JPS63117340A - 光カ−ド - Google Patents
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- JPS63117340A JPS63117340A JP61260797A JP26079786A JPS63117340A JP S63117340 A JPS63117340 A JP S63117340A JP 61260797 A JP61260797 A JP 61260797A JP 26079786 A JP26079786 A JP 26079786A JP S63117340 A JPS63117340 A JP S63117340A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光カードに関し、詳しくは光学的に情報の記録
・再生を行なうカード状の情報記録担体に関するもので
ある。
・再生を行なうカード状の情報記録担体に関するもので
ある。
[従来の技術]
近年、社会の情報化か進み、多種多様の情報を効率良′
〈取扱う手段として、光ディスク、光カード、光テープ
等の光学的に情報の記録又は再生を行う情報記録担体及
び光学的情報記録再生装置が多く提案されている。前記
情報記録押体には、二値化された情報が反射率の変化、
ピ・ント(穴)の有無の様な表面形状の変化に伴なう反
射光強度の変化に変換して検出出来るものかある。前述
した情報記録担体の特徴としては、記録密度か高く、且
つ非接触て記録再生か可能な為に、寿命か長い等の優れ
た点かある。
〈取扱う手段として、光ディスク、光カード、光テープ
等の光学的に情報の記録又は再生を行う情報記録担体及
び光学的情報記録再生装置が多く提案されている。前記
情報記録押体には、二値化された情報が反射率の変化、
ピ・ント(穴)の有無の様な表面形状の変化に伴なう反
射光強度の変化に変換して検出出来るものかある。前述
した情報記録担体の特徴としては、記録密度か高く、且
つ非接触て記録再生か可能な為に、寿命か長い等の優れ
た点かある。
そして、携帯性に優れ、且つ大きさに比べて大容量であ
るカード状の情報記録担体(以下、光カードと称する。
るカード状の情報記録担体(以下、光カードと称する。
)についても、近年盛んに研 。
究、開発されており、提案もされ始めている。
以下、光学的に情報の記録・再生を行う情報記録担体と
して、光カードを取り上げて説明する。
して、光カードを取り上げて説明する。
光学的に情報の記録・再生方法について述べると、たと
えばエネルギービームにより磁化方向を反転させる光磁
気記録、また凹凸ピット形成による記録、或は光学的反
射率の高低による記録か行われるか、通常、S/N比か
高く、製作の容易な光学的反射率の高低による記録担体
か広く用いられている。
えばエネルギービームにより磁化方向を反転させる光磁
気記録、また凹凸ピット形成による記録、或は光学的反
射率の高低による記録か行われるか、通常、S/N比か
高く、製作の容易な光学的反射率の高低による記録担体
か広く用いられている。
光学的反射率の高低による記録担体としては。
例えば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散してな
る記録層を右するカード類か提案されている。この記録
層への情報の書込みは、レーザービームな記録層に照射
して記録ピットを形成して行なわれている。
る記録層を右するカード類か提案されている。この記録
層への情報の書込みは、レーザービームな記録層に照射
して記録ピットを形成して行なわれている。
一方、記録層にレーザービームなどのエネルギービーム
をスポット状に照射して、記録層の一部を状態変化させ
て記録する、いわゆるヒートモート記録材料か提案され
ている。これらの記録層としては、テルル、ビスマスな
どの金属薄膜、ポリスチレン、ニトロセルロースなどの
有fi1M膜、シアニン類、全屈ジチオラート錯体類な
どの色素薄膜、或いは相転移を利用したテルル低酸化物
膜などが用いられている。これらの記録材料は、情報の
書込みの後、現像処理などの必要かなく、「書いた後直
読する」ことのできる、いわゆるDRAW (ダイレク
ト リード アフター ライト; direct re
ad after write )媒体てあり、高密度
記録か可能てあり追加書込みも可能である。
をスポット状に照射して、記録層の一部を状態変化させ
て記録する、いわゆるヒートモート記録材料か提案され
ている。これらの記録層としては、テルル、ビスマスな
どの金属薄膜、ポリスチレン、ニトロセルロースなどの
有fi1M膜、シアニン類、全屈ジチオラート錯体類な
どの色素薄膜、或いは相転移を利用したテルル低酸化物
膜などが用いられている。これらの記録材料は、情報の
書込みの後、現像処理などの必要かなく、「書いた後直
読する」ことのできる、いわゆるDRAW (ダイレク
ト リード アフター ライト; direct re
ad after write )媒体てあり、高密度
記録か可能てあり追加書込みも可能である。
第3図は、光カードを使用した光学的情報担体の記録・
再生装置を示す概略概念図である。同第3図において、
9は光カード、10は光カード9を載置し図中へ方向に
移動可能なステージ、 11はステージ10を駆動する
ローラー、12はレーザー等の光源、I3は照明光学系
、14は結像光学系、15はセンサである。第3図の光
学的情報担体装とに於いては、光源12から発せられた
光は照明光学系13によって情報信号列上の一列に照射
され、−列上の一部の情報の反射光(光強度、偏光等の
信号光となっている)を結像光学系14によってセンサ
15上に結像し、情報信号列の一列毎に情報検出を行う
構造になっている。
再生装置を示す概略概念図である。同第3図において、
9は光カード、10は光カード9を載置し図中へ方向に
移動可能なステージ、 11はステージ10を駆動する
ローラー、12はレーザー等の光源、I3は照明光学系
、14は結像光学系、15はセンサである。第3図の光
学的情報担体装とに於いては、光源12から発せられた
光は照明光学系13によって情報信号列上の一列に照射
され、−列上の一部の情報の反射光(光強度、偏光等の
信号光となっている)を結像光学系14によってセンサ
15上に結像し、情報信号列の一列毎に情報検出を行う
構造になっている。
かかる光学的な情報の記録・再生装置に於いて、書き込
み・読み出しのトラックサーボのため、カード表面にあ
らかじめ一定の間隔て溝を形成しておく方式かある。こ
の方式では溝か読み出しの案内役を果たすため、レーザ
ービームのトラック制御精度か向−卜し、従来の溝無し
カード基板を用いた方式よりも高速アクセスか可能とな
る。
み・読み出しのトラックサーボのため、カード表面にあ
らかじめ一定の間隔て溝を形成しておく方式かある。こ
の方式では溝か読み出しの案内役を果たすため、レーザ
ービームのトラック制御精度か向−卜し、従来の溝無し
カード基板を用いた方式よりも高速アクセスか可能とな
る。
第2図は従来の光カードの校式的構成断面図である。同
第2図において、8はトラック溝を有する透明基板、3
は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材である
。同第2図において、情報の記録・再生はハートコート
層6および透明基板8を通して光記録層3に光学的に書
き込みと読み出しを行う。この場合、光カードに於いて
、該透明基板8には光の案内溝に相当するトラック溝が
あらかじめ形成されており、微細な凹凸を利用してレー
ザービームの位相差により、トラッキングを行える様に
構成されている。また、光カードは透明基板8上に光記
録層3を形成し、不透明カード基材5を接着層4を介し
て貼り合わせ、更に透明基板8の表面にキズ防止の為の
ハードコート層6を形成して容易に製造される。
第2図において、8はトラック溝を有する透明基板、3
は光記録層、4は接着層、5は不透明カード基材である
。同第2図において、情報の記録・再生はハートコート
層6および透明基板8を通して光記録層3に光学的に書
き込みと読み出しを行う。この場合、光カードに於いて
、該透明基板8には光の案内溝に相当するトラック溝が
あらかじめ形成されており、微細な凹凸を利用してレー
ザービームの位相差により、トラッキングを行える様に
構成されている。また、光カードは透明基板8上に光記
録層3を形成し、不透明カード基材5を接着層4を介し
て貼り合わせ、更に透明基板8の表面にキズ防止の為の
ハードコート層6を形成して容易に製造される。
[発明か解決しようとする問題点]
このように従来の光カード等の情報記録担体は、第3図
に示す様に光学的記録再生装置の光ヘッドに配設した光
源12から照明された光によって光学的に情報の記録又
は再生か行われる。上記した様に、光カードの再生時に
は、トラッキングしている間、光カード9をローラーI
Iによって矢印A方向へ移動させて情報の読み取りを行
っているか、へ方向への移動に伴って、読み出し光のエ
ネルギーによって極めて徐々にではあるか書き込みか進
行し、記録情報の読み出しが困難になることか見い出さ
れた。特に、カードの反転移動時には、光カードか停止
するために、4¥に再生光のエネルギーによる書き込み
か問題となっている。
に示す様に光学的記録再生装置の光ヘッドに配設した光
源12から照明された光によって光学的に情報の記録又
は再生か行われる。上記した様に、光カードの再生時に
は、トラッキングしている間、光カード9をローラーI
Iによって矢印A方向へ移動させて情報の読み取りを行
っているか、へ方向への移動に伴って、読み出し光のエ
ネルギーによって極めて徐々にではあるか書き込みか進
行し、記録情報の読み出しが困難になることか見い出さ
れた。特に、カードの反転移動時には、光カードか停止
するために、4¥に再生光のエネルギーによる書き込み
か問題となっている。
本発明は上記の問題点を解決する目的てなされたもので
あり、 DIlAI#型光カードに於いて、再生時にお
ける光カードの移動に伴って再生読み出し光による書き
込み防止を施した光カードを提供しようとするものであ
る。
あり、 DIlAI#型光カードに於いて、再生時にお
ける光カードの移動に伴って再生読み出し光による書き
込み防止を施した光カードを提供しようとするものであ
る。
[問題点を解決するための手段]
即ち、本発明は透明樹脂基村上に導熱層を介在せしめて
表面にトラック溝を有する透明樹脂層を積層し、該トラ
ック溝面上に光記録層を設け、さらに該光記録層と接す
る様に不透明カード基材を1没けてなることを特徴とす
る光カードである、以下、本発明の詳細な説明する。
表面にトラック溝を有する透明樹脂層を積層し、該トラ
ック溝面上に光記録層を設け、さらに該光記録層と接す
る様に不透明カード基材を1没けてなることを特徴とす
る光カードである、以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に係る光カードの模式的断面図である。
同第1図において、lは透明樹脂基材、2はトラック溝
を有する透明樹脂層、7は導熱層である。本発明の光カ
ード9は透明樹脂基材l上に導熱層7を介在せしめて表
面にトラック溝を有する透明樹脂層2を積層し、該トラ
ック溝面上に光記録層3を設け、さらに該光記録層3の
丑に不透明カード基材5を接着層4を介して接する様に
設けてなるものである。
を有する透明樹脂層、7は導熱層である。本発明の光カ
ード9は透明樹脂基材l上に導熱層7を介在せしめて表
面にトラック溝を有する透明樹脂層2を積層し、該トラ
ック溝面上に光記録層3を設け、さらに該光記録層3の
丑に不透明カード基材5を接着層4を介して接する様に
設けてなるものである。
必要に応じて、光カードに磁気記録層、IGメモリー、
彫刻画像、写真、文字、マーク、インクプリントと称す
る浮き出し文字などを光カードの表面または裏面に併設
してもよい。この様にする事によって、1枚のカードで
種々の再生方式に対応てき、また偽造をより効果的に防
止てきる。
彫刻画像、写真、文字、マーク、インクプリントと称す
る浮き出し文字などを光カードの表面または裏面に併設
してもよい。この様にする事によって、1枚のカードで
種々の再生方式に対応てき、また偽造をより効果的に防
止てきる。
透明樹脂基材1としては、光学的な記録・再生に於いて
不都合の少ないものが好ましく、例えば、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース誘導体な
どを用いる事が出来る。
不都合の少ないものが好ましく、例えば、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース誘導体な
どを用いる事が出来る。
不透明カードジ(材5としては1通常のカード基材とし
て用いる事が出来るあらゆる材料か使用可能であり、具
体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等
アクリル重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラール
、アセチルセルロース、スチレン−ブタジェン共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
エポキシ、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共
重合体などが用いられる。場合に依っては、鉄、ステン
レス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、
合成紙、紙等も使用可能である。更には、上記の様な材
料の積層体も使用可能である。これら不透明カード基材
5には、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、
プライマー処理などの接着性改良の為の前処理をしても
よい。
て用いる事が出来るあらゆる材料か使用可能であり、具
体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等
アクリル重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラール
、アセチルセルロース、スチレン−ブタジェン共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
エポキシ、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共
重合体などが用いられる。場合に依っては、鉄、ステン
レス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、
合成紙、紙等も使用可能である。更には、上記の様な材
料の積層体も使用可能である。これら不透明カード基材
5には、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、
プライマー処理などの接着性改良の為の前処理をしても
よい。
光記録層3は、使用する光源の波長付近、例えば、再生
のエネルギービームの波長か650n園以北、特に70
0〜900nmである場合には、記録部であるピット等
に於ける反射率と未記録部のそれとの差か大きいものが
好ましく、また、書き込む為には上記の波長域に吸収の
ある!バが必要である。
のエネルギービームの波長か650n園以北、特に70
0〜900nmである場合には、記録部であるピット等
に於ける反射率と未記録部のそれとの差か大きいものが
好ましく、また、書き込む為には上記の波長域に吸収の
ある!バが必要である。
また、記録のエネルギービームの照射によって反射率の
変化か生ずるのに必要とされるエネルギーか小さい方か
好ましい。更に、再生のエネルギービームによって記録
部(ピット!′g)および未記録部の反射率が変化し難
いものか好ましい。
変化か生ずるのに必要とされるエネルギーか小さい方か
好ましい。更に、再生のエネルギービームによって記録
部(ピット!′g)および未記録部の反射率が変化し難
いものか好ましい。
例えば、Te、 Sb、 Mo、 Gc、 V 、 S
n等の酸化物、Tc −Sn、 TeOx −Gcなど
の化合物、Te−C11,。
n等の酸化物、Tc −Sn、 TeOx −Gcなど
の化合物、Te−C11,。
Te−C32,Te−スチレン、 5n−3O2,Ge
5−3n、 5nS−3などの金属と有機化合物または
無機硫化物との複合物、ニトロセルロース、ポリスチレ
ン、ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属
粒子を分散させたもの、あるいはこの様な熱可塑性樹脂
の表面に金属粒子を凝集させたもの、カルコゲン或は発
色型のMon3−Cu 、 Mon、−5n−Cu ’
9か用いられる。
5−3n、 5nS−3などの金属と有機化合物または
無機硫化物との複合物、ニトロセルロース、ポリスチレ
ン、ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属
粒子を分散させたもの、あるいはこの様な熱可塑性樹脂
の表面に金属粒子を凝集させたもの、カルコゲン或は発
色型のMon3−Cu 、 Mon、−5n−Cu ’
9か用いられる。
また、エネルギービームて光学的な物性変化可能な有機
1Xrj膜も使用可能て、該有機薄膜は溶液または分散
系による連続塗布か可能て量産製造には好ましいもので
ある。
1Xrj膜も使用可能て、該有機薄膜は溶液または分散
系による連続塗布か可能て量産製造には好ましいもので
ある。
例えば、アントラキノン誘導体(特にインタスレン骨格
を右する物)、ジオキサジン化合物及びその誘導体、ト
リフエツジチアジン化合物、フェナンスレン訪導体、シ
アニン化合物、メロシアニン化合物、ビリリウム系化合
物、キサンチン系化合物、トリフェニルメタン系化合物
、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン類、アシン
類、インジゴイド類、メチン系色素、アズレン類、スク
アリウム誘導体、硫化染料及び金属のジチオラート錯体
等を挙げる・杯か出来る。
を右する物)、ジオキサジン化合物及びその誘導体、ト
リフエツジチアジン化合物、フェナンスレン訪導体、シ
アニン化合物、メロシアニン化合物、ビリリウム系化合
物、キサンチン系化合物、トリフェニルメタン系化合物
、クロコニウム系色素、アゾ色素、クロコン類、アシン
類、インジゴイド類、メチン系色素、アズレン類、スク
アリウム誘導体、硫化染料及び金属のジチオラート錯体
等を挙げる・杯か出来る。
導熱層7は透明樹脂基材lおよびトラック溝を有する透
明樹脂層2よりも熱伝導率の高いものてあり、且つ光学
的な情報の記録・再生に不都合のないものてあれば良く
1例えば複屈折性か少なく、例えば導熱層7の屈折率か
該透明樹脂基材lおよび該透明樹脂層2とほぼ同程度の
屈折率である1、4乃至1.6の範囲てあり、また透明
樹脂基材lおよび透明樹脂層2との屈折率差か0.05
以下であることか好ましい。更に、均一な膜または層と
して形成てきるものか好ましい。
明樹脂層2よりも熱伝導率の高いものてあり、且つ光学
的な情報の記録・再生に不都合のないものてあれば良く
1例えば複屈折性か少なく、例えば導熱層7の屈折率か
該透明樹脂基材lおよび該透明樹脂層2とほぼ同程度の
屈折率である1、4乃至1.6の範囲てあり、また透明
樹脂基材lおよび透明樹脂層2との屈折率差か0.05
以下であることか好ましい。更に、均一な膜または層と
して形成てきるものか好ましい。
例えば金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、フッ化
物等が挙げられ、具体的にはガラス、Sin□、1r0
2. TiO2,AI!J、3. MgO* MgF2
+ Be2031SnO,ZnO,ZnS、 SnS、
5iJ4. TiN、 AJN、 SiC等が挙げら
れる。
物等が挙げられ、具体的にはガラス、Sin□、1r0
2. TiO2,AI!J、3. MgO* MgF2
+ Be2031SnO,ZnO,ZnS、 SnS、
5iJ4. TiN、 AJN、 SiC等が挙げら
れる。
これらの薄膜を透明樹脂基材l上に形成する方法は公知
の方法により実施可flであり、例えば真空蒸着、スパ
ッタリング、反応性真空蒸着、反応性スパッタリンク、
高周波イオンブレーティング、クラスターイオンビーム
、光CvD等か挙げられる。薄膜の形成方法は、透明樹
脂基材lに損傷を与えない低温下に於ける堆積法であれ
ばいずれを使用しても差し支えない。
の方法により実施可flであり、例えば真空蒸着、スパ
ッタリング、反応性真空蒸着、反応性スパッタリンク、
高周波イオンブレーティング、クラスターイオンビーム
、光CvD等か挙げられる。薄膜の形成方法は、透明樹
脂基材lに損傷を与えない低温下に於ける堆積法であれ
ばいずれを使用しても差し支えない。
接着層4に使用される接着剤は公知の熱可塑性接着剤(
例えばエチレン−酢酸ビニル系樹脂等)或いは熱硬化性
接着剤(例えばエポキシ系樹脂等)て透明性かあるもの
であれば特に限定されない。
例えばエチレン−酢酸ビニル系樹脂等)或いは熱硬化性
接着剤(例えばエポキシ系樹脂等)て透明性かあるもの
であれば特に限定されない。
ハートコート層6はキズ防止或いは紫外線吸収性のコー
ティングを兼ねることもあり、公知のハートコート剤で
透明性かあるものであれば特に限定されない。紫外線吸
収剤を含むハードコート剤はハートコートを施すたけて
耐久性と耐光性を兼ねることか可能て好ましい態様であ
る。
ティングを兼ねることもあり、公知のハートコート剤で
透明性かあるものであれば特に限定されない。紫外線吸
収剤を含むハードコート剤はハートコートを施すたけて
耐久性と耐光性を兼ねることか可能て好ましい態様であ
る。
トラック溝を有する透明樹脂層2は透明樹脂基材l上の
導熱層7を設けた側に光硬化性樹脂組成物を塗布し、ト
ラック溝付きスタンパ−型を圧着し、前記スタンパ−型
の溝内に前記光硬化性樹脂組成物を密着せしめ、透明樹
脂基材l側から紫外線を照射して前記光硬化性樹脂組成
物の硬化物を透明樹脂ノふ材l上の導熱層7上に固定化
し、スタンパ−型を離型することにより、導熱層7上に
トラック溝を有する透明樹脂層2を形成することかでき
る。
導熱層7を設けた側に光硬化性樹脂組成物を塗布し、ト
ラック溝付きスタンパ−型を圧着し、前記スタンパ−型
の溝内に前記光硬化性樹脂組成物を密着せしめ、透明樹
脂基材l側から紫外線を照射して前記光硬化性樹脂組成
物の硬化物を透明樹脂ノふ材l上の導熱層7上に固定化
し、スタンパ−型を離型することにより、導熱層7上に
トラック溝を有する透明樹脂層2を形成することかでき
る。
透明樹脂層2を形成する光硬化性樹脂組成物は樹脂成分
、光硬化性樹脂形成成分、光増感剤及び各種の添加剤か
ら構成されるものである。
、光硬化性樹脂形成成分、光増感剤及び各種の添加剤か
ら構成されるものである。
樹脂成分としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルツチラール樹脂、セ
ルロース誘導体樹脂等があり、これら樹脂成分は光硬化
性を有していても、いなくとも差し支えない。これら樹
脂成分か光硬化反応に関与し、架橋構造にくりこまれる
ようにしたものを使用する。
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド
樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルツチラール樹脂、セ
ルロース誘導体樹脂等があり、これら樹脂成分は光硬化
性を有していても、いなくとも差し支えない。これら樹
脂成分か光硬化反応に関与し、架橋構造にくりこまれる
ようにしたものを使用する。
上記樹脂成分か光硬化性を有しないものばかりから成る
場合、光硬化性樹脂形成成分の併用が必要である。上記
の光硬化性樹脂形成成分は、通常分子州か2000以下
の、光硬化反応によって感光層のn(+)l性を失わせ
つる低分子量体てあって、例えばラジカル重合可能なエ
チレン性二重結合を有する化合物てあって、沸点か20
0°C以上の’ti n体又は1分子中に2個以上のエ
チレン性二重結合を有する化合91.1分子中に2個以
上のチオールノfを有する多価チオール化合物、1分子
中に2個以上のアリル系二重結合を有する多価アリル化
合物。
場合、光硬化性樹脂形成成分の併用が必要である。上記
の光硬化性樹脂形成成分は、通常分子州か2000以下
の、光硬化反応によって感光層のn(+)l性を失わせ
つる低分子量体てあって、例えばラジカル重合可能なエ
チレン性二重結合を有する化合物てあって、沸点か20
0°C以上の’ti n体又は1分子中に2個以上のエ
チレン性二重結合を有する化合91.1分子中に2個以
上のチオールノfを有する多価チオール化合物、1分子
中に2個以上のアリル系二重結合を有する多価アリル化
合物。
沸点か200°C以上のモノ又はジェポキシ化合物Tが
挙げられる。
挙げられる。
上記の樹脂成分、光硬化性樹脂形成成分に併用される光
増感剤としては、公知の紫外線て活性化する光増感剤を
用いることかてきる。光増感剤の使用割合は、通常上記
の樹脂成分及び樹脂形成成分の合計量に対して1〜5重
量%であることか好ましい。
増感剤としては、公知の紫外線て活性化する光増感剤を
用いることかてきる。光増感剤の使用割合は、通常上記
の樹脂成分及び樹脂形成成分の合計量に対して1〜5重
量%であることか好ましい。
その他、前記光硬化性樹脂組成物の構成成分である各種
の添加剤として、粘度調節剤(例えば有機溶剤)、硬度
調節剤(例えば、非反応性のポリマーやオリゴマー)、
接着改良剤(例えばシランカップリンク剤)、光硬化反
応促進剤(例えば第3級アミン)、充填剤、可塑剤、酸
化防止剤、レベリング剤、はじき防止剤、スリップ剤、
重合禁止剤、スクラッチ改良剤、帯電防止剤等を本発明
の目的の達成を阻害しない範囲て添加使用しても差しつ
えない。
の添加剤として、粘度調節剤(例えば有機溶剤)、硬度
調節剤(例えば、非反応性のポリマーやオリゴマー)、
接着改良剤(例えばシランカップリンク剤)、光硬化反
応促進剤(例えば第3級アミン)、充填剤、可塑剤、酸
化防止剤、レベリング剤、はじき防止剤、スリップ剤、
重合禁止剤、スクラッチ改良剤、帯電防止剤等を本発明
の目的の達成を阻害しない範囲て添加使用しても差しつ
えない。
上記の如き成分によって構成される光硬化性樹脂組成物
を用いる感光層である透明樹脂層2は紫外線等の照射に
よって硬化した後、透明樹脂基材側からレーザー光を照
射して記録・再生を行うのて、光を透過させる必要かあ
り、上記の樹脂成分及び光硬化性樹脂形成成分に複数の
成分を用いる場合には、相互の相容性を配慮して、硬化
した感光層か透明になるよう組み合わせて使用すること
か必要であり又、光硬化した光硬化性被覆層の屈折率は
、常温て 1.4〜1.6であることが好ましく、使用
される透明樹脂基材と屈折率差か0.05以下であるこ
とか特に好ましい。
を用いる感光層である透明樹脂層2は紫外線等の照射に
よって硬化した後、透明樹脂基材側からレーザー光を照
射して記録・再生を行うのて、光を透過させる必要かあ
り、上記の樹脂成分及び光硬化性樹脂形成成分に複数の
成分を用いる場合には、相互の相容性を配慮して、硬化
した感光層か透明になるよう組み合わせて使用すること
か必要であり又、光硬化した光硬化性被覆層の屈折率は
、常温て 1.4〜1.6であることが好ましく、使用
される透明樹脂基材と屈折率差か0.05以下であるこ
とか特に好ましい。
[作用]
本発明の光カードは、透明樹脂基村上に導熱層を介在せ
しめて表面にトラック溝を有する透明樹脂層を積層し、
該トラック溝面上に光記録層を設け、ざらに該光記録層
と接する様に不透明カード基材を設けてなるのて、光カ
ードの再生時に、透明樹脂基材側からトラック溝を通し
て光記録層に照射された再生光により発生する熱エネル
ギーは、透明樹脂層に伝導し、熱伝導率か高い導熱層を
通して放熱され光記録層の熱による劣化を防止すること
か可能となる。
しめて表面にトラック溝を有する透明樹脂層を積層し、
該トラック溝面上に光記録層を設け、ざらに該光記録層
と接する様に不透明カード基材を設けてなるのて、光カ
ードの再生時に、透明樹脂基材側からトラック溝を通し
て光記録層に照射された再生光により発生する熱エネル
ギーは、透明樹脂層に伝導し、熱伝導率か高い導熱層を
通して放熱され光記録層の熱による劣化を防止すること
か可能となる。
[実施例]
以下、本発明の代表的な実施例を示すか、本発明はこれ
により何ら限定されるものてはない。
により何ら限定されるものてはない。
実施例1
透明樹脂基材として厚さ0.:l+s■の透明なメタク
リル樹脂板(日東樹脂工業−社製)上に、EB蒸着てA
i’20.を2500人の厚さに成膜した。その上に、
アクリレート系光硬化性樹脂(MRA−5000、三菱
レイヨン−社製)を約 xoog履の厚さに塗布し、感
光層とした後、この上にニウケルメウキを施した銅製の
トラック溝を有するスタンバ−型を′fF:着させ、2
kg/cm2のプレス圧を加え、IOmW/cs2の
出力の紫外線を高圧水銀灯を用いて透明樹脂基材側から
照射して感光層を硬化させ、次いて離型してトラック溝
を形成した透明樹脂層を導熱層の上に形成した。
リル樹脂板(日東樹脂工業−社製)上に、EB蒸着てA
i’20.を2500人の厚さに成膜した。その上に、
アクリレート系光硬化性樹脂(MRA−5000、三菱
レイヨン−社製)を約 xoog履の厚さに塗布し、感
光層とした後、この上にニウケルメウキを施した銅製の
トラック溝を有するスタンバ−型を′fF:着させ、2
kg/cm2のプレス圧を加え、IOmW/cs2の
出力の紫外線を高圧水銀灯を用いて透明樹脂基材側から
照射して感光層を硬化させ、次いて離型してトラック溝
を形成した透明樹脂層を導熱層の上に形成した。
その上に下記の式(I)て示される色素のジクロルエタ
ン溶液(e度2重量%)をスピナー塗布して厚さ約90
0Aの記録層を形成した。
ン溶液(e度2重量%)をスピナー塗布して厚さ約90
0Aの記録層を形成した。
一方、不透明カード基材として、−厚さ0.4■の白色
硬質塩化ビニルフィルムに熱可塑性接着剤(EVAFL
EX、三井デュポンポリケミカル■社製)を介して、上
記光記録層と接する様に重ね合わせ、表面温度+20’
Cの熱ロニルにて圧着して貼り合わせた。
硬質塩化ビニルフィルムに熱可塑性接着剤(EVAFL
EX、三井デュポンポリケミカル■社製)を介して、上
記光記録層と接する様に重ね合わせ、表面温度+20’
Cの熱ロニルにて圧着して貼り合わせた。
その後、透明樹脂基材表面をエポキシアクリレート系ハ
ードコート剤(アゾカウルトラセット、旭電化工業■社
製)を塗IHi L/て紫外線硬化させて光カードを製
造した。
ードコート剤(アゾカウルトラセット、旭電化工業■社
製)を塗IHi L/て紫外線硬化させて光カードを製
造した。
この光カードに波長830nm、 レーザーパワー0.
4mW 、ビーム径4.5μlて記録ピット径3舊、周
波数80Kllzの条件て再生を行い、1本の記録トラ
ックを:lO,000回往復させたがC/Nの低下は観
測されなかった。
4mW 、ビーム径4.5μlて記録ピット径3舊、周
波数80Kllzの条件て再生を行い、1本の記録トラ
ックを:lO,000回往復させたがC/Nの低下は観
測されなかった。
[発明の効果]
以上説明した様に、本発明の光カードは、トラック溝を
有する透明樹脂層と透明樹脂基材の間に導熱層を有する
構造からなるのて、光カードの再生時に起こる蓄熱によ
る記録層の損傷を抑えることかてき、また繰り返し再生
に対してC/Nの低下が起こらない優れた利点かある。
有する透明樹脂層と透明樹脂基材の間に導熱層を有する
構造からなるのて、光カードの再生時に起こる蓄熱によ
る記録層の損傷を抑えることかてき、また繰り返し再生
に対してC/Nの低下が起こらない優れた利点かある。
第1図は本発明に係る光カードの模式的断面図、第2図
は従来の光カードの模式的断面図および第3図は光カー
ドを利用した光学的情報記録担体の記録・再生装置を示
す概略概念図である。 l・・・透tJ1樹脂基材 2・・・透明樹脂層3
・・・光記録層 4・・・接着層5・・・不透
明カード基材 6・・・ハートコート層7・・・導熱層
8・・・透明基板9・・・光カードIO・
・・スデーシ 11・・・ローラー 12・・・光源13・・
・照明光学系 14・・・結像光学系l5・・・
センサ ー 代理人 渡 辺 徳 廣第1図 第2図 第3図
は従来の光カードの模式的断面図および第3図は光カー
ドを利用した光学的情報記録担体の記録・再生装置を示
す概略概念図である。 l・・・透tJ1樹脂基材 2・・・透明樹脂層3
・・・光記録層 4・・・接着層5・・・不透
明カード基材 6・・・ハートコート層7・・・導熱層
8・・・透明基板9・・・光カードIO・
・・スデーシ 11・・・ローラー 12・・・光源13・・
・照明光学系 14・・・結像光学系l5・・・
センサ ー 代理人 渡 辺 徳 廣第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 透明樹脂基材利用に導熱層を介在せしめて表面にトラッ
ク溝を有する透明樹脂層を積層し、該トラック溝面上に
光記録層を設け、さらに該光記録層と接する様に不透明
カード基材を設けてなることを特徴とする光カード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61260797A JPS63117340A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 光カ−ド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61260797A JPS63117340A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 光カ−ド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63117340A true JPS63117340A (ja) | 1988-05-21 |
Family
ID=17352875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61260797A Pending JPS63117340A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 光カ−ド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63117340A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02260251A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 光カードおよびその製造方法 |
-
1986
- 1986-11-04 JP JP61260797A patent/JPS63117340A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02260251A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 光カードおよびその製造方法 |
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