JPH06198559A - 湿式研磨方法およびその装置 - Google Patents

湿式研磨方法およびその装置

Info

Publication number
JPH06198559A
JPH06198559A JP4359981A JP35998192A JPH06198559A JP H06198559 A JPH06198559 A JP H06198559A JP 4359981 A JP4359981 A JP 4359981A JP 35998192 A JP35998192 A JP 35998192A JP H06198559 A JPH06198559 A JP H06198559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
work
polishing liquid
liquid
polished
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4359981A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Kawasaki
修司 川崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
B B F YAMATE KK
Original Assignee
B B F YAMATE KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by B B F YAMATE KK filed Critical B B F YAMATE KK
Priority to JP4359981A priority Critical patent/JPH06198559A/ja
Priority to KR1019940702271A priority patent/KR0167000B1/ko
Priority to DE69323178T priority patent/DE69323178T2/de
Priority to CA002127098A priority patent/CA2127098C/en
Priority to ES93923661T priority patent/ES2127838T3/es
Priority to AT93923661T priority patent/ATE175916T1/de
Priority to AU53448/94A priority patent/AU672653B2/en
Priority to EP93923661A priority patent/EP0624432B1/en
Priority to PCT/JP1993/001566 priority patent/WO1994009945A1/ja
Priority to MYPI93002850A priority patent/MY108912A/en
Priority to CN93121397A priority patent/CN1089050C/zh
Priority to MX9400124A priority patent/MX9400124A/es
Priority to US08/275,824 priority patent/US5516327A/en
Publication of JPH06198559A publication Critical patent/JPH06198559A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 回転するバフホイールの研磨面とワークの被
研磨面との間に研磨液を供給しながら、前記バフホイー
ルによって前記ワークを研磨する湿式研磨方法におい
て、前記研磨液を加熱しながら前記ワークを研磨する湿
式研磨装置である。 【効果】 研磨液に対流をさせることによって攪拌する
ことができるため、研磨液が貯留槽から流出した後も、
研磨剤は分離しにくく、この結果、研磨液としての機能
が充分発揮されるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は湿式研磨方法およびそ
の装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来における湿式研磨装置にあっては、
ワークの被研磨面と回転するバフとの間に研磨液を供給
しながら前記バフによって前記ワークの被研磨面を研磨
していた。そして、貯留槽中において前記研磨液を攪拌
し、研磨液中に分散した研磨剤が分離するのを防止して
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の研磨装置にあっては、研磨液は貯留槽中において
のみ攪拌されるにすぎないため、この貯留槽から流出
し、被研磨面に供給する過程においては分離されやす
く、この結果、研磨液としての機能を充分発揮しにくい
という不都合を有した。
【0004】この発明の課題はかかる不都合を解消する
ことである。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に、この発明に係る湿式研磨方法においては、回転する
バフホイールの研磨面とワークの被研磨面との間に研磨
液を供給しながら、前記バフホイールによって前記ワー
クを研磨する湿式研磨方法において、
【0006】前記研磨液を加熱しながら前記ワークを研
磨するものである。
【0007】また、前記課題を達成するために、この発
明に係る湿式研磨装置においては、回転するバフホイー
ルの研磨面とワークの被研磨面との間に研磨液を供給し
ながら、前記バフホイールによって前記ワークを研磨す
る湿式研磨装置において、
【0008】前記研磨液の貯留槽を設け、この貯留槽に
加熱手段を設けたものである。
【0009】
【作用】この発明に係る湿式研磨方法は上記のように構
成されているため、研磨液に対流をさせることによって
攪拌することができる。
【0010】なお、前記研磨液を37°C〜60°Cに
加熱すれば、研磨液の対流を維持しながらワークに吹き
つけられた際の乾燥を防止することができる。
【0011】また、この発明に係る湿式研磨装置は上記
のように構成されているため、研磨液を簡易に加熱しや
すいものである。
【0012】
【実施例】図1において、1は支持盤、11はこの支持盤
1の軸心に設置された支軸である。この支持盤1はこの
支軸11を中心として適宜手段によって矢印方向に回転さ
れる。Wは盤状のワークであり、前記支持盤1に載置さ
れている。このワークWは上面を被研磨面としている。
【0013】次に、2は第一回転駆動装置であり、モー
ター等の駆動原を有している。21は回転軸であり、前記
回転駆動装置2に設置されている。この回転軸21は前記
モーター等の動力によって軸心を中心として回転する。
22は第一バフホイールであり、前記回転軸21の先端に固
定されている。このバフホイール22は回転しながらその
底面である研磨面221 によってワークWを研磨する。
【0014】また、3は第二回転駆動装置であり、前記
第一回転駆動装置2と同様に、モーター等の駆動原を有
している。31は回転軸であり、前記回転駆動装置3に設
置されている。この回転軸31は前記モーター等の動力に
よって軸心を中心として回転する。32は第二バフホイー
ルであり、前記回転軸31の先端に固定されている。この
バフホイール32は回転しながらその底面である研磨面32
1 によってワークWを研磨する。
【0015】なお、第一バフホイール22と第二バフホイ
ール32とは互いに逆方向に回転するため、ワークWの被
研磨面は往復方向に研磨されることになる。
【0016】次に、4は研磨液用パンであり、前記支持
盤1の下方に設置されている。この研磨液用パン4はワ
ークWの被研磨面から流下する研磨液(含塵研磨液)を
集めるためのものである。41は研磨液排出管であり、前
記研磨液用パン4に設置されている。この研磨液排出管
41はストレーナ411 を介して集められた研磨液を下方に
排出する。なお、このストレーナ411 を通過する際に研
磨液中の大きな粉塵が除去される。
【0017】次に、5は研磨液貯留槽であり、前記研磨
液用パン4の下方に配置されている。この研磨液貯留槽
5は研磨液Bを貯留するためのものであり、前記研磨液
用パン4から研磨液排出管41を介して研磨液が流入す
る。貯留槽5に流入した研磨液BはポンプPの作動によ
って流路51を介して、前記バフホイール22,32 の研磨面
221,321 とワークWの被研磨面との間に再度供給され
る。すなわち、研磨液Bは流路51等を介して還流してい
る。なお、52は流路5に設置されたストレーナであり、
微細な粉塵を除去するためのものである。
【0018】また、6は電気ヒータであり、前記研磨液
貯留槽5内に設置されている。このヒータ6は研磨液B
を加熱するためのものである。なお、研磨液Bは37°
C〜60°Cに加熱するのがよい。なぜならば、37°
C以下では研磨液Bに対流が発生しにくく、また、60
°C以上ではワークWの被研磨面に吹きつけ際に乾燥
し、研磨液Bとしての機能を失うからである。
【0019】なお、8はモータ81によって駆動する攪拌
翼、9は気泡供給管であり、両者8,9とも研磨液貯留
槽5に設置されている。前記攪拌翼8は回転することに
よって研磨液Bの攪拌を、前記気泡供給管9は気泡を研
磨液B中に供給することによってかかる研磨液Bの攪拌
を補助している。
【0020】
【発明の効果】前記課題を達成するために、この発明に
係る湿式研磨方法においては、回転するバフホイールの
研磨面とワークの被研磨面との間に研磨液を供給しなが
ら、前記バフホイールによって前記ワークを研磨する湿
式研磨方法において、
【0021】前記研磨液を加熱しながら前記ワークを研
磨するものであるため、研磨液に対流をさせることによ
って攪拌することができる。
【0022】よって、この湿式研磨方法を使用すれば、
研磨液が貯留槽から流出した後も、研磨剤は分離しにく
く、この結果、研磨液としての機能が充分発揮されるも
のである。
【0023】なお、前記研磨液を37°C〜60°Cに
加熱すれば、研磨液の対流を維持しながらワークに吹き
つけられた際の乾燥を防止することができる。
【0024】また、前記課題を達成するために、この発
明に係る湿式研磨装置においては、回転するバフホイー
ルの研磨面とワークの被研磨面との間に研磨液を供給し
ながら、前記バフホイールによって前記ワークを研磨す
る湿式研磨装置において、
【0025】前記研磨液の貯留槽を設け、この貯留槽に
加熱手段を設けたため、研磨液を簡易に加熱しやすいも
のである。
【0026】よって、この湿式研磨装置を使用すれば、
上記湿式研磨方法を使用しやすいものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る湿式研磨装置の説明図である。
【符号の説明】
22 … 第一バフホイール 221 … 研磨面 32 … 第二バフホイール 321 … 研磨面 5 … 研磨液貯留槽(貯留槽) 6 … 電気ヒータ(加熱手段) B … 研磨液 W … ワーク

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転するバフホイールの研磨面とワーク
    の被研磨面との間に研磨液を供給しながら、前記バフホ
    イールによって前記ワークを研磨する湿式研磨方法にお
    いて、 前記研磨液を加熱しながら前記ワークを研磨することを
    特徴とする湿式研磨方法。
  2. 【請求項2】 前記研磨液を37°C〜60°Cに加熱
    することを特徴とする請求項1の湿式研磨方法
  3. 【請求項3】 回転するバフホイールの研磨面とワーク
    の被研磨面との間に研磨液を供給しながら、前記バフホ
    イールによって前記ワークを研磨する湿式研磨装置にお
    いて、 前記研磨液の貯留槽を設け、この貯留槽に加熱手段を設
    けたことを特徴とする湿式研磨装置。
JP4359981A 1992-10-30 1992-12-31 湿式研磨方法およびその装置 Pending JPH06198559A (ja)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4359981A JPH06198559A (ja) 1992-12-31 1992-12-31 湿式研磨方法およびその装置
KR1019940702271A KR0167000B1 (ko) 1992-10-30 1993-10-29 연마 방법, 그 장치 및 연마용 버프 휠
DE69323178T DE69323178T2 (de) 1992-10-30 1993-10-29 Polierverfahren, hierzu bestimmte vorrichtung und schwabbel-/polierscheibe
CA002127098A CA2127098C (en) 1992-10-30 1993-10-29 Polishing method, device and buff wheel therefor
ES93923661T ES2127838T3 (es) 1992-10-30 1993-10-29 Metodo pulidor y aparato para el mismo y rueda pulidora.
AT93923661T ATE175916T1 (de) 1992-10-30 1993-10-29 Polierverfahren, hierzu bestimmte vorrichtung und schwabbel-/polierscheibe
AU53448/94A AU672653B2 (en) 1992-10-30 1993-10-29 Polishing method, apparatus for the same and buff polishing wheel
EP93923661A EP0624432B1 (en) 1992-10-30 1993-10-29 Polishing method, apparatus for the same and buff polishing wheel
PCT/JP1993/001566 WO1994009945A1 (en) 1992-10-30 1993-10-29 Polishing method, apparatus for the same and buff polishing wheel
MYPI93002850A MY108912A (en) 1992-12-31 1993-12-28 Polishing method, device and buff wheel therefor
CN93121397A CN1089050C (zh) 1992-12-31 1993-12-29 研磨方法,装置及其研磨轮
MX9400124A MX9400124A (es) 1992-12-31 1994-01-03 Metodo para pulir, dispositivo y disco pulidor para el mismo.
US08/275,824 US5516327A (en) 1992-10-30 1994-06-30 Polishing method, device and buff wheel therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4359981A JPH06198559A (ja) 1992-12-31 1992-12-31 湿式研磨方法およびその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06198559A true JPH06198559A (ja) 1994-07-19

Family

ID=18467290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4359981A Pending JPH06198559A (ja) 1992-10-30 1992-12-31 湿式研磨方法およびその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06198559A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI426001B (ja) * 2010-05-27 2014-02-11
JP2015122465A (ja) * 2013-12-25 2015-07-02 株式会社荏原製作所 排水構造および基板処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI426001B (ja) * 2010-05-27 2014-02-11
JP2015122465A (ja) * 2013-12-25 2015-07-02 株式会社荏原製作所 排水構造および基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61197158A (ja) ガラス板のかき傷除去装置及びその方法
JPH08281551A (ja) ポリッシング方法及び装置
JP2001191246A (ja) 平面研磨装置および平面研磨方法
US3522679A (en) Concrete abrading with free abrasive machine and method
JP2845238B1 (ja) 平面研磨装置
EP0624432B1 (en) Polishing method, apparatus for the same and buff polishing wheel
JPH06198559A (ja) 湿式研磨方法およびその装置
JP5263657B2 (ja) 研磨装置
JP2986446B2 (ja) 半導体研磨装置および研磨方法
JPH0864562A (ja) 半導体研磨方法及び装置
CN115609468A (zh) 晶圆研磨设备
CN1089050C (zh) 研磨方法,装置及其研磨轮
JP2001121407A (ja) 研磨装置
CN213970427U (zh) 一种精密零配件加工用精密磨床
JP2643909B2 (ja) 乾式バレル研摩法および乾式バレル研摩におけるメディアの再生法
CN214213277U (zh) 一种具有降温功能的陶瓷材料加工用打磨设备
US2097730A (en) Terrazzo grinding apparatus
JP3860901B2 (ja) 2頭平面仕上げ加工機用クーラント供給装置
KR20110045836A (ko) 공압형 오비탈 샌더
JPS60167769A (ja) 研削用砥石のク−ラント方法
JP2000326209A (ja) 平面研磨装置
JPH0847857A (ja) ワーク回転式処理装置における廃液分離方法
CN210756886U (zh) 一种钢材加工用整平抛光装置
JP3012663U (ja) 刃物研ぎ機
KR100567891B1 (ko) 화학적 기계적 연마장치의 컨디셔너