JPH06195756A

JPH06195756A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH06195756A
Application number: JP4346305A
Authority: JP
Inventors: Mitsuo Hiraoka; 美津穂平岡
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1992-12-25
Filing date: 1992-12-25
Publication date: 1994-07-15

Abstract

(57)【要約】【目的】ＤＲＡＷ型光記録媒体の停止時に連続して読
みだし光が照射されることによる読みだし光の書き込み
を防止し、安定した反射率を有する低記録感度領域を設
けた光記録媒体を提供する。【構成】記録領域に比較して相対的に記録感度が低い
低感度領域が基板のトラッキング用パターン面側に設け
られており、この領域が実質的に記録層と同等の反射率
をもち、円形、楕円形又はその一部の場合にはその最も
外側、および／またはパターン最内周より内側に設けら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学的に情報の記録、再
生を行う情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会の情報化が進み、多種多様な
情報を効率良く取扱う手段として、光ディスク、光カー
ド、光テープ等を使って光学的に情報の記録または再生
を行う情報記録媒体および光学的情報記録再生装置が多
く提案されている。前記情報記録媒体には二値化された
情報が反射率の変化、ピット（穴）の有無のような表面
形状の変化に伴なう反射光強度の変化、磁気光学効果に
よる偏光面の変化を強度変化に変換して検出出来る媒体
がある。前述の情報記録媒体の特徴としては、記録密度
が高く、かつ非接触で記録、再生が可能なために、寿命
が長い等の優れた点があげられる。さらに、携帯性に優
れ、かつ大きさに比べて大容量であるカード状の情報記
録媒体（以下、光カードとする。）についても最近盛ん
に研究、開発が行われており、提案もされ始めている。

【０００３】以下に光学的に情報の記録、再生を行う情
報記録媒体として、光カードを取り上げて説明する。光
学的な情報の記録・再生方法について述べると、たとえ
ばエネルギービームにより磁化方向を反転させる光磁気
記録、また凹凸ピット形成による記録、或は光学的反射
率の高低による記録が行われるが、通常、ＳＮ比が高
く、製作の容易な光学的反射率の高低による記録媒体が
広く用いられている。

【０００４】光学的反射率の高低による記録媒体として
は、例えば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散し
て形成した記録層を有するカード類が提案されている。
この記録層への情報の書込みは、レーザビームを記録層
に照射して記録ピットを形成して行われている。

【０００５】一方記録層にレーザビームなどのエネルギ
ービームをスポット状に照射して、記録層の一部を状態
変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録材料が
提案されている。これらの記録層としては、テルル、ビ
スマスなどの金属薄膜、ポリスチレン、ニトロセルロー
スなどの有機薄膜、シアニン類などの色素薄膜、或いは
相転移を利用したテルル低酸化物膜などが用いられてい
る。これらの記録材料は、情報の書込みの後現像処理な
どの必要がなく、「書いた後直読する」ことのできる、
いわゆるＤＲＡＷ（ダイレクトリードアフターラ
イト；directread after write）媒体であり、高密度記
録が可能であり、追加書込みも可能である。以下に本発
明と従来の発明とを図１〜図５を用いて説明する。図１
（ａ）は本発明の光記録媒体の一実施例の説明図であ
り、（ｂ）はそのＡ−Ａ’の断面図であり、（ｃ）は本
発明の光記録媒体の別の実施例の全体説明図であり、
（ｄ）はその扇形の記録層による光記憶媒体である。図
２（ａ）（ｂ）（ｃ）は直線型のトラッキング構造を持
つ光記録媒体の模式的説明図である。図３は従来の光記
録媒体の一例を示す説明図である。図４は従来の光記録
媒体の記録、再生方法を示す説明図である。図５はパタ
ーン原版製造方法の模式的説明図である。

【０００６】図３は従来のＤＲＡＷ型光カードの記録フ
ォーマットを示す模式的平面図であり、この中では記録
媒体である光カード３１上には記録領域３２が設けら
れ、記録領域３２はトラック３３が複数配列されて形成
されている。更にトラック３３にはスタートビットおよ
びストップビットが形成され、トラック３３は数千ビッ
ト程度の情報容量を有している。また、各トラック３３
はレファレンスライン３５（以下、Ｒラインとする。）
によって区切られている。なお、矢印Ａは再生時におけ
る光カード３１の移動方向である。

【０００７】図４は光カード再生方法の概略的構成図で
ある。同図においては光カード３１は回転機構３６によ
って矢印Ａ方向に移動可能である。光カード３１に記録
された情報は、トラック３３毎に光ヘッド４１によって
読取られ再生される。まず、半導体レーザー等の光源３
７からの光がレンズ系３８によって集光され、情報が記
録されているトラック３３を照射する。照射されたトラ
ック３３の像は結像光学系３９によってセンサ４０上に
結像し、前記トラック３３に記録されている情報に対応
した電気信号がセンサ４０から出力される。図１
（ａ），（ｃ），（ｄ）のようにトラックが直線的でな
いものにあっては、その読み取り系はトラックの曲線に
沿った動きをさせることとする。前記の直線的トラック
３３の読取りが終了すると、光カード３１が矢印Ａ方向
に、又は光ヘッド４１がトラック３３の配列方向（矢印
Ｃ方向）に移動して、次のトラック３３の情報読取りが
同様に行われる。

【０００８】又、光カード３１上の任意のトラック３３
をアクセスするには、光ヘッド４１を矢印Ｃ方向に移動
させる。光ヘッド４１は、Ｒライン３５をカウントする
事によって読取り対象である目標トラック３３が属する
トラック３３を選択し、該トラック３３に到達したら停
止する。続いて、回転機構３６によって光カード３１を
矢印Ａ方向に移動させ、目標トラック３３上の情報の読
取りを行う。

【０００９】

【発明が解決しようとする問題点】このように従来の光
カード３１等の情報記録担体は、光学的記録再生装置の
光ヘッド４１に配設した光源３７から照射された光によ
って、光学的に情報の記録又は再生が行われる。

【００１０】上記のように光カードの再生時にはトラッ
キングしている間、光カード３１は回転機構３６によっ
て矢印Ａ方向に移動して情報の読取りを行っているので
あるが、Ａ方向への移動に伴って光カードが反転移動す
るために停止する時があり、読出し光のエネルギーによ
って極めて徐々にではあるが、書き込みが進行し、遂に
はトラッキング信号を検出するのに困難な状態となる事
が見出された。

【００１１】上記の記録再生時の光カードのリターン静
止部の記録層の劣化は記録層の種類によって異なる。す
なわち再生レーザによって発生する熱エネルギーを拡散
しやすい金属系または金属酸化物系の記録層において
は、リターン静止部の記録層の劣化は小さいが、記録層
を蒸着法で作製するために量産性が良くないと言う欠点
があった。

【００１２】一方量産性の高い溶媒塗布型有機色素媒体
としてはシアニン系色素、ポリメチン系色素、アズレン
系色素、キサンテン系色素等が知られている。しかしな
がら有機色素を用いた光カードは再生レーザ光による上
述の光カードリターン静止部の反射率の劣化が早い欠点
があった。

【００１３】これらの欠点を改善するために、上記の光
カードの非記録部である光カードリターン静止部を光カ
ードの低記録感度領域にした発明が既に開示されてい
る。これらの具体例を３件挙げることにする。１低記録感度領域に光安定剤を多量に加える。特開平
１−１９５４２２低記録感度領域に記録しにくい別な記録層を作る。
特開平１−１９５４１これらの特許は何れも記録部と非記録部（光カードリタ
ーン静止部）の記録材料が異なるために、生産性が悪い
欠点があった。特に、溶媒塗布型有機色素記録層を有す
る光カードの場合には、記録層における記録部と低記録
感度領域の境界がにじみ、オートトラッキングまたはオ
ートフォーカス機能にエラーが生じ易くなっていった。３レーザビームの反転部の案内溝の断面積が記録領域
よりも大きい。特開平２−１７４３０７０この特許は基板形成用の型から作製し直す必要があり、
またトラック溝の深さの変化をパターニングによって製
作するのは技術的には困難であり、大変コストが掛かっ
て問題であった。上記の事実は直線状のトラック上を光
ヘッドが往復運動する場合について説明したが、トラッ
クが円形、楕円形等の場合も同様の問題があった。

【００１４】本発明は上記の問題点を解決する目的でな
されたものであり、ＤＲＡＷ型光記録媒体において、媒
体の停止時に連続して読み出し光が照射されることによ
る読み出し光による書き込みを防止し、かつ安定した反
射率を有する低記録感度領域を設けた光記録媒体を提供
しようとするものである。

【００１５】

【問題点を解決するための手段】すなわち本発明は表面
にトラッキング用パターンを有する基板、その表面に同
心円状、あるいは平面的なスパイラル状、あるいは楕円
状であるトラッキング用パターン、もしくはその一部を
有する基板および通常のトラッキングが円周、曲線では
なく、直線状になっている基板と、該トラッキング用パ
ターン上に設けられた光記録層からなる光記録媒体にお
いて、記録領域に比較して相対的に記録感度が低い低記
録感度領域が該基板のトラッキング用パターン面側に設
けられており、該低記録感度領域が光記録層と実質的に
同等の反射率を持ち、該低記録感度領域が円形、楕円
形、またはその一部の場合にはパターン最外周より外
側、および／またはパターン最内周より内側に、直線の
トラッキングの場合には記録領域の外側に設けられてい
ることを特徴とする光記録媒体であり、更に低感度領域
が電着物で形成されていることを特徴とする光記録媒体
であり、更にトラッキングパターンが電着物で形成され
ていることを特徴とする光記憶媒体である。以下に本
発明に係る光記録媒体を図面を使って具体的に説明す
る。

【００１６】図１の各図は本発明に係る光記録媒体の例
を示す図であり、これらの図において本発明に係る光記
録媒体は、トラッキング用パターン１を有する基板２の
トラッキング用パターン上に光記録層３を設けると共
に、光記録層と実質的に同等の反射率をもつ低記録感度
領域８を設け、該光記録層と該低記録感度領域の上に保
護基板９を、接着層１０を介して接するように構成され
ている。

【００１７】必要によっては、光記録媒体に磁気記録
層、ＩＣメモリー、彫刻画像、写真、文字、マーク、イ
ンプリントと称する浮き出し文字などを併設してもよ
い。この様にする事によって、１枚の光記録媒体で種々
の再生方式に対応でき、また偽造をより効果的に防止で
きる。

【００１８】トラッキング用パターン１を有する基板
２、保護基板９側から記録・再生光を照射する場合、基
板、保護基板としては、光学的な記録再生において障害
の少ないものが好ましい。例えば、アクリル系樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース誘導体などを
用いる事が出来る。

【００１９】透明である必要がない場合は、通常のカー
ド基材として用いる事が出来るあらゆる材料が使用可能
であり、具体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸
ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル
酸メチル等アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、アセチルセルロース、スチレン／ブタジ
エン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネートなどが用いられる。場合に依っては、鉄、ス
テンレス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シー
ト、合成紙、紙等も用い得る。更には、上記の様な材料
の積層体も用いられる。これら保護基板には、必要に応
じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー処理な
どの接着性改良のための前処理をしてもよい。

【００２０】基板にトラッキングパターンを設ける方法
は、熱プレス法、注型法、射出成形、２Ｐ法などの方法
があり、電着により形成する方法がある。電着によって
形成する場合には、後述する低記録感度領域を設ける方
法と同様の方法を形成し、その際パターンをトラッキン
グ状にする。（図中トラックは一部省略してある。）該
低記録感度領域を次のような手法で設けるのが妥当であ
る。１導電性を有する基板の上に、この領域に対応するパ
ターンを有するパターニングしたフォトレジスト層を設
けて、パターン原版を作成する。２低記録感度領域となる電着物の形成をパターン原版
の上に電着する。３基板上に電着物を転写する。

【００２１】該低記録感度領域は、トラッキング用パタ
ーンが同心円状、スパイラル状、楕円状の場合、トラッ
クの最外周もしくは最外周を含む複数の隣接したトラッ
キング用パターン上もしくはトラックの最外周より外側
の部分上８、４および／またはトラックの最内周もしく
は最内周を含む複数の隣接したトラッキング用パターン
上もしくはトラックの最内周より内側の部分上８、５に
設ける。トラッキングパターンが直線状の場合にはトラ
ックの最上段もしくは最上段を含む複数の隣接したトラ
ッキング用パターン上に、もしくはトラック再上段より
上側および／またはトラックの最下段もしくは最下段を
含む複数の隣接したトラッキングパターン上、もしくは
トラック最下段より下側（８、６）、および／またはト
ラックの左右端付近の光ヘッドが相対的に停止する位置
を含むトラッキングパターン上（８、７）等に設ける。
図１（ｄ）の様に、扇形の場合、扇形のトラッキング用
パターン３より外側に設けることが可能である。

【００２２】光記録層と同等の反射率をもつ低記録感度
領域を形成する物質としては金属、セラミックス、顔
料、染料などを使用することが可能である。

【００２３】トラッキング用パターンを有する基板に低
記録感度領域を設ける方法としては塗布、蒸着、スパッ
タなどの方法を使用することができる。また、塗布方法
としてはディップ法、スプレー法、スピナー法、バーコ
ート法、ブレードコート法、ロールコート法、カーテン
コート法等の方法がある。

【００２４】パターン原版の製造方法を図５（ａ）〜
（ｆ）を用いて説明する。パターン原版用基板２１の材
料は種々の材質のものを使用することが可能であり、ガ
ラス、セラミックス、プラスチック、金属等が使用でき
る。

【００２５】プラスチックとしてはポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、セルローストリ
アセテート、ポリフッ化ビニル、ポリサルホン、ポリエ
ーテルサルホン、ポリエーテルイミド、ポリメチルペン
テン等を挙げることができる。これらのガラス、セラミ
ックス、プラスチック、金属等は互いに２種以上積層し
てもよい。

【００２６】まずパターン原版用基板２１上に導電層２
２を形成する。導電層２２は銅その他の導電性金属層あ
るいは酸化錫または酸化インジウム等より成る透明導電
層から形成される。上記導電層２２はスプレー、スパッ
タリング、もしくは貼り合わせ等の方法により形成され
る。パターン原版用基板２１が導電性を有する金属であ
る場合、導電層の形成は省略できるが、その際パターン
を形成しないパターン原版用基板２１の裏側の面には電
着を防ぐために塗布または貼り付けにより絶縁層を設け
る必要がある。

【００２７】引き続いてフォトレジスト２３の形成、パ
ターン露光、現像を行なう（図５）（ａ）〜（ｃ）参
照）。フォトレジスト層形成のための材料としては
（１）ジアゾニウム塩もしくはアジト化合物を含む光分
解型感光性樹脂、（２）シンナモイル系、ジアゾ系、ア
ジト系、もしくはアクリロイル系等の光重合型感光性樹
脂等が使用される。

【００２８】市販のフォトレジストとしては次のような
ものがある。ネガ型のフォトレジストとしてはイースト
マンコダック製ＫＰＲ，ＫＯＲ，ＫＡＲ−３，ＫＭＥ
Ｒ，ＫＴＦＲ，ＫＭＲ，ＨｕｎｔＣｈｅｍｉｃａｌ製の
ＷＡＹＣＯＡＴ，富士薬品製のＦＳＲ，ＦＰＥＲ，ＦＶ
Ｒ−Ｇ，ＦＵＲ，ＦＲ，東京応化工業製のＴＰＲ，ＥＰ
ＰＲ，ＯＭＲ，Ｇ−９０，ＯＳＲ，ＯＴＥＲ，ＯＮＮ
Ｒ，ノンクロン（ＮＯＮＣＲＯＮ），ノ−ランド製のＮ
ＲＲ−２９，ＴＯＲＡＹ製のフォトニ−スＶＲ−３００
０，上野化学製のコムシスト（ＣＯＭＳＩＳＴ），日本
合成ゴム製のＣＩＲ−７０１，ＣＢＲ−Ｍ等がある。ポ
ジ型のフォトレジストとしてはＡＺ−４０００，Ｈｕｎ
ｔＣｈｅｍｉｃａｌ製のＷＡＹＣＯＡＴＨＲＰ，同Ｍ
ＲＰ，ＬＳＩ−１９５，東京応化工業製のＦＰＰＲ−７
０等がある。

【００２９】ドライフィイルムによるフォトレジストと
してはデュポン製のリストン、日東電工製のネオトロッ
ク、ダイナケミカル製のラミナー、大日化工製のニュー
セリトン、ジアゾセリトン、エピコンスラップフィル
ム、日立化成製のフォテック、富士薬品製のフジスクリ
ーンフィルム等がある。

【００３０】その他に卵白、ガゼイン、グリュー、ポリ
ビニルアルコール、シュラック等の重クロム酸塩感光液
がある。

【００３１】これらのフォトレジストは公知の塗布方
法、例えば、かけ流し法、ホイーラー法、スピンナー
法、浸積法、ローラーコート法、スプレイ法、静電スプ
レイ法等により、またドライフィルムの場合には加熱圧
着法により基板表面の導電性層上に形成する。フォトレ
ジスト層の厚さは数μｍである。

【００３２】低記録感度領域に対するパターンの露光は
写真フィルム、金属マスク等のマスクパターン２４を介
して紫外線等を照射する方法によって行なってもよく、
またパターンを使わず電子線をパターン状に走査して露
光を行なってもよい。

【００３３】現像は露光によって形成された溶解可能な
部分を溶媒で溶解除去することであり、所定の現像液を
用いて行なわれる。現像によりパターンを形成すべき部
分のフォトレジスト層がパターン状に除去され、導電層
の露出部２５が形成され、パターン原版２６が作製され
る（図５（ｃ）参照）。

【００３４】次にこのパターンを形成したパターン原版
上に電着物１１を形成する方法を説明する。（図５
（ｄ）参照）。本発明において電着物に光記録層と同等
の反射率をもつ低記録感度領域な成分を共析させる物質
としては電着可能な物質に光反射性の物質を混合した物
質が用いられる。

【００３５】電着可能な物質としては電着液に溶解又は
分散させることができ且つ電着液中でイオン化する物質
であれば特に限定されず、例えば金属や樹脂を用いるこ
とができるが、特に樹脂の場合、電着層の反射率を記録
層の種類に応じて制御することが容易な点で好ましいも
のである。電着に用いる電着可能な樹脂として従来の電
着塗料に用いられる樹脂を用いることが可能であり、例
えばアニオン型電着塗料の場合には、樹脂の電着に必要
な負の電荷と親水性を与えるために、カルボキシ基のよ
うなアニオン性官能基をもった樹脂、具体的にはアクリ
ル・メラミン樹脂、アクリル樹脂、アルキド樹脂、マレ
イン化ポリブタジエンやそれらのハーフエステル、ハー
フアミド等が挙げられる。

【００３６】またカチオン型電着塗料の場合には、正の
電荷と親水性を与えるために、アミノ基のようなカチオ
ン性官能基をもった樹脂、具体的にはエポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂
等が挙げられる。また、これらの樹脂の中で自己架橋性
を有さない樹脂は硬化剤として、例えば、メラミンやブ
ロックポリイソシアネート化合物との混合物を共に用い
られる。

【００３７】なお樹脂のイオン性によっては、導電層２
２を侵すものもあり、この点を考慮して電着塗料を選択
する必要がある。例えば導電層２２が金属の場合には電
着塗料がアニオン性であると電極の溶出が起こるので、
適当ではなく、また導電層２２が透明電極の場合には電
着塗料が逆にカチオン性であると好ましくない。

【００３８】電着塗料その他の詳しい内容は特開昭５９
−１１４５９２号、特開昭６３−２１０９０１号等に詳
細に記載されている。この電着塗料は光硬化性、熱硬化
性、感圧性のいずれであってもよい。

【００３９】光記録層と同等の反射率をもつ低記録感度
な物質としては、金属、セラミックス顔料、染料など何
でもよい。

【００４０】以上のようにパターンを形成したパターン
原版上に電着する。

【００４１】次に基板上にこの電着物を転写するために
は電着物を析出させたパターン原版上に基板（１２）を
密着させ（第５図（ｅ））、電着物を基板上に転写し
（第５図（ｆ））、該電着層を硬化させる。

【００４２】又、電着層の硬化は、例えば電着可能な材
料として光重合型の樹脂を用いた場合は、光線の露光処
理後、基板に転写してもよい。電着層をさらに硬化させ
たい場合には、基板に転写した後、さらに照射する。

【００４３】また、電着可能な材料として熱硬化性の樹
脂を用いた場合には、基板に転写する前、もしくは後に
加熱処理により硬化させてもよい。

【００４４】また、電着可能な材料が感圧硬化性の場合
にはプレスもしくはラミネーターで加圧して基材に転写
してもよい。

【００４５】低記録感度領域はトラッキング用パターン
が同心円状、スパイラル状、楕円状の場合にはトラック
の最外周もしくは最外周を含む複数の隣接したトラッキ
ング用パターン上、もしくはトラックの最外周より外側
８、４および／または、トラックの最内周もしくは最内
周を含む複数の隣接したトラッキング用パターン上、も
しくはトラックの最内周より内側８、５に設ける。トラ
ッキング用パターンが直線状の場合には、トラックの最
上段もしくは最上段を含む複数の隣接したトラッキング
用パターン上、もしくはトラック最上段より上側および
および／またはトラックの最下段もしくは最下段を含む
複数の隣接したトラッキングパターン上、もしくはトラ
ック最下段より下側および／またはトラックの左右端付
近の光ヘッドが相対的に停止する位置を含むトラッキン
グ用パターン上等に設ける。

【００４６】光記録層３としては再生用のエネルギービ
ームの波長が６５０ｎｍ以上、特に７００〜９００ｎｍ
である場合には、記録部分であるピットにおける反射率
と未記録部分のそれとの差が大きいものが好ましい。ま
た、記録用のエネルギービームの照射によって反射率の
変化が生ずるのに必要とされるエネルギーが小さい方が
好ましい。更に再生用のエネルギービームによって記録
部および未記録部の反射率が変化しないものが好まし
い。例えば、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｖ、Ｓｎ等の酸
化物、Ｔｅ−Ｓｎ、ＴｅＯ_x −Ｇｅなどの化合物等はエ
ネルギービームの照射により相転移を生じて、反射率が
変化する。Ｔｅ−ＣＨ₄ 、Ｔｅ−ＣＳ₂ 、Ｔｅ−スチレ
ン、Ｓｎ−ＳＯ₂ 、ＧｅＳ−Ｓｎ、ＳｎＳ−Ｓなどの金
属と有機化合物または無機硫化物との複合物や、ＳｉＯ
₂ ／Ｔｉ／ＳｉＯ₂ ／Ａｌ等の多層膜も使用可能であ
る。更に、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属粒子を分散さ
せたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面に金属粒子
を凝集させたものなども使用可能である。また、カルコ
ゲン或は発色型のＭｏＯ₃ −Ｃｕ、ＭｏＯ₃ −Ｓｎ−Ｃ
ｕなども用いられ、場合に依っては、泡形成型の有機薄
膜と金属薄膜との多層体も用いる事が出来る。また、エ
ネルギービームで光学的な物性変化可能な有機薄膜も使
用可能で、例えば、アントラキノン誘導体、特にインダ
スレン骨格を有するもの、ジオキサジン化合物及びその
誘導体、トリフェノジチアジン化合物、フェナンスレン
誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合物、ピリリ
ウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフェニルメタ
ン系化合物、クロコニウム系色素、クロコン類等の色素
を挙げる事が出来、これらは溶液塗布による連続製造が
可能なために本発明には好ましいものである。本発明に
おいては接着層１０としては従来公知の接着剤、例えば
酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニル、エチレ
ン、アクリル酸、アクリルアミド等ビニルモノマーの重
合体及び共重合体、ポリアミド、ポリエステル、エポキ
シ系等の熱可塑性接着剤、アミノ樹脂（ユリア樹脂、メ
ラミン樹脂）、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂、熱硬化性ビニル樹脂等の接着剤、天然ゴム、ニ
トリルゴム、クロロゴム、シリコンゴム等のゴム系接着
剤が使用される。特にホットメルト型のものはドライプ
ロセスであり、大量、連続生産を考慮する上で好まし
い。また紫外線硬化型の接着剤も量産性を向上させるこ
とができるため適している。接着方法はラミネート、熱
プレス、光硬化等接着剤に適した方法が選択される。

【００４７】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれにより何ら限定されるものではない。

【００４８】実施例１透明基材として、幅５４ｍｍ、長さ８５．６ｍｍ、厚さ
０．４ｍｍのポリメチルメタアクリレートフィルム（日
東樹脂（株）製）に熱プレスにてトラック溝を形成し
た。トラック溝ピッチは１０μｍ、トラック溝幅３μ
ｍ、トラック溝深さ０．２μｍのスパイラル状とした。
次に、このトラック溝面上の最外周より外側の部分に
（図２（ａ）の低記録感度領域８、４）を

【００４９】

【化１】の色素をジアセトンアルコールに溶解した溶液をロール
コーターで塗布し、乾燥後、トラック溝部分に

【００５０】

【化２】の色素をジアセトンアルコールに溶解した溶液をスピナ
ー塗布して厚さ約１００ｎｍの記録層を形成した。なお
低記録感度領域の厚さは約１００ｎｍであった。一方、
不透明カード基材として、厚さ０．４ｍｍの白色硬質塩
化ビニルフィルムに、熱接着層（塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−マレイン酸樹脂）を介して、上記光記録層と接する
ようにして重ね合わせ、表面温度１００℃の熱ロールに
て圧着して貼り合わせ、光カードを製造し、低記録感度
領域の反射率は１１％であった。この様にして得られた
光カードを用いると、カードの停止時に連続して読み出
し光が照射される時、低記録感度領域に読み出し光を照
射していれば、読み出し光による書き込みが起こらず、
１０万回の往復テストに於いてもトラッキングエラーが
発生しなかった。

【００５１】実施例２低記録感度領域をもつ光ディスクを以下の様に作成し
た。直径１３０ｍｍのポリカーボネートのインジェクシ
ョン基板の半径６１ｍｍより外側の部分８、４（図１）
と半径２９ｍｍより内側の部分８、５に低記録感度領域
を以下のように形成した。

【００５２】平均粒径０．１μのニッケル粉体５重量部
をポリビニルアルコールの１５％水溶液９０重量部中に
加え分散後、ロールコーターで塗布し、乾燥させ１５０
０Ａの低記録感度領域を形成した。

【００５３】次に、酸化テルルをスパッタにより３００
Ａ、半径３０ｍｍより外側の部分から半径６０ｍｍより
内側の部分に設け、光記録層とした。この上に、ポリカ
ーボネート保護基板をエチレン−酢酸ビニル系接着層を
介し貼り合わせて光ディスクを作製した。この様にして
得られた光ディスクを用いると、実施例１と同様な効果
が得られた。

【００５４】実施例３低記録感度領域が電着層で構成された直径１３０ｍｍの
光ディスクを以下の手順で作成した。先ず原版用基板と
して一方の表面に鏡面処理を施したガラス板（大きさ１
８０ｍｍ×１８０ｍｍ、厚さ５ｍｍ）を用い鏡面側に銅
を真空蒸着して厚さ０．５μｍの導電層を形成した。

【００５５】次いで導電層の表面にフォトレジスト（富
士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）ＷＡＹＣ
ＯＡＴ（登録商標）（ＨＰＲ２０４）をロールコーター
にて乾燥時厚さが７０ｎｍになるように塗布し、１００
℃の温度で２０分間プリベーキングを行なった。

【００５６】露光用のマスクとして電子線描画装置によ
り低記録感度領域のパターンとして第１図（ａ）の低記
録感度領域の同心円状のパターンに対応するパターンを
作成したものを用い、このマスクを上記フォトレジスト
層に密着させてマスク上方より紫外線照射を行なうこと
によりパターン露光を行った。

【００５７】露光後、現像液（富士ハントエレクトロニ
クステクノロジー社製、ＬＳＩ現像液）に浸積して露光
部のフォトレジストを溶解除去し、除去後１００℃の温
度で２０分間ポストベーキングすることで、図５の原版
２６を得た。

【００５８】又以下の手順に従ってカチオン性電着液を
調整した。

【００５９】Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート、スチレン、エチルアクリレート及びＰ−ヒドロキ
シ安息香酸とグリシジルアクリレートの等モル反応によ
って得られた化合物をモル比で３：２：４：１、重量平
均分子量７万に共重合した有機重合体バインダー８０重
量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン０．５重量部トリメチロールプロパントリアクリレー
ト１４．５重量部からなるカオチン性感光性樹脂組成物
をエチレングリコールモノブチルエーテルで揮発分８０
％に希釈し、０．５当量の酢酸で中和し更に脱イオン水
で１５ｗｔ％に希釈して電着液とした。

【００６０】上記のように調整した電着樹脂組成物１０
０重量部に対して平均粒径０．１μｍのニッケル粉体を
２１重量部を加えてボールミルで３０時間分散した後脱
塩水で１．５重量％に希釈して電着液とした。

【００６１】次にこの電着液中に原版２６を浸積し導電
層を負電極とし俗の金属容器を正電極として５〜１０ボ
ルトの直流電圧を１分間印加した。その後原版をひき上
げ十分に水洗いした後、乾燥し電着層１１を得た。

【００６２】次にこの原版２６上にパターン状に形成さ
れた電着層１１の方面が直径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍ
ｍのトラッキング用溝がインジェクション法により形成
されたポリカーボネート樹脂基材と接する様に重ね合わ
せてゴム被覆ローラーを用いて基材上に電着層を転写し
た。次に高圧水銀ランプで全面に上部から２００ｍＪ／
cm² で露光し、電着層１１を硬化させた。得られた低記
録感度領域のパターン層の膜厚は７０ｎｍであった。

【００６３】パターン上に酸化テルル記録層３をスパッ
タにより厚さ３０ｎｍに成膜し、次いでエチレン−酸酸
ビニル共重合体系の接着層１０を介してポリカーボネー
ト樹脂製保護基板（直径１３０ｍｍ、内径４ｍｍ、厚さ
１．２ｍｍ）９を貼り合わせて光ディスクを作製した。

【００６４】この光ディスクについて１８００ｒｐｍで
回転させて低記録感度領域として半径２９ｍｍ、半径６
１ｍｍ、記録領域として半径３０，４５，６０ｍｍの各
場所で光ヘッドを固定（トラックサーボをカット）し、
各場所での反射率を測定したところ、再生初期は表−１
に示す通りその変動は殆ど無かった。さらに再生光の照
射を各場所において１０万回行なった後に同様に反射率
を測定したところ、表−１の様に低記録感度領域では変
動はなかったが記録領域では低下した。

【００６５】実施例４原版用基板として一方の面に鏡面処理を施したガラス板
（５ｍｍ厚）の鏡面側に銅を真空蒸着して厚み０．５ｍ
ｍの導電層を形成した。

【００６６】次いで、導電層の表面にフォトレジスト
（富士ファントエレクトロニクスデキノロジー社製商
品名：ＷＡＹＣＯＡＴＨＰＲ２０４）をロールコータ
ーにて乾燥時厚みが２μｍになるように塗布し、１００
℃の温度で２０分間プリベーキングして感光性層とし
た。

【００６７】露光用のマスクとして、電子線描画装置に
より低記録感度領域７とプリフォーマットパターンに対
応するパターンとしてカード左右端部から１２ｍｍと幅
３μｍ、ピッチ１２μｍの直線状の光カード用トラッキ
ングトラックのパターンを書き込んで作成したものを用
い、このマスクを上記の感光性層に密着させ、マスク上
方より紫外線照射を行うことによりパターン露光した。
露光後、現像液（富士ハントエレクトロニクステクノロ
ジー社製ＬＳＩ現像液）に浸積して露光部のフォトレジ
ストを溶解解除し、除去後１００℃の温度で２０分間ポ
ストベーキングすることで、原版を得た。

【００６８】次にアクリル・メラミン系樹脂（商品名：
ハニブライトＣ−ＩＬ、ハニー化成社製）１００重量部
に対して、平均粒径０．２μｍのナイロン表面に無電解
銀めっきを０．０５μｍを施したもの２０重量部を、ボ
ールミルで３０時間分散した後、脱塩水にて固形分濃度
１５重量％に希釈し、塗液として浴温２５℃、ｐＨ８〜
９の条件で、原版の導電層を対極として０．５ｔステン
レス板を用い、印加電圧３０Ｖで１分間電着して銀めっ
きを施したナイロン粉体を含有する電着層がパターン状
に析出した原版を得た。このときにプリフォーマットパ
ターン対応する導電層にのみ通電した。さらに硬化剤入
りアクリル・メラミン系樹脂（商品名：ハニブライトＣ
−ＩＬ、ハニー化成社製）１００重量部に対して、式
（Ｉ）の化合物を２０重量部を分散させた電着液を用い
て、浴温２５℃、ｐＨ８〜９の条件で原版の導電層を陽
極とし、対極としてステンレス板を用いて印加電圧３０
Ｖで１分間電着して、式（Ｉ）の化合物を含有する電着
層１２がパターン状に析出した原版を得た。この時は低
記録感度領域に対応する導電層にのみ通電した。次に電
着した原版に厚さ０．４ｍｍの透明ポリカーボネート基
板を接触させ、ゴム被覆ローラを用い電着層をポリカー
ボネート基板に転写した。この電着層の転写した基板を
９７℃のオーブンにて６０分間加熱し硬化して厚さ２μ
ｍの電着層からなる低記録感度領域７とプリフォーマッ
トパターンを有する光カード用基板を得た。

【００６９】次にこの基板のプリフォーマットパターン
形成面に記録層として下記のシアニン系化合物

【００７０】

【化３】を厚さ１００ｎｍを塗布しさらに、保護層として０．３
ｍｍのポリカーボネート基板を酢酸ビニル系ホットメル
ト接着剤を介し、接着した。これを縦５４ｍｍ横８６ｍ
ｍのカードサイズに打ち抜き光カードを得た。

【００７１】この様にして得られた光カードを用いる
と、カードの反転移動の停止時に於いても読み出し光に
よる書き込みが起こらず、１０万回の往復テストに於い
てもトラッキングエラーが発生しなかった。

【００７２】また、トラック横断信号も良好であった。

【００７３】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、光
記録媒体の低記録感度領域を光記録層と実質的に同等の
反射率をもつように形成することにより、読み出し光の
媒体への連続的照射（媒体停止時、もしくは同一トラッ
クに照射時）による、読み出し光による書き込みを防止
し、反射率の低下しない低記録感度領域を設けることが
でき、デイスク状の媒体では読み書きのスタンバイ状態
の時、カード状の媒体ではスタンバイ状態と往復運動の
リターン時に安定してトラッキングとオートフォーカス
をとり続けることのできる媒体を製造できる。更にトラ
ッキングパターンを電着物で形成することにより、トラ
ック横断コントラストが容易になりパターニングの精度
も向上した。

【００７４】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は本発明の光記録媒体の一実施例の全体
説明図である。（ｂ）はこの（ａ）のＡ−Ａ’の断面図
である。（ｃ）は本発明の光記録媒体の別の実施例の全
体説明図である。（ｄ）は本発明の扇形の記録層による
光記録媒体の全体説明図である。

【図２】（ａ）は直線状トラッキング用パターンをもつ
光記録媒体の模式的説明図である。（ｂ）は（ａ）図中
のＢ−Ｂ’切断面での断面図である。（ｃ）は（ａ）図
中のＣ−Ｃ’切断面での断面図である。

【図３】従来の光記録媒体の一例を示す説明図である。

【図４】従来の光記録媒体の記録、再生方法を示す説明
図である。

【図５】本発明のパターン原版の製造方法と基板上に電
着物を転写する模式的説明図である。

【符号の説明】

１トラッキング用パターン２基板３光記録層４トラックの最外周もしくは最外周を含む複数の隣
接したトラッキング用パターン上もしくはトラックの最
外周より外側の低記録感度領域５トラックの最内周もしくは最内周を含む複数の隣
接したトラッキング用パターン上もしくはトラックの最
内周より内側の低記録感度領域６トラックの最上段もしくは最上段を含む複数の隣
接したトラッキング用パターン上の、もしくはトラック
最上段より上側および／またはトラックの最下段もしく
は最下段を含む複数の隣接したトラッキングパターン
上、もしくはトラック最下段より下側の低記録感度領域７トラックの左右端付近の光ヘッドが相対的に停止
する位置を含むトラッキングパターン上の低記録感度領
域８低記録感度領域９保護基板１０接着層１１電着物１２基板２１パターン原版用基板２２導電層２３フォトレジスト２４マスクパターン２５導電層の露出部２６パターン原版３１光カード３２記録領域３３トラック３５レファレンスライン３６回転機構３７光源３８レンズ系３９結像光学系４０センサ４１光ヘッド

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に同心円状、あるいはスパイラル
状、あるいは楕円状であるトラッキング用パターン、も
しくはその一部を有する基板と、該トラッキング用パタ
ーン上に設けられた光記録層からなる光記録媒体におい
て、光記録層と実質的に同等の反射率をもつ光記録の低
感度領域が該基板の該トラッキング用パターン面側で、
パターン最外周より外側、および／またはパターン最内
周より内側に設けられていることを特徴とする光記録媒
体。
【請求項２】表面にトラッキングパターンを有する基
板と該トラッキング用パターン上に設けられた光記録層
から成る光記録媒体において、記録領域と比較して相対
的に記録感度の低い領域が該基板のトラッキング用パタ
ーン面側に設けられており該記録感度の低い領域が光記
録層と実質的に同等の反射率を持つ電着物から成ること
を特徴とする光記録媒体。
【請求項３】トラッキング用パターンが電着物で形成
されていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒
体。