８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、
８．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；１．４２〜１．５９（２Ｈ，ｍ）、１．７９〜１．
９２（２Ｈ，ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．
１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．４５（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．１Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．７８（１
Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．６（５
２Ｈ，ｍ）、８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、
８．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１４１】実施例１９
【０１４２】
【化４２】
【０１４３】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−｛２−〔１−（４−ジフェニルメトキシカ
ルボニルブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・
沃化物（１．８ｇ）のクロロホルム（４．８ｍｌ）溶液
へ８８％ギ酸（２ｍｌ）及び濃塩酸（０．３ｍｌ）を加
え、２５℃にて３時間攪拌した。反応終了後クロロホル
ム（２４ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムに
て洗浄し（２４ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプ
ロピルエーテル（８．４ｍｌ）及びアセトン（３１ｍ
ｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンに
て洗浄して塩酸塩（４６５ｍｇ）を得た。次にこれを
０．１Ｎ−塩酸（１００ｍｌ）溶液として、常法に従
い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出
液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−
カルボキシブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−
３−セフェム−４−カルボキシレート（１６７ｍｇ）を
得た。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−｛２−〔１−（４−ジフェニルメトキシカ
ルボニルブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・
沃化物（１．８ｇ）のクロロホルム（４．８ｍｌ）溶液
へ８８％ギ酸（２ｍｌ）及び濃塩酸（０．３ｍｌ）を加
え、２５℃にて３時間攪拌した。反応終了後クロロホル
ム（２４ｍｌ）を加え、分液後、上層をクロロホルムに
て洗浄し（２４ｍｌ×３回）、その後ギ酸層をジイソプ
ロピルエーテル（８．４ｍｌ）及びアセトン（３１ｍ
ｌ）の混合液中に滴下し、生成した沈殿物をアセトンに
て洗浄して塩酸塩（４６５ｍｇ）を得た。次にこれを
０．１Ｎ−塩酸（１００ｍｌ）溶液として、常法に従
い、ダイヤイオンＨＰ−２１カラムにより精製（溶出
液；アセトニトリル／水）し、凍結乾燥品として７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−
カルボキシブチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−
３−セフェム−４−カルボキシレート（１６７ｍｇ）を
得た。
【０１４４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．４４（２Ｈ，ｍ）、１．８４（２Ｈ，ｍ）、
２．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．３４（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．１Ｈｚ）、６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．
９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
ｍ；１．４４（２Ｈ，ｍ）、１．８４（２Ｈ，ｍ）、
２．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．３４（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，
８．１Ｈｚ）、６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．
９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
【０１４５】実施例２０
【０１４６】
【化４３】
【０１４７】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、ｐ−クロロメチル安息香酸ベン
ズヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−〔２−
トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（４−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−
ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、ｐ−クロロメチル安息香酸ベン
ズヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−〔２−
トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（４−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−
ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得た。
【０１４８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、４．１
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、５．３１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．８２（２Ｈ，ｂｒｓ）、
５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．１Ｈｚ）、
６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、７．０
３（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（５２Ｈ，ｍ）、７．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、８．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
９Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、８．９１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
ｍ；３．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、４．１
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、５．３１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．８２（２Ｈ，ｂｒｓ）、
５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．１Ｈｚ）、
６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、７．０
３（１Ｈ，ｓ）、７．１〜７．５（５２Ｈ，ｍ）、７．
６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、８．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
９Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、８．９１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
【０１４９】実施例２１
【０１５０】
【化４４】
【０１５１】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４
−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリ
ジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−カルボキシベ
ンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４
−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリ
ジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−カルボキシベ
ンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレートを得た。
【０１５２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、３．７
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．４，８．１Ｈｚ）、５．７６（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．１Ｈｚ）、８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、３．７
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ）、５．０７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．４，８．１Ｈｚ）、５．７６（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．５１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．１Ｈｚ）、８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．４
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１５３】実施例２２
【０１５４】
【化４５】
【０１５５】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、ｐ−クロロメチルフェニル酢酸
ベンズヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−
〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−
〔１−（４−ジフェニルメトキシカルボニルメチルベン
ジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得
た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、ｐ−クロロメチルフェニル酢酸
ベンズヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−
〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−
〔１−（４−ジフェニルメトキシカルボニルメチルベン
ジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得
た。
【０１５６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．８
３（２Ｈ，ｓ）、４．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈ
ｚ）、５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６
７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．１Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．７５（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１
Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（５６Ｈ，ｍ）、８．０９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７９（１Ｈ，
ｓ）、８．９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．８
３（２Ｈ，ｓ）、４．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈ
ｚ）、５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６
７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，８．１Ｈｚ）、６．６２
（１Ｈ，ｓ）、６．７５（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１
Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（５６Ｈ，ｍ）、８．０９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７９（１Ｈ，
ｓ）、８．９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、９．９４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１５７】実施例２３
【０１５８】
【化４６】
【０１５９】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４
−ジフェニルメトキシカルボニルメチルベンジル）−４
−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−
ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−カルボ
キシメチルベンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝
−３−セフェム−４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４
−ジフェニルメトキシカルボニルメチルベンジル）−４
−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−
ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（４−カルボ
キシメチルベンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝
−３−セフェム−４−カルボキシレートを得た。
【０１６０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ＋Ｄ2 Ｏ）
δｐｐｍ；３．２２（２Ｈ，ｓ）、３．５０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
６．８Ｈｚ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈ
ｚ）、５．５６（２Ｈ，ｂｒｓ）、５．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．３Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．２〜７．３
（４Ｈ，ｍ）、７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）。
δｐｐｍ；３．２２（２Ｈ，ｓ）、３．５０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
６．８Ｈｚ）、５．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈ
ｚ）、５．５６（２Ｈ，ｂｒｓ）、５．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．３Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．２〜７．３
（４Ｈ，ｍ）、７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．７
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）。
【０１６１】実施例２４
【０１６２】
【化４７】
【０１６３】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル及びｏ−ヨードメチル安息香酸ベ
ンズヒドリルエステルより７−〔２−トリチルオキシイ
ミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２−ジフェニ
ルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリジニオ〕チ
オビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物を得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル及びｏ−ヨードメチル安息香酸ベ
ンズヒドリルエステルより７−〔２−トリチルオキシイ
ミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２−ジフェニ
ルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリジニオ〕チ
オビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル・沃化物を得た。
【０１６４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、４．１
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９３〜６．０（１Ｈ，
ｍ）、６．０１（２Ｈ，ｂｒｓ）、６．６１（１Ｈ，
ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．０〜８．５（４６Ｈ，ｍ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、４．１
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９３〜６．０（１Ｈ，
ｍ）、６．０１（２Ｈ，ｂｒｓ）、６．６１（１Ｈ，
ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．０〜８．５（４６Ｈ，ｍ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ）。
【０１６５】実施例２５
【０１６６】
【化４８】
【０１６７】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−クロロ
アセトアミド及び沃化ナトリウムより７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニ
オ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル・沃化物を得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−クロロ
アセトアミド及び沃化ナトリウムより７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニ
オ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル・沃化物を得た。
【０１６８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２２
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．３１（４Ｈ，
ｍ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．
１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．３３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５７（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ）、６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．０５〜７．５０（４２Ｈ，ｍ）、８．１０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｓ）、９．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）。
ｍ；１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２２
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．３１（４Ｈ，
ｍ）、３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．
１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．３３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５７（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ）、６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、
７．０５〜７．５０（４２Ｈ，ｍ）、８．１０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｓ）、９．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）。
【０１６９】実施例２６
【０１７０】
【化４９】
【０１７１】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルメチル）−４−ピ
リジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオ
ビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを得
た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルメチル）−４−ピ
リジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒド
ロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオ
ビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを得
た。
【０１７２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．３３（４Ｈ，
ｍ）、３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．
７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．０８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．００（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、１
１．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）。
ｍ；１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．３３（４Ｈ，
ｍ）、３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．
７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．０８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．０Ｈ
ｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、８．００（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、８．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、１
１．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０１７３】実施例２７
【０１７４】
【化５０】
【０１７５】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、クロロアセチル−バリンベンズ
ヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（１−ジフェニルメトキシカルボニル−２−メチルプロ
ピルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオ
ビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物を得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、クロロアセチル−バリンベンズ
ヒドリルエステル及び沃化ナトリウムより７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−
（１−ジフェニルメトキシカルボニル−２−メチルプロ
ピルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオ
ビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物を得た。
【０１７６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；０．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、０．８５
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、２．２０（１Ｈ，
ｍ）、３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．
１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．４０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，８．４Ｈｚ）、５．３４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．３８（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．４Ｈ
ｚ）、６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．８１（１Ｈ，ｓ）、
６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（５２Ｈ，
ｍ）、８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，
ｓ）、８．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
ｍ；０．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、０．８５
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、２．２０（１Ｈ，
ｍ）、３．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．
１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．４０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，８．４Ｈｚ）、５．３４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．３８（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．４Ｈ
ｚ）、６．６１（１Ｈ，ｓ）、６．８１（１Ｈ，ｓ）、
６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（５２Ｈ，
ｍ）、８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，
ｓ）、８．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１７７】実施例２８
【０１７８】
【化５１】
【０１７９】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（１
−ジフェニルメトキシカルボニル−２−メチルプロピル
アミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニ
ル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（１−カルボキシ−２−メチルプロピ
ルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビ
ニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（１
−ジフェニルメトキシカルボニル−２−メチルプロピル
アミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビニ
ル｝−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−｛２−〔１−（１−カルボキシ−２−メチルプロピ
ルアミノカルボニルメチル）−４−ピリジニオ〕チオビ
ニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレートを得た。
【０１８０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、０．８９
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、２．０８（１Ｈ，
ｍ）、３．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．
７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，８．４Ｈｚ）、５．０９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．３４（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，８．４Ｈ
ｚ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１４（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、７．９９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
２Ｈｚ）、８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
ｍ；０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、０．８９
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、２．０８（１Ｈ，
ｍ）、３．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．
７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，８．４Ｈｚ）、５．０９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、５．３４（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，８．４Ｈ
ｚ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｓ）、７．１４（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．４
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ）、７．９９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
２Ｈｚ）、８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
【０１８１】実施例２９
【０１８２】
【化５２】
【０１８３】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、塩化フェナシル及び沃化ナトリ
ウムより７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−〔２−（１−フェニルカルボニルメチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル、塩化フェナシル及び沃化ナトリ
ウムより７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−３−〔２−（１−フェニルカルボニルメチル−４−ピ
リジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を得た。
【０１８４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）、４．１
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．０，８．１Ｈｚ）、６．３０（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．０
〜８．１（４７Ｈ，ｍ）、８．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）、８．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）、４．１
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．９Ｈｚ）、５．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．０，８．１Ｈｚ）、６．３０（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．０
〜８．１（４７Ｈ，ｍ）、８．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ）、８．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ）。
【０１８５】実施例３０
【０１８６】
【化５３】
【０１８７】実施例１８の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル及び臭化アリルより７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ア
リル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭化物を得
た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（４−ピリ
ジル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル及び臭化アリルより７−〔２−ト
リチルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−ア
リル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭化物を得
た。
【０１８８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．１１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ）、５．３〜５．４（２Ｈ，ｍ）、５．９６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．０１〜６．
１９（１Ｈ，ｍ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９８
（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（４２Ｈ，ｍ）、８．１
０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．１１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ）、５．３〜５．４（２Ｈ，ｍ）、５．９６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．０１〜６．
１９（１Ｈ，ｍ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、６．９８
（１Ｈ，ｓ）、７．０〜７．５（４２Ｈ，ｍ）、８．１
０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．７８（１Ｈ，ｓ）、９．９
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
【０１８９】実施例３１
【０１９０】
【化５４】
【０１９１】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリ
ル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭化物より７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリ
ル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭化物より７−
〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−アリル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボキシレートを得た。
【０１９２】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．０６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、
５．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、５．６４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．０６
（１Ｈ，ｍ）、６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．
９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．７
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、５．０６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
０Ｈｚ）、５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、
５．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、５．６４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．０６
（１Ｈ，ｍ）、６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６４（１Ｈ，ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、７．
９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、８．６６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、９．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
１Ｈｚ）。
【０１９３】実施例３２
【０１９４】
【化５５】
【０１９５】７−〔２−トリチルオキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−（２−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル（８１ｍｇ）、シルバー １−メチル−ピ
リジニウム−４−スルフィド・過塩素酸塩（４５ｍｇ）
及び塩化リチウム（１４．５ｍｇ）をジメチルスルホキ
シド（１ｍｌ）中、室温にて４日間攪拌後、酢酸エチル
（８０ｍｌ）を加え、水（８０ｍｌ）で３回洗浄後、乾
燥し、次いで溶媒を減圧下に留去して７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル・過塩素酸塩（４５
ｍｇ）を得た。この化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
は、実施例４で得られた化合物のそれと一致した。
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド〕−３−（２−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル（８１ｍｇ）、シルバー １−メチル−ピ
リジニウム−４−スルフィド・過塩素酸塩（４５ｍｇ）
及び塩化リチウム（１４．５ｍｇ）をジメチルスルホキ
シド（１ｍｌ）中、室温にて４日間攪拌後、酢酸エチル
（８０ｍｌ）を加え、水（８０ｍｌ）で３回洗浄後、乾
燥し、次いで溶媒を減圧下に留去して７−〔２−トリチ
ルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−メチル
−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル・過塩素酸塩（４５
ｍｇ）を得た。この化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
は、実施例４で得られた化合物のそれと一致した。
【０１９６】実施例３３
【０１９７】
【化５６】
【０１９８】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，４−
ジメチル−１，２，４−トリアゾリオ−５−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１，４−ジメチル−１，２，４−ト
リアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，４−
ジメチル−１，２，４−トリアゾリオ−５−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１，４−ジメチル−１，２，４−ト
リアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレートを得た。
【０１９９】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．２
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．７６（１Ｈ，
ｓ）、４．０３（３Ｈ，ｓ）、５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６３（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｍ）、
７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、９．４２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１０．０６（１Ｈ，
ｓ）、１１．３２（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．２
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．７６（１Ｈ，
ｓ）、４．０３（３Ｈ，ｓ）、５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６３（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｍ）、
７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、９．４２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１０．０６（１Ｈ，
ｓ）、１１．３２（１Ｈ，ｓ）。
【０２００】実施例３４
【０２０１】
【化５７】
【０２０２】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，３−
ジメチル−イミダゾリオ−２−イル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・
沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２
−（１，３−ジメチル−イミダゾリオ−２−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレートを得
た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，３−
ジメチル−イミダゾリオ−２−イル）チオビニル〕−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・
沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２
−（１，３−ジメチル−イミダゾリオ−２−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレートを得
た。
【０２０３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．３
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．８５（６Ｈ，
ｓ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，
ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１５．３Ｈｚ）、７．９２（２Ｈ，ｓ）、９．３８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１１．３０（１Ｈ，
ｓ）。
ｍ；３．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．３
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．８５（６Ｈ，
ｓ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．５
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，８．１Ｈｚ）、６．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，
ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１５．３Ｈｚ）、７．９２（２Ｈ，ｓ）、９．３８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１１．３０（１Ｈ，
ｓ）。
【０２０４】実施例３５
【０２０５】
【化５８】
【０２０６】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，３−
ジメチル−１，２，３−トリアゾリオ−５−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−１，２，３−ト
リアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１，３−
ジメチル−１，２，３−トリアゾリオ−５−イル）チオ
ビニル〕−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−３−〔２−（１，３−ジメチル−１，２，３−ト
リアゾリオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレートを得た。
【０２０７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．１８（３Ｈ，
ｓ）、４．２６（３Ｈ，ｓ）、５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６３（１Ｈ，ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｍ）、
７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、９．０５
（１Ｈ，ｓ）、９．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、１１．３０（１Ｈ，ｓ）。
ｍ；３．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、３．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、４．１８（３Ｈ，
ｓ）、４．２６（３Ｈ，ｓ）、５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
８．１Ｈｚ）、６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈ
ｚ）、６．６３（１Ｈ，ｓ）、７．１０（２Ｈ，ｍ）、
７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、９．０５
（１Ｈ，ｓ）、９．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、１１．３０（１Ｈ，ｓ）。
【０２０８】実施例３６
【０２０９】
【化５９】
【０２１０】実施例１９の方法に準じ、７−〔２−トリ
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２
−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリ
ジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２−カルボキシベ
ンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレートを得た。
チルオキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２
−ジフェニルメトキシカルボニルベンジル）−４−ピリ
ジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル・沃化物より７−〔２−ヒドロ
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２−カルボキシベ
ンジル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェ
ム−４−カルボキシレートを得た。
【０２１１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐ
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、３．７
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．１，８．１Ｈｚ）、５．９９（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．２−
７．９５（４Ｈ，ｍ）、７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．３Ｈｚ）、７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、８．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、９．４
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
ｍ；３．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、３．７
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５．１，８．１Ｈｚ）、５．９９（２Ｈ，ｂｒｓ）、
６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ）、６．６４
（１Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，ｂｒｓ）、７．２−
７．９５（４Ｈ，ｍ）、７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
５．３Ｈｚ）、７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、８．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、９．４
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）。
フロントページの続き (72)発明者 原 芳史 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大 塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 花木 秀明 徳島県徳島市川内町平石夷野244−２ 大 鵬薬品工業株式会社内 (72)発明者 兵頭 昭夫 徳島県徳島市川内町平石夷野224−２ 大 鵬薬品工業株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中ＱはＣＨ又はＮを示す。Ｒ1 はカルボキシレート
又はカルボキシル基を示す。Ｒは 【化２】 を示す。ここでＲ2 は低級アルキル基、低級アルケニル
基、低級アルキニル基、ヒドロキシ低級アルキル基又は
基−Ａ−ＣＯ−Ｒ3 （基中、Ａは炭素数１〜６のアルキ
レン基、フェニレン基、ベンジレン基又はキシリレン基
を、Ｒ3 は水酸基、低級アルキル基、水酸基で置換され
ることのあるフェニル基、アミノ基、低級アルキルアミ
ノ基又はアミノ酸のアミノ基をそれぞれ示す。）を示
す。ｎは０又は１〜３の整数を示す。Ｂ- は陰イオンを
示す。ｆはＲ1 がカルボキシレートを示す場合には０
を、Ｒ1 がカルボキシル基を示す場合には１を示す。Ｃ
で表わされる環は低級アルキル基で置換されることのあ
る窒素数４以下の５員複素環基を示す。〕で表わされる
セフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル
及びその非毒性塩。 - 【請求項２】 ＱがＣＨである請求項１記載の化合物。
- 【請求項３】 Ｒが 【化３】 （Ｒ2 、ｎ、Ｂ- 及びｆは前記に同じ）である請求項２
記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｒが 【化４】 （Ｒ2 、Ｃ、Ｂ- 及びｆは前記に同じ）である請求項２
記載の化合物。 - 【請求項５】 Ｃで表わされる環がオキサゾール、チア
ゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、ピラゾー
ル、イミダゾール、オキサゾール、チアジアゾール、ト
リアゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール又
はテトラゾールである請求項４記載の化合物。 - 【請求項６】 ７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−
〔２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート又は
その塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１−エチル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セ
フェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−
ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１−（２−ヒドロ
キシエチル）−４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セ
フェム−４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−
ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド〕−３−〔２−（１−カルボキシメ
チル−４−ピリジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−
４−カルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド〕−３−〔２−（１−アセトニル−４−ピリ
ジニオ）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシ
レート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−〔２−（１−メチル−２−ピリジニオ）チオビニ
ル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート又はその
塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−〔１
−（４−カルボキシベンジル）−４−ピリジニオ〕チオ
ビニル｝−３−セフェム−４−カルボキシレート又はそ
の塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−｛２−
〔１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルメチル）−
４−ピリジニオ〕チオビニル｝−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミ
ノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル〕アセトア
ミド〕−３−〔２−（１−アリル−４−ピリジニオ）チ
オビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレート又は
その塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−〔２−
（１，４−ジメチル−１，２，４−トリアゾリオ−５−
イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート又はその塩、７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−〔２−（１，３−ジメチル−イミダゾリオ−２−イ
ル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト又はその塩、及び７−〔２−ヒドロキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
３−〔２−（１，３−ジメチル−１，２，３−トリアゾ
リオ−５−イル）チオビニル〕−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート又はその塩から選ばれる少なくとも１種
の化合物。 - 【請求項７】 一般式 【化５】 〔式中Ｒ4 はセフェムカルボキシル保護基を示す。Ｒ′
は 【化６】 を示す。ここでＲ2 、ｎ、Ｂ- 及びＣは前記に同じ。〕
で表わされる化合物に、一般式 【化７】 〔式中Ｒ5 はアミノ基又は保護されたアミノ基を示す。
Ｒ6 はオキシム保護基を示す。Ｑは前記に同じ。〕で表
わされる化合物又はその反応性誘導体を反応させ、引続
き保護基を除去することを特徴とする一般式 【化８】 〔式中Ｑ、Ｒ1 及びＲは前記に同じ。〕で表わされるセ
フェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及
びその非毒性塩の製造方法。 - 【請求項８】 一般式 【化９】 〔式中Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は前記に同じ。Ｒ7 はハロゲ
ン原子、低級アシルオキシ基又はスルホニルオキシ基を
示す。〕で表わされる化合物に、一般式 Ｒ′−ＳＭ 〔式中Ｍは水素原子又は金属原子を示す。Ｒ′は前記に
同じ。〕で表わされる化合物を反応させ、引続き保護基
を除去することを特徴とする一般式 【化１０】 〔式中Ｑ、Ｒ1 及びＲは前記に同じ。〕で表わされるセ
フェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及
びその非毒性塩の製造方法。 - 【請求項９】 一般式 【化１１】 〔式中Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は前記に同じ。〕で表
わされる化合物に、一般式 Ｒ8 −ＳＭ 〔式中Ｒ8 は 【化１２】 を示す。ここでｎ及びＣは前記に同じ。Ｍは前記に同
じ。〕で表わされる化合物を反応させ、次いで一般式 Ｒ2 −Ｘ 〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒ2 は前記に同じ。〕
で表わされる化合物を反応させ、引続き保護基を除去す
ることを特徴とする一般式 【化１３】 〔式中Ｑ、Ｒ1 及びＲは前記に同じ。〕で表わされるセ
フェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及
びその非毒性塩の製造方法。 - 【請求項１０】 一般式 【化１４】 〔式中Ｑ、Ｒ1 及びＲは前記に同じ。〕で表わされるセ
フェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及
びその非毒性塩と薬学的に許容される担体とからなる、
メチシリン耐性黄色ブドウ球菌が起こす感染症を治療す
るための医薬組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23048893A JP3243545B2 (ja) | 1992-09-18 | 1993-09-16 | セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24927992 | 1992-09-18 | ||
| JP4-249279 | 1992-09-18 | ||
| JP23048893A JP3243545B2 (ja) | 1992-09-18 | 1993-09-16 | セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06206886A true JPH06206886A (ja) | 1994-07-26 |
| JP3243545B2 JP3243545B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=26529370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23048893A Expired - Fee Related JP3243545B2 (ja) | 1992-09-18 | 1993-09-16 | セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3243545B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996038451A1 (en) * | 1995-05-29 | 1996-12-05 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Cephem compounds, their production and use |
| EP0949262A4 (en) * | 1996-12-25 | 2000-04-26 | Zenyaku Kogyo Kk | CEPHEM DERIVATIVES |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4307338B2 (ja) | 2004-06-23 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP23048893A patent/JP3243545B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996038451A1 (en) * | 1995-05-29 | 1996-12-05 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Cephem compounds, their production and use |
| EP0949262A4 (en) * | 1996-12-25 | 2000-04-26 | Zenyaku Kogyo Kk | CEPHEM DERIVATIVES |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3243545B2 (ja) | 2002-01-07 |
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