JPH0619106U - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本考案は、積層磁性薄膜をサンドイッチ状に配
設した高密度磁気記録再生用の磁気ヘッドに関し、コア
半体の接合に際して接合ガラスを使用せず、非磁性基板
を直接接合部材として、製造工程の低減を図った磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。 【構成】非磁性基板間１１に積層磁性薄膜１４を配設し
てトラック部を形成した磁気ヘッド１０において、磁気
ヘッド１０の非磁性基板１３を半結晶化ガラス基板１３
ａ，１３ｂとした構成

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、ＶＴＲやＤＡＴ等の磁気記録再生装置の磁気ヘッドに関し、特に高 密度記録再生に対応した積層薄膜磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来の積層薄膜磁気ヘッドとして、特にトラック幅の磁性薄膜をサンドイッチ 状に形成した磁気ヘッドとしては、図２の斜視図に示す構成の磁気ヘッド１が実 施されており、これについて説明する。

【０００３】 図示するように、従来の磁気ヘッド１は、ガラスセラミック又はセラミック等 の非磁性材からなる非磁性基板２（２ａ，２ｂ）と、この非磁性基板２（２ａ， ２ｂ）間にサンドイッチ状に配設されたＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金の強磁性体の磁性 膜と、非磁性膜とを交互に積層してトラック部３を形成した積層磁性薄膜部４と 、磁気ヘッド１のギャップ部５の両側に設けられる接合溝６に充填された接合ガ ラス７とから大略構成されている。

【０００４】 ここで、トラック部３を構成する積層磁性薄膜部４の形成について説明すると 、積層磁性薄膜部４は、前記した強磁性体を約５ミクロンの厚さで形成した磁性 膜と、ＳｉＯ２ 等の非磁性材約０．１ミクロンの厚さからなる非磁性膜と、続 いてガラス膜とをスパッタリングにより形成し、この三つの薄膜層が交互に何回 か積層されて形成されている。

【０００５】 そして、加熱することによりガラス膜を溶かし、これにより各薄膜層間を接着 して積層磁性薄膜部４が形成されている。尚、図中８及び９は磁気ヘッド１の巻 線用の溝を示す。

【０００６】 尚、磁気ヘッド１はその形成において、非磁性基板２ａ，２ｂ間に積層磁性薄 膜部４を配設し、そのギャップ部５を形成する面の両側に接合ガラス７を充填し たコア反体１ａ，１ｂが先ず形成される。 次に、このコア半体１ａ，１ｂをギャップ部５の形成面で、ギャップ材を介在 した状態で対向させて加熱し、接合ガラス７を溶融することにより接合して磁気 ヘッド１を形成する。

【０００７】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記した従来の積層磁性薄膜部４を非磁性基板２ａ，２ｂ間に サンドイッチ状に設けた磁気ヘッド１にあっては、積層磁性薄膜部４の形成に、 磁性層間の接着にガラス膜を設けるためのガラス材及びスパッタリング工程を必 要としていた。

【０００８】 更に、コア１ａ，１ｂの接合に際しても、スパッタリング用のガラス材よりも 低融点の接合ガラス７が必要とされ、これらは製造工程の増加及び工程管理の繁 雑化、部品管理の多様化と言う課題が生じていた。

【０００９】 本考案は、上記した課題に鑑みて考案されたもので、ガラス材のスパッタリン グ工程を省き、またコア半体の接合用ガラス材を省いた磁気ヘッドを提供するこ とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】

そこで、上記した課題を解決するための手段として、本考案は、非磁性基板間 に磁性膜を積層してトラック部を形成した磁気ヘッドにおいて、この磁気ヘッド の非磁性基板を半結晶化ガラス基板で形成した構成としたものである。

【００１１】

【作用】

本考案によれば、磁気ヘッドはその非磁性基板が半結晶化ガラス基板で形成さ れているため、磁性薄膜を一方の非磁性基板に積層状に形成し、他方の非磁性基 板でサンドイッチ状に形成する際に、接合用のスパッタリングガラスを用いる必 要がなく、又コア半体ブロック形成においても、ギャップ形成後の接合ガラス溝 を形成し、この溝に低融点ガラスを充填すること無く、非磁性基板のみで直接接 合を行うことが可能となる。

【００１２】

【実施例】

次に、本考案の一実施例を図１の斜視図に基づいて説明すると、本考案に係る 磁気ヘッド１０は、コア半体１１ａ，１１ｂがギャップ部１２を形成するように 突き合わされて接合された構成となっている。ここで、各コア半体１１ａ，１１ ｂは非磁性基板として半結晶化ガラス基板１３（１３ａ，１３ｂ）が用いられ、 半結晶化ガラス基板１３ａと１３ｂとの間に積層状に形成した磁性薄膜１４が設 けられた構成となっている。

【００１３】 ここで、半結晶化ガラス基板１３について述べると、非磁性基板となる半結晶 化ガラスは、一例としてＳｉ−Ｌｉ系を主体とし、６００℃〜７００℃の温度範 囲中で適度の圧力を加えることにより接着性を有するガラス材からなるものであ る。

【００１４】 次に、本考案に係る磁気ヘッド１０の形成について一例を説明すると、先ず磁 気ヘッド１０は、コア半体１１となる半結晶化ガラス基板に、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ 等の強磁性合金薄膜を非磁性薄膜を介して層状にした積層磁性薄膜１４を磁気ヘ ッド１０のトラック幅に形成し、続いてこの積層磁性薄膜上に半結晶化ガラス基 板を接合して、積層磁性薄膜１４をサンドイッチ状に配設したコアブロック半体 を形成する。

【００１５】 そして、このコアブロック半体に巻線溝１５の加工を施し、ギャップ部１２を 形成するように一対のコアブロック半体を互いに突き合わせて、６００℃〜７０ ０℃の温度範囲で、適度の接合圧力を加える事によりコアブロック半体の接合を 行い、磁気ヘッド１０と成すみのである。

【００１６】

【考案の効果】

従って、上記した構成からなる本考案によれば、磁気ヘッドはその非磁性基板 が半結晶化ガラス基板で形成されているため、磁性薄膜を一方の非磁性基板に積 層状に形成し、他方の非磁性基板でサンドイッチ状に形成する際に、接合用のス パッタリングガラスを用いる必要がなく、又コア半体ブロック形成においても、 ギャップ形成後の接合ガラス溝を形成し、この溝に低融点ガラスを充填すること 無く、非磁性基板のみで直接接合を行うことができ、製造工程の削減及び部材の 削減によりコストの低減を図ることができると言う効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の磁気ヘッドの一実施例の斜視図であ
る。

【図２】従来の磁気ヘッドの一例の斜視図である。

【符号の説明】

１０ 磁気ヘッド １１，１１ａ，１１ｂ コア半体 １２ ギャップ部 １３，１３ａ，１３ｂ 半結晶化ガラス基板 １４ 積層磁性薄膜 １５ 巻線溝

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板間に磁性膜を積層してトラッ
   ク部を形成した磁気ヘッドにおいて、 該磁気ヘッドの非磁性基板を半結晶化ガラス基板とした
   ことを特徴とする磁気ヘッド。