JPH06196025A - 絶縁電線 - Google Patents

絶縁電線

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JPH06196025A
JPH06196025A JP4342728A JP34272892A JPH06196025A JP H06196025 A JPH06196025 A JP H06196025A JP 4342728 A JP4342728 A JP 4342728A JP 34272892 A JP34272892 A JP 34272892A JP H06196025 A JPH06196025 A JP H06196025A
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insulating coating
diisocyanate
coating
acid
wire
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JP4342728A
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Hironori Matsuura
裕紀 松浦
Isao Kamioka
勇夫 上岡
Koichi Iwata
幸一 岩田
Hiromitsu Kawabe
洋光 河辺
Yoshitaka Natsume
喜孝 夏目
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Denso Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
NipponDenso Co Ltd
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    • H01B3/18Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
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    • H01B3/303Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups H01B3/38 or H01B3/302
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 可撓性に優れ、しかも損傷し難い絶縁被膜を
有し、耐加工性に優れた絶縁電線を提供する。 【構成】 引張強さが13kg/mm2 以上、引張弾性率が
270kg/mm2 以上の絶縁被膜を、電線表面に直接にま
たは絶縁性の下地層を介して形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえばモータのコア
に捲き付けられる、耐加工性にすぐれた絶縁電線とその
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、機器の小型化、軽量化の傾向に伴
い、モータについても、より小型、軽量で、しかも高性
能のものが要求されるようになってきた。この要求に答
えるには、モータのコアにより多くの絶縁電線を捲き付
ける必要があるが、コアのスロット内に絶縁電線を強引
に詰め込むことになり、捲線工程で絶縁被膜に損傷を生
じる危険性がある。そして、絶縁被膜に損傷が生じる
と、レアー不良やアース不良等が発生し、モータの電気
特性に不具合を生じるという問題がある。
【0003】そこで、通常は、ポリアミドイミド系の塗
料の塗布、焼付けにより形成された、機械的強度にすぐ
れた絶縁被膜を有する絶縁電線が、上記用途に使用され
ている。なおポリアミドイミドとしては、ジフェニルメ
タン−4,4′−ジイソシアネートとトリメリット酸無
水物との反応生成物が、一般的に使用される(たとえば
特公昭44−19274号公報、特公昭45−2761
1号公報等参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、最近ではさら
に小型、軽量で性能の良いモータが要求され、それに対
応すべく、絶縁電線の捲線量がさらに増大する傾向にあ
り、ポリアミドイミド系の絶縁被膜でも損傷を生じるこ
とが多くなってきた。そこで、絶縁被膜の損傷を少しで
も減少させるために、たとえば有機または無機の潤滑剤
等を塗料に配合して、絶縁被膜の表面に潤滑性を付与す
ることが検討されているが、この方法では、絶縁被膜の
損傷を根本的に解決することはできない。
【0005】絶縁被膜の機械的強度をさらに向上すれば
損傷の発生を減少できるが、単に機械的強度を向上させ
たのでは、被膜が剛直で可撓性に劣るものとなり、電線
を曲げた際に割れたり剥離したりしやすくなって、絶縁
電線の加工性が悪化するという問題がある。本発明は、
以上の事情に鑑みてなされたものであって、可撓性にす
ぐれ、しかも損傷し難い絶縁被膜を有し、耐加工性にす
ぐれた絶縁電線を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するため、本発明者らは、加工傷発生のメカニズム、
および絶縁被膜の物性と加工傷との関係を明確化すべく
鋭意検討を行った。その結果、 a)捲線挿入時に、絶縁電線同士、あるいは絶縁電線と
金属製治具との間でのこすれにより、押し込みと同時に
被膜に剪断力が働き、それによって加工傷が発生するこ
と、 b)したがって絶縁被膜の引張強さおよび引張弾性率
が、加工傷の発生とその防止のために重要な因子である
こと、を見出した。
【0007】そこで、絶縁被膜に実用的な耐傷付き性を
付与し得る、引張強さおよび引張弾性率の範囲を特定す
べくさらに検討を行った結果、絶縁被膜の引張強さが1
3kg/mm2 以上で、かつ絶縁被膜の引張弾性率が270
kg/mm2 以上であれば、可撓性にすぐれ、しかも損傷し
難い絶縁被膜を有し、耐加工性にすぐれた絶縁電線が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】したがって本発明の絶縁電線は、絶縁被膜
の引張強さが13kg/mm2 以上で、かつ絶縁被膜の引張
弾性率が270kg/mm2 以上であることを特徴とする。
絶縁被膜の引張強さが13kg/mm2 未満、または引張弾
性率が270kg/mm2未満の場合には、前記加工傷発生
のメカニズムにより、絶縁被膜が傷付き易いものとなっ
てまう。なお絶縁被膜の引張強さは、14〜25kg/mm
2 の範囲内であるのが好ましく、引張弾性率は、300
〜600kg/mm2 の範囲内であるのが好ましい。
【0009】また上記絶縁被膜は、密着力が40g/mm
以上、ピアノ線に対する静摩擦係数が0.10以下であ
る場合に、さらに耐傷付き性が向上する。上記密着力
は、40〜80g/mmの範囲内、ピアノ線に対する静摩
擦係数は、0.04〜0.08の範囲内であるのがより
好ましい。絶縁被膜は、従来と同様に絶縁被膜用の塗料
の塗布、焼付けにより形成され、上記の物性を満足する
ものであればいかなるものでもよい。それらのうちで
も、機械的強度にすぐれた被膜を形成できることが知ら
れているポリアミドイミド系、ポリイミド系または芳香
族ポリアミド系の絶縁被膜や、無機あるいは有機のフィ
ラーを添加して高強度化したものが好ましい。より好ま
しくは、上記ポリアミドイミド系、ポリイミド系、芳香
族ポリアミド系の構造中に、たとえば下記式(1) 〜(15)
に示すような構造を導入して高強度化したもの、あるい
はこれに無機あるいは有機のフィラーを添加してさらに
高強度化したもの等があげられる。
【0010】
【化1】
【0011】(式中nは、1以上の整数を示す。)
【0012】
【化2】
【0013】
【化3】
【0014】
【化4】
【0015】
【化5】
【0016】上記各種塗料のうちポリアミドイミド系塗
料は、略化学量論量のジイソシアネート成分と酸成分
とを重合させる、ジアミン成分と酸成分とを反応させ
た後、反応生成物を、略等モル量のジイソシアネート成
分と重合させる、酸クロライドを含む酸成分とジアミ
ン成分とを重合させる、等の従来公知の製造方法により
製造することができる。
【0017】上記の製造方法で製造されるポリアミド
イミド系塗料の構造中に、前記式(1) 〜(15)のような構
造を導入して絶縁被膜を高強度化するには、ジイソシア
ネート成分として、前記各式に示すような構造を分子中
に有する芳香族ジイソシアネートを使用すればよい。こ
のような芳香族ジイソシアネートとしては、たとえばベ
ンゼン環をp位でつないだオリゴ(p−フェニレン)で
は、p−フェニレンジイソシアネート、ビフェニル−
4,4′−ジイソシアネート、ターフェニル−4,4″
−ジイソシアネート等の化合物やあるいはこれらの化合
物の基本骨格にハロゲン、アルキル基、アルコキシル基
等の置換基を置換させた化合物等があげられる。
【0018】また、多核芳香族ジイソシアネートでは、
ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、ナフタレン−
2,6−ジイソシアネート、アントラセン−1,5−ジ
イソシアネート、アントラセン−2,6−ジイソシアネ
ート、アントラセン−9,10−ジイソシアネート、フ
ェナントレン−2,7−ジイソシアネート、フェナント
レン−1,6−ジイソシアネート、アントラキノン−
1,5−ジイソシアネート、アントラキノン−2,6−
ジイソシアネート、フルオレン−1,5−ジイソシアネ
ート、フルオレン−2,6−ジイソシアネート、カルバ
ゾール−1,5−ジイソシアネート、カルバゾール−
2,6−ジイソシアネート等の化合物やあるいはこれら
の化合物の基本骨格にハロゲン、アルキル基、アルコキ
シル基等の置換基を置換させた化合物等があげられる。
【0019】さらにベンズアニリド−4,4′−ジイソ
シアネート等の化合物やあるいはこれらの化合物の基本
骨格にハロゲン、アルキル基、アルコキシル基等の置換
基を置換させた化合物等があげられる。これらは単独
で、あるいは2種以上混合して使用される。の製造方
法において、上記芳香族ジイソシアネートのみをジイソ
シアネート成分として使用した場合には、絶縁被膜が可
撓性に劣るものとなってしまうおそれがある。そこで、
被膜に柔軟性を付与するようなジイソシアネートと併用
し、被膜の強度と可撓性のバランスをとるのが好まし
い。
【0020】被膜に柔軟性を付与するようなジイソシア
ネートとしては、たとえばジフェニルメタン−4,4′
−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,3′−ジ
イソシアネート、ジフェニルメタン−3,4′−ジイソ
シアネート、ジフェニルエーテル−4,4′−ジイソシ
アネート、ベンゾフェノン−4,4′−ジイソシアネー
ト、ジフェニルスルホン−4,4′−ジイソシアネー
ト、トリレン−2,4−ジイソシアネート、トリレン−
2,6−ジイソシアネート、m−キシリレンジイソシア
ネート、p−キシリレンジイソシアネート等、従来公知
の種々のジイソシアネートがあげられる。これらは単独
で、あるいは2種以上混合して使用される。
【0021】上記ジイソシアネート成分とともにポリア
ミドイミド系塗料を構成する酸成分としては、トリメリ
ット酸、トリメリット酸無水物、トリメリット酸クロラ
イド、または、トリメリット酸の誘導体等の三塩基酸等
があげられる。また酸成分中には、テトラカルボン酸無
水物や二塩基酸、たとえば、ピロメリット酸二無水物、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラ
カルボン酸二無水物、テレフタル酸、イソフタル酸、ス
ルホテレフタル酸、ジクエン酸、2,5−チオフェンジ
カルボン酸、4,5−フェナントレンジカルボン酸、ベ
ンゾフェノン−4,4′−ジカルボン酸、フタルジイミ
ドジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、2,6−ナ
フタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホン−4,4′
−ジカルボン酸、アジピン酸等を、一部添加することも
できる。
【0022】前記の製造方法で製造されるポリアミド
イミド系塗料の構造中に、前記式(1) 〜(15)のような構
造を導入して絶縁被膜を高強度化するには、ジアミン成
分として、前記各式に示すような構造を分子中に有する
芳香族ジアミンを使用すればよい。このような芳香族ジ
アミンとしては、たとえばベンゼン環をp位でつないだ
オリゴ(p−フェニレン)では、p−フェニレンジアミ
ン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4″−ジアミ
ノターフェニル等の化合物やあるいはこれらの化合物の
基本骨格にハロゲン、アルキル基、アルコキシル基等の
置換基を置換させた化合物等があげられる。
【0023】また、多核芳香族ジアミンでは、1,5−
ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、
1,5−ジアミノアントラセン、2,6−ジアミノアン
トラセン、9,10−ジアミノアントラセン、2,7−
ジアミノフェナントレン、1,6−ジアミノフェナント
レン、1,5−ジアミノアントラキノン、2,6−ジア
ミノアントラキノン、1,5−ジアミノフルオレン、
2,6−ジアミノフルオレン、1,5−ジアミノカルバ
ゾール、2,6−ジアミノカルバゾール等の化合物やあ
るいはこれらの化合物の基本骨格にハロゲン、アルキル
基、アルコキシル基等の置換基を置換させた化合物等が
あげられる。
【0024】さらに4,4′−ジアミノベンズアニリド
等の化合物やあるいはこれらの化合物の基本骨格にハロ
ゲン、アルキル基、アルコキシル基等の置換基を置換さ
せた化合物等があげられる。これらは単独で、あるいは
2種以上混合して使用される。の製造方法において、
上記芳香族ジアミンのみをジアミン成分として使用した
場合には、絶縁被膜が可撓性に劣るものとなってしまう
おそれがある。そこで、被膜に柔軟性を付与するような
ジアミンと併用し、被膜の強度と可撓性のバランスをと
るのが好ましい。
【0025】被膜に柔軟性を付与するようなジアミンと
しては、たとえばm−フェニレンジアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノジフェニルスルフィド、ジアミノジフェニルプロパ
ン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノベンゾフェ
ノン、ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、
4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
4,4′−〔ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニ
ル〕エーテル、4,4′−〔ビス(4−アミノフェノキ
シ)ビフェニル〕メタン、4,4′−〔ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ビフェニル〕スルホン、4,4′−〔ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル〕プロパン等、
従来公知の種々のジアミンがあげられる。これらは単独
で、あるいは2種以上混合して使用される。
【0026】酸成分およびジイソシアネート成分につい
ては、前記の製造方法で例示したものと同様の化合物
が使用できる。前記の製造方法で使用されるジアミン
成分としては、上記の製造方法で例示したものと同様
の化合物が使用できる。ポリアミドイミド系塗料の構造
中に式(1) 〜(15)のような構造を導入して絶縁被膜を高
強度化すべく、前記の芳香族ジアミンを使用すること、
被膜の強度と可撓性のバランスをとるべく、被膜に柔軟
性を付与するようなジアミンを併用するのが好ましいこ
とも同様である。
【0027】の製造方法において、上記ジアミン成分
と重合させる酸クロライドとしては、トリメリット酸ク
ロライドまたはその誘導体があげられる。また、テレフ
タル酸クロライドやイソフタル酸クロライドを添加する
こともできる。絶縁被膜用の塗料のうちポリイミド系塗
料は、略化学量論量のジアミン成分と、テトラカルボン
酸二無水物を含む酸成分とを重合させる従来公知の製造
方法により製造することができる。
【0028】上記の製造方法で製造されるポリイミド系
塗料の構造中に、前記式(1) 〜(15)のような構造を導入
して絶縁被膜を高強度化するには、ジアミン成分とし
て、前記ポリアミドイミド系塗料のの製造方法で例示
した、式(1) 〜(15)のような構造を有する化合物や、あ
るいはこれらの化合物の基本骨格にハロゲン、アルキル
基、アルコキシル基等の置換基を置換させた化合物等
の、芳香族ジアミンを使用すればよい。これらは単独
で、あるいは2種以上混合して使用される。
【0029】また被膜に柔軟性を付与して、被膜の強度
と可撓性のバランスをとるべく、前記例示の、被膜に柔
軟性を付与するようなジアミンを、上記芳香族ジアミン
と併用するのが好ましい。上記ジアミン成分とともにポ
リイミド系塗料を構成する酸成分としては、ピロメリッ
ト酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
ベンゾフェノン−3、3′,4,4′−テトラカルボン
酸二無水物、ジフェニルスルホン−3、3′,4,4′
−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニルメタン−3、
3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ジフェニ
ルプロパン−3、3′,4,4′−テトラカルボン酸二
無水物、ジフェニルヘキサフルオロプロパン−3、
3′,4,4′−テトラカルボン酸二無水物、ベンゼン
−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ナフタ
リン−2,3,5,7−テトラカルボン酸二無水物、ナ
フタリン−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物
等のテトラカルボン酸二無水物またはこれらの誘導体が
あげられる。これらは単独で、あるいは2種以上混合し
て使用される。
【0030】上記各酸成分の中でも、入手のしやすさや
コスト等の点で、ピロメリット酸二無水物、ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物およびこれらの誘導体が好適
に使用される。絶縁被膜用の塗料のうち芳香族ポリアミ
ド系塗料は、略化学量論量のジアミン成分と、酸クロラ
イドを含む酸成分とを重合させる従来公知の製造方法に
より製造することができる。
【0031】上記の製造方法で製造される芳香族ポリア
ミド系塗料の構造中に、前記式(1)〜(15)のような構造
を導入して絶縁被膜を高強度化するには、酸クロライド
成分として、前記各式に示すような構造を分子中に有す
る芳香族酸クロライドを使用すればよい。このような芳
香族酸クロライドとしては、テレフタル酸ジクロライ
ド、ビフェニル−4,4′−ジカルボン酸ジクロライ
ド、ターフェニル−4,4″−ジカルボン酸ジクロライ
ド、ナフチレン−1,5−ジカルボン酸ジクロライド等
があげられる。これらは単独で、あるいは2種以上混合
して使用される。
【0032】上記の製造方法において、上記芳香族酸ク
ロライドのみを酸クロライド成分として使用した場合に
は、絶縁被膜が可撓性に劣るものとなってしまうおそれ
がある。そこで、イソフタル酸ジクロライド等の酸クロ
ライドを、上記芳香族酸クロライドと併用することによ
り、被膜に柔軟性を付与して、被膜の強度と可撓性のバ
ランスをとるのが好ましい。
【0033】上記酸クロライド成分ととともに芳香族ポ
リアミド系塗料を構成するジアミン成分としては、前記
ポリアミドイミドの製造方法で例示したものと同様の
ものが使用できる。芳香族ポリアミド系塗料の構造中に
式(1) 〜(15)のような構造を導入して絶縁被膜を高強度
化すべく、前記の芳香族ジアミンを使用すること、被膜
の強度と可撓性のバランスをとるべく、被膜に柔軟性を
付与するようなジアミンを併用するのが好ましいことも
同様である。
【0034】絶縁被膜を高強度化すべく塗料中に配合さ
れるフィラーとしては、無機あるいは有機の、従来公知
の種々のフィラーが使用できるが、とくに、チタン酸カ
リウム、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素、窒化ケイ
素、硫酸カルシウム、ホウ酸マグネシウム等の種々の材
質からなるウィスカーが好適に使用される。ウィスカー
のサイズは本発明ではとくに限定されないが、繊維径は
2μm以下であるのが好ましく、繊維長は250μm以
下であるのが好ましい。ウィスカーの繊維径および繊維
長が上記範囲を超えると絶縁被膜の可撓性が失われ、引
張強さや引張弾性率が前記範囲を下回って、絶縁被膜が
傷付き易いものとなってまうおそれがある。
【0035】なおウィスカーの繊維径が小さい程、絶縁
被膜の引張強さが向上するので、繊維径は1.5μm以
下であるのがより好ましい。また繊維長は、200μm
以下であるのがより好ましい。ウィスカーの配合割合
は、特に限定されないが塗料中の非揮発分(つまり溶媒
を除いた樹脂分)100重量部に対し5〜90重量部で
あるのが好ましい。ウィスカーの配合割合が5重量部未
満では、絶縁被膜の弾性率向上の度合いが小さく、絶縁
被膜が傷付き易いものとなってまうおそれがある。また
ウィスカーの配合割合が90重量部を超えると、被膜の
伸びが著しく低下し、可撓性が悪化するおそれがある。
ウィスカーの配合割合は、上記範囲の中でも10〜80
重量部の範囲内、とくに15〜50重量部の範囲内がよ
り好ましい。
【0036】なお、本発明に使用される塗料には、さら
に必要に応じて、顔料、染料、潤滑剤等の各種添加剤を
添加してもよい。本発明の絶縁電線は、上記塗料を電線
の表面に塗布し、焼付けて絶縁被膜を形成することで製
造される。絶縁被膜の膜厚については本発明ではとくに
限定されず、電線のサイズ等に応じて、従来と同程度の
膜厚に形成することができる。
【0037】絶縁被膜の上層には、絶縁被膜の表面に潤
滑性を付与すべく、表面潤滑層を設けてもよい。表面潤
滑層としては、流動パラフィン、固形パラフィンといっ
たパラフィン類の塗膜も使用できるが、耐久性等を考慮
すると、各種ワックス、ポリエチレン、フッ素樹脂、シ
リコーン樹脂等の潤滑剤をバインダー樹脂で結着した表
面潤滑層がより好ましい。
【0038】
【実施例】以下に、本発明の絶縁電線を、実施例並びに
比較例に基づいて説明する。実施例1 下記の酸成分とジイソシアネート成分とからポリアミド
イミド系塗料を作製し、このポリアミドイミド系塗料
を、直径1.0mmの銅線表面に、常法によって塗布、焼
付けして、膜厚35μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を
作製した。 ・酸成分: トリメリット酸無水物(以下「TMA」という)=1.
0モル ・ジイソシアネート成分: パラフエニレンジイソシアネート(以下「PPDI」と
いう)=0.4モル ナフチレン−1,5−ジイソシアネート(以下「ND
I」という)=0.2モル ジフェニルメタンジイソシアネート(以下「MDI」と
いう)=0.4モル実施例2 下記の酸成分とジアミン成分とからジカルボン酸を作製
し、つぎにこのジカルボン酸と下記のジイソシアネート
成分とからポリアミドイミド系塗料を作製した。 ・酸成分: TMA=1.0モル ・ジアミン成分 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル
(以下「DBRB」という)=0.35モル 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル(以下「DD
E」という)=0.15モル ・ジイソシアネート成分: PPDI=0.35モル MDI=0.15モル そして、このポリアミドイミド系塗料を使用して、上記
実施例1と同様にして、直径1.0mmの銅線表面に、膜
厚35μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を作製した。
【0039】比較例1 ジアミン成分として1.0モルのMDIを使用したこと
以外は、上記実施例1と同様にしてポリアミドイミド系
塗料を作製し、このポリアミドイミド系塗料を使用し
て、実施例1と同様にして、直径1.0mmの銅線表面
に、膜厚35μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を作製し
た。
【0040】実施例3 下記の酸成分とジアミン成分とからポリイミド系塗料を
作製し、このポリイミド系塗料を、直径1.0mmの銅線
表面に、常法によって塗布、焼付けして、膜厚35μm
の絶縁被膜を有する絶縁電線を作製した。 ・酸成分: ピロメリット酸二無水物(以下「PMDA」という)=
0.5モル ・ジアミン成分: 4,4′−ジアミノベンズアニリド(以下「DABA
N」という)=0.15モル p−フェニレンジアミン(以下「p−PDA」という)
=0.15モル 4,4′−〔ビス(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
プロパン(以下「BAPP」という)=0.2モル実施例4 酸成分として、0.25モルのPMDAと、0.25モ
ルの3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物(以下「s−BPDA」という)とを使用する
とともに、ジアミン成分として、0.2モルのp−PD
Aと、0.1モルのBAPPと、0.2モルのDDEと
を使用したこと以外は、上記実施例3と同様にしてポリ
イミド系塗料を作製し、このポリイミド系塗料を使用し
て、実施例3と同様にして、直径1.0mmの銅線表面
に、膜厚35μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を作製し
た。
【0041】比較例2 ジアミン成分として、0.1モルのDABANと、0.
2モルのDDEと、0.2モルのBAPPとを使用した
こと以外は、上記実施例3と同様にしてポリイミド系塗
料を作製し、このポリイミド系塗料を使用して、実施例
3と同様にして、直径1.0mmの銅線表面に、膜厚35
μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を作製した。
【0042】実施例5 下記の酸成分とジアミン成分とから芳香族ポリアミド系
塗料を作製し、このポリアミド系塗料を、直径1.0mm
の銅線表面に、常法によって塗布、焼付けして、膜厚3
5μmの絶縁被膜を有する絶縁電線を作製した。 ・酸成分: テレフタル酸ジクロライド=0.6モル イソフタル酸ジクロライド=0.4モル ・ジアミン成分 DDE==0.75モル p−PDA=0.25モル実施例6 前記比較例1で作製したポリアミドイミド系塗料に、当
該塗料中の樹脂分100重量部に対して15重量部の割
合で、チタン酸カリウムウィスカー(大塚化学社製の商
品名ティスモ−D、繊維径1.0μm、繊維長50μ
m)を添加、混合して塗料を作製した。そして、この塗
料を用いて、比較例1と同様にして絶縁電線を作製し
た。
【0043】実施例7 直径1.0mmの銅線表面に、ジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシアネートとTMAとを含む市販のポリア
ミドイミド系塗料を常法によって塗布、焼付けして、膜
厚8μmの下地層を形成した。つぎにこの下地層上に、
実施例1で使用したのと同じポリアミドイミド系塗料を
常法によって塗布、焼付けして、膜厚27μmの絶縁被
膜を形成し、絶縁電線を作製した。
【0044】実施例8 実施例7で作製した絶縁電線の絶縁被膜上に、ワックス
とバインダー樹脂とからなる水溶性潤滑塗料を常法によ
って塗布、焼付けして表面潤滑層を形成したこと以外
は、上記実施例7と同様にして絶縁電線を作製した。上
記各実施例、比較例の絶縁電線について、以下の各試験
を行った。
【0045】引張弾性率、引張強さ測定 実施例、比較例の絶縁電線から銅線をエッチング除去
し、残った絶縁被膜(長さ6cm)を、引張試験機を用い
て、チャック間隔3cm、引張速度1mm/分の条件で引張
試験し、得られたS−Sカーブがら引張弾性率(kg/mm
2 )および引張強さ(kg/mm2 )を求めた。
【0046】密着力測定 実施例、比較例の絶縁電線の絶縁被膜に、その長手方向
に沿って長さ2cmの2本の切込みを0.5mm間隔で入
れ、2本の切込みの間の絶縁被膜の一端をピンセットで
めくって、熱機械試験機(TMA:サーマルメカニカル
アナラシス、セイコー電子社製)を用いて絶縁被膜と電
線の180°剥離試験を行い、被膜の密着力(g/mm)
を測定した。
【0047】ピアノ線に対する静摩擦係数測定 実施例、比較例の絶縁電線に直交させてピアノ線を重ね
合わせ、ピアノ線に1kgの荷重をかけた状態における静
摩擦係数を測定した。可撓性試験 実施例、比較例の絶縁電線に、直径1mmの丸棒をあてが
って、電線を丸棒の外形に対応させて曲げた際の、絶縁
被膜の割れや剥離を観察し、異状が見られなかったもの
を良、異状が見られたものを不良とした。
【0048】ピアノ線損傷荷重測定 実施例、比較例の絶縁電線に直交させてピアノ線を重ね
合わせ、ピアノ線に種々の重さの荷重をかけた状態でピ
アノ線を引抜き、絶縁被膜が損傷する荷重を記録した。捲線加工後の漏れ電流値測定 実施例、比較例の絶縁電線を、実際の捲線加工に使用す
る捲線機を用いてコイル状に巻き付けた後、対向電極と
ともに3%食塩水中に浸漬し、コイルを負極として対向
電極との間に3Vの電圧を印加して漏れ電流値を測定
し、コイル状に巻き付けられた絶縁電線における、導体
まで達する傷の大きさを評価した。
【0049】以上の結果を表1に示す。
【0050】
【表1】
【0051】上記表1の結果より、絶縁被膜の引張強さ
が13kg/mm2 未満で、かつ絶縁被膜の引張弾性率が2
70kg/mm2 未満である比較例1,2は、ピアノ線損傷
荷重測定ならびに捲線加工後の漏れ電流値測定の結果よ
り、絶縁被膜が損傷し易いことが判った。これに対し、
絶縁被膜の引張強さが13kg/mm2 以上で、かつ絶縁被
膜の引張弾性率が270kg/mm2 以上である実施例1〜
8は、絶縁被膜の樹脂の種類に関係なく、いずれも、絶
縁被膜が損傷し難いことが判った。
【0052】また、絶縁被膜の密着力を向上すべく下地
層を設けた実施例7,8の結果より、絶縁被膜の密着力
を40g/mm以上にすると、絶縁被膜がさらに損傷し難
くなることが判った。さらに、静摩擦係数を低下させる
べく表面潤滑層を設けた実施例8の結果より、絶縁被膜
の静摩擦係数を0.10以下にすると、より一層絶縁被
膜が損傷し難くなることが判った。
【0053】
【発明の効果】本発明の絶縁電線によれば、絶縁被膜の
引張強さと引張弾性率を特定範囲に限定することによ
り、可撓性にすぐれ、しかも、損傷し難い絶縁被膜を形
成することができる。したがって、本発明の絶縁電線は
耐加工性にすぐれており、たとえばモータの捲線に使用
する場合には、コアへの捲線量を従来より増大させて
も、捲線工程で絶縁被膜に損傷を生じるおそれがなく、
より小型、軽量で性能の良いモータの要求に対応するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 幸一 大阪市此花区島屋一丁目1番3号 住友電 気工業株式会社大阪製作所内 (72)発明者 河辺 洋光 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 日本電 装株式会社内 (72)発明者 夏目 喜孝 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 日本電 装株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁被膜の引張強さが13kg/mm2 以上
    で、かつ絶縁被膜の引張弾性率が270kg/mm2 以上で
    あることを特徴とする絶縁電線。
  2. 【請求項2】絶縁被膜の密着力が40g/mm以上である
    請求項1記載の絶縁電線。
  3. 【請求項3】絶縁被膜のピアノ線に対する静摩擦係数が
    0.10以下である請求項1記載の絶縁電線。
  4. 【請求項4】絶縁被膜が、ポリアミドイミド、ポリイミ
    ドおよび芳香族ポリアミドからなる群より選ばれた少な
    くとも1種である請求項1記載の絶縁電線。
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